Presentations -
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Impact of Pulsed Bias Application on Electroluminescence Properties from One-dimensionally Self-Aligned Si-based Quantum Dots International conference
Y. Suzuki, K. Makihara, M. Ikeda and S. Miyazaki
7th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
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Evaluation of Chemical Bonding Features and Resistive Switching in TiOx/SiOx Stack in Ti Electrode MIM Diode International conference
T. Arai, C. Liu, A. Ohta, K. Makihara and S. Miyazaki
7th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
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Electroluminescence from Multiply-Stacking B-doped Si Quantum Dots International conference
T. Yamada, K. Makihara, Y. Suzuki, M. Ikeda and S. Miyazaki
7th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
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Formation of High-Density Magnetic Nanodots on Ultrathin SiO2 Induced by Remote H2 Plasma International conference
Y. Kabeya, H. Zhang, R. Fukuoka, K. Makihara and S. Miyazaki
7th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
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光電子エネルギー損失信号による極薄酸化物のエネルギーバンドギャップの決定手法の再検討
大田 晃生、村上 秀樹、牧原 克典、宮崎 誠一
ゲートスタック研究会 (第19回研究会)
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Progress In Determination Method of Ultrathin Si-based Oxide Bandgaps From Analysis of Energy Loss Signals for Photoelectrons International conference
A. Ohta, K. Makihara, H. Murakami, and S. Miyazaki
27th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2014)
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High density formation of FePt alloy nanodots on SiO2 induced by remote hydrogen plasma International conference
R. Fukuoka, H. Zhang, K. Makihara, Y. Tokuoka, T. Kato, S. Iwata and S. Miyazaki
Magnetics and Optics Research International Symposium (MORIS2013)
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リモート水素プラズマ支援によるSiO2上へのFeナノドットの高密度・一括形成
張 海、福岡 諒、壁谷 悠希、牧原 克典、宮崎 誠一
第13回日本表面科学会中部支部研究会
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SiOx/TiO2積層したTi電極MIMダイオードの抵抗スイッチング
荒井 崇、大田 晃生、福嶋 太紀、牧原 克典、宮崎 誠一
第13回日本表面科学会中部支部研究会
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Characterization of Electron Emission from Si-Nanocrystals/Si-Nanocolumnar Structures by Non-contact Conductive Atomic Force Microscopy International conference
D. Takeuchi, K. Makihara, M. Ikeda, S. Miyazaki, H. Kaki and T. Hayashi
12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures (ACSIN-12) and 21st International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM21)
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リモート水素プラズマ支援によるFePt合金ナノドットの高密度・一括形成と磁化特性評価
福岡 諒、張 海、牧原 克典、宮崎 誠一
応用物理学会SC東海地区学術講演会2013
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B添加Si量子ドット多重集積構造のエレクトロルミネッセンス
山田 敬久、牧原 克典、鈴木 善久、宮崎 誠一
応用物理学会SC東海地区学術講演会2013
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外部磁場印加がCoPt合金ナノドットの電気伝導特性に及ぼす影響
壁谷 悠希、張 海、福岡 諒、牧原 克典、宮崎 誠一
応用物理学会SC東海地区学術講演会2013
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一次元連結Si系量子ドットの電界発光減衰特性
鈴木 善久、牧原 克典、池田 弥央、宮崎 誠一
応用物理学会SC東海地区学術講演会2013
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AFM/KFMによる一次元連結・高密度Si系量子ドットにおける帯電電荷の経時変化計測
恒川 直輝、牧原 克典、池田 弥央、宮崎 誠一
応用物理学会SC東海地区学術講演会2013
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導電性AFM探針によるSiナノ結晶/柱状Siナノ構造からの電子放出特性評価
竹内 大智、牧原 克典、池田 弥央、宮崎 誠一、可貴 裕和、林 司
応用物理学会SC東海地区学術講演会2013
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リモート水素プラズマ支援によるSiO2上へのFeナノドットの高密度・一括形成
張 海、福岡 諒、壁谷 悠希、牧原 克典、宮崎 誠一
応用物理学会SC東海地区学術講演会2013
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Resistive Switching Properties of SiOx/TiO2 Multi-Stack in Ti-electrode MIM Diodes International conference
A. Ohta, K. Makihara, M. Fukusima, H. Murakami, S. Higashi and S. Miyazaki
224th Electrochemical Society (ECS) Meeting : Dielectric and Semiconductor Materials, Devices, and Processing
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Study on Electronic Emission through Si-Nanocrystals / Si-Nanocolumnar Structures by Conductive-Probe Atomic Force Microscopy International conference
D. Takeuchi, K. Makihara, M. Ikeda, S. Miyazaki, H. Kaki and T. Hayashi
JSPS Core-to-Core Program Workshop "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
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Characterization of Charge Storage and Optical Response of Hybrid Nanodots Floating Gate MOS Devices for Their Optoelectronic Application International conference
S. Miyazaki, K. Makihara and M. Ikeda
JSPS Core-to-Core Program Workshop "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"