講演・口頭発表等 - 堤 隆嘉
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Analysis of Ion Energy Dependence of Depth Profile of GaN by In-situ Surface Analysis 国際会議
Masaki Hasagawa‚ Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide‚ Shohei Nakamura, Hiroki Kondo‚ Kenji Ishikawa‚ Masaru Hori
20th International Conference on Atomic Layer Deposition 2020年6月29日
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Analysis of Ion Energy Dependence of Depth Profile of GaN by In-situ Surface Analysis 国際会議
Masaki Hasagawa‚, Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide‚, Shohei Nakamura, Hiroki Kondo‚, Kenji Ishikawa‚, Masaru Hori
20th International Conference on Atomic Layer Deposition 2020年6月29日
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プラズマプロセス中の基板温度分布の経時変化の解析
堤 隆嘉、石川 健治、近藤 博基、関根 誠、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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Arイオン照射窒化ガリウム表面の塩素吸着層のイオンエネルギー依存性 (2)
長谷川 将希、堤 隆嘉、谷出 敦、近藤 博基、関根 誠、石川 健治、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における照射時間依存性 [II]
近藤 博基、濱地 遼、 堤 隆嘉,、石川 健治、関根 誠、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における照射時間依存性[Ⅰ]
濱地 遼、近藤 博基、堤 隆嘉、石川 健治、関根 誠、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～Arイオン照射の効果～
布村 正太、中根 一也、堤 隆嘉、松原 浩司、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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極低温領域におけるCHF3ガス凝縮層を用いたエッチングプロセスの研究
羽澄 匡広, スガンサマラー セルヴァラジ, 蕭 世男, 関根 誠, 林 久貴, 佐々木 俊行, 阿部 知央, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマ表面処理が自己集積化膜の分子配向に及ぼす影響
織田 祥成、堤 隆嘉、石川 健治、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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Arイオン照射窒化ガリウム表面の塩素吸着層のイオンエネルギー依存性 (2)
長谷川 将希, 堤 隆嘉, 谷出 敦, 近藤 博基, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマプロセス中の基板温度分布の経時変化の解析
堤 隆嘉, 石川 健治, 近藤 博基, 関根 誠, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～Arイオン照射の効果～
布村 正太, 中根 一也, 堤 隆嘉, 松原 浩司, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマ表面処理が自己集積化膜の分子配向に及ぼす影響
織田 祥成, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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極低温領域におけるCHF3ガス凝縮層を用いたエッチングプロセスの研究
羽澄 匡広, スガンサマラー セルヴァラジ, 蕭 世男, 関根 誠, 林 久貴, 佐々木 俊行, 阿部 知央, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における照射時間依存性[Ⅰ]
濱地 遼, 近藤 博基, 堤 隆嘉, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における照射時間依存性 [II]
近藤 博基, 濱地 遼, 堤 隆嘉, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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Termination of Dangling Bonds in Amorphous Carbon Films by Hydrogen Atoms 国際会議
Yasuyuki Ohashi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Formation of Spherical Sn Particles from SnO2 Film by Atmospheric-Pressure Plasma 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Hidefumi Odaka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Etching Process Using CHF3 Gas Condensed Layer in Cryogenic Region 国際会議
Masahiro Hazumi, Suganthamalar Selvaraj, Shih-Nan Hsiao, Chihiro Abe, Toshiyuki Sasaki, Hisataka Hayashi, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Influence of Temperature on Etch Rate of SiN Films with CF4/H2 Plasma 国際会議
Shin-Nan Hsiao, Kazuya Nakane, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)