論文 - 坂下 満男
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HfO2 Film Formation Combined with Radical Nitridation and Its Electrical Characteristic 査読有り
R. Takahashi, M. Sakashita, A. Sakai, S. Zaima, and Y. Yasuda
Jpn. J. Appl. Phys. 43 巻 頁： 7821-7825 2004年
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Growth of silicon nanocrystal dots with high number density by ultra-high vacuum chemical vapor deposition 査読有り
S. Naito, M. Satake, H. Kondo, M. Sakashita, A. Sakai, S. Zaima, and Y. Yasuda
Jpn. J. Appl. Phys. 43 巻 頁： 3779-3783 2004年