講演・口頭発表等 - 牧原 克典
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Magnetotransport Properties of FePt Alloy-NDs Stacked Structures 国際会議
K. Makihara, T. Kawase, A. Ohta, M. Ikeda, and S. Miyazaki
2016 International Conference on Solid State Devices and Materials
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Evaluation of Potential Change and Electrical Dipole in HfO2/SiO2/Si Structure 国際会議
2016 International Conference on Solid State Devices and Materials
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Evaluation of Dielectric Function of Thermally-grown SiO2 and GeO2 from Energy Loss Signals for XPS Core-line Photoelectrons 国際会議
T. Yamamoto, A. Ohta, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki
230th Meeting of The Electrochemical Society (ECS)
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Effect of Ge Core Size on Photoluminescence from Si Quantum Dots with Ge Core 国際会議
K. Yamada, K. Kondo, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki
230th Meeting of The Electrochemical Society (ECS)
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Low Temperature Formation of Crystalline Si:H/Ge:H Heterostructures by Plasma Enhanced CVD in Combination with Ni-NDs Seeding Nucleation 国際会議
Y. Lu, K. Makihara, D. Takeuchi, M. Ikeda, A. Ohta, and S. Miyazaki
29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
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High Density Formation of Ta/Ta-Oxide Core-Shell Nanodots 国際会議
Y. Wang, D. Takeuchi, A. Ohta, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki
29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
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Characterization of Electrical Dipole Formed at HfO2/SiO2 and SiO2/Si Interfaces Using by XPS 国際会議
N. Fujimura, A. Ohta, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki
JSPS Meeting 2016 : Workshop on Atomically Controlled Processing for Ultra-large Scale Integration
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XPS Study on Dielectric Function of Thermally-grown SiO2 国際会議
T. Yamamoto, A. Ohta, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki
JSPS Meeting 2016 Workshop on Atomically Controlled Processing for Ultra-large Scale Integration
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Effects of Hydrogen Plasma Treatment on Optical Properties of LSAT ((LaAlO3)0.3-(Sr2AlTaO6)0.7 国際会議
D. R. Purba, K. Makihara, A. Rusydi, S. Miyazaki, and Y. Darma
The 2nd Materials Research Society of Indonesia (MRS-Id) Meeting
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Formation and Characterization of Si Quantum Dots with Ge Core for Functional Devices 招待有り 国際会議
S. Miyazaki, D. Takeuchi, M. Ikeda, and K. Makihara
2016 International Conference on Solid State Devices and Materials
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Processing and Characterization of Si/Ge Quantum Dots 招待有り 国際会議
S. Miyazaki, K. Makihara, A. Ohta, and M. Ikeda
Int. Electron Devices Meeting 2016 (IEDM)
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GeコアSi量子ドットのエレクトロルミネッセンス特性
山田 健太郎、池田 弥央、牧原 克典、宮崎 誠一
第77回応用物理学会秋季学術講演会
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High Density Ti Nanodots Formation and Improvement of ReRAM Characteristics by Embedding Ti Nanodots 国際会議
Y. Kato, A. Ohta, K. Makihara and S. Miyazaki
9th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar" Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
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Ti薄膜およびTiナノドットを埋め込んだNi/SiOx/Niの電気抵抗スイッチング
加藤祐介、大田晃生、池田弥央、牧原克典、宮崎誠一
第4回応用物理学会SC東海地区学術講演会
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XPSを用いたSiO2およびGeO2の誘電関数・光学定数の評価手法の検討
山本泰史、大田晃生、池田弥央、牧原克典、宮崎誠一
第4回応用物理学会SC東海地区学術講演会
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SiおよびSiGe上に形成したAg表面の化学分析
伊藤公一、大田晃生、黒澤昌志、洗平昌晃、池田弥央、牧原克典、宮崎誠一
第4回応用物理学会SC東海地区学術講演会
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XPSによるSiO2/SiおよびHfO2/SiO2界面のダイポールの定量
藤村信幸、大田晃生、池田弥生、牧原克典、宮崎誠一
第4回応用物理学会SC東海地区学術講演会
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光電子収率分光法によるリモートプラズマCVD SiO2/GaN界面の電子占有欠陥評価
グェン スァンチュン, 大田晃生, 牧原克典, 池田弥央, 宮崎誠一
第4回応用物理学会SC東海地区学術講演会
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シリコン酸化薄膜の電気抵抗スイッチングおよび欠陥準位密度評価
加藤祐介、大田晃生、池田弥央、牧原克典、宮崎誠一
第36回 表面科学学術講演会
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IV 族半導体上に蒸着したAg 薄膜の化学構造評価と反応制御
伊藤公一、大田晃生、黒澤昌志、洗平昌晃、池田弥央、牧原克典、宮崎誠一
第36回 表面科学学術講演会