講演・口頭発表等 - 堤 隆嘉
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Prediction Model for RF Bias Effect on Etch Resistance of Amorphous Carbon in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議
Y. Ando, H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13 2024年3月4日
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In-situ analysis of chemisorption reactions on SiO2 surface using carbon precursor containing halogen 国際共著 国際会議
L. Hu, T. Tsutsumi, N. Kobayashi, D. C. P. Raj, R. Borude, K. Ishikawa, M. Hori
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13 2024年3月5日
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In-situ analysis of chemisorption reactions on SiO2 surface using carbon precursor containing halogen 国際共著 国際会議
L. Hu, T. Tsutsumi, N. Kobayashi, D. C. P. Raj, R. Borude, K. Ishikawa, M. Hori
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13 2024年3月5日
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Prediction Model for RF Bias Effect on Etch Resistance of Amorphous Carbon in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議
Y. Ando, H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13 2024年3月4日
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ALEにおけるプラズマ誘起欠陥とラジカル吸着のin-situ計測 招待有り
堤隆嘉，近藤博基，関根誠，石川健治，堀勝
2024年1月25日
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ALEにおけるプラズマ誘起欠陥とラジカル吸着のin-situ計測 招待有り
堤隆嘉, 近藤博基, 関根誠, 石川健治, 堀勝
2024年1月25日
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Control of etching profile by bias supply timing in cyclic process using C4F8/SF6 gas modulated plasma 国際会議
T. Yoshie, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Etch selectivities of SiO2 and SiN against a-C films using CF4/H2 plasma at low temperature 国際会議
Y. Imai, S-N. Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Iwata, M. Tomura, Y. Iijima, K. Matsushima, M. Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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Defect characterization at SiO2/Si interface throughout plasma processing and annealing 国際会議
S.Nunomura, T.Tsutsumi, I. Sakata and M Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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A pseudo-wet cryogenic plasma etching of SiO2 investigated with in-situ surface monitoring 国際会議
S-N Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T.Tsutsumi, and M. Hori Y Iijima, R. Suda, Y. Kihara
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Electron-Beam-Assisted Self-limiting fluorination of GaN surface using XeF2 for Atomic Layer Etching 国際会議
Y. Izumi, T. Tsutsumi, H Kondo, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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Compositions of Ions Related with Electrode Materials in Pulsed Plasma for High-Aspect-Ratio Hole Etching 国際会議
K. Toji, T. Tsutsumi, S-N. Hsiao, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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A pseudo-wet cryogenic plasma etching of SiO2 investigated with in-situ surface monitoring 国際会議
S-N Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T.Tsutsumi, M. Hori Y Iijima, R. Suda, Y. Kihara
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Control of etching profile by bias supply timing in cyclic process using C4F8/SF6 gas modulated plasma 国際会議
T. Yoshie, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Compositions of Ions Related with Electrode Materials in Pulsed Plasma for High-Aspect-Ratio Hole Etching 国際会議
K. Toji, T. Tsutsumi, S-N. Hsiao, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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Defect characterization at SiO2/Si interface throughout plasma processing and annealing 国際会議
S.Nunomura, T.Tsutsumi, I. Sakata, M Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Etch selectivities of SiO2 and SiN against a-C films using CF4/H2 plasma at low temperature 国際会議
Y. Imai, S-N. Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Iwata, M. Tomura, Y. Iijima, K. Matsushima, M. Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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Electron-Beam-Assisted Self-limiting fluorination of GaN surface using XeF2 for Atomic Layer Etching 国際会議
Y. Izumi, T. Tsutsumi, H Kondo, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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ドライエッチングと原子層エッチングの基礎と応用 招待有り
堤 隆嘉
第34回 プラズマエレクトロニクス講習会 2023年11月17日
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ドライエッチングと原子層エッチングの基礎と応用 招待有り
堤 隆嘉
第34回 プラズマエレクトロニクス講習会 2023年11月17日