講演・口頭発表等 - 牧原 克典
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Multistep Electron Injection in PtSi-Nanodots/Silicon-Quantum-Dots Hybrid Floating Gate in MOS Structures 国際会議
M. Ikeda, S. Nakanishi, N. Morisawa, A. Kawanami, K. Makihara and S. Miyazaki
International Symposium on Technology Evoluation for Silicon Nano-Electronics
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Optical Response of Si-Quantum-Dots/NiSi-Nanodots Stack Hybrid Floating Gate in MOS Structures 国際会議
N. Morisawa, M. Ikeda, K. Makihara and S. Miyazaki
International Symposium on Technology Evoluation for Silicon Nano-Electronics
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Collective Electron Tunneling Model in Si-Nano Dot Floating Gate MOS Structure 国際会議
M. Muraguchi, Y. Sakurai, Y. Takada, Y. Shigeta, M. Ikeda, K. Makihara, S. Miyazaki, S. Nomura, K. Shiraishi and T. Endoh
International Symposium on Technology Evoluation for Silicon Nano-Electronics
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Optical Response of Si-Quantum-Dots/NiSi-Nanodots Hybrid Stacked Floating Gate 国際会議
N. Morisawa, M. Ikeda, S. Nakanishi, A. Kawanami, K. Makihara and S. Miyazaki
International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai
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High Density Formation of Ge Quantum Dots on SiO2 国際会議
K. Makihara, M. Ikeda, A. Ohta and S. Miyazaki
5th International SiGe Technology and Device Meeting
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Determination of Valence Band Alignment in SiO2/Si/Si0.55Ge0.45/Si(100) Heterostructures 国際会議
A. Ohta, K. Makihara, S. Miyazaki, M. Sakuraba and J. Murota
5th International SiGe Technology and Device Meeting
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Selective Crystallization and Etching of a-Ge:H Thin Films by Exposing to Remote H2 Plasma 国際会議
Y. Miyazaki, K. Makihara, M. Ikeda, S. Higashi and S. Miyazaki
2nd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
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Charging and magnetizing Characteristics of Co Nanodots 国際会議
K. Makihara, A. Kawanami, M. Ikeda, R. Ashihara and S. Miyazaki
The 3rd International Conference on Plasma-Nano Technology & Science
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２次元電子ガス―量子ドット界面における電子トンネル過程に対する微視的考察
村口正和、高田幸宏、櫻井蓉子、野村晋太郎、白石賢二、牧原克典、池田弥央、宮崎誠一、重田育照、遠藤哲郎
日本物理学会第65回年次大会
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SiO2/Si/SiGe0.5/Siヘテロ構造の価電子帯オフセット評価
大田晃生、牧原克典、宮崎誠一、櫻庭政夫、室田淳一
第57回春季応用物理学会
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The Effect of Anneal Ambient on Resistive Switching Properties with Pt/TiO2/Pt Structure
尉国浜、大田晃生、牧原克典、宮崎誠一
第57回春季応用物理学会
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Temporal Change in the Native Oxidation of Chemically-cleaned Ge(100) Surfaces
Siti Kudnie Sahari、村上秀樹、藤岡知宏、坂東竜也、大田晃生、牧原克典、東清一郎、宮崎誠一
第57回春季応用物理学会
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Pt/a-Ge:Hのリモート水素プラズマ処理によるPtGe薄膜形成
宮崎裕介、牧原克典、池田弥央、東清一郎、宮崎誠一
第57回春季応用物理学会
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Si熱酸化膜上へのGe量子ドットの高密度形成
牧原克典、池田弥央、大田晃生、川浪彰、宮崎誠一
第57回春季応用物理学会
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Coナノドットの帯電および帯磁評価
川浪彰、牧原克典、池田弥央、芦原龍平、宮崎誠一
第57回春季応用物理学会
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Si量子ドット/NiSiナノドットハイブリッドフローティングゲートの光応答特性
森澤直也、池田弥央、中西翔、川浪彰、牧原克典、東清一郎、宮崎誠一
第57回春季応用物理学会
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リモート水素プラズマ支援によるPtAlナノドットの形成
芦原龍平, 牧原克典、川浪彰、池田弥央、大田晃生、宮崎誠一
第57回春季応用物理学会
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Evaluation of Valence Band Offsets for SiO2/Si/SiGe0.5/Si Heterostructures Using by X-ray Photoelectron Spectroscopy 国際会議
A. Ohta, K. Makihara, S. Miyazaki, M. Sakuraba and J. Murota
5th International Workshop in New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
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Formation of Hybrid Nanodots Floating Gate for Functional Memories Charge Storage Characteristics and Optical Response 国際会議
S. Miyazaki, N. Morisawa, S. Nakanishi, K. Makihara and M. Ikeda
5th International Workshop in New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
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Impact of Surface Pre-Treatment on Metal Migration Induced by Remote H2-Plasma Treatment 国際会議
K. Makihara, A. Kawanami, M. Ikeda, S. Higashi and S. Miyazaki
2009 International Microprocesses and Nanotechnology Conference