講演・口頭発表等 - 黒澤 昌志
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偏析溶融成長法により形成した絶縁膜上Ge1-xSnx細線の電気特性評価
中尾天哉, 西嶋泰樹, 清水智, 角田功, 中塚理, 黒澤昌志
第80回応用物理学会秋季学術講演会
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Evaluation of Anisotropic Stress for Laterally Graded Silicon Germanium Wires by Raman Spectroscopy 国際会議
R. Yokogawa, K. Takahashi, M. Kurosawa, M. Tomita, T. Watanabe, and A. Ogura
18th Conference on Defects-Recognition, Imaging and Physics in Semiconductors (DRIP XVII)
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Influence of Dopant on Thermoelectric Properties of Si-rich Poly-Si1-xSnx Layers Grown on Insulators 国際会議
K. Sato, O. Nakatsuka, and M. Kurosawa
International Conference on Solid State Devices and Materials 2019 (SSDM2019)
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First-Principles Study on Formation of Freestanding Silicene and Germanene 国際会議
M. Araidai, M. Kurosawa, A. Ohta, and K. Shiraishi
International Conference on Solid State Devices and Materials 2019 (SSDM2019)
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Preparation and thermoelectric characterization of phosphorus-doped silicon nanocrystals/silicon oxide multilayers 国際会議
H. Kobayashi, R. Akaishi, S. Kato, M. Kurosawa, N. Usami, and Y. Kurokawa
International Conference on Solid State Devices and Materials 2019 (SSDM2019)
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Growth of Ultrathin Segregated-Ge Crystal on Al/Ge(111) Surface 国際会議
M. Kobayashi, A. Ohta, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, N. Taoka, T. Shimizu, K. Makihara, and S. Miyazaki
International Conference on Solid State Devices and Materials 2019 (SSDM2019)
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Germanene epitaxial growth by a segregation method on Ag(111) thin films 国際会議
J. Yuhara, H. Shimazu, K. Ito, A. Ohta, M. Araidai, M. Kurosawa, M. Nakatake, and G. Le Lay
From the NanoWorld to StarDust (NW2SD) International Conference
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GeSn and GeSiSn Heterostructures for Optoelectronic Applications 国際会議
O. Nakatsuka, M. Fukuda, M. Kurosawa, S. Shibayama, M. Sakashita, and S. Zaima
2019 IEEE Photonics Society Summer Topical Meeting Series
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組成傾斜シリコンゲルマニウム細線へのイオン注入ドーピング
中田壮哉, 西嶋大樹, 清水智, 角田功, 富田基裕, 渡邊孝信, 中塚理, 黒澤昌志
第3回応用物理学会フォノンエンジニアリング研究会
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熱処理によるAl/Ge(111)上の極薄Ge層形成
小林征登, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 田岡紀之, 池田弥央, 牧原克典, 宮﨑誠一
電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス(SDM)研究会
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Development and challenges of group-IV alloy semiconductors for nanoelectronic applications 国際会議
S. Zaima, O. Nakatsuka, M. Kurosawa, M. Sakashita, and S. Shibayama
11th International Conference on High-Performance Ceramics (CICC-11)
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Tin-Incorporation Effect on Thermoelectric Properties of p-type Polycrysalline Si1-xGex layers grown on SiO2 国際会議
Y. Peng, L. Miao, J. Gao, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima
11th International Conference on High-Performance Ceramics (CICC-11)
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Semi-ballistic thermal phonon transport in Si1-xGex nanowires 国際会議
N. Okamoto, R. Yanagisawa, M. M. Alam, K. Sawano, M. Kurosawa, and M. Nomura
Compound Semiconductor Week 2019
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架橋ゲルマネン形成に関する第一原理計算
洗平昌晃, 黒澤昌志, 大田晃生, 白石賢二
日本表面真空学会2019年度関東支部講演大会
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急速溶融成長法で作製されたSiGeワイヤの熱電特性
熊田剛大, 中村俊貴, 富田基裕, 中田壮哉, 高橋恒太, 黒澤昌志, 渡邉孝信
第66回応用物理学会春季学術講演会
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ヘテロエピタキシャルAl/Ge(111)上に偏析した極薄Geの化学分析
小林征登, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 田岡紀之, 池田弥央, 牧原克典, 宮﨑誠一
第66回応用物理学会春季学術講演会
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温度と組成に依存するSi1-xGexナノワイヤ中の準弾道的熱輸送
岡本昂, 柳澤亮人, Md. Mahfuz Alam, 澤野憲太郎, 黒澤昌志, 野村政宏
第66回応用物理学会春季学術講演会
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液浸ラマン分光法による組成傾斜SiGeワイヤの異方性二軸応力分布評価
横川凌, 高橋恒太, 富田基裕, 黒澤昌志, 渡邉孝信, 小椋厚志
第66回応用物理学会春季学術講演会
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ノンドープ組成傾斜SiGeワイヤの微小ゼーベック係数測定
熊田剛大, 中村俊貴, 富田基裕, 中田壮哉, 高橋恒太, 黒澤昌志, 渡邉孝信
電子デバイス界面テクノロジー研究会（第24回）
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GaSb(001)基板上に形成したSi1-xSnx薄膜の結晶構造評価
丹下龍志, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明
電子デバイス界面テクノロジー研究会（第24回）