講演・口頭発表等 - 堤 隆嘉
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窒化ガリウム（GaN）向けサファイア基板の周波数領域型低コヒーレンス干渉計による温度計測
堤 隆嘉, 竹田 圭吾, 石川 健治, 近藤 博基, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 関根 誠, 堀 勝
秋季第73回応用物理学会学術講演会
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High Resolution Temperature Monitoring System of Semiconductor Substrate Using Fourier Domain Low Coherence Interferometer 国際会議
T. Tsutsumi, M. Hori, M. Sekine, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, T. Ohta, M. Ito
The 15th Korea-Japan Workshop for Advanced Plasma Process and Diagnostics
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光干渉計を用いたカーボンナノウォール/Si基板の基板温度計測
平岡 丈弘, 夏目 将利, 加藤 寛人, 堤 隆嘉, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 竹田 圭吾, 近藤 博基, 堀 勝
第59回応用物理学関係連合講演会
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Temperature Measurement of Carbon Nanowall/Silicon Substrate Using Fourier-Domain Low-coherence Interferometry 国際会議
T. Hiraoka, M. Natsume, H. Kato, T. Tsutsumi, T. Ohta, M. Ito, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori
6th International Conference on PLAsma-Nano Technology & Science
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Non-contact Temperature Measurement of Silicon Wafer Using Frequency Domain Low Coherence Interferometer 国際会議
T. Tsutsumi, T. Ohta, M. Ito, S. Tsuchitani, M. Hori
5th International Conference on PLAsma-Nano Technology & Science
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光干渉計を用いたプラズマプロセス中の非接触ウエア温度モニタリング
太田 貴之, 堤 隆嘉, 伊藤 昌文, 堀 勝
Plasma Conference 2011 Conference & Exhibition
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光干渉計を用いた非接触ウエハ温度・膜厚計測
太田 貴之, 堤 隆嘉, 伊藤 昌文, 平岡 丈弘, 竹田 圭吾, 堀 勝
応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会20周年記念特別シンポジウム
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レーザ吸収分光法を用いたマイクロホローカソード放電中の準安定He原子密度と温度測定
井上 真里, 太田 貴之, 家苗 毅司, 堤 隆嘉, 菊池 邦友, 土谷 茂樹, 伊藤 昌文, 堀 勝
秋季第72回応用物理学会術講演会
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周波数領域型低コヒーレンス干渉計を用いたSi基板の非接触温度分布計測実験
堤 隆嘉, 太田 貴之, 菊池 邦友, 土谷 茂樹, 伊藤 昌文, 堀 勝
秋季第72回応用物理学会術講演会
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Temperature Measurement of Silicon Wafer Treated by Atmospheric Pressure Plasma Using Frequency Domain Low Coherence Interferometer 国際会議
T. Tsutsumi, T. Ohta, M. Ito, M. Hori
4th International Conference on PLAsma-Nano Technology & Science
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High Resolution Measurement of Silicon Substrate Temperature Using Frequency Domain Low Coherence Interferometer for Plasma Processing 国際会議
T. Tsutsumi, T. Ohta, M. Ito, M. Hori
3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
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周波数領域型低コヒーレンス干渉計を用いた高精度Si基板温度計測
堤 隆嘉, 太田 貴之, 伊藤 昌文, 平岡 丈弘, 堀 勝
秋季第71回応用物理学会術講演会
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Area-selective Plasma-enhanced Atomic Layer Etching (PE-ALE) of Silicon Dioxide using a Silane Coupling Agent 招待有り
Airah Osonio, Takayoshi Tsutsumi, Bablu Mukherjee, Ranjit Borude, Nobuyoshi Kobayashi, Masaru Hori