論文 - 豊田 浩孝
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代替エッチングガスC3HF7Oの電子衝突解離断面積 査読有り
Jpn.J.Appl.Phys. 37 巻 ( 9A ) 頁： 5053-5059 1998年
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プラズマプロセスに関連した低エネルギー多原子イオンの表面解離の観察
J.Vac.Sci.Technol. 16 巻 ( 1 ) 頁： 290-293 1998年
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電子サイクロトロン共鳴放電によるその場磁化ボロナイゼーションの基礎研究 査読有り
J.Nucl.Mater. 241-243 巻 頁： 1217-1221 1997年
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改良型誘導結合プラズマによるアモルファスおよび多結晶シリコン膜の低温形成 査読有り
応用物理学会欧文誌 36 巻 ( 6A ) 頁： 3714-3720 1997年
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C4F8の電子衝突解離による中性およびイオン化ラジカル種の生成断面積 査読有り
応用物理学会欧文誌 36 巻 ( 6A ) 頁： 3730-3735 1997年
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リチウム堆積環境下における水素および不純物挙動の実験室実験
241-243 巻 頁： 1031-1035 1997年
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Diagnostics for Advanced Plasma Control of Materials Processing 査読有り
H. Sugai, T.H. Ahn, I. Ghanashev, M. Goto, H. Toyoda, N. Nagatsu, K. Nakamura, K. Suzuki
Plasma Phys. Control. Fusion 39 巻 頁： A445-458 1997年
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熱料および不純物制御のためのリチウム壁コンディショニング 査読有り
真室 47 巻 ( 6-9 ) 頁： 981-984 1996年
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誘導結合シランプラズマを用いた水素化アモルファスシリコン膜の低温形成
応用物理学会欧文誌 35 巻 ( 8A ) 頁： L1009-1011 1996年
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低エネルギーフロロカーボンイオンを照射された金属表面からの解離イオンイールド 査読有り
34 巻 ( 11A ) 頁： L1486-1489 1995年
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ポロニゼーションにおける水蒸量と同位体置換 査読有り
220-222 巻 頁： 743-747 1995年
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低エネルギ炭化水素イオンを照射された金属表面からのイオン散乱の観測 査読有り
34 巻 ( 4B ) 頁： L516-519 1995年
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リチウム蒸着による壁のコンディショニング 査読有り
220-222 巻 頁： 254 1995年
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紫外透過分光法を用いたシランプラズマ中におけるSiH3ラジカルと微粒子の簡便直接測定 査読有り
34 巻 ( 4A ) 頁： L448-451 1995年
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プラズマ中の電子エネルギー分布測定の為のバイアス光プローブ法
4 巻 頁： 366372 1995年
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LHDへの応用をめざしたボロニゼーション研究
220-222 巻 頁： 623-626 1995年
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SF6のSFX(X=1-3)ラジカルへの電子衝突解離の相対断面積測定 査読有り
35 巻 ( 4-5 ) 頁： 405-413 1995年
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電子衝突によるCF4およびCHF3のCFX(X=1-3)ラジカルへの解離断面積の絶対測定 査読有り
35 巻 ( 4-5 ) 頁： 415-420 1995年
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ダイアモンド成長DC放電中におけるCH3およびCHラジカル密度 査読有り
35 巻 ( 4-5 ) 頁： 359-373 1995年
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Measurement of CH3 and CH Densities in a Diamond Growth d. c. Discharge 査読有り
M.A. Childs, K.L. Menningen, H. Toyoda, L.W. Anderson, J.E. Lawler
Europhys. Lett. 25 巻 ( 9 ) 頁： 729-734 1994年