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印刷と焼成によるシリコン系混晶半導体のエピタキシャル成長とその場観察
福田啓介, 中原正博, 深見昌吾, 宮本聡, Dhamrin Marwan, 前田健作, 藤原航三, 宇佐美徳隆
第67回 応用物理学会春季学術講演会
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機械学習を応用した画像処理による 多結晶シリコンウエハの結晶粒界検出
山腰健太, 田島和哉, 沓掛健太朗, 小島拓人, 宇佐美徳隆
第67回 応用物理学会春季学術講演会
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核反応解析法と原⼦間⼒顕微鏡を⽤いたTiOx/SiOx/Siヘテロ 構造におけるパッシベーション性能の支配要因
中川裕太, 後藤和泰, ビルデ マーカス, 小倉正平, 黒川 康良, 福谷克之, 宇佐美徳隆
第67回 応用物理学会春季学術講演会
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Fabrication of Si Textures with Low Etching Margin Using AgNO3-assisted Alkaline Solution
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多結晶材料情報学の現在地 Invited
宇佐美徳隆
アモルファス・ナノ材料と応用 第147委員会、第147回研究会 「マテリアルズインフォマティクスの活用とその課題」
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Activation energy of hydrogen effusion of high performance TiOx/SiOx/c-Si heterocontacts International conference
Kazuhiro Gotoh, Takeya Mochizuki, Tomohiko Hojo, Yasuyoshi Kurokawa, Eiji Akiyama, Noritaka Usami
MRS-J The 30th Anniversary Material Research Meeting 2019
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Activation energy of hydrogen effusion of high performance TiOx/SiOx/c-Si heterocontacts International conference
Kazuhiro Gotoh, Takeya Mochizuki, Tomohiko Hojo, Yasuyoshi Kurokawa, Eiji Akiyama, Noritaka Usami
MRS-J The 30th Anniversary Material Research Meeting 2019
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Neural Network to Determine Appropriate Thermocouple Positions in Crystal Growth Furnace International conference
Abderahmane Boucetta, Kentaro Kutsukake, Hiroaki Kudo, Tetsuya Matsumoto, Takuto Kojima, Noritaka Usami
2019 MRS Fall Meeting & Exhibit
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Role of the Interlayer in Improving Passivating Contact with Atomic Layer Deposited TiOx on Crystalline Si International conference
Takeya Mochizuki, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Takahisa Yamamoto, Tomohiko Hojo, Eiji Akiyama, Noritaka Usami
2019 MRS Fall Meeting & Exhibit
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Impact of Growth Temperature of Ge Islands on Anti-Reflection Texture Formation International conference
Van Hoang Nguyen, Yuki Kimura, Alexey Novikov, Mikhail V Shaleev, Satoru Miyamoto, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami
8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces
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Practical Growth Processes of Silicide and Germanite Thin Films for Photovoltaic and Electronic Applications International conference
Kosuke O. Hara (invited), Shuhei Takizawa, Noritaka Usami, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto
8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces
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酸化チタン/結晶シリコンヘテロ構造における水素プラズマ処理の影響
宮川晋輔, 後藤和泰, Markus Wilde,小倉正平, 黒川康良, 福谷克之, 宇佐美徳隆
第２回ハイドロジェノミクス研究会
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分光エリプソメトリーを用いた酸化チタン パッシベーション膜のポストアニール効果に関する研究
後藤和泰、 三浦裕之、 清水彩子、 宮川晋輔、 中川裕太、 黒川康良、 宇佐美徳隆
第4回フロンティア太陽電池セミナー
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ポストアニール条件がアンドープBaSi2薄膜のキャリア密度に与える影響
藤原道信, 中川慶彦, 後藤和泰, 黒川康良, 宇佐美徳隆
第2回結晶工学×ISYSE合同研究会
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不活性ガス雰囲気下での熱処理を用いたMg2Si薄膜の作製とその膜質評価
堀場一成、 藤原道信、 中川慶彦、 後藤和泰、 黒川康良、 伊藤孝至、 宇佐美徳隆
第2回結晶工学×ISYSE合同研究会
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データ科学を活用した多結晶シリコンの研究の進展 Invited
宇佐美 徳隆
日本学術振興会 結晶成長の科学と技術第161委員会第112回研究会
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Quantitative evaluation of electrical characteristics of inclined grain boundaries in multicrystalline silicon by photoluminescence imaging and finite element simulation International conference
Kazuki Mitamura, Kentaro Kutsukake, Takuto Kojima, Noritaka Usami
PVSEC-29, 29th International Photovoltaic Science and Engineering Conference
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Characterization of Silicon Quantum Dot Solar Cell with the Phosphorus Blocking Layer International conference
Ryushiro Akaishi, Kazuhiro Gotoh, Shinya Kato, Noritaka Usami, Yasuyoshi Kurokawa
PVSEC-29, 29th International Photovoltaic Science and Engineering Conference
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Impact of indium tin oxide double layers deposition on the passivation performance of a-Si:H/c-Si heterocontact International conference
Masanori Semma, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami
PVSEC-29, 29th International Photovoltaic Science and Engineering Conference
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New Analysis Method to Evaluate Amorphous/Crystalline Si Interface for High Efficiency Heterojunction Solar Cells International conference
Takefumi Kamioka, Yutaka Hayashi, Kazuhiro Gotoh, Ryo Ozaki, Motoo Morimura, Ayako Shimizu, Kyotaro Nakamura, Noritaka Usami, Yoshio Ohshita, Atsushi Ogura
PVSEC-29, 29th International Photovoltaic Science and Engineering Conference