Presentations -
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Interfacial Reaction Mechanism in Al2O3/Ge Structure by Oxygen Radical International conference
K. Kato, S. Shibayama, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
International Conference on Solid State Devices and Materials 2012 (SSDM2012)
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Thermal Oxidation Mechanism of Ge through Al2O3 Layer Formed on Ge Substrate International conference
S. Shibayama, K. Kato M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
IUMRS-International Conference on Electronic Materials
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テトラエトキシゲルマニウムを用いた原子層堆積法によるGe酸化膜の形成
吉田鉄兵, 加藤公彦, 柴山茂久, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
2012年秋季 第73回応用物理学会学術講演会
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Effect of Light Exposure and Air Exposures on Electrical Properties of GeO2/Ge and Al2O3/Ge Gate Stack Structures International conference
Kusumandari, W. Takeuchi, K. Kato, S. Shibayama, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD2012)
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Al2O3/Ge構造への酸素熱処理および酸素ラジカル処理による界面反応機構の解明
柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
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Al2O3/Ge構造に対する酸素熱処理温度依存性およびその界面反応機構
柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
第59回応用物理学会関係連合講演会
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Al2O3/Geに対する酸素熱処理が電気的特性および化学結合状態に与える効果
柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理― （第17回研究会）
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Al2O3/Geゲートスタック構造に対する酸素熱処理の化学結合状態および界面特性に与える効果
柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
第11回 日本表面科学会中部支部 学術講演会
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Effect of Light Exposure during Plasma Process on Electrical Properties of Au/Al2O3/Ge MOS Capacitor
Kusumandari, W. Takeuchi, K. Kato, S. Shibayama, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
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Improvement of Al2O3/Ge Interfacial Properties by O2 Annealing International conference
S. Shibayama, K. Kato M. Sakashita, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
7th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-7)
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Al2O3/Ge構造に対する酸素熱処理の界面特性に及ぼす効果
柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
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Evaluation of Light Induced Damages in Plasma Process on Electrical Properties of Al2O3/Ge Gate Stack Structure
Kusumandari, W. Takeuchi, K. Kato, S. Shibayama, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
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熱処理によるAl2O3/Ge界面構造制御
柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
第58回応用物理学会関係連合講演会