Presentations -
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Evaluation on detection of dislocation clusters in the photoluminescence image by approach of data science International conference
K. Tajima, Y. Hayama, T. Muramatsu, K. Kutsukake, T. Matsumoto, H. Kudo , and N. Usami
10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells
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Estimation of dislocation regions in photoluminescence image using multi wafers of multicrystalline silicon by non-negative matrix factorization International conference
H. Kudo, Y. Hayama, T. Matsumoto, K. Kutsukake, and N. Usami
10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells
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Characterization of hydrogen around a-Si:H/c-Si interface by resonance nuclear reaction analysis International conference
K. Gotoh, S. Ogura, S. Kato, Y. Kurokawa, K. Fukutani, and N. Usami
10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells
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Application of weighted Voronoi diagrams to analysis on nucleation sites of multicrystalline silicon ingots International conference
T. Muramatsu, S. Kamibeppu, K. Tajima, Y. Hayama, K. Kutsukake, K. Maeda, T. Matsumoto, H. Kudo, K. Fujiwara, and N. Usami
10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells
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データ科学を活用した材料創製・材料評価に向けて
沓掛健太朗、宇佐美徳隆、工藤博章、松本哲也、横井達矢、羽山優介、大野裕
日本金属学会２０１８年春期（第１６２回）講演大会
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Impact of Growth Temperature on Passivation Performance and Hydrogen Profile Near the a-Si:H/c-Si Interface International conference
K. Gotoh, S. Ogura, S. Kato, Y. Kurokawa, K. Fukutani, and N. Usami
SiliconPV
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3D Visualization and Analysis of Dislocation Clusters in Multicrystalline Si Ingot by Approach of Data Science International conference
Y. Hayama, T. Matsumoto, T. Muramatsu, K. Kutsukake, H. Kudo and N. Usami
SiliconPV
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Surface passivation effect of RF-plasma processed a-Si:H layers on the optical properties of BaSi2 epitaxial films
Zhihao Xu, K. Gotoh, Tianguo Deng, K. Toko, N. Usami, and T. Suemasu
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2段階作製法で製膜したp型CuI薄膜のパッシベーション層開発 －ヘテロ接合型Si系太陽電池の新規正孔選択輸送層として－
崔敏、後藤和泰、黒川康良、宇佐美徳隆
第65回応用物理学会春季学術講演会
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高誘電率材料を用いたSiナノワイヤMOSキャパシタの特性評価
根笹良太、黒川康良、宇佐美徳隆
第65回応用物理学会春季学術講演会
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TiOx パッシベーション層の熱耐性に SiOx 中間層が及ぼす影響
望月健矢、後藤和泰、黒川康良、宇佐美徳隆
第65回応用物理学会春季学術講演会
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TiOx/結晶Si界面における化学パッシベーションの研究
望月健矢、後藤和泰、大田晁生、小倉正平、黒川康良、宮崎誠一、福谷克之、宇佐美徳隆
第65回応用物理学会春季学術講演会
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p型BaSi2/ n型結晶Si太陽電池の開放電圧向上に向けた真空蒸着法における蒸発初期過程の制御
藤原道信、高橋一真、中川慶彦、後藤和泰、黒川康良、伊藤孝至、宇佐美徳隆
第65回応用物理学会春季学術講演会
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ガスソース分子線エピタキシー法による高被覆率Geドットマスクを用いた光閉じ込め構造の作製
太田湧士、本部惇史、後藤和泰、黒川康良、宇佐美徳隆、ドミトリー ユラソフ、アレクシー ナビコフ、ミカエル シャリーブ
第65回応用物理学会春季学術講演会
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次世代高性能ヘテロ接合太陽電池に向けた新材料と界面制御
宇佐美徳隆、 望月健矢、 増田翔太、 崔敏、 後藤和泰、 黒川康良
第65回応用物理学会春季学術講演会
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キャリア選択コンタクトにおける電極材料の界面仕事関数および成膜ダメージ評価：ALD-TiOx
神岡武文、望月健矢、後藤和泰、林豊、磯貝勇樹、中村京太郎、宇佐美徳隆、大下祥雄
第65回応用物理学会春季学術講演会
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Al-Ge混合ペーストの印刷と焼成によるSi基板上へのSiGe層のエピタキシャル成長
深見昌吾、増田翔太、中川慶彦、 後藤和泰、黒川康良、ダムリン マルワン、宇佐美徳隆
第65回応用物理学会春季学術講演会
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データ科学的手法を用いた多結晶Siインゴット中の転位クラスター生成点の解析
羽山優介、Krenckel Patricia、Trötschler Theresa、松本哲也、村松哲郎、沓掛健太朗、工藤博章、Riepe Stephan、宇佐美徳隆
第65回応用物理学会春季学術講演会
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画像処理によるフォトルミネッセンス画像における転位クラスターの検出とその最適化
田島和哉、羽山優介、村松哲郎、沓掛健太朗、松本哲也、工藤博章、宇佐美徳隆
第65回応用物理学会春季学術講演会
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PECVD法を用いたシリコン量子ドット積層構造作製におけるバリア層の構造・光学特性評価
赤石龍士郎、北沢宏平、小野聖、加藤慎也、後藤和泰、宇佐美徳隆、黒川康良
第65回応用物理学会春季学術講演会