Organization
Center for Low-temperature Plasma Sciences (cLPS) Designated professor
Title
Designated professor
OHYA Yoshinobu
Degree 1
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Doctor of Engineering （ 2016.9 Nagoya University ）
Research Interests 1
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プラズマ診断 プラズマエッチングプロセス 半導体製造用プラズマエッチング装置
Research Areas 1
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Others / Others / プラズマ科学
Research History 2
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Nagoya University Designated professor
2025.4
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Nagoya University Visiting Professor
2023.12 - 2025.3
Education 3
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Nagoya University
2010.10 - 2013.9
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Nagoya University
1997.4 - 1999.3
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Nagoya Institute of Technology
1993.4 - 1997.3
Professional Memberships 3
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応用物理学会
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理論化学会
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日本表面真空学会
Papers 8
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Future of plasma etching for microelectronics: Challenges and opportunities Invited Reviewed International coauthorship Open Access
Gottlieb Oehrlein, Stephan Brandstadter, Robert Bruce, Jane Chang, Jessica DeMott, Vincent M. Donnelly, Remi Dussart, Andreas Fischer, Richard Gottscho, Satoshi Hamaguchi, Masanobu Honda, Masaru Hori, Kenji Ishikawa, Steven Jaloviar, Keren Kanarik, Kazuhiro Karahashi, Akiteru Ko, Hiten Kothari, Nobuyuki Kuboi, Mark Kushner, Thorsten Lill, Pingshan Luan, Ali Mesbah, Eric Miller, Shoubhanik Nath, Yoshinobu Ohya, Mitsuhiro Omura, Chanhoon Park, John Polouse, Shahid Rauf, Makoto Sekine, Taylor Smith, Nathan Stafford, Theo Standaert, and Peter Ventzek
Journal of Vacuum Science Technololgy B Vol. 42 ( 4 ) page： 041501 2024.7
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An approach to reduce surface charging with cryogenic plasma etching using hydrogen-fluoride contained gases Reviewed
SN. Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, Y. Iijima, Y. Ohya, and M. Hori
Applied Physics Letters Vol. 123 ( 21 ) page： 212106 2023.11
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Study of optical emission spectroscopy using modified Boltzmann plot in dual-frequency synchronized pulsed capacitively coupled discharges with DC bias at low-pressure in Ar/O2/C4F8 plasma etching process Reviewed
B. B. Sahu, K. Nakane, K. Ishikawa, M. Sekine, T. Tsutsumi, T. Gohira, Y. Ohya, N. Ohnoad and M. Hori
Physical Chemistry Chemical Physics Vol. 22 page： 13883 - 13896 2022.5
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Spatial profiles of interelectrode electron density in direct current superposed dual-frequency capacitively coupled plasmas” Reviewed Open Access
Y. Ohya, K. Ishikawa, T. Komuro, T. Yamaguchi, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori
Journal of Physics D: Applied Physics Vol. 50 ( 15 ) page： 155201 2017.5
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Electron behaviors in afterglow of synchronized dc-imposed pulsed Fuorocarbon-based plasmas Reviewed
T. Ueyama, Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Iwata, Y. Ohya, H. Sugai, and M. Hori
Japanese Journal of Applied Physics Vol. 56 ( 6S2 ) page： 06HC03 2017.5
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Rapid electron density decay observed by surface-wave probe in afterglow of pulsed fluorocarbon-based plasma Reviewed
Y. Ohya, M. Iwata, K. Ishikawa, M.Sekine, M.Hori, and H.Sugai
Japanese Journal of Applied Physics Vol. 55 ( 8 ) page： 080309 2016.7
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Formation of a SiOF reaction intermixing layer on SiO2 etching using C4F6/O2/Ar plasmas Reviewed
Y. Ohya, M. Tomura, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
Journal of Vacuum Science Technololgy A Vol. 34 ( 4 ) page： 040602 2016.5
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Photodetachment Study of Capacitively-Coupled RF C4F8 Plasma Reviewed
A. Kono and Y. Ohya
Japanese Journal of Applied Physics Vol. 39 page： 1365 - 1368 2000
Presentations 17
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プラズマエッチングの原理と実践
大矢欣伸
第18回インキュベーションホール 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
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原理から考える絶縁膜HARエッチング装置の発展と展望
大矢欣伸
サタデーモーニング講座 名古屋大学 低温プラズマ科学研究センター
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シンクロナイズドパルス変調による高アスペクト比エッチング Invited
大矢欣伸
第140回研究会 日本学術振興会 プラズマ材料科学第153委員会
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高アスペクト比酸化膜プラズマエッチング技術
大矢欣伸
第128回合同研究会 日本学術振興会 薄膜第131委員会・プラズマ材料科学第153委員会・半導体界面制御技術第154委員会
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Clarification of a SiOF layer formed on SiO2 under fluorocarbon plasma etching International conference
Y. Ohya, M. Tomura, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
37th International Symposium on Dry Process
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パルス変調プラズマエッチング装置における表面波プローブでの電子密度計測
大矢欣伸，岩田学，菅井秀郎
第76回応用物理学会秋季学術講演会
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ドライエッチング入門～プラズマエッチングの基礎と装置・計測技術～
大矢欣伸
電子デバイスフォーラム京都 日本電子デバイス産業協会
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装置、計測とドライエッチング技術
大矢欣伸
第24回 プラズマエレクトロニクス講習会 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
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プラズマエッチングの基礎と応用
大矢欣伸
第4回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
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2周波平行平板エッチング装置を用いたC5F8プラズマ中での電子とラジカルに与える希ガスの影響
大矢欣伸，丸山幸児，樋口公博，斉藤昌司，永関一也
プラズマ科学シンポジウム2001/第18回 プラズマプロセシング研究会
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レーザー光脱離法によるプロセスプラズマ中の負イオン密度計測
大矢欣伸，河野明廣
レーザー学会学術講演会第19回年次大会
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C4F8プラズマ中の負イオン密度計測
大矢欣伸，河野明廣
第59回応用物理学会学術講演会
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低密度RF C4F8プラズマ中の負イオン密度計測
大矢欣伸，河野明廣
電気関係学会東海支部連合大会
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開放型マイクロ波共振器を用いたプラズマ中の電子密度計測
大矢欣伸，広瀬敏，河野明廣，後藤俊夫
第45回応用物理学関係連合講演会
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RF C4F8プラズマ中の荷電粒子の振る舞い
大矢欣伸，広瀬敏，河野明廣，後藤俊夫
第15回 プラズマプロセシング研究会
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C4F8プラズマ中の電子付着速度
大矢欣伸，広瀬敏，河野明廣，後藤俊夫
第58回応用物理学会学術講演会
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低密度rf C4F8プラズマ中の電子付着速度
大矢欣伸，広瀬敏，河野明廣，後藤俊夫
電気関係学会東海支部連合大会