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プラズマ活性乳酸リンゲル液による乳がん細胞選択的殺傷機構の解明
田中文子、水野正明、石川健治、ミロン カメリア、橋爪博司、岡崎泰昌、豊國伸哉、中村香江、梶山広明、堀勝、田中宏昌
2024.11.29
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プラズマ活性乳酸リンゲル液内オートファジー誘導物質の特定
山川太嗣、田中文子、ミロン カメリア、中村香江、梶山広明、豊國伸哉、水野正明、石川健治、堀勝、田中宏昌
2024.11.28
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プラズマ活性溶液による細胞運命の制御生命エレクトロニクスの展開
田中宏昌，水野正明，石川健治，梶山広明，豊國伸哉，堀勝
2024.11.17
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四重極型質量分析を用いた材料表面の中性粒子の付着確率計測
来島拓海，堤隆嘉，関根誠，堀勝，石川健治
2024.11.17
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機械学習を用いたアモルファスカーボン薄膜の体積機構におけるプロセスパラメータの寄与度解析
安藤悠介，堤隆嘉，近藤博基，関根誠，石川健治，堀勝
2024.11.17
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Hydrofluoroethane plasmas with CHF2CF3, CF3CH3, and CHF2CH3 on reactions of etching surface of SiN, SiO2 and poly-Si films International conference
Tran Trung Nguyen, Toshio Hayashi, Hiroshi Iwayama, Makoto Sekine, Masaru Hori, and Kenji Ishikawa
2024.11.15
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Plasma-enhanced atomic layer deposition of carbon films International conference
Liugang Hu, Takayoshi Tsutsumi, Nobuyoshi Kobayashi, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
2024.11.14
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UV laser ionization desorption of surfaces for GaN etching International conference
Ryoto Takahashi, Ryusei Sakai, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori, and Kenji Ishikawa
2024.11.15
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Etching of GaN using Ar/F2 plasma at high temperatures International conference
J. He, Shohei Nakamura, Atsushi Tanide, Tran Trung Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori, and Kenji Ishikawa
2024.11.15
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Plasma-driven sciences: exploring complex interactions at plasma-boundaries International conference
Kenji Ishikawa
2024.11.12
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In-situ measurements of plasma-induced defects and radical adsorption in ALE International conference
Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
2024.11.5
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Advanced semiconductor plasma processes pioneered by understanding and controlling plasma-surface interactions International conference
Masaru Hari, Makoto Sekine, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa
2024.11.4
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シロイヌナズナの種子における酸素ラジカルの照射効果
川口幸大，大竹将平，塚越啓央，田中宏昌，石川健治，堀勝，伊藤昌文
2024.11.2
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低温環境下での酸素ラジカル活性化ピロール溶液の殺菌効果
渡邊 拓哉，北川 大慈, 石川 健治, 田中 宏昌, 堀 勝, 伊藤 昌文
2024.11.2
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酸素ラジカル処理されたヒスチジン溶液が線維芽細胞へ与える影響
福井 公輝，石川 健治，田中 宏昌，堀 勝，伊藤 昌文
2024.11.2
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Behavior of radical adsorption on plasma induced defect for atomic layer etching International conference
Airah Peraro Osonio, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
2024.10.29
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超音波および低温プラズマによるフリーラジカル生成に関するスピン捕捉法による検討
近藤隆、水野裕貴、安田啓司、石川健治、堀勝
2024.10.19
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Effect of bias voltage on etching reaction of SiO2 in cryogenic process with HF contained plasmas International conference
Yusuke Imai, Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Yuki Iijima, and Masaru Hori
2024.10.15
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In situ electron spin resonance and spin trapping study for kinetics of free radical reactions at plasma/liquid interfaces plasma chemistry on liquids International conference
Kenichi Inoue, Takashi Kondo, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
2024.10.3
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Process control of plasma etching of SiN, SiO2 and poly-Si films via enhanced fragmentation of CHF2CF3 and CF3CH3, CHF2CH3 International conference
Trung Nguyen Tran, Toshio Hayashi, Hiroshi Iwayama, Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine, Masaru Hori, Kenji Ishikawa
2024.10.1