講演・口頭発表等 - 黒澤 昌志
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Interfacial Oxide Layer Controlled Al-Induced Crystallization of Si on Insulator for Epitaxial Template 国際会議
M. Kurosawa, N. Kawabata, K. Toko, T. Sadoh, and M. Miyao
5th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
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Orientation-controlled poly-SiGe on insulator by Aluminum-induced crystallization 国際会議
M. Kurosawa, N. Kawabata, T. Sadoh, and M. Miyao
International Thin-Film Transistor Conference 2010 (ITC'10)
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High mobility of single-crystalline Ge stripes on insulator by SiGe mixing triggered liquid-phase epitaxy 国際会議
K. Toko, H. Yokoyama, M. Kurosawa, N. Kawabata, T. Tanaka, T. Sadoh, and M. Miyao
2009 Materials Research Society Fall Meeting
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Orientation-Controlled poly-Si on glass by Al-induced layer exchange technique 国際会議
M. Kurosawa, N. Kawabata, H. Yokoyama, Y. Ohta, K. Toko, T. Sadoh, and M. Miyao
2009 Materials Research Society Fall Meeting
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Orientation Control of Large Grain Poly-Si on Glass by Interfacial Oxide Layer Controlled Al-Induced Crystallization 国際会議
M. Kurosawa, N. Kawabata, T. Sadoh, and M. Miyao
International Conference on Solid State Devices and Materials 2009 (SSDM 2009)
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Al誘起層交換法による高配向Si薄膜/ガラスの低温形成
川畑直之, 黒澤昌志, 佐道泰造, 宮尾正信
第17回 電子情報通信学会九州支部 学生会講演会
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Al-Induced Low Temperature Crystallization of Si1-xGex (0<x<1) by Interfacial Al Oxide Layer Control 国際会議
M. Kurosawa, T. Sadoh, and M. Miyao
6th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-6)
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アルミニウム誘起層交換法によるSiGe/ガラスの低温成長
黒澤昌志, 川畑直之, 佐道泰造, 宮尾正信
電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス(SDM)研究会
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金属触媒誘起横方向成長法による多結晶Geの極低温成長
佐道泰造, 萩原貴嗣, 黒澤昌志, 都甲薫, 権丈淳
2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会
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界面酸化膜制御によるSi1-xGex (0≦x≦1)混晶のAl誘起層交換成長
黒澤昌志, 佐道泰造, 宮尾正信
2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会
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Si/Ge多層構造のAl誘起層交換成長とSi-Geミキシング
黒澤昌志, 川畑直之, 佐道泰造, 宮尾正信
2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会
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AIC法で作製したSi0.5Ge0.5薄膜の微細構造解析
犬塚純平, 板倉賢, 西田稔, 黒澤昌志, 佐道泰造, 宮尾正信
2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会
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UV照射アニールによるSiN誘起ローカル歪みの増強
田中貴規, 田中政典, 黒澤昌志, 佐道泰造, 宮尾正信, 山口真典, 鈴木信二, 北村徳秀
2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会
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AIC法により作製したSiGe薄膜の微細構造評価
犬塚純平, 板倉賢, 西田稔, 黒澤昌志, 佐道泰造, 宮尾正信
第50回日本顕微鏡学会 九州支部総会・学術講演会
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Si/Ge多層構造に於けるAl誘起層交換成長とSi/Ge相互拡散
黒澤昌志, 佐道泰造, 宮尾正信
2008年（平成20年）秋季 第69回応用物理学会学術講演会
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Interfacial-Oxide Controlled Al-Induced Crystallization of Si1-xGex (x: 0-1) on Insulating Substrate 国際会議
M. Kurosawa, Y. Tsumura, T. Sadoh, and M. Miyao
International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices 2008 (AM-FPD'08)
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Low-Temperature (111)-Oriented SiGe Growth on Insulating Substrate by Al-Induced Crystallization 国際会議
T. Sadoh, Y. Tsumura, M. Kurosawa, and M. Miyao
International SiGe Technology and Device Meeting 2008 (ISTDM'08)
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MgO/Si構造上における非晶質Geの固相成長
榎本雄志, 黒澤昌志, 松本達也, 上田公二, 佐道泰造, 宮尾正信
2008年（平成20年）春季 第55回応用物理学関係連合講演会
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SiGeのAl誘起層交換成長に与える界面酸化膜効果
黒澤昌志, 津村宜孝, 佐道泰造, 宮尾正信
2008年（平成20年）春季 第55回応用物理学関係連合講演会
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Ge Fraction Dependence of Al-induced Crystallization of SiGe at Low-Temperature 国際会議
M. Kurosawa, Y. Tsumura, T. Sadoh, and M. Miyao
International Thin-Film Transistor Conference 2008 (ITC'08)