講演・口頭発表等 - 堤 隆嘉
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機械学習を活用した中性種スペクトルのリアルタイム解析
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ラジカルの付着確率が高アスペクト比ホール内の輸送に与える影響
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CF4/H2プラズマによるエピタキシャル成長したSi0.7Ge0.3/Si/Si0.7Ge0.3積層膜からのSiナノシートの形成
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エピタキシャル成長したSi0.7Ge0.3およびSi薄膜におけるH2希釈CF4ガスによるドライエッチング -基板温度依存性-
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～SiO2/Si界面酸化と微細構造変化～
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低温下での塩素ラジカル照射による窒化チタン原子層エッチングにおけるin-situ表面反応解析
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In-situ analysis of chlorination of TiN surfaces by chlorine radical irradiations 国際会議
Shunya Hirai, Kazunori Shinoda, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenichi Inoue, and Kenji Ishikawa
ISPlasma2025/IC-PLANTS2025
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Evaluation of Lateral Selective Etching with CF4/H2 Plasma of Si0.7Ge0.3/Si/Si0.7Ge0.3 Layers 国際会議
Kotaro Ozaki, Noriharu Takada, Yusuke Imai, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Yuji Yamamoto, Wei-Chen Wen, Katsunori Makihara
ISPlasma2025/IC-PLANTS2025
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Damage evaluation for electron-beam-assisted modification of GaN surface 国際会議
Takayoshi Tsutsumi, Yusuke Izumi, Makoto Sekine, Masaru Hori, and Kenji Ishikawa
ISPlasma2025/IC-PLANTS2025
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Surface reactions by deep ultraviolet laser irradiation for GaN etching 国際会議
Ryoto Takahashi, Takayoshi Tsutsumi, Kenichi Inoue, Ryusei Sakai, Makoto Sekine, Masaru Hori and Kenji Ishikawa
ISPlasma2025/IC-PLANTS2025
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Effect of Sticking Probability on Radical Transports in High-Aspect-Ratio Holes 国際会議
Takumi Kurushima, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori, and Kenji Ishikawa
ISPlasma2025/IC-PLANTS2025
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UVレーザー光照射エッチングプロセスにおけるGaN表⾯の脱離挙動
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Transport of Reactive Species in Pulsed Plasma for High-Aspect-Ratio Hole Etching 招待有り
T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori and K. Ishikawa
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Undestanding Surface Reaction in PECVD Process by Combining In-situ Monitoring and Machine Learning 招待有り 国際会議
Takayoshi Tsutsumi, Y. Ando, M.Sekine, M.Hori, K.Ishikwa
International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM) 2024
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In-Situ Observation of Reaction Layer in Surface for Damage-Free Atomic Layer Etching 招待有り 国際会議
Tsutsumi Takayoshi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa and Masaru Hori
2024 MRS FALL MEETING & EXHIBIT
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四重極型質量分析を用いた材料表面の中性粒子の付着確率計測
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機械学習を用いたアモルファスカーボン薄膜の堆積機構におけるプロセスパラメータの寄与度解析
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Plasma-enhanced atomic layer deposition of carbon films 招待有り 国際会議
Liugang Hu, Takayoshi Tsutsumi, Nobuyoshi Kobayashi, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
DPS2024
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Etching of GaN using Ar/F2 plasma at high temperatures 招待有り 国際会議
J. He, S. Nakamura, A. Tanide, T. N. Tran, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori, and K. Ishikawa
DPS2024
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UV laser ionization desorption of surfaces for GaN etching 招待有り 国際会議
R. Takahashi, R. Sakai, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori, and K. Ishikawa
DPS2024
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Plasma-assisted Atomic Layer Etching (PE-ALE) of SiO2 via surface fluorination and argon bombardment 国際会議
A.P. Osonio, T. Tsutsumi, B. Mukherjee, R. Borude, N. Kobayashi, and M. Hori
AAPPS_DPP
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In-situ measurements of plasma-induced defects and radical adsorption in ALE 国際会議
T. Tsutsumi, M. Sekine, K. Ishikawa, M. Hori
AAPPS_DPP
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Advanced Semiconductor Plasma Processes Pioneered by Understanding and Controlling Plasma-Surface Interactions 招待有り 国際会議
Masaru Hari, M. Sekine, T. Tsutsumi, K. Ishikawa
AVS70
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Behavior of Radical Adsorption on Plasma Induced Defect for Atomic Layer Etching 招待有り 国際会議
OSONIO Airah Peraro, TSUTSUMI Takayoshi, ISHIKAWA Kenji and MASARU Hori
ICMSEP2024
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Effect of bias voltage on etching reaction of SiO2 in cryogenic process with HF contained plasmas 国際会議
Yusuke Imai, Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Yuki Iijima and Masaru Hori
VASSCAA-12&TVS-2024
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電子線支援原子層エッチングにおけるGaN表面フッ素化反応
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エピタキシャル成長した Si0.7Ge0.3 および Si 薄膜におけるH2 希釈 CF4 ガスによるドライエッチングの選択性評価
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CF4/H2プラズマによるSiO2低温エッチングのRFバイアス依存性
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高アスペクト比ホール内におけるラジカルの付着確率の輸送への影響
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紫外光照射時のGaN表面エッチング反応機構
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復～アニールにおける雰囲気ガスの効果～
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ALD代替に向けたダメージレスALEプロセス 招待有り
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Plasma-based pseudo-wet etching for SiN using hydrogencontained fluorocarbon gases at cryogenic temperatures 国際会議
Shih-Nan Hsiaoa, Yusuke Imaia, Makoto Sekinea, Takayoshi Tsutsumia, Kenji Ishikawaa, Yuki Iijimab, Ryutaro Sudab, Masahiko Yokoib, Maju Tomurab, Yoshihide Kiharab and Masaru Hori
2nd International Workshop on Plasma Cryo Etching Processes
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Chemical Reaction Analysis for Plasma-Enhanced Atomic Layer Process 招待有り 国際会議
Takayoshi Tsutsumi
The 1ST Global Forum and International Workshop in Hybrid mode on Industrial Plasma Processes and Diagnostics 2024 (IPPD 2024)
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復～RIE-SiO2に伴うSiO2 / Si界面の欠陥評価～
布村 正太, 堤 隆嘉, 深沢 正永, 堀 勝
第71回応用物理学会春期学術講演会 2024年3月24日
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パルスプラズマにおける負イオンエネルギー分布の時間 分解測定
都地 一輝, 堤 隆嘉, 蕭 世男, 関根 誠, 堀 勝, 石川 健治
第71回応用物理学会春期学術講演会 2024年3月24日
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カーボンハードマスクの膜特性に対する基板バイアス寄 与度の局所的顕在化
安藤 悠介, 近藤 博基, 堤 隆嘉, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
第71回応用物理学会春期学術講演会 2024年3月24日
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カーボンハードマスクの膜特性に対する基板バイアス寄 与度の局所的顕在化
安藤 悠介, 近藤 博基, 堤 隆嘉, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
第71回応用物理学会春期学術講演会 2024年3月24日
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復～RIE-SiO2に伴うSiO2 / Si界面の欠陥評価～
布村 正太, 堤 隆嘉, 深沢 正永, 堀 勝
第71回応用物理学会春期学術講演会 2024年3月24日
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パルスプラズマにおける負イオンエネルギー分布の時間 分解測定
都地 一輝, 堤 隆嘉, 蕭 世男, 関根 誠, 堀 勝, 石川 健治
第71回応用物理学会春期学術講演会 2024年3月24日
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Prediction Model for RF Bias Effect on Etch Resistance of Amorphous Carbon in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議
Y. Ando, H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13 2024年3月4日
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In-situ analysis of chemisorption reactions on SiO2 surface using carbon precursor containing halogen 国際共著 国際会議
L. Hu, T. Tsutsumi, N. Kobayashi, D. C. P. Raj, R. Borude, K. Ishikawa, M. Hori
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13 2024年3月5日
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In-situ analysis of chemisorption reactions on SiO2 surface using carbon precursor containing halogen 国際共著 国際会議
L. Hu, T. Tsutsumi, N. Kobayashi, D. C. P. Raj, R. Borude, K. Ishikawa, M. Hori
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13 2024年3月5日
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Prediction Model for RF Bias Effect on Etch Resistance of Amorphous Carbon in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議
Y. Ando, H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13 2024年3月4日
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ALEにおけるプラズマ誘起欠陥とラジカル吸着のin-situ計測 招待有り
堤隆嘉，近藤博基，関根誠，石川健治，堀勝
2024年1月25日
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ALEにおけるプラズマ誘起欠陥とラジカル吸着のin-situ計測 招待有り
堤隆嘉, 近藤博基, 関根誠, 石川健治, 堀勝
2024年1月25日
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Control of etching profile by bias supply timing in cyclic process using C4F8/SF6 gas modulated plasma 国際会議
T. Yoshie, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Etch selectivities of SiO2 and SiN against a-C films using CF4/H2 plasma at low temperature 国際会議
Y. Imai, S-N. Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Iwata, M. Tomura, Y. Iijima, K. Matsushima, M. Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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Defect characterization at SiO2/Si interface throughout plasma processing and annealing 国際会議
S.Nunomura, T.Tsutsumi, I. Sakata and M Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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A pseudo-wet cryogenic plasma etching of SiO2 investigated with in-situ surface monitoring 国際会議
S-N Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T.Tsutsumi, and M. Hori Y Iijima, R. Suda, Y. Kihara
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Electron-Beam-Assisted Self-limiting fluorination of GaN surface using XeF2 for Atomic Layer Etching 国際会議
Y. Izumi, T. Tsutsumi, H Kondo, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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Compositions of Ions Related with Electrode Materials in Pulsed Plasma for High-Aspect-Ratio Hole Etching 国際会議
K. Toji, T. Tsutsumi, S-N. Hsiao, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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A pseudo-wet cryogenic plasma etching of SiO2 investigated with in-situ surface monitoring 国際会議
S-N Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T.Tsutsumi, M. Hori Y Iijima, R. Suda, Y. Kihara
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Control of etching profile by bias supply timing in cyclic process using C4F8/SF6 gas modulated plasma 国際会議
T. Yoshie, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Compositions of Ions Related with Electrode Materials in Pulsed Plasma for High-Aspect-Ratio Hole Etching 国際会議
K. Toji, T. Tsutsumi, S-N. Hsiao, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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Defect characterization at SiO2/Si interface throughout plasma processing and annealing 国際会議
S.Nunomura, T.Tsutsumi, I. Sakata, M Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Etch selectivities of SiO2 and SiN against a-C films using CF4/H2 plasma at low temperature 国際会議
Y. Imai, S-N. Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Iwata, M. Tomura, Y. Iijima, K. Matsushima, M. Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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Electron-Beam-Assisted Self-limiting fluorination of GaN surface using XeF2 for Atomic Layer Etching 国際会議
Y. Izumi, T. Tsutsumi, H Kondo, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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ドライエッチングと原子層エッチングの基礎と応用 招待有り
堤 隆嘉
第34回 プラズマエレクトロニクス講習会 2023年11月17日
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ドライエッチングと原子層エッチングの基礎と応用 招待有り
堤 隆嘉
第34回 プラズマエレクトロニクス講習会 2023年11月17日
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Etching Selectivities of SiO2 and SiN Against a-C Films Using CF4/H2 with a Pseudo-Wet Plasma Etching Mechanism 国際会議
Yusuke Imai, S. Hsiao, M. Sekine, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Iwata, M. Tamura, Y. Iijima, T. Gohira, K. Matsushima, Y. Ohya, M. Hori,
AVS 69th International Symposium and Exhibition (AVS 69) 2023年11月6日
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Etching Selectivities of SiO2 and SiN Against a-C Films Using CF4/H2 with a Pseudo-Wet Plasma Etching Mechanism 国際会議
Yusuke Imai, S. Hsiao, M. Sekine, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Iwata, M. Tamura, Y. Iijima, T. Gohira, K. Matsushima, Y. Ohya, M. Hori
AVS 69th International Symposium and Exhibition (AVS 69) 2023年11月6日
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Transient behavior of cycle process in Ar plasma with alternately injected C4F8 and SF6 国際会議
T. Yoshie, K. Ishikawa, TTN Nguyen, S. Hsiao, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
13th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2023) 2023年11月8日
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Transient behavior of cycle process in Ar plasma with alternately injected C4F8 and SF6 国際会議
T. Yoshie, K. Ishikawa, TTN Nguyen, S. Hsiao, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
13th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2023) 2023年11月8日
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Plasma-based pseudo-wet mechanism for cryogenic SiO2 etching using hydrogen-contained fluorocarbon gases with an in-situ surface analysis 国際会議
S. Hsiao, M. Sekine, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Iwata, M. Tomura, Y. Iijima, T. Gohira, K. Matsushima, Y. Ohya, M. Hori
The 76th Annual Gaseous Electronics Conference (GEC76) 2023年10月11日
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Plasma-based pseudo-wet mechanism for cryogenic SiO2 etching using hydrogen-contained fluorocarbon gases with an in-situ surface analysis 国際会議
S. Hsiao, M. Sekine, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Iwata, M. Tomura, Y. Iijima, T. Gohira, K. Matsushima, Y. Ohya, M. Hori
The 76th Annual Gaseous Electronics Conference (GEC76) 2023年10月11日
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Plasma-Enhanced Deposition Mechanism of Hydrogenated Amorphous Carbon Analyzed ByCombining Reactive Species Measurement and Machine Learning 招待有り 国際会議
H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, H. Kousaka, M. Hori
244th ECS Meeting 2023年10月11日
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Selective removal of graphene by irradiation of remote oxygen plasma 国際会議
L. Hu, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, TTN Nguyen, S. Hsiao, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
Global Plasma Forum in Aomori 2023年10月16日
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Plasma-Enhanced Deposition Mechanism of Hydrogenated Amorphous Carbon Analyzed ByCombining Reactive Species Measurement and Machine Learning 招待有り 国際会議
H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, H. Kousaka, M. Hori
244th ECS Meeting 2023年10月11日
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Selective removal of graphene by irradiation of remote oxygen plasma 国際会議
L. Hu, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, TTN Nguyen, S. Hsiao, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
Global Plasma Forum in Aomori 2023年10月16日
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カーボンハードマスクのプラズマエッチング耐性に対する，成膜過程におけるイオン照射効果
安藤 悠介、近藤 博基、堤 隆嘉、石川 健治、関根 誠、堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月21日
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CF4/H2プラズマによるSiO2,SiN,a-C膜の低温エッチング
今井 祐輔、蕭 世男、関根 誠、飯島 祐樹、須田 隆太郎、大矢 欣伸、木原 嘉英、堤 隆嘉、石川 健治、堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月22日
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低温における絶縁膜の擬ウェットプラズマエッチング
蕭 世男、関根 誠、飯島 祐樹、須田 隆太郎、大矢 欣伸、木原 嘉英、堤 隆嘉、石川 健治、堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月22日
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容量結合型パルスプラズマにおける負イオンの電極材料依存性
都地 一輝、堤 隆嘉、蕭 世男、関根 誠、石川 健治、堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月22日
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～酸素プラズマがSiO2/Si界面に及ぼす影響～
布村 正太、堤 隆嘉、堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月21日
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原子層エッチングにおけるプラズマ誘起欠陥へのラジカル吸着挙動
オソニオ アイラ ペラロ、堤 隆嘉、石川 健治、堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月21日
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CF4/H2プラズマによるSiO2,SiN,a-C膜の低温エッチング
今井 祐輔, 蕭 世男, 関根 誠, 飯島 祐樹, 須田 隆太郎, 大矢 欣伸, 木原 嘉英, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月22日
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カーボンハードマスクのプラズマエッチング耐性に対する，成膜過程におけるイオン照射効果
安藤 悠介, 近藤 博基, 堤 隆嘉, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月21日
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原子層エッチングにおけるプラズマ誘起欠陥へのラジカル吸着挙動
オソニオ アイラ ペラロ, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀, 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月21日
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低温における絶縁膜の擬ウェットプラズマエッチング
蕭 世男, 関根 誠, 飯島 祐樹, 須田 隆太郎, 大矢 欣伸, 木原 嘉英, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月22日
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～酸素プラズマがSiO2/Si界面に及ぼす影響～
布村 正太, 堤 隆嘉, 堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月21日
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容量結合型パルスプラズマにおける負イオンの電極材料依存性
都地 一輝, 堤 隆嘉, 蕭 世男, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月22日
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In-liquid plasma synthesis, morphological control, and functionalization of nanographene materials 国際会議
H. Kondo, T. Tsutsumi, M. Hiramatsu, M. Hori
THERMEC'2023 2023年7月3日
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In-liquid plasma synthesis, morphological control, and functionalization of nanographene materials 国際会議
H. Kondo, T. Tsutsumi, M. Hiramatsu, M. Hori
THERMEC'2023 2023年7月3日
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Plasma Synthesis of Graphene-Based Materials: Functionalization and Applications 招待有り 国際共著 国際会議
H.Kondo, H.Zhou, T.Tsutsumi, K.Ishikawa, M.Sekine, and M.Hori
THERMEC'2023 2023年7月3日
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Plasma Synthesis of Graphene-Based Materials: Functionalization and Applications 招待有り 国際共著 国際会議
H.Kondo, H.Zhou, T.Tsutsumi, K.Ishikawa, M.Sekine, M.Hori
THERMEC'2023 2023年7月3日
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Recent Progress in the Synthesis of Functional and Three-Dimensional Carbon Nano-Composites By Gas-Liquid Interface Plasma 国際会議
H.Kondo, H.Zhou, T.Tsutsumi, K.Ishikawa, M.Sekine, and M.Hori
243rd ECS Meeting
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Recent Progress in the Synthesis of Functional and Three-Dimensional Carbon Nano-Composites By Gas-Liquid Interface Plasma 国際会議
H.Kondo, H.Zhou, T.Tsutsumi, K.Ishikawa, M.Sekine, M.Hori
243rd ECS Meeting
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A comparative study on the CF4/H2 and HF/H2 plasmas for etching of highly hydrogenated SiN films 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Nikolay Britun, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
25th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC25)
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A comparative study on the CF4/H2 and HF/H2 plasmas for etching of highly hydrogenated SiN films 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Nikolay Britun, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
25th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC25)
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Global and local contribution analysis of process parameters in Plasma enhanced chemical vapor deposition of amorphous carbon har 国際会議
Yusuke Ando, Jumpei Kurokawa, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
The 4th International Conference on Data Driven Plasma Sciences ( ICDDPS-4 )
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Global and local contribution analysis of process parameters in Plasma enhanced chemical vapor deposition of amorphous carbon har 国際会議
Yusuke Ando, Jumpei Kurokawa, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
The 4th International Conference on Data Driven Plasma Sciences ( ICDDPS-4 )
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熱酸化膜/シリコン界面でのプラズマ誘起欠陥の発生と修復
布村 正太、坂田 功、堤 隆嘉、堀 勝
第70回応用物理学会春季学術講演会
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成膜パラメータの寄与度解析に基づく、 水素化アモルファスカーボン薄膜のエッチ耐性の向上
安藤 悠介、近藤 博基、石川 健治、堤 隆嘉、関根 誠、堀 勝
第70回応用物理学会春季学術講演会
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成膜パラメータの寄与度解析に基づく、 水素化アモルファスカーボン薄膜のエッチ耐性の向上
安藤 悠介, 近藤 博基, 石川 健治, 堤 隆嘉, 関根 誠, 堀 勝
第70回応用物理学会春季学術講演会
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熱酸化膜/シリコン界面でのプラズマ誘起欠陥の発生と修復
布村 正太, 坂田 功, 堤 隆嘉, 堀 勝
第70回応用物理学会春季学術講演会
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Characterization of Plasmas and Polymerized Hydrofluorocarbon Films in Capacitively Coupled CF4/H2 Plasmas 国際会議
Yusuke Imai, Shih-Nan Hsiao, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Self-Limited Fluorination of Electron Beam-Irradiated GaN Surface 国際会議
Yusuke Izumi, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Contribution Analysis of Process Parameters in Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Amorphous Carbon 国際会議
Yusuke Ando, Jumpei Kurokawa, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Positive and Negative Ion Behaviors in DC-Imposed Ar/SF6 Pulsed Plasma 国際会議
Kazuki Toji, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine and Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Etching Behavior of Lamellar Poly(styrene-b-2-vinylpyridine) Block Copolymer under N2/H2 Plasma Process 国際会議
Ma. Shanlene Dela Vega, Ayane Kitahara, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Takano, Yushu Matsushita and Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Study on Plasma Process Using Adsorbed C7F14 as an Etchant 国際会議
Kohei Masuda, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, Shih-Nan Hsiao, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo and Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Morphological Effect of Carbon Nanowalls on Exosome Capture 国際会議
Takumi Hashimoto, Hiroki Kondo, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Takao Yasui, Yoshinobu Baba, Mineo Hiramatsu and Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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MEMS Nozzle for Capturing Lily Pollen in Array and Fixing on Culture Media 国際会議
Sachiko Sugiyama, Gang Han, Takayoshi Tsutsumi, Hiromasa Tanaka and Minoru Sasaki
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Characterization of Plasmas and Polymerized Hydrofluorocarbon Films in Capacitively Coupled CF4/H2 Plasmas 国際会議
Yusuke Imai, Shih-Nan Hsiao, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Contribution Analysis of Process Parameters in Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Amorphous Carbon 国際会議
Yusuke Ando, Jumpei Kurokawa, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Etching Behavior of Lamellar Poly(styrene-b-2-vinylpyridine) Block Copolymer under N2/H2 Plasma Process 国際会議
Ma. Shanlene, Dela Vega, Ayane Kitahara, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Takano, Yushu Matsushita, Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Morphological Effect of Carbon Nanowalls on Exosome Capture 国際会議
Takumi Hashimoto, Hiroki Kondo, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Takao Yasui, Yoshinobu Baba, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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MEMS Nozzle for Capturing Lily Pollen in Array and Fixing on Culture Media 国際会議
Sachiko Sugiyama, Gang Han, Takayoshi Tsutsumi, Hiromasa Tanaka, Minoru Sasaki
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Positive and Negative Ion Behaviors in DC-Imposed Ar/SF6 Pulsed Plasma 国際会議
Kazuki Toji, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine, Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Study on Plasma Process Using Adsorbed C7F14 as an Etchant 国際会議
Kohei Masuda, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, Shih-Nan Hsiao, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Self-Limited Fluorination of Electron Beam-Irradiated GaN Surface 国際会議
Yusuke Izumi, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori
15th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2023/IC-PLANTS2023）
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Plasma diagnostics and characteristics of hydrofluorocarbon films in capacitively coupled CF4/H2 plasmas 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Yusuke Imai, Nicolay Britun, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2022
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Plasma diagnostics and characteristics of hydrofluorocarbon films in capacitively coupled CF4/H2 plasmas 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Yusuke Imai, Nicolay Britun, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2022
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Ion Induced Damage in Plasma Enhanced Atomic Layer Etching Processing 国際会議
Takayoshi TSUTSUMI, Hiroki KONDO, Kenji ISHIKAWA, Makoto SEKINE, Masaru HORI
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Time-resolved measurement of ion energy distribution in pulsed Ar/SF6 plasma 国際会議
Kazuki TOJI, Kenji ISHIKAWA, Takayoshi TSUTSUMI, Shih nan HSIAO, Makoto SEKINE, Masaru HORI
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Ion Induced Damage in Plasma Enhanced Atomic Layer Etching Processing 国際会議
Takayoshi TSUTSUMI, Hiroki KONDO, Kenji ISHIKAWA, Makoto SEKINE, Masaru HORI
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Time-resolved measurement of ion energy distribution in pulsed Ar/SF6 plasma 国際会議
Kazuki TOJI, Kenji ISHIKAWA, Takayoshi TSUTSUMI, Shih nan HSIAO, Makoto SEKINE, Masaru HORI
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Isotropic Plasma-enhanced Atomic Layer Etching of SiO2 using F radicals and Ar plasma 国際会議
A. Osonio, T. Tsutsumi, B. Mukherjee, R. Borude, N. Kobayashi, and M. Hori
The 43rd International Symposium on Dry Process (DPS2022)
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Isotropic Plasma-enhanced Atomic Layer Etching of SiO2 using F radicals and Ar plasma 国際会議
A. Osonio, T. Tsutsumi, B. Mukherjee, R. Borude, N. Kobayashi, M. Hori
The 43rd International Symposium on Dry Process (DPS2022)
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Synthesis, Functionalization, and Three-Dimensional Structuring of Carbon Nanomaterials By Gas-Liquid Interface Plasma 招待有り 国際会議
H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
242nd ECS Meeting
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Synthesis, Functionalization, and Three-Dimensional Structuring of Carbon Nanomaterials By Gas-Liquid Interface Plasma 招待有り 国際会議
H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
242nd ECS Meeting
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Achieving selective etching of SiN and SiO2 over amorphous carbon during CF4/H2 by controlling substrate temperature 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
11th International Conference on Reactive Plasmas/2022 Gaseous Electronics Conference (ICRP-11/GEC2022)
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Langmuir probe and Laser Photodetachment Study of Afterglow Phase in Dual RF Frequency Pulsed Plasma Etching Processes Operated with Synchronized DC Bias 国際会議
Makoto Sekine, Bibhuti B Sahu, Shogo Hattori, Takayoshi Tsutsumi, Nikolay Britun, Kenji Ishikawa, Hirohiko Tanaka, Taku Gohira, Noriyasu Ohno, Masaru Hori
11th International Conference on Reactive Plasmas/2022 Gaseous Electronics Conference (ICRP-11/GEC2022)
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Topographically-selective atomic layer etching of SiO2 using fluorine-containing plasma 国際会議
Airah Osonio, Takayoshi Tsutsumi, Bablu Mukherjee, Ranjit Borude, Nobuyoshi Kobayashi, and Masaru Hori
11th International Conference on Reactive Plasmas/2022 Gaseous Electronics Conference (ICRP-11/GEC2022)
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Development of an experimental system for cell viability assays of yeasts using gas-temperature controllable plasma jets 国際会議
Shinji Yoshimura, Yoko Otsubo, Akira Yamashita, Katsuki Johzuka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
11th International Conference on Reactive Plasmas/2022 Gaseous Electronics Conference (ICRP-11/GEC2022)
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Achieving selective etching of SiN and SiO2 over amorphous carbon during CF4/H2 by controlling substrate temperature 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
11th International Conference on Reactive Plasmas/2022 Gaseous Electronics Conference (ICRP-11/GEC2022)
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Development of an experimental system for cell viability assays of yeasts using gas-temperature controllable plasma jets 国際会議
Shinji Yoshimura, Yoko Otsubo, Akira Yamashita, Katsuki Johzuka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
11th International Conference on Reactive Plasmas/2022 Gaseous Electronics Conference (ICRP-11/GEC2022)
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Langmuir probe and Laser Photodetachment Study of Afterglow Phase in Dual RF Frequency Pulsed Plasma Etching Processes Operated with Synchronized DC Bias 国際会議
Makoto Sekine, Bibhuti B Sahu, Shogo Hattori, Takayoshi Tsutsumi, Nikolay Britun, Kenji Ishikawa, Hirohiko Tanaka, Taku Gohira, Noriyasu Ohno, Masaru Hori
11th International Conference on Reactive Plasmas/2022 Gaseous Electronics Conference (ICRP-11/GEC2022)
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Topographically-selective atomic layer etching of SiO2 using fluorine-containing plasma 国際会議
Airah Osonio, Takayoshi Tsutsumi, Bablu Mukherjee, Ranjit Borude, Nobuyoshi Kobayashi, Masaru Hori
11th International Conference on Reactive Plasmas/2022 Gaseous Electronics Conference (ICRP-11/GEC2022)
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水素化アモルファスカーボン薄膜の合成機構における活 性種の寄与度の機械学習を用いた解析
近藤 博基, 黒川 純平, 堤 隆嘉, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
2022年 第83回 応用物理学会 秋季学術講演
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イオン照射角制御によるカーボンナノウォールの配向成長
射場 信太朗, 近藤 博基, 石川 健治, 堤 隆嘉, 平松 美根男, 関根 誠, 堀 勝
2022年 第83回 応用物理学会 秋季学術講演
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イオン照射角制御によるカーボンナノウォールの配向成長
射場 信太朗, 近藤 博基, 石川 健治, 堤 隆嘉, 平松 美根男, 関根 誠, 堀 勝
2022年 第83回 応用物理学会 秋季学術講演
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水素化アモルファスカーボン薄膜の合成機構における活 性種の寄与度の機械学習を用いた解析
近藤 博基, 黒川 純平, 堤 隆嘉, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
2022年 第83回 応用物理学会 秋季学術講演
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Machine learning and contribution analysis of radicals to the properties of hydrogenated amorphous carbon films grown by a plasma-enhanced chemical vapor deposition 国際会議
Hiroki Kondo, Jumpei Kurokawa, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori
THE 22ND INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS IVC-22
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In situ monitoring hydrogen fluoride molecular density and its effects on etch selectivity of SiN over SiO2 films with hydrogen-contained fluorocarbon down-flow plasmas 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Nicolay Britun, Thi-Thuy-Naga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
THE 22ND INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS IVC-22
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In situ monitoring hydrogen fluoride molecular density and its effects on etch selectivity of SiN over SiO2 films with hydrogen-contained fluorocarbon down-flow plasmas 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Nicolay Britun, Thi-Thuy-Naga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
THE 22ND INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS IVC-22
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Machine learning and contribution analysis of radicals to the properties of hydrogenated amorphous carbon films grown by a plasma-enhanced chemical vapor deposition 国際会議
Hiroki Kondo, Jumpei Kurokawa, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori
THE 22ND INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS IVC-22
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Nanostructure Control and Modification of Poly(styrene-b-2-vinylpyridine) Block Copolymer in H2/N2 Plasma Process 招待有り 国際会議
Ma. shanlene Dela Cruz DELA VEGA, Ayane KITAHARA, Thi-thuy-nga NGUYEN, Takayoshi TSUTSUMI, Atsushi TAKANO, Yushu MATSUSHITA, Masaru HORI
The 5th International Union of Materials Research Societies International Conference of Young Researchers on Advanced Materials (IUMRS-ICYRAM2022)
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Interfacial reaction of gas-liquid plasma in the synthesis of functional carbon nanomaterials 招待有り 国際会議
Hiroki KONDO, Takayoshi TSUTSUMI, Kenji ISHIKAWA, Masaru HORI
The 5th International Union of Materials Research Societies International Conference of Young Researchers on Advanced Materials (IUMRS-ICYRAM2022)
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Interfacial reaction of gas-liquid plasma in the synthesis of functional carbon nanomaterials 招待有り 国際会議
Hiroki KONDO, Takayoshi TSUTSUMI, Kenji ISHIKAWA, Masaru HORI
The 5th International Union of Materials Research Societies International Conference of Young Researchers on Advanced Materials (IUMRS-ICYRAM2022)
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Nanostructure Control and Modification of Poly(styrene-b-2-vinylpyridine) Block Copolymer in H2/N2 Plasma Process 招待有り 国際会議
Ma. shanlene, Dela Cruz, DELA VEGA, Ayane KITAHARA, Thi-thuy-nga NGUYEN, Takayoshi TSUTSUMI, Atsushi TAKANO, Yushu MATSUSHITA, Masaru HORI
The 5th International Union of Materials Research Societies International Conference of Young Researchers on Advanced Materials (IUMRS-ICYRAM2022)
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Study of etching process using CHF3 gas condensed layer in cryogenic region 国際会議
Kuangda Sun, Chieh-Ju Liao, Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine, Toshiyuki Sasaki, Chihiro Abe, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
1st International Workshop on Plasma Cryo Etching Processes（PlaCEP2022）
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Study of etching process using CHF3 gas condensed layer in cryogenic region 国際会議
Kuangda Sun, Chieh-Ju Liao, Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine, Toshiyuki Sasaki, Chihiro Abe, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
1st International Workshop on Plasma Cryo Etching Processes（PlaCEP2022）
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Transient Behaviors of Gaseous and Surface Reactions in a Cycle of Pasivation and Etch Steps Using Ar-Based C4F8 and SF6 Plasma 国際会議
Kenji Ishikawa, Taito Yoshie, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori
MRS Spring Meetings & Exhibits
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Transient Behaviors of Gaseous and Surface Reactions in a Cycle of Pasivation and Etch Steps Using Ar-Based C4F8 and SF6 Plasma 国際会議
Kenji Ishikawa, Taito Yoshie, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori
MRS Spring Meetings & Exhibits
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C4F8/SF6ガス変調サイクルにおいてバイアス印加位相がエッチング形状に及ぼす影響
吉江 泰斗、堤 隆嘉、石川 健治、近藤 博基、関根 誠、堀 勝
第69回応用物理学会春季学術講演会
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窒化ガリウムの基板昇温時サイクルエッチング特性
南 吏玖、中村 昭平、谷出 敦、石川 健治、堤 隆嘉、近藤 博基、関根 誠、堀 勝
第69回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマ励起化学気相堆積法におけるカーボンナノウォールの配向成長に対するイオン照射角度の効果
射場 信太朗、近藤 博基、石川 健治、堤 隆嘉、平松 美根男、関根 誠、堀 勝
第69回応用物理学会春季学術講演会
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高効率エクソソーム解析に向けたカーボンナノウォールテンプレートの 表面電位制御
橋本 拓海、近藤 博基、田中 宏昌、石川 健治、堤 隆嘉、関根 誠、安井 隆雄、馬場 嘉信、平松 美根男、堀 勝
第69回応用物理学会春季学術講演会
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ラジカル注入型プラズマ励起化学気相堆積法で成長したカーボンナノウォールの3次元構造解析
近藤 博基、尾崎 敦士、堤 隆嘉、関根 誠、石川 健治、堀 勝、平松 美根男
第69回応用物理学会春季学術講演会
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C3H6 / H2プラズマを用いた水素化アモルファスカーボン成膜における成膜前駆体と膜特性の相関関係
黒川 純平、光成 正、近藤 博基、堤 隆嘉、関根 誠、石川 健治、堀 勝
第69回応用物理学会春季学術講演会
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C3H6 / H2プラズマを用いた水素化アモルファスカーボン成膜における成膜前駆体と膜特性の相関関係
黒川 純平, 光成 正, 近藤 博基, 堤 隆嘉, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
第69回応用物理学会春季学術講演会
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C4F8/SF6ガス変調サイクルにおいてバイアス印加位相がエッチング形状に及ぼす影響
吉江 泰斗, 堤 隆嘉, 石川 健治, 近藤 博基, 関根 誠, 堀 勝
第69回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマ励起化学気相堆積法におけるカーボンナノウォールの配向成長に対するイオン照射角度の効果
射場 信太朗, 近藤 博基, 石川 健治, 堤 隆嘉, 平松 美根男, 関根 誠, 堀 勝
第69回応用物理学会春季学術講演会
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ラジカル注入型プラズマ励起化学気相堆積法で成長したカーボンナノウォールの3次元構造解析
近藤 博基, 尾崎 敦士, 堤 隆嘉, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝, 平松 美根男
第69回応用物理学会春季学術講演会
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窒化ガリウムの基板昇温時サイクルエッチング特性
南 吏玖, 中村 昭平, 谷出 敦, 石川 健治, 堤 隆嘉, 近藤 博基, 関根 誠, 堀 勝
第69回応用物理学会春季学術講演会
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高効率エクソソーム解析に向けたカーボンナノウォールテンプレートの 表面電位制御
橋本 拓海, 近藤 博基, 田中 宏昌, 石川 健治, 堤 隆嘉, 関根 誠, 安井 隆雄, 馬場 嘉信, 平松 美根男, 堀 勝
第69回応用物理学会春季学術講演会
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In-Liquid Plasma Coating of Graphite Films on Metal Surface Immersed in Ethanol 国際会議
Ma. Shanlene D.C. Dela Vega, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Magdaleno R. Vasquez Jr., and Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Manipulation of etch selectivity of silicon nitride over silicon dioxide by controlling substrate temperature with a CF4/H2 plasma 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Nicolay Britun, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Feature profiles in cyclic etch using C4F8 and SF6 gas-modulated plasma 国際会議
Taito Yoshie, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Correlation analysis between radicals in gas phase and etch resistance of hydrogenated amorphous carbon film 国際会議
Jumpei Kurokawa, Tadashi Mitsunari, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Effect of Air Introduction between Electrodes on Rapid Removal Process of Polymer Contamination on Floor by Atmospheric Pressure Plasma 国際会議
Yoshihiro Sakamoto, Takayoshi Tsutsumi, and Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Simple external filter and tuning for operation in dual radio frequency plasmas using compensated Langmuir probe 国際会議
B. B. Sahu, M. Sekine, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Shogo, H. Tanaka, N. Ohno, and M. Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Effect of Substrate Temperature on Morphology of Carbon Nanowalls Grown by a Radical-Injection Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using C2F6 /H2 Mixture Gas 国際会議
Takumi Hashimoto, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu and Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Spectroscopy of H2/CH4/N2 Plasma for Carbon Nanowalls Growth 国際会議
Dennis Christy, Takayoshi Tsutsumi, Ngo Van Nong, Osamu Oda, Masaru Hori and Nikolay Britun
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Three-Dimensional Morphological Analysis of Carbon Nanowalls 国際会議
Hiroki Kondo, Atsushi Ozaki, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Uroš Cvelbar and Mineo Hiramatsu
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Effect of RF Stage-Bias on Morphology of Carbon Nanowalls Grown by a Radical-Injection Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議
Shintaro Iba, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu and Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Correlation analysis between radicals in gas phase and etch resistance of hydrogenated amorphous carbon film 国際会議
Jumpei Kurokawa, Tadashi Mitsunari, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Effect of Air Introduction between Electrodes on Rapid Removal Process of Polymer Contamination on Floor by Atmospheric Pressure Plasma 国際会議
Yoshihiro Sakamoto, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Manipulation of etch selectivity of silicon nitride over silicon dioxide by controlling substrate temperature with a CF4/H2 plasma 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Nicolay Britun, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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In-Liquid Plasma Coating of Graphite Films on Metal Surface Immersed in Ethanol 国際会議
Ma. Shanlene, D.C. Dela Vega, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Magdaleno R, Vasquez Jr, Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Feature profiles in cyclic etch using C4F8 and SF6 gas-modulated plasma 国際会議
Taito Yoshie, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Effect of Substrate Temperature on Morphology of Carbon Nanowalls Grown by a Radical-Injection Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using C2F6 /H2 Mixture Gas 国際会議
Takumi Hashimoto, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Effect of RF Stage-Bias on Morphology of Carbon Nanowalls Grown by a Radical-Injection Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議
Shintaro Iba, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Simple external filter and tuning for operation in dual radio frequency plasmas using compensated Langmuir probe 国際会議
B. B. Sahu, M. Sekine, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Shogo, H. Tanaka, N. Ohno, M. Hori
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Three-Dimensional Morphological Analysis of Carbon Nanowalls 国際会議
Hiroki Kondo, Atsushi Ozaki, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Uroš Cvelbar, Mineo Hiramatsu
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Spectroscopy of H2/CH4/N2 Plasma for Carbon Nanowalls Growth 国際会議
Dennis Christy, Takayoshi Tsutsumi, Ngo Van Nong, Osamu Oda, Masaru Hori, Nikolay Britun
14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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真空紫外原子吸光分光法による大気圧マイクロ波Ar/O2プラズマのO原子密度計測
岩田悠揮、小笠原知裕、鈴木陽香、堤隆嘉、堀勝、豊田浩孝
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C2F6/H2混合ガスを用いてラジカル注入型プラズマ励起化学気相堆積法により成長されたカーボンナノウォールのモフォロジー制御
橋本拓海、近藤博基、石川健治、堤隆嘉、関根誠、平松美根男、堀勝
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液中プラズマプロセスを用いたメタノール内金属基板上へのナノグラフェンの成膜
デラヴェガマリアシャンリン、近藤博基、堤隆嘉、グエン ティ・トゥイーンガ、石川健治、関根誠、ヴァスケズマグダレノジュニア、堀勝
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カーボンナノウォールの形態と高さが光透過率に及ぼす影響
射場 信太朗、近藤 博基、石川 健治、関根 誠、堤 隆嘉、平松 美根男、堀 勝
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C2F6/H2混合ガスを用いてラジカル注入型プラズマ励起化学気相堆積法により成長されたカーボンナノウォールのモフォロジー制御
橋本拓海, 近藤博基, 石川健治, 堤隆嘉, 関根誠, 平松美根男, 堀勝
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カーボンナノウォールの形態と高さが光透過率に及ぼす影響
射場 信太朗, 近藤 博基, 石川 健治, 関根 誠, 堤 隆嘉, 平松 美根男, 堀 勝
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液中プラズマプロセスを用いたメタノール内金属基板上へのナノグラフェンの成膜
デラヴェガマリアシャンリン, 近藤博基, 堤隆嘉, グエン ティ・トゥイーンガ, 石川健治, 関根誠, ヴァスケズマグダレノジュニア
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真空紫外原子吸光分光法による大気圧マイクロ波Ar/O2プラズマのO原子密度計測
岩田悠揮, 小笠原知裕, 鈴木陽香, 堤隆嘉, 堀勝, 豊田浩孝
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Optical transmission of carbon nanowalls from ultra-violet region to infra-red region 国際会議
S. Iba, H. Kondo, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hiramatsu, and M. Hori
Material Research Meeting (MRM2021)
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Three-dimensional structural analysis of carbon nanowalls synthesized by a radical-injection plasma-enhanced chemical vapor deposition system 国際会議
Hiroki Kondo, Atsushi Ozaki, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Uroš Cvelbar, Mineo Hiramatsu
Material Research Meeting (MRM2021)
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Optical transmission of carbon nanowalls from ultra-violet region to infra-red region 国際会議
S. Iba, H. Kondo, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hiramatsu, M. Hori
Material Research Meeting (MRM2021)
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Three-dimensional structural analysis of carbon nanowalls synthesized by a radical-injection plasma-enhanced chemical vapor deposition system 国際会議
Hiroki Kondo, Atsushi Ozaki, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Uroš Cvelbar, Mineo Hiramatsu
Material Research Meeting (MRM2021)
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Spatial Distribution Measurement of Atomic Oxygen from Atmospheric-Pressure Microwave Line Plasma by Atomic Absorption Spectroscopy 国際会議
Tomohiro Ogasawara, Yuki Iwata, Haruka Suzuki, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori and Hirotaka Toyoda
12th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-12)
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Comparison of CF4/H2 and HF/H2 Plasmas for Etching of PECVD-Prepared SiN Films 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Nicolay Britun, Thi-Thuy-Nga Nga, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
12th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-12)
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Behavior of Hydrogen Atom in Atmospheric Pressure Micro-Hollow Cathode Discharge 国際会議
Keigo Takeda, Takayoshi Tsutsumi, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori
12th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-12)
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Behavior of Hydrogen Atom in Atmospheric Pressure Micro-Hollow Cathode Discharge 国際会議
Keigo Takeda, Takayoshi Tsutsumi, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori
12th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-12)
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Comparison of CF4/H2 and HF/H2 Plasmas for Etching of PECVD-Prepared SiN Films 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Nicolay Britun, Thi-Thuy-Nga Nga, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
12th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-12)
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Spatial Distribution Measurement of Atomic Oxygen from Atmospheric-Pressure Microwave Line Plasma by Atomic Absorption Spectroscopy 国際会議
Tomohiro Ogasawara, Yuki Iwata, Haruka Suzuki, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori, Hirotaka Toyoda
12th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-12)
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Random forest model for property control of plasma 国際会議
J. Kurokawa, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori
The 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021)
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Selective plasma-enhanced atomic layer etching of SiO using a silane coupling agent 国際会議
A. Osonio, T. Tsutsumi, B. Mukherjee, R. Borude, N. Kobayashi, M. Hori
The 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021)
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Transient effects in cyclic processes on fabrications of high-aspect-ratio trenches 国際会議
T. Yoshie, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Hori
The 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021)
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Random forest model for property control of plasma 国際会議
J. Kurokawa, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
The 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021)
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Transient effects in cyclic processes on fabrications of high-aspect-ratio trenches 国際会議
T. Yoshie, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Hori
The 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021)
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Selective plasma-enhanced atomic layer etching of SiO using a silane coupling agent 国際会議
A. Osonio, T. Tsutsumi, B. Mukherjee, R. Borude, N. Kobayashi, M. Hori
The 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021)
-
Control of Interface Layers for Selective Atomic Layer Etching 招待有り 国際会議
Takayoshi Tsutsumi, R. Vervuurt, N. Kobayashi, and Masaru Hori
67th AVS International Symposium and Exhibitio
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Control of Interface Layers for Selective Atomic Layer Etching 招待有り 国際会議
Takayoshi Tsutsumi, R. Vervuur, N. Kobayashi, Masaru Hori
67th AVS International Symposium and Exhibitio
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Ar/C4F8/SF6を用いたガス変調サイクルプロセスにおける活性種の挙動2
吉江 泰斗、堤 隆嘉、石川 健治、堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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カーボンナノウォールの光透過率に対する壁密度および高さの効果
射場 信太朗、近藤 博基、石川 健治、堤 隆嘉、平松 美根男、関根 誠、堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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窒化ガリウムのプラズマエッチング中その場分光エリプソメトリー観測
南 吏玖、石川 健治、堤 隆嘉、近藤 博基、関根 誠、小田 修、堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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原子層エッチングの反応素過程とその設計、制御
石川 健治、Nguyen Thi-Thuy-Nga、堤 隆嘉、蕭 世男、近藤 博基、関根 誠、堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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螺旋状窒素プラズマ中の窒素原子密度計測
西尾 亮佑、梶田 信、大野 哲靖、田中 宏彦、浅岡 晃次、堤 隆嘉、堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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C3H6 / H2プラズマを用いたアモルファスカーボン成膜において水素ガス流量比が膜特性に与える影響
黒川 純平、光成 正、堤 隆嘉、近藤 博基、関根 誠、石川 健治、堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～モバイル水素の役割と考察～
布村 正太、坂田 功、堤 隆嘉、堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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Ar/C4F8/SF6を用いたガス変調サイクルプロセスにおける活性種の挙動2
吉江 泰斗, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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C3H6 / H2プラズマを用いたアモルファスカーボン成膜において水素ガス流量比が膜特性に与える影響
黒川 純平, 光成 正, 堤 隆嘉, 近藤 博基, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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カーボンナノウォールの光透過率に対する壁密度および高さの効果
射場 信太朗, 近藤 博基, 石川 健治, 堤 隆嘉, 平松 美根男, 関根 誠, 堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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原子層エッチングの反応素過程とその設計、制御
石川 健治, Nguyen Thi-Thuy-Nga, 堤 隆嘉, 蕭 世男, 近藤 博基, 関根 誠, 堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～モバイル水素の役割と考察～
布村 正太, 坂田 功, 堤 隆嘉, 堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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窒化ガリウムのプラズマエッチング中その場分光エリプソメトリー観測
南 吏玖, 石川 健治, 堤 隆嘉, 近藤 博基, 関根 誠, 小田 修, 堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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螺旋状窒素プラズマ中の窒素原子密度計測
西尾 亮佑, 梶田 信, 大野 哲靖, 田中 宏彦, 浅岡 晃次, 堤 隆嘉, 堀 勝
第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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Development of the nanocarbon coating process on metal surfaces via in-liquid plasma 国際会議
Ma. Shanlene D.C. Dela Vega, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
Interfinish 2020 World Congress
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Application of Atmospheric Pressure Plasma to Rapid Dry Etching of Polymer Contamination on Floor 国際会議
Y Sakamoto, T Tsutsumi, M Hori
Interfinish 2020 World Congress
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Application of Atmospheric Pressure Plasma to Rapid Dry Etching of Polymer Contamination on Floor 国際会議
Y Sakamoto, T Tsutsumi, M Hori
Interfinish 2020 World Congress
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Development of the nanocarbon coating process on metal surfaces via in-liquid plasma 国際会議
Ma. Shanlene, D.C. Dela Vega, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
Interfinish 2020 World Congress
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Numerical analysis of effects of applying voltage polarity on atmospheric pressure argon streamer discharge under pin-to-plane electrode geometry 国際会議
Y. Sato, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, A. Ui, M. Akita, S. Oka and M. Hori
47th Conference on Plasma Physics
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Numerical analysis of effects of applying voltage polarity on atmospheric pressure argon streamer discharge under pin-to-plane electrode geometry 国際会議
Y. Sato, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, A. Ui, M. Akita, S. Oka, M. Hori
47th Conference on Plasma Physics
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塩素吸着による窒化ガリウム原子層エッチングの表面反応の理想と現実
堤 隆嘉, 長谷川 将希, 中村 昭平, 谷出 敦，近藤 博基, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
第227回 シリコンテクノロジー分科会 研究集会 2021年3月25日
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塩素吸着による窒化ガリウム原子層エッチングの表面反応の理想と現実
堤 隆嘉, 長谷川 将希, 中村 昭平, 谷出 敦, 近藤 博基, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
第227回 シリコンテクノロジー分科会 研究集会 2021年3月25日
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における活性種の効果[II]
近藤 博基、濱地 遼、堤 隆嘉、石川 健治、関根 誠、堀 勝
第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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塩素吸着を用いた窒化ガリウムの原子層エッチングプロセス特性のArイオンエネルギー依存性
堤 隆嘉、長谷川 将希、中村 昭平、谷出 敦、近藤 博基、関根 誠、石川 健治、堀 勝
2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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リモート酸素ラジカルによるグラフェンのエッチング反応の分析
胡 留剛、堤 隆嘉、蕭 世男、近藤 博基、石川 健治、関根 誠、堀 勝
2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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マイクロ放電ホローカソードプラズマを用いた真空紫外吸収分光用自己吸収光源の分光診断
竹田 圭吾、堤 隆嘉、平松 美根男、堀 勝
2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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Ar/C4F8/SF6を用いたガス変調サイクルプロセスにおける活性種の挙動
吉江 泰斗、三好 康史、堤 隆嘉、釘宮 克尚、石川 健治、堀 勝
2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～少数キャリアライフタイムによる定量評価～
布村 正太、坂田 功、堤 隆嘉、堀 勝
2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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Ar/C4F8/SF6を用いたガス変調サイクルプロセスにおける活性種の挙動
吉江 泰斗, 三好 康史, 堤 隆嘉, 釘宮 克尚, 石川 健治, 堀 勝
2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～少数キャリアライフタイムによる定量評価～
布村 正太, 坂田 功, 堤 隆嘉, 堀 勝
2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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リモート酸素ラジカルによるグラフェンのエッチング反応の分析
胡 留剛, 堤 隆嘉, 蕭 世男, 近藤 博基, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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マイクロ放電ホローカソードプラズマを用いた真空紫外吸収分光用自己吸収光源の分光診断
竹田 圭吾, 堤 隆嘉, 平松 美根男, 堀 勝
2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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塩素吸着を用いた窒化ガリウムの原子層エッチングプロセス特性のArイオンエネルギー依存性
堤 隆嘉, 長谷川 将希, 中村 昭平, 谷出 敦, 近藤 博基, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における活性種の効果[II]
近藤 博基, 濱地 遼, 堤 隆嘉, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
第68回応⽤物理学会春季学術講演会
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Design of removal process of SnO2 on glass by H2/Ar plasma at atmospheric pressure and medium pressure 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa and Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月9日
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Comparison of Nitrogen Atom Densities Measured with VUVAS and Actinometry in Spiral Shape Plasma 国際会議
Ryosuke Nishio, Noriyasu Ohno, Shin Kajita, Hirohiko Tanaka, Koji Asaoka, Takayoshi Tsutsumi and Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Microwave Nitrogen Plasma Jets under the Moderate Gas Pressure Region 国際会議
Jaeho Kim, Keigo Takeda, Hirotomo Itagaki, Xue-lun Wang, Shingo Hirose, Hisato Ogiso, Tetsuji Shimizu, Naoto Kumagai, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Masaru Hori and Hajime Sakakita
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Crystalline structures and local electrical conductivity at crossing points of carbon nanowalls 国際会議
Atsushi Ozaki, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu and Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Ion-attachment mass spectrometric analysis of odorous gas decomposition by atmospheric pressure plasma 国際会議
Tatsuyuki Moriyama, Yosuke Sato, Akio Ui, Shotaro Oka,Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi and Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Initial growth kinetics of hydrogenated amorphous carbon films observed by real-time ellipsometry 国際会議
Jumpei Kurokawa, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi,Makoto Sekine and Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Quantitative analyses of graphene layer etching using oxygen radicals generated in remote plasma for realization of atomic layer etching 国際会議
Liugang Hu, Takayoshi Tsutsumi, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Shih-Nan Hsiao, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Pressure and flow rate dependence of active species in gas modulation cycle process using Ar/C4F8/SF6 国際会議
Taito Yoshie, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Measurements of negative ion density and plasma parameters in Ar/O2/C4F8 etching plasmas by Langmuir probe-assisted laser photodetachment 国際会議
B. B. Sahu, S.Hattori, T. Tsutsumi, N. Britun, M. Sekine, K. Ishikawa, H. Tanaka,T. Gohira, Y. Ohya, N. Ohno and M. Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Study of etching process using gas condensed layer at cryogenic temperature 2. Evaluation of cycle etching using gas condensed layer 国際会議
M. Hazumi, S. Selvaraj, S. N. Hsiao, C. Abe, T. Sasaki, H. Hayashi, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine and M. Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Dependence of nitrogen concentrations on cytotoxicity of air-free Ar-N2 mixed atmospheric pressure plasma-activeted lactated solutions 国際会議
Daiki Ito, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Study of etching process using gas condensed layer at cryogenic temperature 1. Evaluation of CHF3 condensed layer thickness on SiO2 surface 国際会議
S. Selvaraj, M. Hazumi, S. N. Hsiao, C. Abe, T. Sasaki, H. Hayashi, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Effects on substrate temperature on the etching behaviors of PECVD- and LPCVD-prepared SiN thin films with CF4/H2 plasmas 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Comparison of Nitrogen Atom Densities Measured with VUVAS and Actinometry in Spiral Shape Plasma 国際会議
Ryosuke Nishio, Noriyasu Ohno, Shin Kajita, Hirohiko Tanaka, Koji Asaoka, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Crystalline structures and local electrical conductivity at crossing points of carbon nanowalls 国際会議
Atsushi Ozaki, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Microwave Nitrogen Plasma Jets under the Moderate Gas Pressure Region 国際会議
Jaeho Kim, Keigo Takeda, Hirotomo Itagaki, Xue-lun Wang, Shingo Hirose, Hisato Ogiso, Tetsuji Shimizu, Naoto Kumagai, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Masaru Hori, Hajime Sakakita
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Measurements of negative ion density and plasma parameters in Ar/O2/C4F8 etching plasmas by Langmuir probe-assisted laser photodetachment 国際会議
B. B. Sahu, S.Hattori, T. Tsutsumi, N. Britun, M. Sekine, K. Ishikawa, H. Tanaka, T. Gohira, Y. Ohya, N. Ohno, M. Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Ion-attachment mass spectrometric analysis of odorous gas decomposition by atmospheric pressure plasma 国際会議
Tatsuyuki Moriyama, Yosuke Sato, Akio Ui, Shotaro Oka, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Initial growth kinetics of hydrogenated amorphous carbon films observed by real-time ellipsometry 国際会議
Jumpei Kurokawa, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Effects on substrate temperature on the etching behaviors of PECVD- and LPCVD-prepared SiN thin films with CF4/H2 plasmas 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Design of removal process of SnO2 on glass by H2/Ar plasma at atmospheric pressure and medium pressure 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月9日
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Dependence of nitrogen concentrations on cytotoxicity of air-free Ar-N2 mixed atmospheric pressure plasma-activeted lactated solutions 国際会議
Daiki Ito, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Pressure and flow rate dependence of active species in gas modulation cycle process using Ar/C4F8/SF6 国際会議
Taito Yoshie, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Study of etching process using gas condensed layer at cryogenic temperature 2. Evaluation of cycle etching using gas condensed layer 国際会議
M. Hazumi, S. Selvaraj, S. N. Hsiao, C. Abe, T. Sasaki, H. Hayashi, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Study of etching process using gas condensed layer at cryogenic temperature 1. Evaluation of CHF3 condensed layer thickness on SiO2 surface 国際会議
S. Selvaraj, M. Hazumi, S. N. Hsiao, C. Abe, T. Sasaki, H. Hayashi, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Quantitative analyses of graphene layer etching using oxygen radicals generated in remote plasma for realization of atomic layer etching 国際会議
Liugang Hu, Takayoshi Tsutsumi, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Shih-Nan Hsiao, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science （ISPlasma2021/IC-PLANTS2021） 2021年3月8日
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Etching characteristics of PECVD prepared SiN films with CF4/H2 and CF4/D2 plasmas at different substrate temperatures 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2020 (ISSM2020) 2020年12月15日
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Etching characteristics of PECVD prepared SiN films with CF4/H2 and CF4/D2 plasmas at different substrate temperatures 国際会議
Shih-Nan Hsiao, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2020 (ISSM2020) 2020年12月15日
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Antitumor effect of plasma-activated Ringer’s acetate solution 国際会議
Yuki SudaU, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori
2020年12月10日
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Antitumor effect of plasma-activated Ringer’s acetate solution 国際会議
Yuki SudaU, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori
2020年12月10日
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Nitrogen Atom Density Measurements from Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy and Actinometry in Spiral Shape Plasma 国際会議
Ryosuke Nishio, Noriyasu Ohno, Shin Kajita, Hirohiko Tanaka, Koji Asaoka, Takayoshi Tsutsumi and Masaru Hori
The 29th International Toki Conference on Plasma and Fusion Research 2020年10月28日
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Time resolved measurements of electron density and temperature by an electrostatic probe with conditional averaging method in pulsed capacitively coupled plasmas 国際会議
S. Hattori, B. B. Sahu, H. Tanaka, T. Tsutsumi, S. Kajita, M. Sekine, M. Hori, N. Ohno
The 29th International Toki Conference on Plasma and Fusion Research 2020年10月28日
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Nitrogen Atom Density Measurements from Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy and Actinometry in Spiral Shape Plasma 国際会議
Ryosuke Nishio, Noriyasu Ohno, Shin Kajita, Hirohiko Tanaka, Koji Asaoka, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori
The 29th International Toki Conference on Plasma and Fusion Research 2020年10月28日
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Time resolved measurements of electron density and temperature by an electrostatic probe with conditional averaging method in pulsed capacitively coupled plasmas 国際会議
S. Hattori, B. B. Sahu, H. Tanaka, T. Tsutsumi, S. Kajita, M. Sekine, M. Hori, N. Ohno
The 29th International Toki Conference on Plasma and Fusion Research 2020年10月28日
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Interactions of floating-wire-assisted atmospheric-pressure H2/Ar plasma with SnO2 film on glass substrate forming spherical Sn particles 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Hidefumi Odaka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
73th Annual Gaseous Electronics Virtual Conference 2020年10月8日
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Penetration of hydrogen atoms and termination of dangling bonds in amorphous carbon films 国際会議
Hiroki Kondo, Yasuyuki Ohashi, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
73th Annual Gaseous Electronics Virtual Conference 2020年10月9日
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Interactions of floating-wire-assisted atmospheric-pressure H2/Ar plasma with SnO2 film on glass substrate forming spherical Sn particles 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Hidefumi Odaka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
73th Annual Gaseous Electronics Virtual Conference 2020年10月8日
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Penetration of hydrogen atoms and termination of dangling bonds in amorphous carbon films 国際会議
Hiroki Kondo, Yasuyuki Ohashi, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
73th Annual Gaseous Electronics Virtual Conference 2020年10月9日
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カーボンナノウォールの局所電気伝導特性の解明
尾崎 敦士、近藤 博基、石川 健治、堤 隆嘉、平松 美根男、関根 誠、堀 勝
第81回応用物理学会秋季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における活性種の効果
近藤 博基、濱地 遼、堤 隆嘉、石川 健治、関根 誠、堀 勝
第81回応用物理学会秋季学術講演会
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カーボンナノウォールの局所電気伝導特性の解明
尾崎 敦士, 近藤 博基, 石川 健治, 堤 隆嘉, 平松 美根男, 関根 誠, 堀 勝
第81回応用物理学会秋季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における活性種の効果
近藤 博基, 濱地 遼, 堤 隆嘉, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
第81回応用物理学会秋季学術講演会
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Analysis of Ion Energy Dependence of Depth Profile of GaN by In-situ Surface Analysis 国際会議
Masaki Hasagawa‚ Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide‚ Shohei Nakamura, Hiroki Kondo‚ Kenji Ishikawa‚ Masaru Hori
20th International Conference on Atomic Layer Deposition 2020年6月29日
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Analysis of Ion Energy Dependence of Depth Profile of GaN by In-situ Surface Analysis 国際会議
Masaki Hasagawa‚, Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide‚, Shohei Nakamura, Hiroki Kondo‚, Kenji Ishikawa‚, Masaru Hori
20th International Conference on Atomic Layer Deposition 2020年6月29日
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プラズマプロセス中の基板温度分布の経時変化の解析
堤 隆嘉、石川 健治、近藤 博基、関根 誠、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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Arイオン照射窒化ガリウム表面の塩素吸着層のイオンエネルギー依存性 (2)
長谷川 将希、堤 隆嘉、谷出 敦、近藤 博基、関根 誠、石川 健治、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における照射時間依存性 [II]
近藤 博基、濱地 遼、 堤 隆嘉,、石川 健治、関根 誠、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における照射時間依存性[Ⅰ]
濱地 遼、近藤 博基、堤 隆嘉、石川 健治、関根 誠、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～Arイオン照射の効果～
布村 正太、中根 一也、堤 隆嘉、松原 浩司、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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極低温領域におけるCHF3ガス凝縮層を用いたエッチングプロセスの研究
羽澄 匡広, スガンサマラー セルヴァラジ, 蕭 世男, 関根 誠, 林 久貴, 佐々木 俊行, 阿部 知央, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマ表面処理が自己集積化膜の分子配向に及ぼす影響
織田 祥成、堤 隆嘉、石川 健治、堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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Arイオン照射窒化ガリウム表面の塩素吸着層のイオンエネルギー依存性 (2)
長谷川 将希, 堤 隆嘉, 谷出 敦, 近藤 博基, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマプロセス中の基板温度分布の経時変化の解析
堤 隆嘉, 石川 健治, 近藤 博基, 関根 誠, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～Arイオン照射の効果～
布村 正太, 中根 一也, 堤 隆嘉, 松原 浩司, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマ表面処理が自己集積化膜の分子配向に及ぼす影響
織田 祥成, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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極低温領域におけるCHF3ガス凝縮層を用いたエッチングプロセスの研究
羽澄 匡広, スガンサマラー セルヴァラジ, 蕭 世男, 関根 誠, 林 久貴, 佐々木 俊行, 阿部 知央, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における照射時間依存性[Ⅰ]
濱地 遼, 近藤 博基, 堤 隆嘉, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における照射時間依存性 [II]
近藤 博基, 濱地 遼, 堤 隆嘉, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
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Termination of Dangling Bonds in Amorphous Carbon Films by Hydrogen Atoms 国際会議
Yasuyuki Ohashi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Formation of Spherical Sn Particles from SnO2 Film by Atmospheric-Pressure Plasma 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Hidefumi Odaka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Etching Process Using CHF3 Gas Condensed Layer in Cryogenic Region 国際会議
Masahiro Hazumi, Suganthamalar Selvaraj, Shih-Nan Hsiao, Chihiro Abe, Toshiyuki Sasaki, Hisataka Hayashi, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Influence of Temperature on Etch Rate of SiN Films with CF4/H2 Plasma 国際会議
Shin-Nan Hsiao, Kazuya Nakane, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Measurement of Spatial Distribution of Absolute Hydrogen Radical Density in Non Equilibrium Atmospheric Pressure Plasma by Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy 国際会議
Kaede Katsuno, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Self-Absorbing Effect of Micro-Discharge Hollow Cathode Plasma as Light Source for Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy 国際会議
Sho Shimizu, Keigo Takeda, Takayoshi Tsutsumi, Mineo Hiramatsu and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Generation of Repulsing Glow Discharge in Centimeter Order Air Gaps 国際会議
Vladislav Gamaleev, Takayoshi Tsutsumi and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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In-Liquid Plasma Synthesis of Iron-Nitrogen-Doped Carbon Nanoflakes with Highly Catalytic Activity 国際会議
Ryo Hamaji, Tomoki Amano, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, 1Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Keigo Takeda, Mineo Hiramatsu and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Fluctuation of Local Electrical Conductivity in Carbon Nanowalls Observed by Conductive Atomic Force Microscopy 国際会議
Atsushi Ozaki, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Etching Process Using CHF3 Gas Condensed Layer in Cryogenic Region 国際会議
Masahiro Hazumi, Suganthamalar Selvaraj, Shih-Nan Hsiao, Chihiro Abe, Toshiyuki Sasaki, Hisataka Hayashi, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Measurement of Spatial Distribution of Absolute Hydrogen Radical Density in Non Equilibrium Atmospheric Pressure Plasma by Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy 国際会議
Kaede Katsuno, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Influence of Temperature on Etch Rate of SiN Films with CF4/H2 Plasma 国際会議
Shin-Nan Hsiao, Kazuya Nakane, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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In-Liquid Plasma Synthesis of Iron-Nitrogen-Doped Carbon Nanoflakes with Highly Catalytic Activity 国際会議
Ryo Hamaji, Tomoki Amano, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Keigo Takeda, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Generation of Repulsing Glow Discharge in Centimeter Order Air Gaps 国際会議
Vladislav Gamaleev, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Formation of Spherical Sn Particles from SnO2 Film by Atmospheric-Pressure Plasma 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Hidefumi Odaka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Fluctuation of Local Electrical Conductivity in Carbon Nanowalls Observed by Conductive Atomic Force Microscopy 国際会議
Atsushi Ozaki, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Self-Absorbing Effect of Micro-Discharge Hollow Cathode Plasma as Light Source for Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy 国際会議
Sho Shimizu, Keigo Takeda, Takayoshi Tsutsumi, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Termination of Dangling Bonds in Amorphous Carbon Films by Hydrogen Atoms 国際会議
Yasuyuki Ohashi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori
12th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/13th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2020/IC-PLANTS2020)
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Analysis and Control of Surface Reaction in Plasma Enhanced Atomic Layer Etching Processes 招待有り 国際会議
Takayoshi Tsutsumi
7th Korea-Japan Joint Symposium on Advanced Solar Cells 2020 4th International Symposium on Energy Research and Application
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In-plane distribution of electrical conductivity of carbon nanowalls perpendicular to substrate measured by conductive atomic force microscopy 国際会議
Atsushi Ozaki, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori, Mineo Hiramatsu
7th Korea-Japan Joint Symposium on Advanced Solar Cells 2020 4th International Symposium on Energy Research and Application
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Improvement of wool surface charging properties by plasma surface modification process 国際会議
T. Moriyama, T. Tsutsumi, H. Kondo, M. Sekine, K. Ishikawa, and M. Hori
7th Korea-Japan Joint Symposium on Advanced Solar Cells 2020 4th International Symposium on Energy Research and Application
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Nano-scale pattern formation of organic material with precisely wafer-temperature-controlled plasma etch system 国際会議
Yusuke Fukunaga, Makoto Sekine, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
The 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-11)
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Synthesis and crystallinity of nanographene using in-liquid plasma of ethanol 国際会議
Ryo Hamaji, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Keigo Takeda, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori
MATERIALS RESEARCH MEETING 2019
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Modification of lipid metabolism in Coccomyxa sp. treated by non-equilibrium atmosphere pressure plasma 国際会議
Takumi Kato, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
MATERIALS RESEARCH MEETING 2019
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Changes of resistive elements during degradation of carbon nanowalls electrodes for fuel cell synthesized employing a CH4/H2 mixture gas plasma 招待有り 国際会議
Hiroki Kondo, Shun Imai, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori
MATERIALS RESEARCH MEETING 2019
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Atomic hydrogen exposures of radical-injection CH4/H2 plasma-enhanced chemical vapor deposited amorphous carbon films 国際会議
Yasuyuki Ohashi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori
MATERIALS RESEARCH MEETING 2019
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In-situ analyses of GaN surfaces irradiated by a Cl2 plasma for atomic layer etching 招待有り
Masaki Hasegawa, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Hiroki Kondo, Atsushi Tanide, and Masaru Hori
第16回 赤﨑記念研究センターシンポジウム 第21回 CIRFEセミナー「窒化物半導体研究の新展開：新規デバイスの創出をめざして」
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Surface functionalization of wool fabrics using plasma process 国際会議
T. Moriyama, T. Tsutsumi, H. Kondo, M. Sekine, K. Ishikawa, and M. Hori
29th Annual Meeting of MRS-Japan 2019
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Electrical, optical, and physicochemical behaviors of atmospheric pressure plasma jet generated in open air 招待有り 国際会議
Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Takayuki Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori
3rd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics (AAPPS-DPP2019)
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Time-resolved diagnosis of afterglow phase in synchro-bias of negative direct current on pulsed plasmas 国際会議
K. Nakane, T. Tsutsumi, S.-N. Hsiao, K. Ishikawa, M. Sekine, T. Gohira, Y. Ohya, M. Hori
The 41st International Symposium on Dry Process (DPS2019)
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ALE of SiC by Plasma Modification and F-radical Etching Studied by in-situ Surface Spectroscopy 国際会議
R. H. J. Vervuurt, K. Nakane, T. Tsutsumi, M. Hori, N. Kobayashi
The 41st International Symposium on Dry Process (DPS2019)
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Etching characteristics of silicon nitride film in plasma of fluoroethane (CH2FCHF2), Ar, and O2 mixture 国際会議
J. Ni, S.-N. Hsiao, T. Hayashi, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
The 41st International Symposium on Dry Process (DPS2019)
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Suppression of etch pit formation in GaN etching using H2-added Cl2 plasma at 400°C 国際会議
T. Omichi, A. Tanide, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, H. Kondo, M. Sekine, M. Hor
The 41st International Symposium on Dry Process (DPS2019)
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Effects of functional groups in raw material molecules on synthesis rate and structures of nanographene materials synthesized by in-liquid plasma using alcohols 国際会議
H. Kondo, A. Ando, T. Tsutsumi, K. Takeda, T. Ohta, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Ito, M. Hiramatsu, M. Hori
The 41st International Symposium on Dry Process (DPS2019)
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Plasma Processing with Feedback Control of Wafer Temperature By Non-Contact Temperature Measurement System 招待有り 国際会議
T. Tsutsumi, H. Kondo, K. Ishikawa , K. Takeda, T. Ohta, M. Sekine, M. Ito, and M. Hori
236th ECS meeting
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High-aspect-ratio organic-pattern formation with self-limiting manner by controlling plasma process based on substrate temperature measurement. 国際会議
Makoto Sekine,Yusuke Fukunaga,Takayoshi Tsutsumi,Kenji Ishikawa,Hiroki Kondo,Masaru Hori
The 72nd Annual Gaseous Electronics Conference
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Effect of mixing alcohol source on synthesis of nanographene by in-liquid plasma 国際会議
Hiroki Kondo, Atsushi Ando, Takayoshi Tsutsumi, Keigo Takeda, Takayuki Ohta, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masafumi Ito, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori
The 72nd Annual Gaseous Electronics Conference
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Mechanism of Aqueous Reactions in Non-equilibrium Atmospheric Pressure Plasma-activated Lactec Solutions
Yang Liu、Kenji Ishikawa、Hiroshi Hashizumi、Hiromasa Tanaka、Takayoshi Tsutsumi、Hiroki Kondo、Makoto Sekine、Masaru Hori
2019年 第80回応用物理学会秋季学術講演会
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自己吸収型マイクロ放電ホローカソード光源を用いた水素プラズマの真空紫外吸収分光計測
清水 奨、竹田 圭吾、堤 隆嘉、平松 美根男、堀 勝
2019年 第80回応用物理学会秋季学術講演会
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Arイオン照射窒化ガリウム表面の塩素吸着層のイオンエネルギー依存性
長谷川 将希、堤 隆嘉、近藤 博基、関根 誠、石川 健治、堀 勝
2019年 第80回応用物理学会秋季学術講演会
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SiNx の ALE におけるフッ素ラジカルの In-situ エッチング反応解析
中根 一也、ルネイ ヘリンカス ヨセフ フェーフィート、堤 隆嘉、小林 伸好、堀 勝
2019年 第80回応用物理学会秋季学術講演会
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非平衡大気圧Ar プラズマ源における放電形状の経時変化および水素ラジカル密度空間分布計測
勝野 楓、堤 隆嘉、石川 健治、竹田 圭吾、橋爪 博司、田中 宏昌、近藤 博基、関根 誠、堀 勝
2019年 第80回応用物理学会秋季学術講演会
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Highly-durable carbon nanowalls electrodes for fuel cell synthesized employing a C2F6/H2 mixture gas plasma 国際会議
H. Kondo, S. Imai, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M.Sekine, M. Hiramatsu, M.Hori
International Conference on Solid State Devices and Materials 2019
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Composition of ion species in pulsed dual frequency CCP with synchronized dc bias using fluorocarbon gases 国際会議
Kazuya Nakane, Shin-Nan Hsiao , Takayoshi Tsutsumi, Taku Gohira, Kenji Ishikawa, Makoto Sekin, Yoshinobu Ohya and Masaru Hori
The 12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2019)
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Intracellular responses of Coccomyxa sp. during culture in plasma-treated nutrient solution 国際会議
Takumi Kato, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
The 12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2019)
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H2-added Cl2 plasma etching of GaN at high temperature 国際会議
Takahiro Omichi, Atsushi Tanide, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
The 12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2019)
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Intracellular response of HeLa cells treated by plasma- activated Ringer's lactate solution 国際会議
Shogo Maeda, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Fumitaka Kikkawa, Masaaki Mizuno and Masaru Hori
The 12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2019)
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In situ surface analysis of Ga dangling sites and chlorination layers for determining atomic layer etching properties of GaN 国際会議
Masaki Hasegawa, Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
The 12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2019)
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Disordering in crystallinity induced by intermediates in synthesis of nanographene using in-liquid plasma 国際会議
Ryo Hamaji, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Keigo Takeda, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori
The 12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2019)
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Hydrogen atom exposure for termination of dangling bonds in amorphous carbon films 国際会議
Yasuyuki Ohashi, Hirotsugu Sugiura, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori
The 12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2019)
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Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy with Self-absorbing Micro-discharge Hollow Cathode Lamp 国際会議
S. Shimizu, N. Kishi, K. Takeda, T. Tsutsumi, M. Hiramatsu, and M. Hori
The 12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2019)
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In-liquid plasma synthesis of iron-nitrogen-doped carbon nanosheets with highly electro- catalytic activity for fuel cell application 国際会議
R. Hamaji, T. Amano, H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, K. Takeda, M. Hiramatsu, M. Hori
International Conference on Solid State Devices and Materials 2019
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Selectivity during Plasma ALE of Si-Compounds: Reaction Mechanism Studied by in-situ Surface Spectroscopy 国際会議
René Vervuurt, Kazuya Nakane, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori, Nobuyoshi Kobayashi
AVS 19th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019)/6th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2019)
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Electrical conductivity for vertical direction of radical injection plasma enhanced chemical vapor deposited carbon nanowalls (RI-PECVD-CNW) 国際会議
Atsushi Ozaki, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori
XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases(XXXIV ICPIG)/10th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP-10)
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Effects of Ion Bombardment Energy Flux on Chemical Compositions and Structures of Hydrogenated Amorphous Carbon Films Grown by a Radical-Injection Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議
Hitotsugu Sugiura, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases(XXXIV ICPIG)/10th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP-10)
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Effects of fluorine introduction and termination of CNWs on their electrochemical reactions 国際会議
Hiroki Kondo, Masakazu Tomatsu, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Mineo Hiramatsu
XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases(XXXIV ICPIG)/10th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP-10)
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Electron loss process in afterglow of pulsed magnetic neutral loop discharge using Ar/O2/ CF4 or C4F8 国際会議
X. Xie, J. Ni, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori
XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases(XXXIV ICPIG)/10th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP-10)
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Control of the Interface Layer in ALE Process by Alternating O2 Plasma with Fluorocarbon Deposition for High Selectivity Etching 国際会議
Takayoshi Tsutsumi, Akiko Kobayashi, Nobuyoshi Kobayashi, Masaru Hori
AVS 19th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019)/6th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2019)
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Chlorinated Surface Layer of GaN in Quasi Atomic Layer Etching of Cyclic Processes of Chlorine Adsorption and Ion Irradiation 国際会議
Masaki Hasegawa, Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
AVS 19th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019)/6th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2019)
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プラズマ支援原子層プロセスにおける表界面反応層制御・診断 招待有り
堤 隆嘉，近藤 博基，石川 健治，関根 誠，堀 勝
第４回 Atomic Layer Process (ALP) Workshop
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Precisely wafer-temperature-controlled plasma etching and its application for nano-scale pattern fabrication of organic material 国際会議
Makoto Sekine, Yusuke Fukunaga, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Masaru Hori
24th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC24)
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Plasma-assisted Synthesis and Modification of Carbon Nanowalls for Emerging Applications 招待有り 国際会議
Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Mineo Hiramatsu
International Conference NANO-M&D2019 Fabrication, Properties and Applications of Nano-Materials and Nano-Devices
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Gene expression dynamics of glioblastoma cells in plasma-activated medium and plasma-activated Ringer's lactate solution 国際会議
Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Hiroki Kondo, Hiroshi Hashizume, Takayoshi Tsutsumi, Kae Nakamura, Nobuhisa Yoshikawa, Hiroaki Kajiyama, Shinya Toyokuni, Fumitaka Kikkawa, Masaru Hori
24th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC24)
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In-liquid plasma formation at low temperature of in situ binding SnO2/Graphene 国際会議
Kenji Ishikawa, Rajit R.Borude, Hirotsugu Sugiura, Takayoshi Tsusumi, Hiroki Kondo, Nobuyuki Ikarashi, and Masaru Hori
10th International Workshop on Microplasmas IWM-10
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Synthesis mechanism and electrochemical properties of nanographene materials obtained by in-liquid plasma method 招待有り 国際会議
Hiroki Kondo, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori
2019 Global Conference on Carbon Nanotubes and Graphene Technologies
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Floating-Wire-Assisted Atmospheric Pressure Plasma for High-Speed and Large-Area Glass Treatment 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Hidefumi Odaka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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High-Speed Atomic Force Microscopy of Dynamical Changes of Supported Lipid Bilayers Containing Cholesterol in Plasma-Activated Lactec 国際会議
Sotaro Yamaoka, Hiroki Kondo, Hiroshi Hashizume, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Hiromasa Tanaka and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Electrochemical Impedance Analysis of Pt Nanoparticles-Supported Carbon Nanowalls for Fuel Cell Application 国際会議
Shun Imai, Hiroki Kondo, Hyungjun Cho, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Ligh Source Wavelength Characteristics for Silicon-Wafer Temperature Measurement by Frequency-Domain Lowcoherence Interferometry 国際会議
Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Takayuki Ohta, Masafumi Ito, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Effects of Hydroxy Group on Synthesis Rate and Crystallinity of Nanographene by In-liquid Plasma 国際会議
Hiroki Kondo, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Synthesis, Characterization, and Study of Electrical Properties of Tin oxide-Graphene Composite Synthesized by Liquid Phase Plasma 国際会議
Ranjit Borude, Hirotsugu Sugiura, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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GaN film Etching at H-added Chlorine Plasma at High Temperature at 400 degree C 国際会議
Takahiro Omichi, Atsushi Tanide, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Control of sp2-C Fraction and Hardness of Amorphous Carbon Films by Formation of Precursor Radicals Depending on a Residence Time 国際会議
Hirotsugu Sugiura, Yasuyuki Ohashi, Lingyun Jia, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Toshio Hayashi, Keigo Takeda, Makoto Sekine and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Aqueous Reactions in Non-equilibrium Atmospheric Pressure Plasma-activated Ringer s Lactate Solutions 国際会議
Yang Liu, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka, Hiroshi Hashizume, Takyoshi Tsutsumi, Fumitaka Kikkawa, Kae Nakamura, Masaaki Mizuno, Shinya Toyokuni and Hiroki Kondo
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Organic High Aspect Ratio Pattern Formation with Self-Limitation Manner by Plasma-Controlled Process based on Substrate Temperature Measurement 国際会議
Yusuke Fukunaga, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Lipid Accumulation of Pseudochoricystis Ellipsoidea by Irradiation of Nonequilibrium Atmospheric Pressure Plasma to Nourishing Solution 国際会議
Takumi Kato, Yugo Hosoi, Sotaro Yamaoka, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Intracellular Reactive Oxygen Species Responses of HeLa Cells Treated with PlasmaActivated Organics 国際会議
Shogo Maeda, Yugo Hosoi, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Elucidation of Electron Extinction Mechanism during Afterglow of Fluorocarbon Pulsed Plasma with Synchronized DC Bias 国際会議
Kazuya Nakane, Toshinari Ueyama, Xie Xitong, Takayoshi Tsutsumi, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Yoshinobu Ohya and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Regulation of Cell Proliferation Changing Duty Ratio of an Electrical Stimulation on Carbon Nanowalls Scaffold 国際会議
Tomonori Ichikawa, Hiroki Kondo, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Electrical Characterizations of Non-equilibrium Atmospheric Pressure Plasma 国際会議
Kaede Katsuno, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Keigo Takeda, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Carbon Nanoflakes Involving Fe-N-C Bonds by Growth of In-liquid Plasma of Ethanol and Iron Phthalocyanine Mixture 国際会議
Ryo Hamaji, Tomoki Amano, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Keigo Takeda, Mineo Hiramatsu and Masaru Hori
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 12th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Nano-composite innovation based on carbon nanowalls and advanced plasma processes 招待有り 国際会議
Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Mineo Hiramatsu
7th International Conference on Advanced Plasma Technologies
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フルオロカーボンガスを用いた２周波容量結合型パルスプラズマに おける粒子密度のDC重畳効果 招待有り
中根 一也、植山 稔正、解 錫同、堤 隆嘉、竹田 圭吾、近藤 博基、石川 健治、関根 誠、大矢 欣伸、堀 勝
第215回Siテクノロジー分科会研究会
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Trimming Process with Feedback Control of Wafer Temperature for Organic Material 招待有り 国際会議
T. Tsutsumi, Y. Fukunaga, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori
28th Annual Meeting of MRS-J
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Cell responses of Pseudochoricystis ellipsoidea on atmospheric pressure plasma treatments 国際会議
T. Kato, Y. Hosoi, S.Yamaoka, H.Hashizume, K.Ishikawa, H.Tanaka, T.Tsutsumi, H.Kondo, M.Sekine and M.Hori
28th Annual Meeting of MRS-J
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Effects and Mechanism of Electric Stimulation Through Carbon Nanowalls Scaffold on Proliferation and Differentiation of Cultured Cells 国際会議
Hiroki Kondo, Tomonori Ichikawa, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Masaru Hori, Mineo Hiramatsu
A Meeting of the Materials Research Society
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In situ analysis of ion-irradiated and chlorinated GaN surface during cyclic etching processes 国際会議
M. Hasegawa, T. Tsutsumi, A. Tanide, H. Kondo, M. Sekine, K. Ishikawa, M. Hori
The 40th International Symposium on Dry Process
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Synthesis of composite of tin oxide particles and graphene sheets employing the in-liquid plasma process 国際会議
Ranjit R. Borude , Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo and Masaru Hori
The 40th International Symposium on Dry Process
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Effects of electrical and spectroscopic properties of nonequilibrium atmospheric pressure plasma source on adhesion strengths of a polymeric resin 国際会議
K. Katsuno, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, K. Takeda, T. Jindo, S. Takikawa, A. Niwa, S. Takashima, Y. Nonoyama, H. Hashizume, H. Tanaka, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori
The 40th International Symposium on Dry Process
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Etch Characteristics of Atomic Layer Etching by Alternating Fluorocarbon Deposition and Oxygen Plasma Etching 国際会議
T. Tsutsumi, A. Kobayashi, T. Nozawa, N. Kobayashi and M. Hori
The 40th International Symposium on Dry Process
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Plasma Modification of Si-compound Surfaces: Opportunities for Atomic Layer Etching 国際会議
R.H.J. Vervuurt, K. Nakane, T. Tsutsumi, A. Kobayashi, M. Hori and N. Kobayashi
The 40th International Symposium on Dry Process
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Defect termination mechanism in amorphous carbon films by atomic hydrogen radicals 国際会議
The 40th International Symposium on Dry Process
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High temperature etching of GaN with H2-added Cl2 plasma 国際会議
T. Omichi, A. Tanide, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
The 40th International Symposium on Dry Process
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Fundamental study of the interaction of plasma species with organic materials by experimental and computational approaches 国際会議
Y. Fukunaga, P. Ventzek, B. Lane, A. Ranjan, G. S. Hwang, G. Hartmann, R. Upadhyay, L. L. Raja, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori
The 40th International Symposium on Dry Process
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Floating-Wire-Assisted Atmospheric Pressure Plasma for High-Speed Glass Etching 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, M. Sasaki, H. Odaka, T. Tsutsumi, K. Ishikawa and M. Hori
The 40th International Symposium on Dry Process
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Effects of synchronized DC bias on densities of charged species in pulsed plasmas of fluorocarbon gases 国際会議
K. Nakane, T. Ueyama, T. Tsutsumi, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, Y. Ohya, and M. Hori
The 40th International Symposium on Dry Process
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Spatiotemporal behavior of OH radical in AC-excited atmospheric pressure Ar plasma jet generated in open air 国際会議
Keigo Takeda, Ren Kuramashi, Kenji Ishikawa ,Takayuki Tsutsumi, Masaru Hori
71st Annual Gaseous Electronics Conference
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Floating-wire-assisted remote generation of high-density atmospheric pressure inductively coupled plasma 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Hidefumi Odaka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
71st Annual Gaseous Electronics Conference
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Behaviors of Charged Species in Afterglow of Dual Frequency Pulsed Capacitively Coupled Plasma with a Synchronous Negative DC-bias 国際会議
T. Tsutsumi, T. Ueyama, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, Y. Ohya, M. Hori
AVS 65th INTERNATIONAL SYMPOSIUM & EXHIBITION 2018
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Fundamental Studies of Plasma Species with Organic Materials of Varying Hydrogen and Oxygen Composition by Computational and Experimental Approaches 国際会議
Y. Fukunaga, P. Ventzek, B. Lane, A. Ranjan, M. Sekine, T. Tsutsumi, H. Kondo, K. Ishikawa, R. Upadhyay, L. L. Raja, G. Hartmann, G. S. Hwang, M. Hori
AVS 65th INTERNATIONAL SYMPOSIUM & EXHIBITION 2018
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Fine Temperature Monitoring of Si Wafer for Plasma Processing 招待有り 国際会議
Masafumi Ito, Takayuki Ohta, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori
AIMES2018
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Si系材料のフルオロカーボンプラズマ支援原子層エッチング 招待有り
堤 隆嘉、近藤 博基、石川 健治、関根 誠、小林 伸好、堀 勝
第79回応用物理学会秋季学術講演会
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Cl2プラズマによるGaN高温エッチングのH2添加効果
大道貴裕、 谷出敦、 石川健治、 堤隆嘉、 近藤博基、 関根誠、 堀勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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原子状水素によるアモルファスカーボン膜の欠陥終端機構
大橋 靖之, 杉浦 啓嗣, 近藤 博基, 石川 健治, 堤 隆嘉, 関根 誠, 堀 勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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蓚酸カルシウム結晶化過程のプラズマ照射単糖溶液中活性有機物質
岡部 萌、石川 健治、田中 宏昌、橋爪 博司、堤 隆嘉、近藤 博基、関根 誠、堀 勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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高電位試験時における白金微粒子担持カーボンナノウォール電極の分極特性の変化
今井 駿, 近藤 博基, 石川 健治, 堤 隆嘉, 平松 美根男, 関根 誠, 堀 勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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カーボンナノウォール足場上での電気刺激下細胞培養における分化制御機構
市川 知範, 近藤 博基, 橋爪 博司, 田中 宏昌, 堤 隆嘉, 石川 健治, 堀 勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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In-situ表面解析手法による水素プラズマのSiNx表面改質機構
中根一也、ルネイ ヘリンカス ヨセフ フェーフィート、堤隆嘉、小林明子、小林伸好、堀勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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シュードコリシスティス藻培養への大気圧プラズマ処理効果
加藤拓海，細井祐吾, 山岡壮太郎, 橋爪博司, 石川健治, 田中宏昌, 堤隆嘉，近藤博基, 関根誠, 堀勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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液中プラズマによるナノグラフェン合成におけるヒロドキシル基の効果
近藤 博基、安藤 睦、石川 健治、堤 隆嘉、平松 美根男、関根 誠、堀 勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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プラズマ活性ラクテック（PAL）で培養したHeLa細胞応答メカニズム
前田 昌吾、細井 祐吾、石川 健治、橋爪 博司、田中 宏昌、堤 隆嘉、近藤 博基、関根 誠、堀 勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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プラズマプロセス制御による線幅10 nmの高アスペクト有機薄膜パターン形成
福永 裕介、堤 隆嘉、石川 健治、近藤 博基、関根 誠、堀 勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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ガス滞在時間に依存した成膜前駆体の生成に基づくアモルファスカーボン膜中のsp2炭素結合の制御
杉浦 啓嗣、大橋 靖之、賈 凌雲、近藤 博基、石川 健治、堤 隆嘉、竹田 圭吾、関根 誠、堀 勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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Etching of glass by floating-wire assisted atmospheric pressure plasma
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Hidefumi Odaka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
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Arイオン照射窒化ガリウム表面の塩素吸着挙動
長谷川将希，堤隆嘉，谷出敦，近藤博基，関根誠，石川健治，堀勝
第79回 応用物理学会秋季学術講演会
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Liquid phase plasma assisted synthesis of Tin oxide - Graphene composite
Ranjit Borude, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Masaru Hori
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Aqueous Reactions of Radicals in Non-equilibrium Atmospheric Pressure Plasma-activated Lactec Solutions
Yang Liu,Kaede Katsuno,Yugo Hosoi,Kenji Ishikawa,Hiroshi Hashizume,Hiromasa Tanaka,Takayoshi Tsutsumi,Hiroki Kondo,Makoto Sekine,Masaru Hori
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In situ Quantitative Analysis of Chlorine Adsorption on Ion-irradiated GaN for Atomic Layer Etching 国際会議
Masaki Hasegawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
5th International Atomic Layer Etching Workshop
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Mechanisms of plasma jets impinging upon liquids 国際会議
T. Brubaker, K. Ishikawa, H. Hashizume, H. Tanaka, T. Tsutsumi, H. Kondo, S. Knecht, S. Bilén, and M. Hori
ICPM7
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パルス変調プラズマ中の準安定 Ar 密度変化と光ダメージの相関
武田 直己、三好 康史、石川 健治、堤 隆嘉、竹田 圭吾、太田 貴之、近藤 博基、深沢 正永、辰巳 哲也、堀 勝
第65回応用物理学会春季学術講演会
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アルゴンイオン照射によるフッ素化Si(111)表面の形態変化
浅野 敦紀, 堤 隆嘉，近藤 博基, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
第65回応用物理学会春季学術講演会
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ラジカル注入型プラズマ励起化学気相堆積法において間欠水素プラズマ処理がアモルファスカーボン膜の結合構造に及ぼす効果
杉浦 啓嗣、近藤 博基、石川 健治、堤 隆嘉、竹田 圭吾、関根 誠、堀 勝
第65回応用物理学会春季学術講演会
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液中プラズマで合成した鉄含有カーボンナノフレークの酸素還元特性
天野 智貴、近藤 博基、堤 隆嘉、石川 健治、平松 美根男、堀 勝
第65回応用物理学会春季学術講演会
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窒化ガリウムの原子層エッチングに向けたラジカル吸着機構の解明
長谷川 将希、堤 隆嘉、谷出 敦、近藤 博基、石川 健治、堀 勝
第65回応用物理学会春季学術講演会
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AC励起非平衡大気圧Arプラズマ生成活性種の時空間分布計測
倉増 廉，竹田 圭吾，石川 健治，堤 隆嘉，橋爪 博司，田中 宏昌，近藤 博基，関根 誠，堀 勝
第65回応用物理学会春季学術講演会
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カーボンナノウォール足場上の細胞増殖に及ぼす電気刺激効果
市川 知範、近藤 博基、橋爪 博司、田中 宏昌、堤 隆義、石川 健治、堀 勝
第65回応用物理学会春季学術講演会
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SUBSTRATE TEMPERATURE MEASURMENT AND CONTROL FOR FABRICATION OF ORGANIC DEVICES WITH NANOSTRUCTURE 招待有り 国際会議
T. Tsutsumi
International workshop on plasma synthesis of nanomaterials and its applications for sensor devices
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Plasma Surface Treatment of Carbon Films Deposited by Magnetron Sputtering 国際会議
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Visualization of Advection in Plasma-liquid Interactions: Flow Due to an Impinging Plasma Jet 国際会議
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Polycarbonate Surface after Atmospheric Pressure Plasma Treatments 国際会議
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High Temperature Damegeless Etching of GaN Employing BCl3-Cl2 plasma 国際会議
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BEHAVIOR OF THE ELECTRON AND RONS IN GAS AND LIQUID PHASE OF LASER GENERATED PLASMA ACTIVATED MEDIUM 国際会議
Y. Kurokawa, T. Tsutsumi, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Hashizume, H. Tanaka, H. Kondo, M. Hori
2nd International Workshop On Plasma Agriculture
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A Novel Designed High-density Atomospheric Pressure Inductively Coupled Plasma Remotely Generated at the Downstream Side of a Quartz Tube Using a Floating Wire 国際会議
Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Aasaki, Hidefumi Odaka, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa and Masaru Hori
2nd International Workshop On Plasma Agriculture
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Understanding morphology and chemical bonds of Si surface in cyclic CF4/Ar plasma process by surface analysis without air exposure 国際会議
A. Asano, T. Tsutsumi, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Hori
10th Anniversary International Symposium on Advanced Plasma Science
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Cytotoxic substances in the laser generated plasma activated medium (LPAM) 国際会議
Y. Kurokawa, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Hashizume, H. Tanaka, T. Tsutsumi, H. Kondo, M. Hori
10th Anniversary International Symposium on Advanced Plasma Science
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REACTIVE SPECIES DENSITY PROFILES IN EFFULUENT OF THE ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA SOURCE 国際会議
R. Kuramashi, K. Takeda, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, H. Hashizume, H. Tanaka, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
10th Anniversary International Symposium on Advanced Plasma Science
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Behavior of negative ions in asymmetric capacitively coupled plasma discharge produced in Ar/O2/C4F8 gas mixture at 100 MHz 国際会議
H. Sugiura, L. Jia, H. Kondo, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
The 39th International Symposium on Dry Process
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Behavios of electrons and fluorocarbon radicals in synchronized dc-imposed pulsed plasma 国際会議
T. Tsutsumi, N. Sirse, M. Sekine, A. R. Ellingboe, M. Hori
The 39th International Symposium on Dry Process
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Effects of residence time on dissociation of precursors at deposition of amorphous carbon film by H2/CH4 plasma 国際会議
T. Ueyama, T. Tsutsumi, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, Y. Ohya, M. Hori
The 39th International Symposium on Dry Process
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非平衡大気圧プラズマ源における誘電体壁の放電特性への影響
勝野 楓、石川 健治、堤 隆嘉、武田 圭吾、橋爪 博司、田中 宏昌、近藤 博基、関根 誠、堀 勝
第78回応用物理学会秋季学術講演会
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ガラスの絶縁破壊微細貫通加工と絶縁性液体塗布の効果
村上開士、吉武尚輝、石川健治、裏地啓一郎、龍腰健太郎、堤隆嘉、近藤博基、堀勝
第78回応用物理学会秋季学術講演会
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酸素プラズマ中の解離度および電子温度空間分布の表面材料依存性
堤 隆嘉，Andrew R.Gibson，Deborah O’Connell，Timo Gans，堀 勝
第78回応用物理学会秋季学術講演会
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高温での窒化ガリウム低損傷塩素エッチング
石川 健治, 劉 沢成, 今村 真人, 堤 隆嘉, 近藤 博基, 小田 修, 関根 誠, 堀 勝
第78回応用物理学会秋季学術講演会
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ポリカーボネート表面のプラズマ処理による接着力増強効果
高橋 美香, 倉家 尚之, 石川 健治, 近藤 真悟, 青木 孝司, 堤 隆嘉, 近藤 博基, 関根 誠, 堀 勝
第78回応用物理学会秋季学術講演会
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ラジカル注入型プラズマ励起化学気相堆積法においてRFバイアス時間変調がアモルファスカーボン膜の結合構造に及ぼす効果
杉浦 啓嗣、近藤 博基、石川 健治、堤 隆嘉、竹田 圭吾、関根 誠、堀 勝
第78回応用物理学会秋季学術講演会
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Etch profile control of ALD-SiO2 film assisted by alternating ALE process of fluorocarbon deposition and O2 plasma etching 国際会議
M. Zaitsu, T. Tsutsumi, A. Kobayashi, H. Kondo, M. Hori, T. Nozawa, N. Kobayashi
4th International Workshop on Atomic Layer Etching
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Advanced Plasma Etching Processing: Atomic Layer Etching for Nanoscale Devices 招待有り 国際会議
T. Tsutsumi, M. Zaitsu, A. Kobayashi, N. Kobayashi, M. Hori
231st Electrochemical Society
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Energy Balance Analysis by High-Precise Wafer Temperature Monitoring in Plasma Processing 招待有り 国際会議
T. Tsutsumi
The 15th Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics and The 9th Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials
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Behavior of Electron and Negative Ion Density in Very High Frequency Capacitively Coupled Plasma
T. Takayoshi, N. Sirse, A. R Ellingboe, M. Sekine, M. Hori
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酸素プラズマによる新規原子層エッチングプロセス 招待有り
堤 隆嘉, 財津 優, 小林 明子, 小林 伸好, 堀 勝
第199回Siテクノロジー分科会研究会
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Advanced Plasma Etching Processing with Feedback Control of Wafer Temperature for Fabrication of Atomic-Scale Organic Devices 国際会議
T. Tsutsumi, Y. Fukunaga, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori
26th Annual Meeting of MRS-J
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Phase-resolved measurement of electron density in afterglow of synchronized dc-imposed pulsed plasmas of fluorocarbon based gases 国際会議
T. Ueyama, M. Iwata, Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Takeda, K. Ishikawa, M. Sekine, Y. Ohya, M. Hori, and H. Sugai
2016 International Symposium on Dry Process, G-3
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Electron and negative ion densities in a CW and pulsed 100 MHz capacitively coupled plasma discharge 国際会議
N. Sirse, A. Ellingboe, T. Tsutsumi, S. Makoto, M. Hori
69th Annual Gaseous Electronics Conference
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Control of Internal Plasma Parameters Toward Atomic Level Processing 招待有り 国際会議
M. Sekine, T. Tsutsumi, Y. Fukunaga, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Hori
PRiME 2016
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Electron and negative ion diagnostic in a CW and pulsed, 100 MHz, capacitively coupled plasma discharge 国際会議
N. Sirse, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori, A. Ellingboe
The 6th International Conference on Microelectronics and Plasma Technology
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DCシンクロパルスプラズマを用いた最先端絶縁膜エッチングプロセスにおける電子の電極間密度分布およびアフターグローでの挙動
植山 稔正, 岩田 学, 福永 裕介, 堤 隆嘉, 竹田 圭吾, 近藤 博基, 石川 健治, 関根 誠, 大矢 欣伸, 堀 勝, 菅井 秀郎
第77回秋季応用物理学会秋季学術講演会
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Vertical distribution measurement of electron density and optical emission in afterglow of pulsed fluorocarbon plasma 国際会議
T. Ueyama, M. Iwata, Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Takeda, , K. Ishikawa, M. Sekine, Y. Ohya, M. Hori, H. Sugai
7th International Workshop on Plasma Spectroscopy
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A novel atomic layer etching of SiO2 with alternating O2 plasma with fluorocarbon film deposition 国際会議
T. Tsutsumi, M. Zaitsu, A. Kobayashi, H. Kondo, T. Nozawa, N. Kobayashi, M. Hori
3rd International Workshop on Atomic Layer Etching
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有機膜表面における活性種によるエッチング反応の基板温度依存性
福永 裕介, 堤 隆嘉, 竹田 圭吾, 石川 健治, 近藤 博基, 関根 誠, 堀 勝
第63回応用物理学会春季学術講演会
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Low-temperature PECVD process of silicon nitride film with radical and plasma diagnostics 国際会議
B. B. Sahu, Jeon G. Han, Y. Y. Yin, J. S. Lee, Su. B. Lee, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Hori
8th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 9th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Evaluation of Substrate Temperature Effect on Etch Profile Development by Intermittent Plasma Generation for Substrate Temperature Control 国際会議
Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
8th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 9th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Control of Radial Distribusion of Wafer Temperature during Plasma Process 国際会議
T. Tsutsumi, K. Ishikawa, K. Takeda, T. Ohta, M. Ito, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
8th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 9th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Plasma Etching Process based on Teal-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature 招待有り 国際会議
K. Takeda, Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
The 50th Winter Annual Conference of the Korean Vacuum Society
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Atomic-scale plasma process based on substrate-temperature control system 招待有り 国際会議
T. Tsutsumi, Y. Fukunaga, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori
Asia international workshop in plasma science
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Wafer temperature dependence of organic film etch reaction in H2/N2 plasma 国際会議
Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
The 37th International Symposium on Dry Process
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Highly Precise Control of Substrate Temperature During Plasma Etching and the Effect on Etched Profile 国際会議
Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
The 21st Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials
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Role Of RF/UHF Hybrid Plasmas On The Low Temperature Deposition Of The SiNx: H Film In PECVD Process 国際会議
J. Han, B. Sahu, K. Shin, T. Tsutsumi, M. Hori
The 10th Asian-European International Conference On Plasma Surface Engineering
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Silicon Substrate Temperature Measurement In Sputtering Processes Using Optical Low-coherence Interferometry 国際会議
K. Hattori, T. Ohta, M. Ito, T. Tsutsumi, K. Takeda, M. Hori
The 10th Asian-European International Conference On Plasma Surface Engineering
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Prediction of Radial Distribution from Temporal Variation of Wafer Temperature in a Plasma Reactor 国際会議
T. Tsutsumi, K. Ishikawa, K. Takeda, T. Ohta, M. Ito, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
The 10th Asian-European International Conference On Plasma Surface Engineering
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Influences of wafer temperature on etch rates and profiles of organic films in H2/N2 plasma 国際会議
T. Tsutsumi, Y. Fukunaga, K. Takeda, K. Ishikawa, T. Ohta, M. Ito, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
The 10th Asian-European International Conference On Plasma Surface Engineering
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Investigation of Temperature Parameter on Si Substrate Temperature Measurement UsingSpectral-Domain Optical Low-Coherence Interferometry 国際会議
K. Hattori, T. Ohta, M. Ito, T. Tsutsumi, K. Takeda, M. Hori
7th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 8th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Analysis of Temporal Changes on Substrate Temperature: Heat Fluxes during Plasma Processes and Influence of Chamber Parts 国際会議
T. Tsutsumi, Y. Fukunaga, K. Ishikawa, K. Takeda, T. Ohta, M. Ito, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
7th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 8th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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Etching Process with System of Control of Wafer Temperatures measured by Non-contact Fourier Domain Low Coherence Interferometry 国際会議
Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
7th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 8th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
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有機膜エッチングにおける側壁保護作用の基板温度依存性
福永 裕介, 堤 隆嘉, 竹田 圭吾, 石川 健治, 近藤 博基, 関根 誠, 堀 勝
第62回応用物理学会春季学術講演会
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プラズマプロセス中の基板温度制御のための熱流束モデルの解析
堤 隆嘉, 福永 裕介, 石川 健治, 竹田 圭吾, 近藤 博基, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 関根 誠, 堀 勝
第62回応用物理学会春季学術講演会
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高速・高精度基板温度制御によるエッチング形状
堤 隆嘉, 福永 祐介, 石川 健治, 竹田 圭吾, 近藤 博基, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 関根 誠, 堀 勝
応用物理学会SC東海地区学術講演会 2014
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高速・高精度基板温度センサとパルス放電による基板温度制御
堤 隆嘉, 福永 裕介, 石川 健治, 竹田 圭吾, 近藤 博基, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 関根 誠, 堀 勝
第75回応用物理学会秋季学術講演会
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基板温度制御による有機Low-k膜のエッチング形状制御
福永 裕介, 堤 隆嘉, 竹田 圭吾, 石川 健治, 近藤 博基, 関根 誠, 堀 勝
第75回応用物理学会秋季学術講演会
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非接触基板温度計測システムを用いたプラズマプロセス中の基板温度および熱流速計測
堤 隆嘉, 竹田 圭吾, 石川 健治, 近藤 博基, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 関根 誠, 堀 勝
第61回応用物理学会春季学術講演会
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Effect of Ambient Air Engulfment on Generation of Activated Species in 60 Hz Non-Equilibrium Atmospheric Pressure Ar Plasma Jet 国際会議
S. Liang, T. Tsutsumi, A. Ando, K. Sun, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, H. Kano, M. Sekine, M. Hori
7th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
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Measurement of Heat Fluxes of Si Substrate from Plasma by Using Frequency Low Coherence Interferometer 国際会議
T. Tsutsumi, K. Ishikawa, K. Takeda, T. Ohta, M. Ito, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
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Accuracy of substrate temperature measurements using optical low coherence interferometry 国際会議
T. Ohta, H. Kato, T. Tsutsumi, K. Takeda, M. Hori, M. Ito
8th International Conference on Reactive Plasmas 31st Symposium on Plasma Processing
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Rapid non-contact measurements of heat fluxes to substrate in nitorogen plasmas 国際会議
T. Tsutsumi, K. Ishikawa, K. Takeda, T. Ohta, M. Ito, H. Kondo, M. Sekine, M. Hor
8th International Conference on Reactive Plasmas 31st Symposium on Plasma Processing
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低コヒーレンス干渉計を用いた基板温度計測における計測精度の検討
宇佐美 拓也, 加藤 寛人, 太田 貴之, 堤 隆嘉, 堀 勝, 伊藤 昌文
電気学会プラズマ研究会
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Rapid precise measurements of film-covered-substrate temperatures during plasma processes 招待有り 国際会議
M. Ito, T. Tsutsumi, T. Ohta, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
The 1st International Conference on Surface Engineering
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Non-contact measurements of substrate-temperature by frequency-domain low coherence interferometry 国際会議
T. Tsutsumi, T. Ohta, K. Ishikawa, K Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori, M. Ito
AVS 60th International Symposium & Exhibition
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Effect of thin films on wafer temperature during plasma processes investigated by non-contact temperature measurement technique 国際会議
T. Tsutsumi, K. Takeda, K. Ishikawa, T. Ohta, M. Ito, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
The XXXI International Conference on Phenomena in Ionized Gases
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Precise Rapid Measurement of Substrate Temperature by Frequency-Domain Optical Low-Coherence Interferometry 招待有り 国際会議
M. Ito, T. Ohta, T. Tsutsumi, K. Takeda, M. Hori
17th Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & 4th Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials
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低コヒーレンス干渉計を用いた基板温度計測における波長依存性
加藤 寛人, 柴田 恭平, 太田 貴之, 堤 隆嘉, 堀 勝, 伊藤 昌文
第60回応用物理学会春季学術講演会
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窒化ガリウム（GaN）向けたサファイア基板の周波数領域型低コヒーレンス干渉計による温度計測(Ⅱ) 招待有り
堤 隆嘉, 竹田 圭吾, 石川 健治, 近藤 博基, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 関根 誠, 堀 勝
第60回応用物理学会春季学術講演会
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Temperature measurement of carbon nanowall / silicon substrate using super-continuum light source on low-coherence interferometry 国際会議
T. Hiraoka, H. Kato, T. Tsutsumi, T. Ohta, M. Ito, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori
The 6th International Conference on PLAsma Nano Technology & Science
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Measurement of carbon nanowalls / silicon substrate temperature by fourier-domain low-coherence interferometry 国際会議
T. Hiraoka, T. Tsutsumi, H. Kato, K. Takeda, T. Ohta, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Ito, M. Sekine, M. Hori
5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
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Monitoring of wafer temperature in plasma processing using optical low-coherence interferometry 招待有り 国際会議
T. Ohta, M. Ito, T. Tsutsumi, T. Hiraoka, K. Takeda, M. Hori
The 16th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics
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Real time temperature measurements of film-covered-substrate employing Fourier domain low coherence interferometer during plasma processes 国際会議
T. Tsutsumi, T. Hiraoka, K. Takeda, K. Ishikawa, T. Ohta, M. Ito, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
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Temperature measurement of substrate with a thin film using low-coherence interference 国際会議
T. Tsutsumi, T. Hiraoka, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, T. Ohta, M. Ito, M. Sekine, M. Hori
65th Annual Gaseous Electronics Conference
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Non-Contact Measurement of Wafer Temperature for plasma processing Using Low Coherence Interferometry 国際会議
T. Ohta, T. Tsutsumi, M. Ito, K. Takeda, M. Hori
The 11th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology and 25th Symposium on Plasma Science for Materials
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Non-Contact Temperature Measurement of Sapphire Substrate for GaN using Frequency Domain Low Coherence Interferometry 国際会議
T. Tsutsumi, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, T. Ohta, M. Ito, M. Sekine, M. Hori
The 11th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology and 25th Symposium on Plasma Science for Materials
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光干渉計を用いたプラズマプロセス中の半導体基板の温度計測技術
堤 隆嘉
第6回プラズマエレクトロニクス インキュベーションンホール
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窒化ガリウム（GaN）向けサファイア基板の周波数領域型低コヒーレンス干渉計による温度計測
堤 隆嘉, 竹田 圭吾, 石川 健治, 近藤 博基, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 関根 誠, 堀 勝
秋季第73回応用物理学会学術講演会
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High Resolution Temperature Monitoring System of Semiconductor Substrate Using Fourier Domain Low Coherence Interferometer 国際会議
T. Tsutsumi, M. Hori, M. Sekine, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, T. Ohta, M. Ito
The 15th Korea-Japan Workshop for Advanced Plasma Process and Diagnostics
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光干渉計を用いたカーボンナノウォール/Si基板の基板温度計測
平岡 丈弘, 夏目 将利, 加藤 寛人, 堤 隆嘉, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 竹田 圭吾, 近藤 博基, 堀 勝
第59回応用物理学関係連合講演会
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Temperature Measurement of Carbon Nanowall/Silicon Substrate Using Fourier-Domain Low-coherence Interferometry 国際会議
T. Hiraoka, M. Natsume, H. Kato, T. Tsutsumi, T. Ohta, M. Ito, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori
6th International Conference on PLAsma-Nano Technology & Science
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Non-contact Temperature Measurement of Silicon Wafer Using Frequency Domain Low Coherence Interferometer 国際会議
T. Tsutsumi, T. Ohta, M. Ito, S. Tsuchitani, M. Hori
5th International Conference on PLAsma-Nano Technology & Science
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光干渉計を用いたプラズマプロセス中の非接触ウエア温度モニタリング
太田 貴之, 堤 隆嘉, 伊藤 昌文, 堀 勝
Plasma Conference 2011 Conference & Exhibition
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光干渉計を用いた非接触ウエハ温度・膜厚計測
太田 貴之, 堤 隆嘉, 伊藤 昌文, 平岡 丈弘, 竹田 圭吾, 堀 勝
応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会20周年記念特別シンポジウム
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レーザ吸収分光法を用いたマイクロホローカソード放電中の準安定He原子密度と温度測定
井上 真里, 太田 貴之, 家苗 毅司, 堤 隆嘉, 菊池 邦友, 土谷 茂樹, 伊藤 昌文, 堀 勝
秋季第72回応用物理学会術講演会
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周波数領域型低コヒーレンス干渉計を用いたSi基板の非接触温度分布計測実験
堤 隆嘉, 太田 貴之, 菊池 邦友, 土谷 茂樹, 伊藤 昌文, 堀 勝
秋季第72回応用物理学会術講演会
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Temperature Measurement of Silicon Wafer Treated by Atmospheric Pressure Plasma Using Frequency Domain Low Coherence Interferometer 国際会議
T. Tsutsumi, T. Ohta, M. Ito, M. Hori
4th International Conference on PLAsma-Nano Technology & Science
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High Resolution Measurement of Silicon Substrate Temperature Using Frequency Domain Low Coherence Interferometer for Plasma Processing 国際会議
T. Tsutsumi, T. Ohta, M. Ito, M. Hori
3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
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周波数領域型低コヒーレンス干渉計を用いた高精度Si基板温度計測
堤 隆嘉, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 平岡 丈弘, 堀 勝
秋季第71回応用物理学会術講演会
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Area-selective Plasma-enhanced Atomic Layer Etching (PE-ALE) of Silicon Dioxide using a Silane Coupling Agent 招待有り
Airah Osonio, Takayoshi Tsutsumi, Bablu Mukherjee, Ranjit Borude, Nobuyoshi Kobayashi, Masaru Hori
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Area-selective Plasma-enhanced Atomic Layer Etching (PE-ALE) of Silicon Dioxide using a Silane Coupling Agent 招待有り
Airah Osonio, Takayoshi Tsutsumi, Bablu Mukherjee, Ranjit Borude, Nobuyoshi Kobayashi, Masaru Hori