博士（工学） （ 2016年9月   名古屋大学 ） 

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名古屋大学   低温プラズマ科学研究センター   特任教授

2025年4月 - 現在

名古屋大学   低温プラズマ科学研究センター   客員教授

2023年12月 - 2025年3月

名古屋大学   工学研究科   電子情報システム専攻

2010年10月 - 2013年9月

名古屋大学   工学研究科   量子工学専攻

1997年4月 - 1999年3月

名古屋工業大学   工学部   材料工学科

1993年4月 - 1997年3月

応用物理学会

理論化学会

日本表面真空学会

Future of plasma etching for microelectronics: Challenges and opportunities 招待有り 査読有り 国際共著 Open Access

Gottlieb Oehrlein, Stephan Brandstadter, Robert Bruce, Jane Chang, Jessica DeMott, Vincent M. Donnelly, Remi Dussart, Andreas Fischer, Richard Gottscho, Satoshi Hamaguchi, Masanobu Honda, Masaru Hori, Kenji Ishikawa, Steven Jaloviar, Keren Kanarik, Kazuhiro Karahashi, Akiteru Ko, Hiten Kothari, Nobuyuki Kuboi, Mark Kushner, Thorsten Lill, Pingshan Luan, Ali Mesbah, Eric Miller, Shoubhanik Nath, Yoshinobu Ohya, Mitsuhiro Omura, Chanhoon Park, John Polouse, Shahid Rauf, Makoto Sekine, Taylor Smith, Nathan Stafford, Theo Standaert, and Peter Ventzek

Journal of Vacuum Science Technololgy B   42 巻 ( 4 ) 頁： 041501   2024年7月

An approach to reduce surface charging with cryogenic plasma etching using hydrogen-fluoride contained gases 査読有り

SN. Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, Y. Iijima, Y. Ohya, and M. Hori

Applied Physics Letters   123 巻 ( 21 ) 頁： 212106   2023年11月

Study of optical emission spectroscopy using modified Boltzmann plot in dual-frequency synchronized pulsed capacitively coupled discharges with DC bias at low-pressure in Ar/O₂/C₄F₈ plasma etching process 査読有り

B. B. Sahu, K. Nakane, K. Ishikawa, M. Sekine, T. Tsutsumi, T. Gohira, Y. Ohya, N. Ohnoad and M. Hori

Physical Chemistry Chemical Physics   22 巻   頁： 13883 - 13896   2022年5月

Spatial profiles of interelectrode electron density in direct current superposed dual-frequency capacitively coupled plasmas” 査読有り Open Access

Y. Ohya, K. Ishikawa, T. Komuro, T. Yamaguchi, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori

Journal of Physics D: Applied Physics   50 巻 ( 15 ) 頁： 155201   2017年5月

Electron behaviors in afterglow of synchronized dc-imposed pulsed Fuorocarbon-based plasmas 査読有り

T. Ueyama, Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Iwata, Y. Ohya, H. Sugai, and M. Hori

Japanese Journal of Applied Physics   56 巻 ( 6S2 ) 頁： 06HC03   2017年5月

プラズマエッチングの原理と実践

大矢欣伸

第18回インキュベーションホール  応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

原理から考える絶縁膜HARエッチング装置の発展と展望

大矢欣伸

サタデーモーニング講座  名古屋大学 低温プラズマ科学研究センター

シンクロナイズドパルス変調による高アスペクト比エッチング 招待有り

大矢欣伸

第140回研究会  日本学術振興会　プラズマ材料科学第153委員会

高アスペクト比酸化膜プラズマエッチング技術

大矢欣伸

第128回合同研究会  日本学術振興会　薄膜第131委員会・プラズマ材料科学第153委員会・半導体界面制御技術第154委員会

Clarification of a SiOF layer formed on SiO₂ under fluorocarbon plasma etching 国際会議

Y. Ohya, M. Tomura, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori

37th International Symposium on Dry Process