Presentations -
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CF4/H2プラズマによるエピタキシャル成長したSi0.7Ge0.3/Si/Si0.7Ge0.3積層膜からのSiナノシートの形成
尾崎孝太朗，堤隆嘉，石川健治，Yamamoto Yuji，Wen Wei-Chen，牧原克典
2025.3.17
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エピタキシャル成長したSi0.7Ge0.3およびSi薄膜におけるH2希釈CF4ガスによるドライエッチング -基板温度依存性-
尾崎 孝太朗、佐分利 伊吹、堤 隆嘉、石川 健治、Yamamoto Yuji、Wen Wei-Chen、牧原 克典
2025.3.15
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Impact of electrical stimulation and wall thickness variation on the differentiation potential of human mesenchymal stem cells cultured on SiC-coated CNWs
第72回応用物理学会春季学術講演会 2025.3.16
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Time course analysis of NO radicals in plasma-activated Ringer's lactate solution
第72回応用物理学会春季学術講演会 2025.3.16
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酸素ラジカル活性化L-トリプトファン溶液中に生成されたキヌレニンによる線維芽細胞の増殖促進効果
福井公輝、田島慶人、石川健治、田中宏昌、堀勝、伊藤昌文
2025.3.16
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酸素ラジカル活性化インドール溶液による殺菌効果の温度依存性
北川大慈、清水健太、渡邊拓哉、志水元亨、加藤雅士、田中宏昌、石川健治、堀勝、伊藤昌文
2025.3.16
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大気圧質量分析法を用いたソラマメ種皮の酸化窒素ラジカル透過率測定
川口幸大、塚越啓央、田中宏昌、石川健治、堀勝、伊藤昌文
2025.3.16
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Real-time Analysis of Neutral species spectrum Using Machine Learning
第72回応用物理学会春季学術講演会 2025.3.17
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Effects of Radical Sticking Probability on Transport in High-Aspect-Ratio Holes
第72回応用物理学会春季学術講演会 2025.3.17
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In-situ Surface Reaction Analysis during Atomic Layer Etching of TiN Irradiated by Cl Radicals at Low Temperature
第72回応用物理学会春季学術講演会 2025.3.17
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A Cyclic Etching of Platinum Thin Films by An Oxygen Plasma and A Formic Acid Vapor Treatment
第72回応用物理学会春季学術講演会 2025.3.17
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計算化学による1-C4F8の電子物性と解離特性
林俊雄、石川健治、関根誠、堀勝
2025.3.17
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1-C5F10分子の電子物性と解離
林俊雄、石川健治、関根誠、堀勝
2025.3.17
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酸素添加塩素プラズマによるGaN 選択エッチングの温度依存性
中村昭平，谷出敦，木村貴弘，トラン グエン トラン，井上健一，石川健治
2025.3.17
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Free Radical Formation Induced by Low-temperature Plasma in Amino acids. An EPR-Spin Trapping Study
第72回応用物理学会春季学術講演会 2025.3.15
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Effects of plasma irradiation on the ascorbic acid content in Artemia International conference
Hayato Shirata, Kenji Ishikawa, Shinichi Akiyama, Hiroshi Hashizume, Masaru Hori, and Hiromasa Tanaka
2025.3.5
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Investigation of mitophagy-inducing substances and their effects on mitochondrial function in plasma-activated Ringer's lactate solution International conference
Kohei Mori, Taishi Yamakawa, Masaru Hori, Kenji Ishikawa, and Hiromasa Tanaka
2025.3.5
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Evaluation of lateral selective etching with CF4/H2 plasma of Si0.7Ge0.3/Si/Si0.7Ge0.3 layers International conference
Kotaro Ozaki, Noriharu Takada, Yusuke Imai, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Yuji Yamamoto, Wei-Chen Wen, and Katsunori Makihara
2025.3.4
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Irradiation time dependence of bactericidal effect of oxygen radical-activated indole solution International conference
Daiji Kitagawa, Takuya Watanabe, Motoyuki Shimizu, Masashi Kato, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka, Masaru Hori, and Masafumi Ito
2025.3.4
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Fabrication of cubic boron nitride films on WC substrates using electron beam excited plasma CVD method International conference
Toru Harigai, Seigo Takashima, Kenichi Inoue, HIroyuki Kousaka, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
2025.3.4