講演・口頭発表等 - 牧原 克典
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Characterization of Remote Plasma CVD SiO2 on GaN(0001) 国際会議
N. Truyen, A. Ohta, M. Ikeda, K. Makihara and S. Miyazaki
10th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
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Potential Change and Electrical Dipole at Ultrathin Oxide/Semiconductor Interfaces as Evaluated by XPS 国際会議
N. Fujimura, A. Ohta, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki
10th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
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Formation of Si-based Quantum Dots on Sub-micron patterned Si Substrates 国際会議
M. Ikeda, L. Gao, K. Yamada, K. Makihara, A. Ohta, and S. Miyazaki
10th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
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Formation of Mn-germanide Nanodots on Ultrathin SiO2 Induced by Remote Hydrogen Plasma 国際会議
Y. Wen, K. Makihara, A. Ohta, M. Ikeda and S. Miyazaki
8th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2016)/9th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2016)
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Impact of Thermal Annealing on Mophology and Chemical Bonding Features at Epitaxial Ag(111) Surface Grown on Ge(111) 国際会議
K. Ito, A. Ohta, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki
8th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2016)/9th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2016)
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PYS Study on Energy Distributions of Defect States in Remote O2 Plasma Enhanced CVD SiO2/GaN Structure 国際会議
N. Truyen, A. Ohta, K. Makihara, M. Ikeda and S. Miyazaki
International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2016)/9th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2016)
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Total Photoelectron Yield Spectroscopy of Electronic States of GaN Surface 国際会議
A. Ohta, N. Truyen, N. Fujimura, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki
8th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2016)/9th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2016)
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Ge上にエピタキシャル成長したAg(111)表面の平坦化および化学構造評価
伊藤 公一、大田 晃生、黒澤 昌志、洗平 昌晃、池田 弥央、牧原 克典、宮崎 誠一
第64回応用物理学会春季学術講演会
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HfO2/SiO2/Si構造の光電子分光分析－界面ダイポールの定量－
藤村信幸、大田晃生、池田弥生、牧原克典、宮崎誠一
第16回日本表面科学会中部支部学術講演会
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光電子分光法によるリモートプラズマCVD SiO2/GaNの化学結合状態および電子占有欠陥評価
グェンチュンスァン、大田晃生、牧原克典、池田弥央、宮崎誠一
電子デバイス界面テクノロジー研究会―材料・プロセス・デバイス特性の物理― (第22回研究会)
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X線光電子分光法による極薄酸化物積層構造の電位変化・ダイポール評価
藤村信幸、大田晃生、池田弥央、牧原克典、宮崎誠一
電子デバイス界面テクノロジー研究会―材料・プロセス・デバイス特性の物理― (第22回研究会)
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ドライおよびN2O酸化により形成したSiO2/4H-SiCの電子占有欠陥評価
渡辺 浩成、大田 晃生、池田 弥央、牧原 克典、森 大輔、寺尾 豊、宮崎 誠一
第64回応用物理学会春季学術講演会
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硬X線光電子分光を用いたSi量子ドット多重集積構造の電位分布評価
中島 裕太、竹内 大智、牧原 克典、大田 晃生、池田 弥央、宮崎 誠一
第64回応用物理学会春季学術講演会
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Ge コアSi 量子ドットの発光特性評価
山田 健太郎、牧原 克典、池田 弥央、大田 晃生、宮崎 誠一
第17回日本表面科学会中部支部学術講演会
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Tiナノドットを埋め込んだSiOx膜の電気抵抗変化特性－定電圧および定電流印加による特性制御－
加藤 祐介、大田 晃生、池田 弥央、牧原 克典、宮崎 誠一
第64回応用物理学会春季学術講演会
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硬X線光電子分光法によるSi-MOSダイオードのオペランド分析 －電位変化および化学結合状態評価－
大田 晃生、村上 秀樹、池田 弥央、牧原 克典、池永 英司、宮崎 誠一
第64回応用物理学会春季学術講演会
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XPSによるHfO2の電子親和力と界面ダイポールの定量
藤村 信幸、大田 晃生、池田 弥央、牧原 克典、宮崎 誠一
第64回応用物理学会春季学術講演会
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Si 細線構造への高密度 Si 量子ドット形成と発光特性
高 磊、池田 弥央、山田 健太郎、牧原 克典、大田 晃生、宮崎 誠一
第64回応用物理学会春季学術講演会
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リモートプラズマ支援 CVD SiO2/GaN の界面特性
グェンスァンチュン、田岡 紀之、大田 晃生、山本 泰史、山田 永、高橋 言緒、池田 弥央、牧原 克典、清水 三聡、宮崎 誠一
第64回応用物理学会春季学術講演会
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リモート酸素プラズマによるGaN表面酸化
山本 泰史、田岡 紀之、大田 晃生、グェンスァンチュン、山田 永、高橋 言緒、池田 弥央、牧原 克典、清水 三聡、宮崎 誠一
第64回応用物理学会春季学術講演会