2024/03/28 更新

写真a

マツヤマ サトシ
松山 智至
松山 智至
所属
大学院工学研究科 附属クリスタルエンジニアリング研究センター 教授
大学院担当
大学院工学研究科
学部担当
工学部 物理工学科
職名
教授

学位 1

  1. 博士(工学) ( 2007年2月   大阪大学 ) 

研究キーワード 5

  1. 形状可変ミラー

  2. X線干渉計

  3. X線ナノビーム

  4. X線ミラー

  5. X線顕微鏡

研究分野 4

  1. ナノテク・材料 / 光工学、光量子科学  / X線光学

  2. エネルギー / 量子ビーム科学  / 放射光X線

  3. ナノテク・材料 / ナノ材料科学

  4. ナノテク・材料 / ナノバイオサイエンス

現在の研究課題とSDGs 2

  1. 高分解能X線顕微鏡の開発

  2. X線自由電子レーザーのナノ集光

経歴 3

  1. 大阪大学 工学研究科 物理学系専攻   招聘准教授

    2020年10月 - 現在

  2. 名古屋大学   大学院工学研究科 物質科学専攻 ナノ解析物質設計学   准教授

    2020年10月 - 現在

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    国名:日本国

  3. 大阪大学 工学研究科 精密科学・応用物理学専攻   助教

    2007年3月 - 2020年9月

所属学協会 3

  1. 日本光学会

    2020年11月 - 現在

  2. 精密工学会

  3. 日本放射光学会

受賞 8

  1. SPRUC 2015 Young Scientist Award

    2015年7月   SPring-8ユーザー協同体  

    松山智至

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    受賞区分:国内外の国際的学術賞  受賞国:日本国

  2. 精密工学会技術奨励賞

    2012年9月   精密工学会  

    松山智至

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    受賞区分:国内学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  3. 精密工学会技術賞

    2022年9月   精密工学会   接着剤フリーの高精度X線形状可変ミラーの実用化およびその商業展開

    一井 愛雄,城間 晋作,中森 紘基,松山 智至,井上 陽登

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    受賞区分:国内学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  4. 2017年秋季大会ベストオーガナイザー賞

    2017年9月   精密工学会  

    松山智至,湯本博勝

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    受賞区分:国内学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  5. The 24th Congress of the International Comission for Optics (ICO-24), OSA/SPIE Student Paper Award

    2017年8月   The 24th Congress of the International Comission for Optics  

    J. Yamada, S. Matsuyama, S. Yasuda, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

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    受賞国:日本国

  6. 第30回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウムJSR2017学生発表賞

    2017年1月   日本放射光学会  

    山田純平, 松山智至, 安田周平, 香村芳樹, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

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    受賞国:日本国

  7. 平成24年度コニカミノルタ画像科学奨励賞

    2013年3月   コニカミノルタ科学技術振興財団  

    松山智至

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    受賞区分:出版社・新聞社・財団等の賞  受賞国:日本国

  8. 飛翔研究フェロー(‘飛翔30’若手プログラム)

    2010年9月   大阪大学  

    松山智至

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    受賞国:日本国

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論文 138

  1. Extreme focusing of hard X-ray free-electron laser pulses enables 7 nm focus width and 1022 W cm−2 intensity 査読有り

    J. Yamada, S. Matsuyama, I. Inoue, T. Osaka, T. Inoue, N. Nakamura, Y. Tanaka, Y. Inubushi, T. Yabuuchi, K. Tono, K. Tamasaku, H. Yumoto, T. Koyama, H. Ohashi, M. Yabasih, and K. Yamauchi

    Nature Photonics     2024年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41566-024-01411-4

  2. Propagation-based phase-contrast imaging method for full-field X-ray microscopy using advanced Kirkpatrick-Baez mirrors 査読有り

    Tanaka Yuto, Yamada Jumpei, Inoue Takato, Kimura Takashi, Shimura Mari, Kohmura Yoshiki, Yabashi Makina, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto, Matsuyama Satoshi

    OPTICS EXPRESS   31 巻 ( 16 ) 頁: 26135 - 26144   2023年7月

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    担当区分:最終著者, 責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Optics Express  

    We demonstrate a propagation-based phase-contrast imaging method for full-field X-ray microscopy based on advanced Kirkpatrick-Baez (AKB) mirrors to achieve high-contrast observations of weak phase objects and correct field curvature aberrations. Through a demonstration performed at SPring-8, the phase contrast of weak phase objects such as polystyrene spheres and chemically fixed cells was successfully observed with high sensitivity (∼0.03 rad). Furthermore, the field of view of the AKB mirrors was expanded to the full area of the obtained images (25 × 30 μm) by correcting the field curvature aberration using reconstructed complex wavefields.

    DOI: 10.1364/OE.493789

    Web of Science

    Scopus

    その他リンク: https://opg.optica.org/viewmedia.cfm?URI=oe-31-16-26135&seq=0

  3. Wide field-of-view x-ray imaging optical system using grazing-incidence mirrors 査読有り

    Matsuyama Satoshi, Inoue Takato, Hata Kentaro, Iriyama Haruhito, Yamauchi Kazuto

    APPLIED OPTICS   61 巻 ( 35 ) 頁: 10465 - 10470   2022年12月

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    担当区分:筆頭著者, 責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Applied Optics  

    A field-curvature-corrected imaging optical system for x-ray microscopy using only grazing-incidence mirrors is proposed. It combines a Wolter type I (WO1) mirror pair, which forms a real image, with field curvature correction (FCC) optics—a convex hyperbolic mirror pair—that form a virtual image; compensation of the field curvatures realizes a wide field-of-view (FOV) and high magnification. Ray-tracing and wave-optics simulations verified the efficacy of the design, for which a FOV width was 111 µm—4.7 times larger than that for the uncorrected WO1 design. The addition of FCC optics also produced a 2.3-fold increase in magnification.

    DOI: 10.1364/AO.475891

    Web of Science

    Scopus

  4. X-ray adaptive zoom condenser utilizing an intermediate virtual focus 査読有り

    Matsuyama Satoshi, Yamaguchi Hiroyuki, Inoue Takato, Nishioka Yuka, Yamada Jumpei, Sano Yasuhisa, Kohmura Yoshiki, Yabashi Makina, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

    OPTICS EXPRESS   29 巻 ( 10 ) 頁: 15604 - 15615   2021年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Optics Express  

    We propose an extended X-ray adaptive zoom condenser that can form an intermediate virtual focus. The system comprises two deformable mirrors for focusing within a single dimension and can vary its numerical aperture (NA) without changing the positions of the light source, mirrors, or final focus. The desired system NA is achieved simply by controlling the mirror surfaces, which enables conversion between convex and concave forms, by varying the position of the intermediate virtual focus. A feasibility test at SPring-8 under a photon energy of 10 keV demonstrated that the beam size can be varied between 134 and 1010 nm.

    DOI: 10.1364/OE.422723

    Web of Science

    Scopus

    PubMed

    その他リンク: https://www.osapublishing.org/viewmedia.cfm?URI=oe-29-10-15604&seq=0

  5. Generation of an X-ray nanobeam of free electron laser using reflective optics with speckle interferometry 査読有り

    T. Inoue, S. Matsuyama, J. Yamada, N. Nakamura, T. Osaka, I. Inoue, Y. Inubushi, K. Tono, H. Yumoto, T. Koyama, H. Ohashi, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    Journal of Synchrotron Radiation   27 巻 ( 4 ) 頁: 883 - 889   2020年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1107/S1600577520006980

    Web of Science

    PubMed

  6. Full-field X-ray fluorescence microscope based on total-reflection advanced Kirkpatrick-Baez mirror optics 査読有り

    S. Matsuyama, J. Yamada, Y. Kohmura, M. Yambashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    Optics Express   27 巻 ( 13 ) 頁: 18318 - 18328   2019年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1364/OE.27.018318

    Scopus

    PubMed

  7. Compact reflective imaging optics in hard X-ray region based on concave and convex mirrors 査読有り

    J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    Optics Express   27 巻 ( 3 ) 頁: 3429 - 3438   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1364/oe.27.003429

    Scopus

    PubMed

  8. Nanofocusing of X-ray free-electron laser using wavefront-corrected multilayer focusing mirrors 査読有り

    S. Matsuyama, T. Inoue, J. Yamada, J. Kim, H. Yumoto, Y. Inubushi, T. Osaka, I. Inoue, T. Koyama, K. Tono, H. Ohashi, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    Scientific Reports   8 巻   2018年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-018-35611-0

    Web of Science

  9. A lipid index for risk of hyperlipidemia caused by anti-retroviral drugs. 査読有り

    Shimura M, Higashi-Kuwata N, Fujiwara A, Taniguchi M, Ichinose T, Hamano F, Uematsu M, Inoue T, Matsuyama S, Suzuki T, Ghosh AK, Shindou H, Shimuzu T, Mitsuya H

    Antiviral research   223 巻   頁: 105819   2024年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Antiviral Research  

    HIV-associated lipodystrophy has been reported in people taking anti-retroviral therapy (ART). Lipodystrophy can cause cardiovascular diseases, affecting the quality of life of HIV-infected individuals. In this study, we propose a pharmacological lipid index to estimate the risk of hyperlipidemia caused by anti-retroviral drugs. Lipid droplets were stained in cells treated with anti-retroviral drugs and cyclosporin A. Signal intensities of lipid droplets were plotted against the drug concentrations to obtain an isodose of 10 μM of cyclosporin A, which we call the Pharmacological Lipid Index (PLI). The PLI was then normalized by EC50. PLI/EC50 values were low in early proteinase inhibitors and the nucleoside reverse transcriptase inhibitor, d4T, indicating high risk of hyperlipidemia, which is consistent with previous findings of hyperlipidemia. In contrast, there are few reports of hyperlipidemia for drugs with high PLI/EC50 scores. Data suggests that PLI/EC50 is a useful index for estimating the risk of hyperlipidemia.

    DOI: 10.1016/j.antiviral.2024.105819

    Scopus

    PubMed

  10. Ultimate condensation of hard X-ray free-electron laser reaching single-nanometre focus size and 1022 W/cm2 intensity

    Jumpei Yamada, Satoshi Matsuyama, Ichiro Inoue, Taito Osaka, Takato Inoue, Nami Nakamura, Yuto Tanaka, Yuichi Inubushi, Toshinori Yabuuchi, Kensuke Tono, Kenji Tamasaku, Hirokatsu Yumoto, Takahisa Koyama, Haruhiko Ohashi, Makina Yabashi, Kazuto Yamauchi

        2023年10月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.21203/rs.3.rs-3384984/v1

  11. Femtosecond Reduction of Atomic Scattering Factors Triggered by Intense X-Ray Pulse. 査読有り

    Inoue I, Yamada J, Kapcia KJ, Stransky M, Tkachenko V, Jurek Z, Inoue T, Osaka T, Inubushi Y, Ito A, Tanaka Y, Matsuyama S, Yamauchi K, Yabashi M, Ziaja B

    Physical review letters   131 巻 ( 16 ) 頁: 163201   2023年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Physical Review Letters  

    X-ray diffraction of silicon irradiated with tightly focused femtosecond x-ray pulses (photon energy, 11.5 keV; pulse duration, 6 fs) was measured at various x-ray intensities up to 4.6×1019 W/cm2. The measurement reveals that the diffraction intensity is highly suppressed when the x-ray intensity reaches of the order of 1019 W/cm2. With a dedicated simulation, we confirm that the observed reduction of the diffraction intensity can be attributed to the femtosecond change in individual atomic scattering factors due to the ultrafast creation of highly ionized atoms through photoionization, Auger decay, and subsequent collisional ionization. We anticipate that this ultrafast reduction of atomic scattering factor will be a basis for new x-ray nonlinear techniques, such as pulse shortening and contrast variation x-ray scattering.

    DOI: 10.1103/PhysRevLett.131.163201

    Scopus

    PubMed

    その他リンク: http://harvest.aps.org/v2/journals/articles/10.1103/PhysRevLett.131.163201/fulltext

  12. ニオブ酸リチウムを用いた大変形可能なX線形状可変ミラーの開発

    吉水 純弥, 井上 陽登, 加納 愛彩, 中林 荘太, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2023A 巻 ( 0 ) 頁: 572 - 572   2023年8月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(研究会,シンポジウム資料等)   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>X線ビームサイズを制御できる光学システムは未だ実用化されておらず,高精度な形状可変ミラーが注目されている.これまでにニオブ酸リチウム(LN)を用いた高安定なミラーを開発したが,圧電定数が小さいため,このままではビームサイズの大幅な変化は見込めない.これを解決するために,LNの分極反転特性を活かしたバイモルフミラーを開発した.本発表では,X線波面計測法に基づき変形性能を評価した結果について報告する. </p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2023a.0_572

    CiNii Research

  13. 試料回転を用いたブラインドデコンボリューション手法の開発

    栗本 晋之介, 井上 陽登, 伊藤 俊希, 伊藤 颯希, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2023A 巻 ( 0 ) 頁: 579 - 579   2023年8月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(研究会,シンポジウム資料等)   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>Advanced Kirkpatrick-Baezミラーを用いた結像型X線顕微鏡は,高空間分解能な観察を高効率かつ色収差なく行えるという利点を持つ.一方で,アライメントの難易度やミラーに要求される形状精度が高く,未知のアライメント誤差及びミラー形状誤差により生じる光学収差が更なる高空間分解能化を律速させている.本講演では,試料を面内回転させることで未知の光学収差を分離可能な新規手法を提案する.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2023a.0_579

    CiNii Research

  14. 単結晶圧電素子ベース形状可変ミラーを用いたアダプティブ結像型X線顕微鏡の開発

    中林 荘太, 井上 陽登, 伊藤 颯希, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2023A 巻 ( 0 ) 頁: 576 - 576   2023年8月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(研究会,シンポジウム資料等)   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>結像型X線顕微鏡の超高空間分解能5nmを達成するためには,1nm PV以上の形状精度を満たすX線ミラーが必要である.しかし,その精度は現代の加工技術では達成不可能である.この問題を解決するため,単結晶圧電素子であるニオブ酸リチウムを利用した形状可変ミラーに基づくアダプティブ結像型X線顕微鏡を開発している.本発表では,開発した補償光学系を構築し,SPring-8にて実証実験を行った結果について報告する.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2023a.0_576

    CiNii Research

  15. Zinc and iron dynamics in human islet amyloid polypeptide-induced diabetes mouse model 査読有り

    Fukunaka Ayako, Shimura Mari, Ichinose Takayuki, Pereye Ofejiro B., Nakagawa Yuko, Tamura Yasuko, Mizutani Wakana, Inoue Ryota, Inoue Takato, Tanaka Yuto, Sato Takashi, Saitoh Tatsuya, Fukada Toshiyuki, Nishida Yuya, Miyatsuka Takeshi, Shirakawa Jun, Watada Hirotaka, Matsuyama Satoshi, Fujitani Yoshio

    SCIENTIFIC REPORTS   13 巻 ( 1 ) 頁: 3484   2023年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Scientific Reports  

    Metal homeostasis is tightly regulated in cells and organisms, and its disturbance is frequently observed in some diseases such as neurodegenerative diseases and metabolic disorders. Previous studies suggest that zinc and iron are necessary for the normal functions of pancreatic β cells. However, the distribution of elements in normal conditions and the pathophysiological significance of dysregulated elements in the islet in diabetic conditions have remained unclear. In this study, to investigate the dynamics of elements in the pancreatic islets of a diabetic mouse model expressing human islet amyloid polypeptide (hIAPP): hIAPP transgenic (hIAPP-Tg) mice, we performed imaging analysis of elements using synchrotron scanning X-ray fluorescence microscopy and quantitative analysis of elements using inductively coupled plasma mass spectrometry. We found that in the islets, zinc significantly decreased in the early stage of diabetes, while iron gradually decreased concurrently with the increase in blood glucose levels of hIAPP-Tg mice. Notably, when zinc and/or iron were decreased in the islets of hIAPP-Tg mice, dysregulation of glucose-stimulated mitochondrial respiration was observed. Our findings may contribute to clarifying the roles of zinc and iron in islet functions under pathophysiological diabetic conditions.

    DOI: 10.1038/s41598-023-30498-y

    Web of Science

    Scopus

    PubMed

  16. X線フーリエタイコグラフィによる超解像イメージング

    伊藤 俊希, 栗本 晋之介, 田中 優人, 井上 陽登, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2023S 巻 ( 0 ) 頁: 680 - 680   2023年3月

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    担当区分:最終著者, 責任著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>ミラーを用いた結像型X線顕微鏡は色収差がなく、効率も高いといった特徴を持っている。一方でミラーの製作難度は非常に高く、技術的観点からさらなる高分解能化は非常に難しい。そこで我々は、合成開口および光学収差の分離による分解能向上を見込めるフーリエタイコグラフィに着目した。ミラーを用いたX線顕微鏡像にこれを適用することで、結像システムの回折限界を超える空間分解能で試料像を得ることを試みた。</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2023s.0_680

    CiNii Research

  17. 高空間周波数形状制御可能な新規構造の形状可変ミラーの開発

    加納 愛彩, 井上 陽登, 中林 荘太, 上松 航太, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2023S 巻 ( 0 ) 頁: 683 - 683   2023年3月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>ミラーベースの結像型X線顕微鏡は優れた性能を有しており,更なる高分解能化が期待されている.そのためには,高精度なミラーが不可欠だが,もはや現行の加工技術では満足できない.この問題を解決するために,ニオブ酸リチウム(LN)製の形状可変ミラーを開発している.本発表では,変形可能な空間周波数を更に向上させるために開発した,複数枚のLNを積層させた新規構造ミラーについて報告する.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2023s.0_683

    CiNii Research

  18. 単結晶圧電素子を用いた大変形可能なX線形状可変ミラーの開発

    吉水 純弥, 井上 陽登, 中林 荘太, 上松 航太, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2023S 巻 ( 0 ) 頁: 684 - 684   2023年3月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>X線複合分析を実現するために,X線ビームサイズを変えられる光学システムが求められており,形状可変ミラーが注目されている.これまでにニオブ酸リチウム(LN)を用いた高安定なミラーを実現した.一方で,変形量が小さいため,ビームサイズを大きく変えることができない.この問題を解決するために,LNの分極反転特性に着目した.本発表では,約1100℃でアニールしたLNミラーの基礎検討結果を報告する.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2023s.0_684

    CiNii Research

  19. タイコグラフィを用いたXFEL sub-10nm集光光学系のビーム径計測

    塩井 康太, 山田 純平, 伊藤 篤輝, 田中 優人, 松山 智至, 井上 陽登, 大坂 泰斗, 井上 伊知郎, 犬伏 雄一, 矢橋 牧名, 石川 哲也, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2023S 巻 ( 0 ) 頁: 678 - 679   2023年3月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>我々は硬X線FELにおける10<sup>22</sup> W/cm<sup>2</sup>強度の達成のために sub-10 nm集光光学系を開発している.極微小な集光径評価のためには,デフォーカス位置におけるタイコグラフィ法が適用可能であるが,低次波面収差と照射位置誤差がどちらも存在する場合に,誤った解に収束することが問題となっていた.本研究では,複数のデフォーカス位置での計測手法・再構成アルゴリズムを新たに開発し,SACLA BL3にて実証実験を行った結果について報告する.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2023s.0_678

    CiNii Research

  20. X線顕微鏡のためのin-situ波面計測法の開発

    伊藤 颯希, 田中 優人, 中林 荘太, 上松 航太, 井上 陽登, 栗本 晋之介, 青戸 仁志, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2023S 巻 ( 0 ) 頁: 687 - 687   2023年3月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>ミラーベースX線顕微鏡の更なる高分解能化のためには,ミラーの高精度化が求められるが,加工技術の限界が近づいている.これを解決するために,形状可変ミラーとin-situ波面計測法を組み合わせたアダプティブ顕微鏡の開発を進めている.フレネルゾーンプレートの集光点を用いた波面計測法と,その応用であるテストチャートのエッジの回折光を用いた波面計測法を提案し,その実証実験を行った.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2023s.0_687

    CiNii Research

  21. 接着剤フリー高精度X線形状可変ミラーの実用化およびその商業展開

    一井 愛雄, 城間 晋作, 中森 紘基, 井上 陽登, 松山 智至

    精密工学会誌   89 巻 ( 2 ) 頁: 147 - 152   2023年2月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    DOI: 10.2493/jjspe.89.147

    CiNii Research

  22. 「接着剤フリー高精度X線形状可変ミラーの実用化およびその商業展開」にまつわる話

    一井 愛雄, 城間 晋作, 中森 紘基, 井上 陽登, 松山 智至

    精密工学会誌   89 巻 ( 2 ) 頁: 157 - 158   2023年2月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    DOI: 10.2493/jjspe.89.157

    CiNii Research

  23. 教師なし学習によるX線顕微鏡画像群からの波面を推定する手法の開発

    青戸 仁志, 井上 陽登, 栗本 晋之介, 田中 優人, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2022A 巻 ( 0 ) 頁: 74 - 74   2022年8月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>超高分解能なアダプティブX線顕微鏡の実現を目指し,顕微鏡上にてin-situでの波面計測を行う技術の開発を進めた.機械学習を用いて既知試料の顕微鏡像から波面を推定する手法を提案した.計算と実験のそれぞれで得た二種類の顕微鏡像を機械学習の入力とし用い,本手法の実現可能性を検証した.この結果,両者とも推定波面から再現した顕微鏡像とインプットした顕微鏡像がよく一致し,本手法の有効性を示すことができた.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2022a.0_74

    CiNii Research

  24. フーリエタイコグラフィに基づいたX線波面計測法の開発

    栗本 晋之介, 井上 陽登, 青戸 仁志, 田中 優人, 山田 純平, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2022A 巻 ( 0 ) 頁: 73 - 73   2022年8月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>形状可変ミラーを用いたアダプティブ波面修正により,超高分解能な結像型X線顕微鏡の実現に挑戦している.そのためには,拡大結像配置のままin-situにX線波面を計測できる手法が必要であるが,未だその手法は確立されていない.本研究ではフーリエタイコグラフィに基づいた波面計測法を提案し,本手法により拡大結像配置において高精度なin-situ X線波面計測が可能であることを実証した.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2022a.0_73

    CiNii Research

  25. ニオブ酸リチウム単結晶を用いたX線用形状可変ミラーの開発

    中林 荘太, 井上 陽登, 上松 航太, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2022A 巻 ( 0 ) 頁: 72 - 72   2022年8月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>空間分解能5nmを持つX線顕微鏡の達成には,1nm以上の形状精度を有するX線ミラーが必要である.そこで我々はニオブ酸リチウムを用いた形状可変ミラーを開発した.単結晶圧電体であるため,逆圧電効果により高精度に変形できるだけでなく,高い安定性とヒステリシスフリーを実現できる.本発表では楕円凹面の形状可変ミラーを組み込んだアダプティブAdvanced KBミラー光学系を構築し,SPring-8にてX線波面補償を行った結果について報告する.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2022a.0_72

    CiNii Research

  26. The new X-ray/visible microscopy MAXWELL technique for fast three-dimensional nanoimaging with isotropic resolution 査読有り 国際共著

    Kohmura Yoshiki, Yang Shun-Min, Chen Hsiang-Hsin, Takano Hidekazu, Chang Chia-Ju, Wang Ya-Sian, Lee Tsung-Tse, Chiu Ching-Yu, Yang Kai-En, Chien Yu-Ting, Hu Huan-Ming, Su Tzu-Ling, Petibois Cyril, Chen Yi-Yun, Hsu Cheng-Huan, Chen Peilin, Hueng Dueng-Yuan, Chen Shean-Jen, Yang Chi Lin, Chin An-Lun, Low Chian-Ming, Tan Francis Chee Kuan, Teo Alvin, Tok Eng Soon, Cai Xu Xiang, Lin Hong-Ming, Boeckl John, Stampfl Anton P., Yamada Jumpei, Matsuyama Satoshi, Ishikawa Tetsuya, Margaritondo Giorgio, Chiang Ann-Shyn, Hwu Yeukuang

    SCIENTIFIC REPORTS   12 巻 ( 1 ) 頁: 9668   2022年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Scientific Reports  

    Microscopy by Achromatic X-rays With Emission of Laminar Light (MAXWELL) is a new X-ray/visible technique with attractive characteristics including isotropic resolution in all directions, large-volume imaging and high throughput. An ultrathin, laminar X-ray beam produced by a Wolter type I mirror irradiates the sample stimulating the emission of visible light by scintillating nanoparticles, captured by an optical system. Three-dimensional (3D) images are obtained by scanning the specimen with respect to the laminar beam. We implemented and tested the technique with a high-brightness undulator at SPring-8, demonstrating its validity for a variety of specimens. This work was performed under the Synchrotrons for Neuroscience—an Asia–Pacific Strategic Enterprise (SYNAPSE) collaboration.

    DOI: 10.1038/s41598-022-13377-w

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  27. Optimal deformation procedure for hybrid adaptive x-ray mirror based on mechanical and piezo-driven bending system (vol 92, 123706, 2021) 査読有り 国際共著

    Inoue Takato, Nishioka Yuka, Matsuyama Satoshi, Sonoyama Junki, Akiyama Kazuteru, Nakamori Hiroki, Ichii Yoshio, Sano Yasuhisa, Shi Xianbo, Shu Deming, Wyman Max D., Harder Ross, Kohmura Yoshiki, Yabashi Makina, Assoufid Lahsen, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

    REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS   93 巻 ( 4 ) 頁: 123706   2022年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Review of Scientific Instruments  

    On page 123706-2 and Fig. 1(b) in our paper,1 we show a schematic of a bimorph mirror with piezoelectric actuators mounted on the side faces of the bulky substrate which are perpendicular to the reflecting surface. This design was described in a patent by Carre2 and tested by Alcock et al. (2015).3 In the present work, the resulting bimorph mirror from this design was integrated into a mechanical bender system for study as a hybrid deformable mirror system.

    DOI: 10.1063/5.0092976

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  28. 高空間分解能な結像型X線顕微鏡のためのin-situ波面計測法の開発

    田中 優人, 松山 智至, 井上 陽登, 山田 純平, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 表 和彦, 石川 哲也, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2022S 巻 ( 0 ) 頁: 119 - 119   2022年3月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>ミラーベースの結像型X線顕微鏡はスループットや色収差の点で優れているが,高空間分解能観察を行う上ではミラーの許容形状誤差が小さくなる.修正すべき形状誤差を波面に基づき計測する手法の開発が求められていたが,現行の手法では大開口ミラー全体の波面が計測できなかった.そこで本研究ではミラーの異なる位置の波面を求め,スティッチングする手法を提案した.概念実証実験によりミラー全体の波面は矛盾なく求められた.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2022s.0_119

    CiNii Research

  29. 機械学習を用いたX線顕微鏡像からの波面推定

    青戸 仁志, 田中 優人, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2022S 巻 ( 0 ) 頁: 114 - 115   2022年3月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>結像型X線顕微鏡上でin-situに波面計測を行う技術が実現すれば,アダプティブX線顕微鏡によるさらなる高分解能化が可能である.本研究では,機械学習により顕微鏡から得られた画像から波面を推定する手法の開発を行った.情報量の多いコヒーレント結像の画像を用いて,顕微鏡画像と波面のゼルニケ係数との関係を学習させた.学習済みモデルは顕微鏡画像のみからゼルニケ係数を予想することができた.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2022s.0_114

    CiNii Research

  30. 単結晶圧電素子を用いた形状可変ミラーの開発

    上松 航太, 中林 荘太, 井上 陽登, 松山 智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2022S 巻 ( 0 ) 頁: 116 - 116   2022年3月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>高分解能な結像型X線顕微鏡を実現するためには、より高精度な光学素子が必要となる。しかし、光学素子の作製精度は限界に達しており、この問題解決のため形状可変ミラーの導入を進めている。これまでの形状可変ミラーは、高空間周波数の形状が制御不能、圧電素子由来の不安定性などの欠点を有する。そこで、本研究では単結晶圧電素子を用いた新構造の形状可変ミラーを提案、試作し、性能評価を実施した。</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2022s.0_116

    CiNii Research

  31. ニオブ酸リチウム単結晶を用いたX線用形状可変ミラーの開発

    中林 荘太, 松山 智至, 上松 航太

    精密工学会学術講演会講演論文集   2022S 巻 ( 0 ) 頁: 661 - 661   2022年3月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>X線領域では、高精度な光学素子が必要とされる。しかし、その作成難易度は限界(1nm)に到達しつつあり、これら光学素子によって乱された波面を形状可変ミラーによって修正する戦略が今後重要となる。本研究では、単結晶圧電素子であるニオブ酸リチウムを用いた極シンプルな形状可変ミラーを試作した。SPring-8にてX線波面計測を試みたところ、試作した形状可変ミラーが意図したとおり変形できることを確認した。</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2022s.0_661

    CiNii Research

  32. Preparation of highly planarized optical surface on Si substrate via catalyst-referred etching

    Itagaki K., Toh D., Van Bui P., Matsuyama S., Yamauchi K., Sano Y.

    European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 22nd International Conference and Exhibition, EUSPEN 2022     頁: 105 - 106   2022年

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    記述言語:英語   出版者・発行元:European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 22nd International Conference and Exhibition, EUSPEN 2022  

    In recent years, crystalline silicon (Si) has been used as a promising material for precision X-ray mirrors and Bragg optics. These devices require extremely well-ordered surfaces without crystallographic damage. Thus, we applied an ultra-precision polishing method called catalyst-referred etching (CARE) to planarize crystalline Si substrates. CARE is a catalyzed chemical etching method that uses pure water as an etchant and a catalytic pad that promotes the designed reactions. Owing to its abrasive-free nature, the polished surface reaches an atomic-level smoothness suitable for application to excellent optical devices, particularly in the X-ray regime. Understanding the mechanism of this method is essential for its wide practical application. CARE has been successfully applied to silicon dioxide (SiO2) optical glasses, and the removal mechanism has been clarified to be an indirect hydrolysis reaction using first-principles calculations. In the case of Si CARE, because Si is easily oxidized by dissolved oxygen (DO) in pure water, the removal pathway may involve oxidation reactions, which may be similar to the removal mechanism of SiO2CARE. Clarifying the role of DO is essential for understanding the mechanism of Si CARE. In this study, we evaluated the processing characteristics under different DO concentrations and investigated whether the accompanying oxidation induced by DO is critically required. It was observed that Si CARE does not require oxidation. The surface roughness was observed to be drastically improved in low-DO water. We conclude that the etching mechanism of Si CARE is different from that of SiO2CARE. Thus, a first-principles investigation is possible, except for the O2molecule from relevant reactions.

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  33. Planarization of polymer materials using catalytic reaction in pure water

    Takeda K., Toh D., Van Bui P., Matsuyama S., Yamauchi K., Sano Y.

    European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 22nd International Conference and Exhibition, EUSPEN 2022     頁: 111 - 112   2022年

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    記述言語:英語   出版者・発行元:European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 22nd International Conference and Exhibition, EUSPEN 2022  

    In recent years, polymer materials with excellent properties, such as chemical resistance, heat resistance, and high insulation, have been produced. These materials have been widely used in advanced devices. For example, polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), and polyimide (PI) are used as insulating films in microelectromechanical systems (MEMSs), and polytetrafluoroethylene (PTFE) is a promising substrate for next-generation high-frequency devices exceeding 5G. To exploit the excellent properties of these polymer materials, well-ordered surfaces are required. However, because polymer materials are extremely soft, conventional polishing methods that use abrasives cannot produce a damage-free surface. We present an abrasive-free polishing technique called catalyst-referred etching (CARE). In this method, the top surface of the workpiece is preferentially removed via an indirect hydrolysis reaction promoted by a metal catalyst. The surfaces of the amorphous and single-crystalline samples processed using CARE exhibited atomic flatness. We discuss the polishing characteristics and material removal mechanisms of polymers in CARE. The PC and PMMA were polished using Pt and pure water as the catalyst and etchant, respectively. An atomically smooth surface, which could not be fabricated by mechanical polishing, was obtained. Based on observations of the surface, the removal mechanism was estimated as follows. Molecule chains entangle to form clusters that constitute the surface of the polymer and determine the surface roughness. In CARE, the top of this cluster was selectively removed, forming a flat surface similar to that obtained on a single-crystalline polymer material. Therefore, CARE is a promising polishing method for polymer materials.

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  34. Fabrication of an atomically smooth polycrystalline surface without grain boundary steps using catalyst-referred etching

    Toh D., Van Bui P., Matsuyama S., Sano Y., Yamauchi K.

    European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 22nd International Conference and Exhibition, EUSPEN 2022     頁: 273 - 274   2022年

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    記述言語:英語   出版者・発行元:European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 22nd International Conference and Exhibition, EUSPEN 2022  

    Recently, polycrystalline material can express its excellent physical properties and has been used in advanced applications in semiconductors and optics. Similar to single crystal materials, to fully exploit the properties of polycrystalline material in devices, a flat surface on the atomic level is required. However, since the polycrystalline material surface has various crystal orientations, the grain boundary steps appear on the surface polished by CMP (chemical mechanical polishing). Thus, new polishing technology needs to be developed. The following two conditions are required to obtain atomically well-ordered polycrystalline material surfaces: 1) The polishing pad must always act as a reference flat to selectively remove the crystal grain located at the topmost of the sample surface. 2) The material removal must proceed via a chemical etching to avoid crystallographic damages. Therefore, we developed a chemical etching method assisted by a metal catalyst named catalyst-referred etching (CARE). In this method, a polishing pad with a catalyst thin film works as a reference plane to be copied onto the workpiece surface. A workpiece is pressed to the polishing pad in an etchant, and they rotate around their axes. Accordingly, only the grain located at the topmost site frequently contacts the catalyst and is preferentially removed chemically, leading to obtaining a damage-free surface without grain boundary steps. In this study, we demonstrated the possibility of realizing the atomically flat polycrystalline surface by applying the CARE. Polycrystalline SiC and YAG ceramics were processed using Ru catalyst and a solution having neutral pH as a catalyst and an etchant, respectively. Using this method, we obtained an extremely smooth surface with a grain boundary step less than 1 nm without introducing crystallographic damage.

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  35. XFEL single-nanometer focusing system at SACLA

    Yamada J., Matsuyama S., Inoue T., Ito A., Inoue I., Osaka T., Inubushi Y., Yumoto H., Koyama T., Ohashi H., Yamauchi K., Yabashi M.

    Optics InfoBase Conference Papers     2022年

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    記述言語:英語   出版者・発行元:Optics InfoBase Conference Papers  

    A sub-10 nm focusing mirror system for the XFEL has been developed to generate an ultra-intense X-ray laser field. For the sub-10 nm focusing optic, an advanced Kirkpatrick-Baez mirror system based on Wolter-type III geometry has been adopted. The mirrors were fabricated based on a strategy of X-ray wavefront correction. As the results of the performance test at SACLA, we confirmed nearly diffraction-limited wavefront accuracy, 7 nm focusing spot size, more than 10 hours stability, and ~1022 W/cm2 intensity.

    DOI: 10.1364/CLEOPR.2022.CWP19B_01

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  36. High-throughput deterministic plasma etching using array-type plasma generator system 査読有り

    Sano Yasuhisa, Nishida Ken, Asada Ryohei, Okayama Shinya, Toh Daisetsu, Matsuyama Satoshi, Yamauchi Kazuto

    REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS   92 巻 ( 12 ) 頁: 125107 - 125107   2021年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Review of Scientific Instruments  

    A deterministic processing method is a high-precision finishing method, where the to-be-removed amount of material at each point of the work surface is calculated based on an accurately measured present surface shape and is removed precisely using a numerically controlled (NC) processing system. Although this method has achieved nanometer-scale accuracy, the method requires considerable time to scan the work surface, leading to low productivity. Therefore, using an individual on-off controllable array-type plasma generator covering the entire work surface, enabling simultaneous NC plasma processing is proposed herein. A novel intermittent gas flow system was constructed using cyclic on-off control of the gas supply and exhaust valves instead of the commonly used continuous gas flow to achieve uniform in-plane plasma etching. It was found that uniform removal could be achieved by combining it with a pulse-modulated high-frequency power supply and setting the plasma generation time in one cycle to be sufficiently short. Furthermore, a power control approach was developed for maintaining a constant plasma state, even while varying the plasma-generating array elements, which resulted in a demonstration experiment of NC plasma etching that successfully reduced the thickness variation of a silicon substrate.

    DOI: 10.1063/5.0071623

    Web of Science

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  37. Optimal deformation procedure for hybrid adaptive x-ray mirror based on mechanical and piezo-driven bending system 査読有り 国際共著

    Inoue Takato, Nishioka Yuka, Matsuyama Satoshi, Sonoyama Junki, Akiyama Kazuteru, Nakamori Hiroki, Ichii Yoshio, Sano Yasuhisa, Shi Xianbo, Shu Deming, Wyman Max D., Harder Ross, Kohmura Yoshiki, Yabashi Makina, Assoufid Lahsen, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

    REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS   92 巻 ( 12 ) 頁: 123706 - 123706   2021年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Review of Scientific Instruments  

    A hybrid deformable x-ray mirror consisting of a mechanical bender and a bimorph deformable mirror has been developed to realize adaptive optical systems, such as zoom condenser optics, for synchrotron-radiation-based x-ray microscopy. In the developed system, both bending mechanisms comprehensively contribute to the formation of the target mirror shape and can narrow the role of piezoelectric actuators, thereby enabling a more stable operation. In this study, the behavior of the bimorph mirror under the clamped condition was investigated, and the sharing of the deformation amount for each bending mechanism was optimized to minimize the amplitude of the voltage distribution of the bimorph mirror.

    DOI: 10.1063/5.0070465

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    その他リンク: https://aip.scitation.org/doi/pdf/10.1063/5.0070465

  38. 触媒表面基準エッチング法を用いた粒界段差フリーな超平滑多結晶材料表面の作製

    藤 大雪, Bui Van Pho, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2021A 巻 ( 0 ) 頁: 115 - 116   2021年9月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    多結晶材料の平坦化を目的とし触媒金属および純水のみを用いる触媒表面基準エッチング法の利用を提案する.本手法は基準面を有する化学エッチングで試料の凸部のみを優先的にエッチングするため,ランダムな結晶方位を有する多結晶材料表面においても,超平滑な表面を取得できる.加工試料に多結晶SiC,YAGセラミクスを準備し,本手法を適応したところ,本手法の加工特性によって粒界段差のない,原子レベルで平滑な表面を実現した.

    DOI: 10.11522/pscjspe.2021a.0_115

    CiNii Research

  39. 結像型X線顕微鏡における位相イメージング手法の開発

    田中 優人, 松山 智至, 井上 陽登, 山田 純平, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 石川 哲也, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2021A 巻 ( 0 ) 頁: 546 - 547   2021年9月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>結像型X 線顕微鏡では,試料の高空間分解能な像がリアルタイムに得られる.しかし,本顕微鏡では,コントラストの低い吸収コントラスト像しか直接観察できないことから,高いコントラストを持つ位相コントラスト像の獲得が望まれる.本研究では,様々なデフォーカス位置における試料の吸収コントラスト像を用いて,位相コントラスト像を得る手法を提案した. SPring-8 BL29XUでの実験を通して本手法の有用性を実証した.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2021a.0_546

    CiNii Research

  40. 圧電素子駆動型形状可変ミラーを用いたX線sub-5 nm集光システムの開発(第2報)

    井上 陽登, 松山 智至, 田中 優人, 二村 浩平, 一井 愛雄, 山田 純平, 佐野 泰久, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 石川 哲也, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2021A 巻 ( 0 ) 頁: 545 - 545   2021年9月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>大型放射光施設が発振する高強度X線をより小さく集光することで,高光子密度を活かしたX線非線形光学や,小さなスポット径を利用したナノ構造解析の発展が期待される.求める集光径が小さくなるほどミラーに必要な形状精度は厳しくなる.そこで我々は中周期以上の形状を形状可変ミラーで,短周期形状を差分成膜法で修正するハイブリッド波面補償を導入した.本システムを用いることで,回折限界集光条件を満たすことに成功した.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2021a.0_545

    CiNii Research

  41. Hard X-ray nanoprobe scanner 査読有り

    Yamada Jumpei, Inoue Ichiro, Osaka Taito, Inoue Takato, Matsuyama Satoshi, Yamauchi Kazuto, Yabashi Makina

    IUCRJ   8 巻 ( Pt 5 ) 頁: 713 - 718   2021年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1107/S2052252521007004

    Web of Science

    PubMed

  42. はじめての放射光X線実験

    松山 智至

    精密工学会誌   87 巻 ( 7 ) 頁: 7_618 - 7_621   2021年7月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    DOI: 10.2493/jjspe.87.7_618

    CiNii Research

  43. 圧電素子駆動型形状可変ミラーを用いたX線sub-5nm集光システムの開発

    井上 陽登, 松山 智至, 田中 優人, 二村 浩平, 一井 愛雄, 山田 純平, 佐野 泰久, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 石川 哲也, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2021S 巻 ( 0 ) 頁: 668 - 668   2021年3月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>大型放射光施設が発振する高強度X線をより小さく集光することで,高光子密度を活かしたX線非線形光学や,小さなスポット径を利用したナノ構造解析の発展が期待される.求める集光径が小さくなるほどミラーに必要な形状精度は厳しくなる.そこで我々は形状可変ミラーを導入し,有限要素法を用いて修正可能な形状を計算した.6周期までの正弦波型の初期形状誤差がPV-3 nm以上存在した場合においても修正可能であることがわかった.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2021s.0_668

    CiNii Research

  44. 複数の凸面鏡を持つ高度な硬X線結像光学系の開発(第一報)

    松山 智至, 波多 健太郎, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2021S 巻 ( 0 ) 頁: 672 - 672   2021年3月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>4枚のミラーから成るAdvanced Kirkpatrick-Baezミラーは硬X線領域における有望な結像光学系である.我々は様々な光学系を実際に開発し,30nmの空間分解能を持つX線顕微鏡をすでに実現した.この光学系に複数の凸面鏡を組み入れることで,さらに高度な光学系が構築可能であることを見出した.本発表では,いくつかの設計例とシミュレーションを示し,結像特性について調査した結果を示す.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2021s.0_672

    CiNii Research

  45. 結像型X線顕微鏡における波面計測手法の開発

    田中 優人, 松山 智至, 井上 陽登, 中村 南美, 山田 純平, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 表 和彦, 石川 哲也, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2021S 巻 ( 0 ) 頁: 671 - 671   2021年3月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    <p>X線ミラーを用いた結像型X線顕微鏡は,色収差が無くスループットが高い点で優れているが,許容アライメント誤差が厳しく,高空間分解能画像を得るためには,拡大結像配置にて光学素子由来の波面収差を計測しなければならない.我々は,フレネルゾーンプレートの集光点を試料とし,その拡大像を複数枚取得した上で反復的位相回復計算を施すことで波面を計測した.本手法を用いてアライメントを調整し,空間分解能23 nmを達成した.</p>

    DOI: 10.11522/pscjspe.2021s.0_671

    CiNii Research

  46. High-speed etching of silicon carbide wafer using high-pressure SF6 plasma

    Yasuhisa Sano, Koki Tajiri, Yuki Inoue, Risa Mukai, Yuma Nakanishi, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

    ECS Journal of Solid State Science and Technology   10 巻 ( 1 )   2021年1月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Semiconductor silicon carbide (SiC) is proposed to be a promising material for power-saving devices. However, due to its hard and brittle properties, there is a need to develop a highly efficient strain-free thinning process for the backside thinning of vertical power transistors. As a method for thinning SiC wafers without crystallographic damages, plasma etching with high-pressure SF6 plasma was proposed and the dependence of different processing parameters on the removal rate was investigated. The results revealed that the removal rate was mainly influenced by the power density and relatively insensitive to processing parameters such as processing gap and gas flow rate. It was discovered that a high-speed etching of the entire surface of a commercially available 2- inch wafer at approximately 15 μm min-1 can be achieved by increasing the radio frequency power. Additionally, it was demonstrated that the thickness of the 2-inch wafer can be thinned to approximately 100 μm by only 20 min plasma etching.

    DOI: 10.1149/2162-8777/abdc47

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  47. Development of precision Wolter mirrors towards PhoENiX mission for the Sun

    Taro Sakao, Satoshi Matsuyama, Jumpei Yamada, Takato Inoue, Kentaro Hata, Hiroyuki Yamaguchi, Taku Hagiwara, Nami Nakamura, Kazuto Yamauchi, Yoshiki Kohmura, Yoshinori Suematsu, Noriyuki Narukage

    Space Telescopes and Instrumentation 2020: Ultraviolet to Gamma Ray     2020年12月

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)   出版者・発行元:SPIE  

    DOI: 10.1117/12.2562077

  48. X-Ray Single-Grating Interferometry for Wavefront Measurement and Correction of Hard X-Ray Nanofocusing Mirrors 査読有り

    Yamada Jumpei, Inoue Takato, Nakamura Nami, Kameshima Takashi, Yamauchi Kazuto, Matsuyama Satoshi, Yabashi Makina

    SENSORS   20 巻 ( 24 ) 頁: 7356 - 7356   2020年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Sensors (Switzerland)  

    X‐ray single‐grating interferometry was applied to conduct accurate wavefront corrections for hard X‐ray nanofocusing mirrors. Systematic errors in the interferometer, originating from a grating, a detector, and alignment errors of the components, were carefully examined. Based on the measured wavefront errors, the mirror shapes were directly corrected using a differential deposition technique. The corrected X‐ray focusing mirrors with a numerical aperture of 0.01 attained two‐dimensionally diffraction‐limited performance. The results of the correction indicate that the uncertainty of the wavefront measurement was less than λ/72 in root‐mean‐square value.

    DOI: 10.3390/s20247356

    Web of Science

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    PubMed

  49. hv<sup>2</sup>-concept breaks the photon-count limit of RIXS instrumentation. 査読有り 国際共著

    Zhou KJ, Matsuyama S, Strocov VN

    Journal of synchrotron radiation   27 巻 ( Pt 5 ) 頁: 1235 - 1239   2020年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1107/S1600577520008607

    PubMed

  50. Focus characterization of an X-ray free-electron laser by intensity correlation measurement of X-ray fluorescence. 査読有り

    Nakamura N, Matsuyama S, Inoue T, Inoue I, Yamada J, Osaka T, Yabashi M, Ishikawa T, Yamauchi K

    Journal of synchrotron radiation   27 巻 ( 5 ) 頁: 1366 - 1371   2020年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1107/s1600577520009868

    PubMed

  51. High-resolution micro channel-cut crystal monochromator processed by plasma chemical vaporization machining for a reflection self-seeded X-ray free-electron laser 査読有り

    Shotaro Matsumura, Taito Osaka, Ichiro Inoue, Satoshi Matsuyama, Makina Yabashi, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

    Optics Express   28 巻 ( 18 ) 頁: 25706 - 25706   2020年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:The Optical Society  

    DOI: 10.1364/oe.398590

    PubMed

  52. Compact full-field hard x-ray microscope based on advanced Kirkpatrick–Baez mirrors 査読有り

    Jumpei Yamada, Satoshi Matsuyama, Raita Hirose, Yoshihiro Takeda, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi, Kazuhiko Omote, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

    Optica   7 巻 ( 4 ) 頁: 367 - 367   2020年4月

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    担当区分:責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:The Optical Society  

    DOI: 10.1364/optica.386012

    その他リンク: https://www.osapublishing.org/viewmedia.cfm?URI=optica-7-4-367&seq=0

  53. An abrasive-free chemical polishing method assisted by nickel catalyst generated by in situ electrochemical plating. 査読有り

    Toh D, Van Bui P, Isohashi A, Matsuyama S, Yamauchi K, Sano Y

    The Review of scientific instruments   91 巻 ( 4 ) 頁: 045108   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5141381

    PubMed

  54. An abrasive-free chemical polishing method assisted by nickel catalyst generated by in situ electrochemical plating 査読有り

    D. Toh, P. V. Bui, A. Isohashi, S. Matsuyama, K. Yamauchi, Y. Sano

    Review of Scientific Instruments   91 巻 ( 4 ) 頁: 045108   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  55. Development of an Experimental Platform for Combinative Use of an XFEL and a High-Power Nanosecond Laser 査読有り

    Y. Inubushi, T. Yabuuchi, T. Togashi, K. Sueda, K. Miyanishi, Y. Tange, N. Ozaki, T. Matsuoka, R. Kodama, T. Osaka, S. Matsuyama, K. Yamauchi, H. Yumoto, T. Koyama, H. Ohashi, K. Tono, M. Yabashi

    Applied Science   10 巻 ( 7 ) 頁: 2224 - 2224   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/app10072224

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  56. Focusing mirror for coherent hard X-rays

    Kazuto Yamauchi, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Hirokatsu Yumoto, Takashi Kimura, Yukio Takahashi, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa

    Synchrotron Light Sources and Free-Electron Lasers: Accelerator Physics, Instrumentation and Science Applications     頁: 1093 - 1122   2020年1月

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    掲載種別:論文集(書籍)内論文  

    The development of high-precision x-ray mirrors is described. Atomistic surface polishing technique, elastic emission machining (EEM), was developed more than 30 years ago. This chapter describes how the polishing technique was improved to successfully apply to the synchrotron radiation and XFEL mirrors. The key was actually the figure metrology. The metrology was dramatically advanced by using coherent x-rays at the 1-km beamline of SPring-8, where classical ray-tracing approach was no more valid so that wave-optical approach was developed. Various optical references were developed to improve the global surface figures of mirrors. Successful development of elliptical mirrors helped attaining less than 100 nm focal spot in the conventional beamlines using Kirkpatrick-Baez focusing configuration, reaching 7 nm at the 1-km beamline. The speckle-free mirrors and focusing mirrors were used in XFEL facilities. These mirrors have been applied for various types of scanning nano-probes, imaging system, and generation of high-intensity photon fields for nonlinear xray optical experiments.

    DOI: 10.1007/978-3-030-23201-6_54

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  57. Atomically smooth Si surface planarized using a thin film catalyst in pure water

    Pho van Bui, Daisetsu Toh, Shinsaku Shiroma, Taku Hagiwara, Ai Isohashi Osaka, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    Proceedings of the 20th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2020     頁: 43 - 44   2020年

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    A catalytically assisted etching method was applied to planarization of Si surfaces for the ultra-precision fabrication of X-ray mirrors. The study demonstrates that an atomically smooth surface with less than 0.1 nm root-mean-square roughness could be achieved on a Si substrate using a thin metal film and pure water as the catalyst and etching solution, respectively. The removal rate using a Pt catalyst can reach to over 500 nm/h. Density functional theory calculations is carried out to understand the initial steps of the catalyzed hydrolysis reaction at catalyst-Si interface during the planarization. The removal mechanism is expected to be similar to that in SiC and SiO2.

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  58. Cause of etch pits during the high speed plasma etching of silicon carbide and an approach to reduce their size

    Y. Nakanishi, R. Mukai, S. Matsuyama, K. Yamauchi, Y. Sano

    Materials Science Forum   1004 MSF 巻   頁: 161 - 166   2020年

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    To reduce the on-resistance in vertical power transistors, backside thinning is required after device processing. However, it is difficult to thin silicon carbide (SiC) wafers with a high removal rate by conventional mechanical processing because their hardness and brittleness cause cracks and chips during thinning. Therefore, the authors have attempted to thin SiC wafers using plasma chemical vaporization machining (PCVM), which is plasma etching using high-pressure plasma. PCVM has a high removal rate because of the high radical density in the high-pressure plasma, and it does not form a damaged layer on the processed surface because of the low ion energy. The authors have already achieved a very high removal rate of 15.6 μm/min by PCVM. However, many etch pits were generated on the wafer during PCVM in these high-speed machining conditions. Therefore, this study, using molten potassium hydroxide (KOH) etching, investigated the cause of such etch pits and found that they may stem from threading screw dislocation in the wafers. In addition, this research considered a process for reducing an etch pit size and succeeded in doing so by controlling wafer temperature.

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.1004.161

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  59. 触媒表面電位制御を取り入れた光電気化学触媒表面基準エッチング法によるSiC基板の高能率平坦化加工

    大西 諒典, 木田 英香, 藤 大雪, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2019A 巻   頁: 28 - 29   2019年8月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    我々はSiC基板の新たな平坦化加工技術として光酸化を援用した触媒表面基準エッチング法の開発を行っている.さらに,現在では光酸化を促進するため,基板への逆バイアス印加を提案している.しかしながら,高電圧を印加した場合,基板と接する触媒の表面電位まで上昇してしまい触媒活性が低下するため,加工速度の向上に限りがあった.本研究では触媒の表面電位を制御することで更なる高能率化を目指した.

    DOI: 10.11522/pscjspe.2019a.0_28

  60. Catalyzed chemical polishing of SiO<sub>2</sub> glasses in pure water. 査読有り

    Toh D, Bui PV, Isohashi A, Kidani N, Matsuyama S, Sano Y, Morikawa Y, Yamauchi K

    The Review of scientific instruments   90 巻 ( 4 ) 頁: 045115   2019年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5090320

    Web of Science

    PubMed

  61. 多層膜結像ミラーを用いた高分解能X線顕微鏡の開発

    松山智至, 山田純平, 波多健太郎, 萩原拓, 表和彦, 廣瀬雷太, 武田佳彦, 香村芳樹, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

    精密工学会春季大会     2019年3月

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    記述言語:日本語  

  62. Surface Finishing Method using Plasma Chemical Vaporization Machining for Narrow Channel Walls of X-ray Crystal Monochromators 査読有り

    T. Hirano, Y. Morioka, S. Matsumura, Y. Sano, T. Osaka, S. Matsuyama, M. Yabashi, K. Yamauchi

    Int. J. Automation Technol.   13 巻 ( 2 ) 頁: 246 - 253   2019年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.20965/ijat.2019.p0246

  63. Development of a glue-free bimorph mirror for use in vacuum chambers 査読有り

    Y. Ichii, H. Okada, H. Nakamori, A. Ueda, H. Yamaguchi, S. Matsuyama, K. Yamauchi

    Review of Scientific Instruments   90 巻 ( 2 ) 頁: 021702   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5066105

    PubMed

  64. High-efficiency planarization of GaN wafer by catalyst-referred etching with positive-biased photo-electrochemical oxidation

    Ryosuke Ohnishi, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Ai Isohashi, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting     頁: 79 - 83   2019年

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    Scopus

  65. High-efficiency planarization of SIC wafers by water-CARE (Catalyst-referred etching) employing photoelectrochemical oxidation

    H. Kida, D. Toh, P. V. Bui, A. Isohashi, R. Ohnishi, S. Matsuyama, K. Yamauchi, Y. Sano

    Materials Science Forum   963 MSF 巻   頁: 525 - 529   2019年

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    © 2019 Trans Tech Publications Ltd, Switzerland. Catalyst-referred etching (CARE) is an abrasive-free and damage-free polishing method that involves applying a catalytic reaction at the contact point of the catalyst surface and workpiece in a chemical solution. An atomically flat silicon carbide (SiC) wafer surface can be obtained by the CARE process. Recently, it was found that water can be used as a chemical solution, even in the case of SiC polishing. However, its current removal rate of 4H-SiC (0001) 4°off-axis substrate is only 2 nm/h and is expected to increase. In this study, the use of photoelectrochemical oxidation in combination with the CARE process using water was investigated, successfully increasing the removal rate up to approximately 100 nm/h.

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.963.525

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  66. High-efficiency SiC polishing using a thin film catalyst in pure water

    Pho Van Bui, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 19th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2019     頁: 50 - 51   2019年

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    A novel abrasive-free method called catalyst-referred etching (CARE) is used for planarization of SiC In this method, a thin platinum (Pt) catalyst layer is deposited on an elastic pad. The planarization is performed by rotating the catalyst pad in contact with a wafer surface in water. After the planarization, SiC surfaces are atomically smooth with a root-mean-square (RMS) roughness of less than 0.1 nm over a whole wafer. Thanks to the use of pure water as the etchant, CARE is an environmentally friendly planarization method and potentially applicable to planarization of many functional materials, including GaN and oxides surfaces. However, the practical application of CARE is limited due to its low material removal rate (MRR) when using a Pt catalyst. Therefore, improving its MRR is highly demanded. Our recent research indicated that the etching proceeds via dissociative adsorption of water molecules onto Si-C bonds at topmost Si atoms. The lower activation barrier in the presence of the Pt catalyst is mainly due to the chemical stabilization resulting from the formation of Pt-0 bonds at the Pt-SiC interface. Accordingly, the reaction will be promoted by tuning the binding energy with O using other catalysts. Therefore, we experimentally investigate the dependence of MRR on various catalyst materials. The study reveals that Ni and Ru have high catalytic performance. Compared to Pt, Ni and Ru have the higher binding energy with O. The stronger chemical bonds promote water dissociation and stabilization of chemical bonds at the catalyst-SiC interface, leading to lowering its activation barrier and enhancement of the etching reaction.

    Scopus

  67. Development of an abrasive-free polishing method for optical material using pure water and Ni catalyst

    Daisetsu Toh, Ryosuke Ohnishi, Pho V. Bui, Ai Isohsahi, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting     頁: 474 - 477   2019年

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    The removal rate using a Ni catalyst was higher than that using a Pt catalyst. However, it decreased with the processing time because the Ni surface was easily oxidized. Therefore, we proposed the electrochemical method to keep the Ni surface active. By repeating Ni plating and dissolution cycle, we stabilized the removal rate for at least 8 h and created an atomically flat surface on a SiO2 surface.

    Scopus

  68. Development of adaptive Kirkpatrick-Baez mirrors based on mechanical and piezoelectric bending

    H. Nakamori, T. Goto, S. Matsuyama, H. Hayashi, H. Yamaguchi, J. Sonoyama, K. Akiyama, Y. Sano, Y, Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, H. Okada, K. Yamauchi

        2018年8月

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    記述言語:英語  

  69. Reflective Imaging Optics using Concave and Convex Mirrors for A Compact and Achromatic Full-field X-ray Microscope 招待有り 査読有り

    J. Yamada, S. Matsuyama, K. Hata, R. Hirose, Y. Takeda, Y. Kohmura, M. Yabashi, K. Omote, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    Microscopy and Microanalysis   24 巻 ( S2 ) 頁: 274 - 275   2018年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1017/S1431927618013715

  70. High-resolution full-field X-ray microscope for 20-keV X-rays with multilayer imaging mirrors 査読有り

    S. Matsuyama

    Microscopy and Microanalysis   24 巻 ( S2 ) 頁: 284 - 285   2018年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1017/S1431927618013764

  71. Development of new diagnostics based on LiF detector for pump-probe experiments 査読有り

    T.A. Pikuz, A.Ya.Faenov, N. Ozaki, T. Matsuoka, B. Albertazzi, N. Hartley, K. Miyanishi, K. Katagiri, S. Matsuyama, K. Yamauchi, H. Habara, Y. Inubushi, T. Togashi, H. Yumoto, H. Ohashi, Y. Tange, T. Yabuuchi, M. Yabashi, A. Grum-Grzhimailo, A. Casner, I. Skobelev, S. Makarov, S. Pikuz, G. Rigon, M. Koenig, K.A. Tanaka, T. Ishikawa, R. Kodama

    MRE     2018年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  72. Nearly diffraction-limited hard X-ray line focusing with hybrid adaptive X-ray mirror based on mechanical and piezo-driven deformation. 査読有り

    Goto T, Matsuyama S, Hayashi H, Yamaguchi H, Sonoyama J, Akiyama K, Nakamori H, Sano Y, Kohmura Y, Yabashi M, Ishikawa T, Yamauchi K

    Optics express   26 巻 ( 13 ) 頁: 17477 - 17486   2018年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1364/OE.26.017477

    Scopus

    PubMed

  73. Development of a multilayer Kirkpatrick-Baez mirror optics for X-ray free electron laser

    T. Inoue, S. Matsuyama, S. Kawai, H. Yumoto, Y. Inubushi, T. Koyama, K. Tono, T. Osaka, H. Ohashi, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2018)     2018年6月

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    記述言語:英語  

  74. Hard-x-ray imaging mirror optics using concave and convex mirrors 招待有り

    J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2018)     2018年6月

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    記述言語:英語  

  75. Full‐field imaging and focusing with advanced mirror‐based optics 招待有り

    S. Matsuyama

    International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2018)     2018年6月

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    記述言語:英語  

  76. Fabrication of ultraprecise multilayer focusing mirrors using an X-ray grating interferometer and differential deposition technique

    T. Inoue, S. Matsuyama, S. Kawai, H. Yumoto, Y. Inubushi, T. Koyama, K. Tono, T. Osaka, H. Ohashi, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International Workshop on X-ray Optics and Metrology Satellite Meeting of SRI 2018 (IWXM 2018)     2018年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  77. Development of reflective imaging optics using concave and convex mirrors

    J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International Workshop on X-ray Optics and Metrology Satellite Meeting of SRI 2018 (IWXM 2018)     2018年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  78. Development of hybrid X-ray adaptive optical system based on piezo-driven deformable mirror and a mechanical mirror bender

    H. Yamaguchi, T. Goto, H. Hayashi, S. Matsuyama, J. Sonoyama, K. Akiyama, H. Nakamori, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2018)     2018年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  79. Development of adaptive Kirkpatrick-Baez mirrors based on bimorph and mechanical bending

    H. Nakamori, T. Goto, S. Matsuyama, H. Hayashi, H. Yamaguchi, J. Sonoyama, K. Akiyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, H. Okada, K. Yamauchi

    International Workshop on X-ray Optics and Metrology Satellite Meeting of SRI 2018 (IWXM 2018)     2018年6月

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    記述言語:英語  

  80. Platinum-catalyzed hydrolysis etching of SiC in water: A density functional theory study 査読有り

    Pho Van Bui, Daisetsu Toh, Ai Isohashi, Satoshi Matsuyama, Kouji Inagaki, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Yoshitada Morikawa

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 5 ) 頁: 055703-1 - 055703-5   2018年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:IOP PUBLISHING LTD  

    A comprehensive study of the physicochemical interactions and the reaction mechanism of SiC etching with water by Pt catalysts can reveal key details about the surface treatment and catalytic phenomena at interfaces. Therefore, density functional theory simulations were performed to study the kinetics of Pt-assisted water dissociation and breaking of a Si-C bond compared to the HF-assisted mechanism. These calculations carefully considered the elastic and chemical interaction energies at the Pt-SiC interface, activation barriers of Si-C bond dissociation, and the catalytic role of Pt. It was found that the Pt-catalyzed etching of SiC in water is initiated via hydrolysis reactions that break the topmost Si-C bonds. The activation barrier strongly depends on the elastic and chemical interactions. However, chemical interactions are a dominant factor and mainly contribute to the lowering of the activation barrier, resulting in an increased rate of reaction. (C) 2018 The Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/JJAP.57.055703

    Web of Science

  81. Systematic-error-free wavefront measurement using an X-ray single-grating interferometer. 査読有り

    Inoue T, Matsuyama S, Kawai S, Yumoto H, Inubushi Y, Osaka T, Inoue I, Koyama T, Tono K, Ohashi H, Yabashi M, Ishikawa T, Yamauchi K

    The Review of scientific instruments   89 巻 ( 4 ) 頁: 043106-1 - 043106-7   2018年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5026440

    Scopus

    PubMed

  82. Compact and large-magnification full-field X-ray microscope using concave-convex imaging mirrors

    J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International Conference on X-ray Optics and Applications 2018 (XOPT2018)     2018年4月

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    記述言語:英語  

  83. Development of nanofocusing system for X-ray free electron Laser (Study of nanobeam characterization)

    T. Inoue, S. Matsuyama, S. Kawai, H. Yumoto, Y. Inubushi, T. Koyama, K. Tono, T. Osaka, H. Ohashi, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International Conference on X-ray Optics and Applications 2018 (XOPT2018)     2018年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  84. Development of high-resolution X-ray imaging optical system using multilayer imaging mirrors

    K. Hata, J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International Conference on X-ray Optics and Applications 2018 (XOPT2018)     2018年4月

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    記述言語:英語  

  85. Performance of a hard X-ray split-and-delay optical system with a wavefront division. 査読有り

    Hirano T, Osaka T, Morioka Y, Sano Y, Inubushi Y, Togashi T, Inoue I, Matsuyama S, Tono K, Robert A, Hastings JB, Yamauchi K, Yabashi M

    Journal of synchrotron radiation   25 巻 ( 1 ) 頁: 20 - 25   2018年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1107/S1600577517014023

    Scopus

    PubMed

  86. Development of new diagnostics based on LiF detector for pump-probe experiments 査読有り

    T. Pikuz, A. Faenov, N. Ozaki, T. Matsuoka, B. Albertazzi, N.J. Hartley, K. Miyanishi, K. Katagiri, S. Matsuyama, K. Yamauchi, H. Habara, Y. Inubushi, T. Togashi, H. Yumoto, H. Ohashi, Y. Tange, T. Yabuuchi, M. Yabashi, A.N. Grum-Grzhimailo, A. Casner, I. Skobelev, S. Makarov, S. Pikuz, G. Rigon, M. Koenig, K.A. Tanaka, T. Ishikawa, R. Kodama

    Matter and Radiation at Extremes   3 巻 ( 4 ) 頁: 197 - 206   2018年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.mre.2018.01.006

    Scopus

  87. 超精密X線ミラーが拓く次世代X線集光・結像 招待有り

    松山智至

        2018年1月

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    記述言語:日本語  

  88. 光電気化学酸化を利用した触媒表面基準エッチング法によるGaN基板の高能率平坦化

    木田 英香, 藤 大雪, 大西 亮輔, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    年次大会   2018 巻   頁: S1630004   2018年

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:一般社団法人 日本機械学会  

    DOI: 10.1299/jsmemecj.2018.s1630004

  89. In Situ Characterization of XFEL Beam Intensity Distribution and Focusability by High-Resolution LiF Crystal Detector

    T. A. Pikuz, A. Ya. Faenov, T. Matsuoka, B. Albertazzi, N. Ozaki, N. Hartely, O. Muray Ricardo Arturo, T. Yabuuchi, H. Habara, S. Matsuyama, K. Yamauchi, Y. Inubushi, T. Togashi, H. Yumoto, Y. Tange, K. Tono, Y. Sato, M. Yabashi, M. Nishikino, T. Kawachi, A. Mitrofanov, S. A. Pikuz, D. Bleiner, A. Grum-Grzhimailo, N. N. Rosanov, N. V. Vysotina, M. Harmand, M. Koenig, K. A. Tanaka, T. Ishikawa, R. Kodama

    Springer Proceedings in Physics   202 巻   頁: 109 - 115   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)   出版者・発行元:Springer Science and Business Media, LLC  

    We present here a new diagnostics based on using LiF crystal detectors that are able to perform measurements an intensity distribution of X-rays beams with diameters ranging from some microns up to some centimetres with high spatial resolution (~1 µm). In situ, 3D visualization of SACLA XFEL focused beam profile along propagation, including propagation inside photoluminescence solid materials, is demonstrated. Also, a high spatial resolution control a quality of targets used in optical laser pump—XFEL probe HEDS experiments is proposed.

    DOI: 10.1007/978-3-319-73025-7_17

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  90. High-efficiency planarization of SiC in pure water using a thin film catalyst

    Pho Van Bui, Yuta Nakahira, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 18th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2018     頁: 433 - 434   2018年

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    A novel abrasive-free method called catalyst-referred etching (CARE) has been developed in our group. In this method, a platinum film as a catalyst is deposited on an elastic pad that is rotated in contact with a wafer surface in water. After CARE planarization, SiC surfaces are atomically smooth with a root-mean-square (RMS) roughness of less than 0.1 nm over a whole wafer. Using only pure water as an etchant, CARE is a promising planarization method and potentially applicable to planarization of many semiconductor surfaces, including GaN and oxides surfaces. However, the removal rate (RR) of SiC via CARE using a Pt catalyst is quite low, limiting its practical application. Our recent research on the removal mechanism using density functional theory (DFT) calculations indicated that the etching proceeded via a dissociative adsorption of water molecules onto the Si-C bonds at the topmost Si surface, catalyzed by a Pt catalyst. We expect that the RR can be improved by using the higher reactivity catalyst. Therefore, we experimentally investigate the dependence of RR on various catalyst materials. The results indicate that SiC can be planarized with a high RR using 3d transition metal catalysts. Using DFT calculations, we clarify that a high catalytic reactivity of a 3d transition metal is attributed to the higher chemical binding energy with OH, compared to that of Pt. This high chemical bond promotes water dissociation and stabilizes metastable states by forming chemical bonds at the catalyst-SiC interface, leading to lowering its activation barrier and an enhancement of the etching reaction.

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  91. Development of high efficiency polishing method using pure water and Ni catalyst

    Daisetsu Toh, Pho Van Bui, Nakahira Yuta, Hideka Kida, Takahisa Ohgushi, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 18th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2018     頁: 435 - 436   2018年

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    We have developed "Catalyst Referred Etching" (CARE) using pure water as an etchant and Pt as a catalyst as a new polishing method. Using CARE, many functional materials, such as silicon carbide (SiC), gallium nitride (GaN), and metal oxides, can be planar-ized to atomically well-ordered surfaces with a root-mean-square (RMS) roughness of less than 0.1 nm over a whole wafer. The planarized surface has a step-and-terrace structure, indicating that CARE is step-flow etching type. Thus, the material removal rate (MRR) of CARE using a Pt catalyst, especially for crystalline materials, is quite low, approximately 20 nm/h for SiC. Our recent study shows that the catalytic reactivity of a Ni for CARE is higher than that of a Pt. Additionally, compared to Pt, Ni is cost-effective and abundant, indicating that Ni is a promising catalyst for CARE. However, the MRR using a Ni catalyst usually decreases with the processing time due to catalytic deactivation by oxidation of the Ni surface. Therefore, we use electrochemical deposition method to control Ni surface condition and to keep its surface catalytivally active. First, before CARE processing, the Ni is deposited on a polishing pad by setting its potential to be lower than that of the etchant. The deposited Ni layer works as an active catalyst. Second, after CARE processing, the residual Ni is dissolved into the etchant by changing its potential to be higher than that of the etchant. By alternative repeating these steps, reactive Ni on the polishing pad is continually prepared. Accordingly, the removal rate is stable with processing time. The study reveals that CARE with the potential control method is potential for high-efficiency polishing of functional materials.

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  92. Wavefront sensing for nano-focusing characterization

    S. Matsuyama

    9th Hard X-ray FEL Collaboration Meeting (5-way meeting 2017)     2017年12月

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    記述言語:英語  

  93. Ellipsoidal mirror for two-dimensional 100-nm focusing in hard X-ray region 査読有り

    H. Yumoto, T. Koyama, S. Matsuyama, Y. Kohmura, K. Yamauchi, T. Ishikawa, H. Ohashi

    Scientific Reports   7 巻 ( 1 ) 頁: 16408   2017年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-017-16468-1

    Web of Science

    PubMed

  94. 全反射ミラーを用いた色収差のない結像光学系の開発 招待有り

    松山智至

        2017年11月

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    記述言語:日本語  

  95. 衝撃圧縮された多結晶コランダムの時分割XFELその場観察

    丹下 慶範, 尾崎 典雅, 瀬戸 雄介, 佐藤 友子, 奥地 拓生, 松岡 健之, 高橋 謙次郎, 宮西 宏併, ALBERTAZZI Bruno・HARTLEY Nicholas, 梅田 悠平, 西川 豊人, 松山 智至, 山内 和人, 関根 利守, 田中 和夫, 兒玉 了祐, 籔内 俊毅, 矢橋 牧名

        2017年11月

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    記述言語:日本語  

  96. Fabrication of X-ray imaging mirror for an achromatic and high-resolution full-field X-ray microscope

    J. Yamada, S. Matsuyama, S. Yasuda, Y. Sano, K. Yamauchi

        2017年10月

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    記述言語:英語  

  97. Development of crystal-based split-and-delay optics with wavefront splitting at SACLA

    T. Hirano, T. Osaka, Y. Sano, Y. Inubushi, T. Togashi, I. Inoue, S. Matsuyama, K. Tono, K. Yamauchi, M. Yabashi

    SPIE Optics+Photonics2017     頁: 187 - 187   2017年8月

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    記述言語:英語  

  98. 高分解能かつ色収差のないX線顕微鏡の開発 招待有り

    松山智至

    日本学術振興会,結晶加工と評価技術第145委員会,第154回研究会     2017年8月

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    記述言語:日本語  

  99. 高分解能かつ色収差のない X 線顕微鏡の開発 招待有り

    松山智至

    精密工学会学術講演会講演論文集   2017 巻   頁: 957 - 958   2017年8月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    高精度なX線全反射ミラーを4枚用いて,高分解能かつ色収差のない結像型X線顕微鏡を開発した.本顕微鏡の実用性を確かめるために,蛍光X線イメージング,暗視野イメージング,位相イメージングを実施した.暗視野イメージングでは,後焦点位置にナイフエッジを挿入した.位相イメージングでは,位相回折格子を用いたタルボ効果を利用した.ポリスチレン球や金属微粒子,テストチャートの観察について詳細に報告する.

    DOI: 10.11522/pscjspe.2017S.0_957

  100. Full-field X-ray fluorescence imaging based on total-reflection imaging mirrors

    S. Matsuyama, S. Yasuda, J. Yamada, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    The 24th Congress of the International Comission for Optics, X-ray and High-energy Optics     2017年8月

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    記述言語:英語  

  101. Development of precision Wolter mirrors for solar x-ray observations

    Taro Sakao, Satoshi Matsuyama, Takumi Goto, Jumpei Yamada, Shuhei Yasuda, Kazuto Yamauchi, Yoshiki Kohmura, Ayumi Kime, Akira Miyake, Tadakazu Maezawa, Hirokazu Hashizume, Yoshinori Suematsu, Noriyuki Narukage, Shin-nosuke Ishikawa

    Proceedings of SPIE   10386 巻   頁: 103860E-1 - 103860E-11   2017年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1117/12.2273507

    Web of Science

  102. Development of Precise Wavefront Measurement Method for X-Ray Free Electron Laser Focusing System

    T. Inoue, S. Matsuyama, S. Kawai, H. Yumoto, Y. Inubushi, T. Osaka, T. Koyama, K. Tono, H. Ohashi, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    The 24th Congress of the International Comission for Optics, X-ray and High-energy Optics     2017年8月

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    記述言語:英語  

  103. Development of measurement system for ellipsoidal mirrors

    H. Nakamori, Y. Ichii, H. Okada, A. Ueda, T. Tsumura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

    SPIE Optics+Photonics2017     頁: 185 - 185   2017年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  104. Development of measurement system for ellipsoidal mirrors 査読有り

    H. Nakamori, Y. Ichii, H. Okada, A. Ueda, T. Tsumura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

        2017年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  105. Development of hybrid adaptive x-ray focusing system based on piezoelectric bimorph mirror and mirror bender 査読有り

    T. Goto, S. Matsuyama, H. Hayashi, J. Sonoyama, K. Akiyama, H. Nakamori, Y. Sano, K. Yamauchi

    SPIE Optics+Photonics2017     頁: 187 - 187   2017年8月

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    記述言語:英語  

  106. Development of full-field x-ray fluorescence microscope using total-reflection mirrors 査読有り

    S. Matsuyama, J. Yamada, S. Yasuda, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    SPIE Optics+Photonics2017     頁: 193 - 193   2017年8月

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    記述言語:英語  

  107. Shock response to solid germanium

    Kohei Miyanishi, Norimasa Ozaki, Takeshi Matsuoka, Satoshi Matsuyama, Kenjiro Takahashi, Hideaki Habara, Tatiana Pikuz, Anatoly Faenov, Kazuto Yamauchi, Ryosuke Kodama, Kazuo Tanaka, Yusuke Seto, Yoshinobu Tange, Toshinori Yabuuchi, Yuichi Inubushi, Tadashi Togashi, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Michel Koenig, Tommaso Vinci, Takuo Okuchi, Nicholas Hartley, Osami Sakata, Toshimori Sekine, Emma McBride

        2017年7月

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    記述言語:英語  

  108. Development of new diagnostics in the interests of pump-probe experiments 招待有り

    T. Pikuz, A. Faenov, N. Ozaki. T. Matsuoka, B. Albertazzi, N. Hartely, S. Matsuyama, K. Yamauchi, H. Habara, Y. Inubushi, T. Togashi, H. Yumoto, H. Ohashi, Y. Tange, T. Yabuuchi, M. Yabashi, A. Grum-Grzhimailo, A. Casner, G. Rigon, M. Koenig, K. A. Tanaka, T. Ishikawa, R. Kodama

        2017年6月

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    記述言語:英語  

  109. Measurement of the X-ray Spectrum of a Free Electron Laser with a Wide-Range High-Resolution Single-Shot Spectrometer 査読有り

    Y. Inubushi, I. Inoue, J. Kim, A. Nishihara, S. Matsuyama, H. Yumoto, T. Koyama, K. Tono, H. Ohashi, K. Yamauchi, M. Yabashi

    Applied Sciences   7 巻 ( 6 ) 頁: 584-1 - 584-5   2017年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/app7060584

    Web of Science

  110. Development of new diagnostics in the interests of pumpprobe experiments 招待有り

    T. Pikuz, A. Faenov, N. Ozaki, T. Matsuoka, B. Albertazzi, N.Hartely, S. Matsuyama, K. Yamauchi, H. Habara, Y. Inubushi, T. Togashi, H. Yumoto, H. Ohashi, Y. Tange, T. Yabuuchi, M. Yabashi, A. Grum-Grzhimailo, A. Casner, G. Rigon, M. Koenig, K. A. Tanaka, T. Ishikawa, R. Kodama

        2017年6月

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    記述言語:英語  

  111. Chemical etching of silicon carbide in pure water by using platinum catalyst 査読有り

    A. Isohashi, P. V. Bui, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Inagaki, Y. Morikawa, K. Yamauchi

    Applied Phsyics Letters   110 巻 ( 20 ) 頁: 201601   2017年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4983206

    Web of Science

  112. 50-nm-resolution full-field X-ray microscope without chromatic aberration using total-reflection imaging mirrors 査読有り

    S. Matsuyama, S. Yasuda, J. Yamada, H. Okada, Y. Kohmura, M Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    Scientific Reports   7 巻   頁: 46358   2017年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/srep46358

    Web of Science

    PubMed

  113. 4枚の形状可変鏡に基づく開口数可変集光光学系を用いた回折限界X線集光

    松山智至

    X線結像光学ニューズレター     2017年4月

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    記述言語:日本語  

  114. Achromatic and High-Resolution Full-Field X-ray Microscope and its Applicaiton

    S. Matsuyama, J. Yamada, S. Yasuda, Y. Kohmura, H. Okadam, Y. Sano, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017     頁: 10 - 11   2017年4月

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    記述言語:英語  

  115. Development of a multilayer KB mirror sysem for sub-10nm XFEL focusing

    S. Kawai, S. Matsuyama, T. Inoue, H. Yumoto, Y. Inubushi, T. Osaka, T. Koyama, K. Tono, H. Ohashi, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017     頁: 61 - 62   2017年4月

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    記述言語:英語  

  116. High-magnification X-ray imaging mirror system consisting of elliptical concave and hyperbolic convex mirrors

    J. Yamada, S. Matsuyama, S. Yasuda, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017     頁: 66 - 66   2017年4月

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    記述言語:英語  

  117. Hard X-ray Split-and-Delay Optics with wavefront Division at SACLA

    T. Hirano, T. Osaka, Y. Sano, Y. Inubushi, T. Togashi, I. Inoue, S. Matsuyama, K. Tono, K. Yamauchi, M. Yabashi

    International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017     頁: 34 - 34   2017年4月

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    記述言語:英語  

  118. Development of calibration method for X-ray single-grating interferometry

    T. Inoue, S. Matsuyama, S. Kawai, H. Yumoto, Y. Inubushi, T. Koyama, K. Tono, H. Ohashi, T. Katayama, S. Goto, T. Ishikawa, M. Yabashi, K. Yamauchi

    International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017     頁: 59 - 60   2017年4月

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    記述言語:英語  

  119. Development of an adaptive x-ray focusing system based on the combination of piezoelectric bimorph mirror and mirror bender

    T. Goto, S. Matsuyama, H. Hayashi, J. Sonoyama, K. Akiyama, H. Nakamori, Y. Sano, K. Yamauchi

    International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017     頁: 72 - 72   2017年4月

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    記述言語:英語  

  120. パワーレーザーとXFELを用いた動的超高圧下の物質変形・相転移に関する研究 査読有り

    尾崎典雅

        2017年3月

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    記述言語:日本語  

  121. 全反射ミラーを用いた高分解能かつ色収差のない結像型X線顕微鏡の開発ー様々な観察法への応用ー

    松山智至, 安田周平, 山田純平, 佐野泰久, 香村芳樹, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

    アブストラクト集   P02 巻   2017年3月

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    記述言語:日本語  

  122. 全反射ミラーを用いた高分解能かつ色収差のない結像型X線顕微鏡の開発ー様々な観察法への応用ー

    松山智至, 安田周平, 山田純平, 佐野泰久, 香村芳樹, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

    2017年度精密工学会春季大会学術講演会     2017年3月

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    記述言語:日本語  

  123. 高エネルギー密度科学のための新しい実験ステーション 査読有り

    松岡健之, 尾崎典雅

        2017年3月

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    記述言語:日本語  

  124. Simulation of concave-convex imaging mirror system for development of a compact and achromatic full-field x-ray microscope 査読有り

    J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi

    Applied Optics   56 巻 ( 4 ) 頁: 967 - 974   2017年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1364/AO.56.000967

    Web of Science

    PubMed

  125. Ultrafast observation of lattice dynamics in laser-irradiated gold foils 査読有り

    N. J. Hartley, N. Ozaki, T. Matsuoka, B. Albertazzi, A. Faenov, Y. Fujimoto, H. Habara, M. Harmand, Y. Inubushi, T. Katayama, M. Koenig, A. Krygier, P. Mabey, Y. Matsumura, S. Matsuyama, E. E. McBride, K. Miyanishi, G. Morard, T. Okuchi, T. Pikuz, O. Sakata, Y. Sano, T. Sato, T. Sekine, Y. Seto, K. Takahashi, K. A. Tanaka, Y. Tange, T. Togashi, Y. Umeda, T. Vinci, M. Yabashi, T. Yabuuchi, K. Yamauchi, R. Kodama

    Applied Physics Letters   110 巻 ( 7 ) 頁: 071905 - 071905   2017年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4976541

    Web of Science

  126. Visualization of intracellular elements using scanning X-ray fluorescence microscopy 査読有り

    Mari Shimura, Lukasz Szyrwiel, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

    Metallomics: Recent Analytical Techniques and Applications     頁: 63 - 92   2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:論文集(書籍)内論文   出版者・発行元:Springer Japan  

    Recent technological developments have enabled the imaging of chemical elements in cells, although quantitative analyses, such as by inductively coupled plasma mass spectrometry, were developed previously. Applications allowing high-resolution imaging at the single-cell level are anticipated in cell biology and medicine, where the roles of elements, especially in relation to intracellular molecules such as proteins, nucleic acids, lipids, and sugars, are essential for understanding cellular functions. The expression of proteins and genes varies depending on cellular function, and multiple elements are likely to be associated with biological molecules in the functioning of cell proliferation, differentiation, aging, and stress responses. In this review, we describe a scanning X-ray fluorescence microscopy system, which can reliably determine the cellular distribution of multiple elements by a sub-100-nm focusing approach, together with its applications. Visualizing intracellular elements and understanding their dynamics at the single-cell level may provide great insight into their behaviors.

    DOI: 10.1007/978-4-431-56463-8_3

    Scopus

  127. Generation of apodized X-ray illumination and its application to scanning and diffraction microscopy. 査読有り

    Khakurel KP, Kimura T, Nakamori H, Goto T, Matsuyama S, Sasaki T, Takei M, Kohmura Y, Ishikawa T, Yamauchi K, Nishino Y

    Journal of synchrotron radiation   24 巻 ( Pt 1 ) 頁: 142 - 149   2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1107/S1600577516017677

    Web of Science

    Scopus

    PubMed

  128. 全反射結像ミラーを使った色収差のないX線顕微鏡の開発と顕微分光への応用

    松山智至, 安田周平, 山田純平, 岡田浩巳, 香村芳樹, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

    アブストラクト集   5D003 巻   2017年1月

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    記述言語:日本語  

  129. 光電気化学酸化を援用した触媒表面基準エッチング法による窒化ガリウムの高能率平坦化

    木田 英香, 藤 大雪, 中平 雄太, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2017A 巻   頁: 19 - 20   2017年

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    我々は,窒化ガリウム (GaN) 基板を平坦化する革新的な手法として触媒表面基準エッチング (Catalyst-Referred Etching; CARE) 法の開発,研究を行っている.現在までに研磨定盤にPt触媒,加工液に純水を用いて,原子レベルに平坦な表面が作製可能となっているが,ステップフロー型であるのでCARE法は加工速度が不十分である.そこで本研究では,GaN基板の高能率平坦化を目指し,光電気化学酸化を援用したCARE法(PEC-CARE加工)を検討することで,加工速度は800 nm/hにまで向上した.

    DOI: 10.11522/pscjspe.2017a.0_19

  130. 放射光X線のための超高精度X線ミラー開発の最前線

    松山 智至, 山内 和人

    精密工学会誌   83 巻 ( 4 ) 頁: 300 - 304   2017年

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    DOI: 10.2493/jjspe.83.300

    CiNii Books

  131. 表面吸着活性種の輸送を用いたドライ平坦化法の開発

    両粂 玲志, 宮崎 俊亘, 佐野 泰久, 松山 智至, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2017 巻   頁: 541 - 542   2017年

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    SiCやダイヤモンドなどはその優れた物性から次世代半導体基板材料として注目されているが,これらは高硬度かつ化学的に安定なため,原子レベルの表面平坦化は困難である.そこで我々はドライエッチングに転写面を付加した研磨法を考案した.本手法では,大気圧プラズマで生じた反応種を,触媒をめっきした回転定盤上に吸着し,試料表面に輸送することで平坦化を行う.本発表では,本手法の概念および基礎実験結果について報告する.

    DOI: 10.11522/pscjspe.2017S.0_541

  132. 高濃度SF<sub>6</sub>ガスを用いたサブ大気圧プラズマエッチングによるSiC基板の高能率薄化加工

    井上 裕貴, 田尻 光毅, 向井 莉紗, 佐野 泰久, 松山 智至, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2017 巻   頁: 975 - 976   2017年

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    SiCデバイス製造工程においてサブ大気圧プラズマを用いたプラズマエッチング加工を検討している。今回、実用化を視野に入れた加工速度を達成することを目指した。SF6の供給量と投入電力を増大させ、反応種であるFラジカル数を増加させることで加工速度を向上させた。大電力の投入はこれまで困難であったが、新たな試料台を用いることで大電力を投入しても安定なプラズマの発生に成功し、2インチウエハ全面加工速度15.2 μm/minを達成した。

    DOI: 10.11522/pscjspe.2017S.0_975

  133. 触媒表面基準エッチング法における水素水を用いた被毒除去法の提案

    中平 雄太, 礒橋 藍, Bui Pho, 稻田 辰昭, 藤 大雪, 木田 英香, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2017 巻 ( 0 ) 頁: 1 - 2   2017年

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    我々はこれまで触媒表面基準エッチング法の開発を行ってきた。本手法ではエッチング反応による加工が、触媒作用を有する研磨パッドの近傍のみで進行するため凸部からの選択的な加工が可能である。砥粒等の機械的作用によるダメージはなく効率的に基準面形状の転写が可能である。本研究では、水素水を用い触媒表面の加工生成物を除去することで加工速度の安定化を行い、加工液のpHを変化させることで加工速度の向上に成功した。

    DOI: 10.11522/pscjspe.2017A.0_1

  134. Change in surface morphology of Si (100) wafer after oxidation with atmospheric-pressure plasma 査読有り

    Hiroyasu Takei, Satoshi Kurio, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

    Key Engineering Materials   723 巻   頁: 242 - 246   2017年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)   出版者・発行元:Trans Tech Publications Ltd  

    Modern surface processing of semiconductors or oxide materials requires highly precise temporal control of each processing step. In addition, large wafers must be processed quickly for high throughput. We have developed a numerically controlled sacrificial oxidation method with atmospheric-pressure plasma using electrode arrays. In this method, we oxidized the surface of a wafer with atmospheric-pressure plasma applied precisely by an electrode array, and then dipped the wafer in HF solution to remove the surface oxide layer. The plasma process time can be controlled independently at each electrode area. The oxidation rate and surface profile of the treated wafer are crucial for precision processing. We investigated the oxidation rate of atmospheric-pressure plasma oxidation by spectroscopic ellipsometry and examined the surface morphologies of untreated and treated wafers by atomic force microscopy. The surface profile smoothness correlated with the plasma oxidation time and electrode voltage during oxidation. The surface roughness tended to increase when the sample was oxidized for longer times with higher electrode voltage. This correlation between surface roughness and oxidation time resembled the results of Si/SiO2 interfacial roughness in the case of thermal oxidation. In the plasma sacrificial oxidation process, the increase of surface roughness at the Si/SiO2 interface by plasma oxidation must be considered.

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/KEM.723.242

    Scopus

  135. 多層膜KBミラーを用いたX線自由電子レーザーナノ集光システムの開発

    川合 蕉吾, 松山 智至, 井上 陽登, 湯本 博勝, 犬伏 雄一, 小山 貴久, 登野 健介, 大橋 治彦, 大坂 泰斗, 矢橋 牧名, 石川 哲也, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2017 巻   頁: 959 - 960   2017年

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    X線自由電子レーザーは超高強度という非常に優れた性質をもつ.その性能をより向上させるためには,高精度かつ大開口数であるX線集光光学系の開発が必要不可欠である.我々は,大開口数多層膜ミラーを用いた集光光学系をSPring-8に構築した.そして,X線グレーチング干渉計で波面計測を行うことによって多層膜ミラーの作製誤差を計測しさらにこれを修正した.&lambda;/4程度の精度で多層膜集光ミラーを完成させた.

    DOI: 10.11522/pscjspe.2017S.0_959

  136. ニッケル触媒を利用した純水ベースの触媒表面基準エッチング法の開発

    藤 大雪, 礒橋 藍, 稻田 辰昭, 中平 雄太, 木田 英香, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集   2017 巻 ( 0 ) 頁: 35 - 36   2017年

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:公益社団法人 精密工学会  

    我々は機能性材料を平坦化する手法として触媒表面基準エッチング法を開発してきた.加工液に純水,触媒にPt,を用いる本手法は高精度表面の実現を可能にするがステップフロー型エッチングであるため加工速度は未だ不十分である.そこで本研究ではニッケルを触媒として利用し,加工速度の向上を図った.表面が酸化され化学的不活性になりやすいニッケルを電気化学的手法によりその触媒活性を安定させ超高速加工を実現した.

    DOI: 10.11522/pscjspe.2017A.0_35

  137. Planarization of SiC and oxide surfaces by using Catalyst-Referred Etching with water

    Pho Van Bui, Ai Isohashi, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Kouji Inagaki, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    Proceedings of the 17th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2017     頁: 157 - 158   2017年

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    A novel abrasive-free planarization method called catalyst-referred etching (CARE) has been invented and developed in our group. In this method, a platinum film, which acts as a catalyst, is deposited on an elastic pad that is rotated in contact with a wafer surface in water. CARE can produce flat, undamaged, and smooth SiC and SiO2 surfaces with a root-mean-square (RMS) roughness of less than 0.1 nm over a whole wafer. The mechanism is considered a dissociative adsorption of water molecules onto the Si-C bonds at the topmost Si surface. The gross activation barrier strongly correlates with the stability of the metastable state and is reduced by the formation of Pt-O chemical bonds, leading to an enhancement of the etching reaction.

    Scopus

  138. Stabilization of removal rate of silica glass on catalyst-referred etching by cleaning catalyst surface

    Yuta Nakahira, Ai Isohashi, Tatsuaki Inada, Daisetsu Toh, Hideka Kida, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    ICPT 2017 - International Conference on Planarization/CMP Technology     頁: 110 - 114   2017年

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    掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    A novel planarization method termed catalyst-referred etching (CARE) was developed, in which platinum and pure water were respectively employed as a catalyst and an etchant to create highly ordered surfaces with a step terrace structure on oxide materials, such as quarts, sapphire, and zinc oxide substrates. The step heights were in good agreement with the theoretical single-bilayer thickness. However, the removal rate of the etching process gradually decreased with the processing time. This decrease in the removal rate was attributed to degradation of the catalyst via the adsorption of silicic acid produced during the CARE process on the catalyst surface. Two methods were employed to remove the silicic acid: control of the potential of the Pt surface and cleaning of the catalyst pad with H2 water. The removal rate was maintained by using both methods. In both methods, the potential of the Pt surface was set at the H generation level. It is proposed that the generated hydrogen atoms broke the Pt-O bonds, thereby maintaining the reactivity of the catalyst surface.

    Scopus

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書籍等出版物 5

  1. 先端の分析法 新訂第二版,第4章 第1節 第3項 X線ナノビーム

    松山智至( 担当: 分担執筆 ,  範囲: 第4章 第1節 第3項)

    エヌ・ティー・エス  2022年1月  ( ISBN:978-4-86043-737-4

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    記述言語:日本語 著書種別:学術書

  2. 差分成膜法による高精度X線ミラー作製

    松山智至, 山内和人( 担当: 単著)

    精密工学会誌  2018年3月 

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    著書種別:学術書

  3. 全反射結像ミラーを用いた色収差のないX線顕微鏡

    松山智至( 担当: 単著)

    日本放射光学会  2018年1月 

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    著書種別:学術書

  4. 放射光X線のための超高精度X線ミラー開発の最前線

    松山 智至, 山内 和人( 担当: 分担執筆)

    精密工学会誌  2017年4月 

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    著書種別:学術書

  5. 4枚の形状可変鏡に基づく開口数可変集光光学系を用いた回折限界X線集光

    松山 智至( 担当: 単著)

    X線結像光学ニューズレター  2017年4月 

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    著書種別:学術書

MISC 22

  1. ミラー光学系を利用した結像型硬X線顕微鏡

    松山 智至  

    光学51 巻 ( 8 )   2022年8月

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    担当区分:筆頭著者, 最終著者, 責任著者   記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

  2. Advanced KBミラーに基づく硬X線自由電子レーザーsub-10nm集光システム

    山田純平, 松山智至, 井上陽登, 伊藤篤輝, 田中優人, 大坂泰斗, 井上伊知郎, 犬伏雄一, 湯本博勝, 湯本博勝, 小山貴久, 小山貴久, 大橋治彦, 大橋治彦, 山内和人, 矢橋牧名, 矢橋牧名  

    日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)35th 巻   2022年

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  3. はじめての放射光実験 招待有り

    松山智至  

    精密工学会誌87 巻 ( 7 ) 頁: 618 - 621   2021年7月

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    記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

    DOI: 10.2493/jjspe.87.7_618

  4. X線スペックル干渉計を駆使したナノビーム形成 招待有り

    松山智至  

    光学50 巻 ( 6 )   2021年6月

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    記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

  5. 触媒表面基準エッチング法を用いた粒界段差フリーな超平滑多結晶表面の作製

    藤大雪, VAN BUI Pho, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人  

    精密工学会大会学術講演会講演論文集2021 巻   2021年

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  6. Wolter III型advanced KBミラーによるXFEL sub-10nm集光光学系の開発

    山田純平, 松山智至, 松山智至, 井上陽登, 中村南美, 田中優人, 大坂泰斗, 井上伊知郎, 犬伏雄一, 犬伏雄一, 湯本博勝, 湯本博勝, 小山貴久, 小山貴久, 大橋治彦, 大橋治彦, 山内和人, 矢橋牧名, 矢橋牧名  

    日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)34th 巻   2021年

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  7. SF<sub>6</sub>ガスを用いたサブ大気圧プラズマによるSiC-MOSFETの裏面薄化におけるデバイス性能への影響の調査

    大島政明, 中西悠真, 藤大雪, 松山智至, 山内和人, 佐野泰久  

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集2021 巻   2021年

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  8. X線自由電子レーザー用sub10nm集光システムの開発-高反射率多層膜ミラーの作製-

    井上陽登, 松山智至, 山田純平, 中村南美, 大坂泰斗, 湯本博勝, 小山貴久, 大橋治彦, 矢橋牧名, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)33rd 巻   2020年

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  9. WolterIII型Advanced KBミラーを用いたX線自由電子レーザーsub-10nm集光システムの開発(第2報)-高反射率多層膜の作製と差分成膜による形状修正-

    井上陽登, 松山智至, 山田純平, 中村南美, 大坂泰斗, 湯本博勝, 小山貴久, 大橋治彦, 矢橋牧名, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    精密工学会大会学術講演会講演論文集2020 巻   2020年

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  10. WolterIII型Advanced KBミラーを用いたX線自由電子レーザーsub-10nm集光システムの開発(第3報)-差分成膜によるX線ミラーの高精度形状修正およびSPring-8における性能評価-

    井上陽登, 松山智至, 山田純平, 中村南美, 田中優人, 大坂泰斗, 湯本博勝, 小山貴久, 大橋治彦, 矢橋牧名, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    精密工学会大会学術講演会講演論文集2020 巻   2020年

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  11. X線自由電子レーザーナノ集光システムの開発 格子干渉計を用いたX線波面計測法の検証

    中村南美, 松山智至, 山田純平, 井上陽登, 大坂泰斗, 湯本博勝, 小山貴久, 大橋治彦, 矢橋牧名, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    精密工学会大会学術講演会講演論文集2020 巻   2020年

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  12. X線自由電子レーザー用sub10nm集光システムの開発-新しいビーム径診断法を用いた精密ミラーアライメント-

    井上陽登, 松山智至, 中村南美, 湯本博勝, 犬伏雄一, 犬伏雄一, 小山貴久, 大坂泰斗, 井上伊知郎, 登野健介, 登野健介, 大橋治彦, 矢橋牧名, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)32nd 巻   2019年

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  13. X線自由電子レーザーナノ集光システムの開発-蛍光X線の強度干渉現象を利用したビーム径決定手法の検討-

    中村南美, 松山智至, 井上陽登, 井上伊知郎, 大坂泰斗, 山田純平, 湯本博勝, 小山貴久, 大橋治彦, 矢橋牧名, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集2019 巻   2019年

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  14. Wolter III型Advanced KBミラーを用いたX線自由電子レーザーsub-10nm集光システムの開発

    井上陽登, 松山智至, 山田純平, 中村南美, 大坂泰斗, 湯本博勝, 小山貴久, 大橋治彦, 矢橋牧名, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    精密工学会大会学術講演会講演論文集2019 巻   2019年

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  15. X線自由電子レーザーナノ集光システムの開発(第2報)蛍光X線の強度干渉現象を利用したビーム径決定手法の実証

    中村南美, 松山智至, 井上陽登, 井上伊知郎, 大坂泰斗, 山田純平, 湯本博勝, 小山貴久, 大橋治彦, 矢橋牧名, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    精密工学会大会学術講演会講演論文集2019 巻   2019年

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  16. 多層膜KBミラーを用いたX線自由電子レーザーナノ集光システムの開発(第二報)-スペックルを利用したミラーアライメント調整精度の検討-

    井上陽登, 松山智至, 中村南美, 湯本博勝, 犬伏雄一, 犬伏雄一, 小山貴久, 大坂泰斗, 井上伊知郎, 登野健介, 登野健介, 大橋治彦, 矢橋牧名, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    精密工学会大会学術講演会講演論文集2018 巻   2018年

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  17. 大開口数多層膜集光ミラーを用いたsub-10nm集光システムの開発

    川合蕉吾, 松山智至, 井上陽登, 湯本博勝, 犬伏雄一, 小山貴久, 大坂泰斗, 大橋治彦, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)31st 巻   2018年

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  18. X線自由電子レーザー用sub10nm集光システムの開発波面計測法とビームキャラクタリゼーション法の検討

    井上陽登, 松山智至, 川合蕉吾, 湯本博勝, 犬伏雄一, 小山貴久, 大坂泰斗, 大橋治彦, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)31st 巻   2018年

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  19. X線自由電子レーザーナノ集光システムの開発

    中村南美, 松山智至, 井上陽登, 湯本博勝, 犬伏雄一, 犬伏雄一, 小山貴久, 大坂泰斗, 井上伊知郎, 登野健介, 登野健介, 大橋治彦, 矢橋牧名, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集2018 巻   2018年

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  20. 光電気化学酸化を利用した触媒表面基準エッチング法による窒化ガリウムの高能率平坦化

    木田英香, 藤大雪, 中平雄太, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人  

    精密工学会大会学術講演会講演論文集2017 巻   2017年

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  21. X線自由電子レーザーナノ集光用の大開口数多層膜集光ミラーの開発

    川合蕉吾, 松山智至, 井上陽斗, 湯本博勝, 犬伏雄一, 小山貴久, 登野健介, 大橋治彦, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)30th 巻   2017年

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  22. XFEL用集光光学系のための精密波面計測法の開発

    井上陽登, 松山智至, 川合蕉吾, 湯本博勝, 犬伏雄一, 小山貴久, 登野健介, 大橋治彦, 大坂泰斗, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人  

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集2017 巻   2017年

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講演・口頭発表等 104

  1. 反射レンズを用いたX線顕微鏡の高分解能化 招待有り

    松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2023  2023年11月27日  日本光学会

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    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:北海道,北海道大学   国名:日本国  

  2. High-resolution Full-field X-ray Microscope Based on Multilayer Advanced KB Mirrors 招待有り 国際会議

    S. Matsuyama

    15th International Conference on X-ray Microscopy (XRM2022)  2022年6月20日 

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    開催年月日: 2022年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Online   国名:台湾  

  3. 高強度レーザー集光工学系のための大口径形状可変ミラーの開発

    金﨑健太,井上陽登,吉水純弥,中林荘太,我妻一博,石井雅樹,松尾一輝,松山智至

    2024年度精密工学会春季大会学術講演会  2024年3月12日  精密工学会

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京,東京大学   国名:日本国  

  4. 色収差の無いX線sub-10 nm集光のための極薄形状可変ミラーの開発 -薄板型形状可変ミラーの試作-

    上山冬馬,井上陽登,吉水純弥,松山智至

    2024年度精密工学会春季大会学術講演会  2024年3月12日  精密工学会

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京,東京大学   国名:日本国  

  5. 深層強化学習によるアダプティブミラー制御法の開発

    長嶋友作,井上陽登,青戸仁志,松山智至

    2024年度精密工学会春季大会学術講演会  2024年3月12日  精密工学会

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京,東京大学   国名:日本国  

  6. 高強度レーザー集光工学系のための大口径形状可変ミラーの開発

    金﨑健太,井上陽登,吉水純弥,中林荘太,我妻一博,石井雅樹,松尾一輝,松山智至

    2024年度精密工学会春季大会学術講演会  2024年3月12日  精密工学会

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京,東京大学   国名:日本国  

  7. 色収差の無いX線sub-10 nm集光のための極薄形状可変ミラーの開発 -薄板型形状可変ミラーの試作-

    上山冬馬,井上陽登,吉水純弥,松山智至

    2024年度精密工学会春季大会学術講演会  2024年3月12日  精密工学会

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京,東京大学   国名:日本国  

  8. 深層強化学習によるアダプティブミラー制御法の開発

    長嶋友作,井上陽登,青戸仁志,松山智至

    2024年度精密工学会春季大会学術講演会  2024年3月12日  精密工学会

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京,東京大学   国名:日本国  

  9. 高空間周波数形状制御可能な接合型形状可変ミラーの開発

    加納愛彩,井上陽登,中林荘太,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    第37回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2024年1月10日  日本放射光学会

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    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:姫路   国名:日本国  

  10. 内回転試料のX線顕微鏡画像群を用いたUNNベースのブラインドデコンボリューション

    栗本晋之介,井上陽登,伊藤俊希,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    第37回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2024年1月10日  日本放射光学会

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    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:姫路   国名:日本国  

  11. 単結晶圧電素子を用いたビームサイズ可変光学系用形状可変ミラーの開発

    吉水純弥,井上陽登,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    第37回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2024年1月10日  日本放射光学会

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    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:姫路   国名:日本国  

  12. 大視野X線斜入射結像光学系の開発とシミュレーションによるアライメント誤差評価

    入山陽仁,井上陽登,松山智至

    第37回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2024年1月10日  日本放射光学会

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    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:姫路   国名:日本国  

  13. 高空間周波数形状制御可能な接合型形状可変ミラーの開発

    加納愛彩,井上陽登,中林荘太,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    第37回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2024年1月10日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:姫路   国名:日本国  

  14. 多層膜AKBミラーを用いた高分解能X線顕微鏡の開発

    伊藤颯希,表和彦,廣瀬雷太,井上陽登,中林荘太,入山陽仁,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    第37回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2024年1月10日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:姫路   国名:日本国  

  15. 内回転試料のX線顕微鏡画像群を用いたUNNベースのブラインドデコンボリューション

    栗本晋之介,井上陽登,伊藤俊希,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    第37回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2024年1月10日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:姫路   国名:日本国  

  16. 単結晶圧電素子を用いたビームサイズ可変光学系用形状可変ミラーの開発

    吉水純弥,井上陽登,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    第37回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2024年1月10日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:姫路   国名:日本国  

  17. 大視野X線斜入射結像光学系の開発とシミュレーションによるアライメント誤差評価

    入山陽仁,井上陽登,松山智至

    第37回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2024年1月10日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:姫路   国名:日本国  

  18. 多層膜AKBミラーを用いた高分解能X線顕微鏡の開発

    伊藤颯希,表和彦,廣瀬雷太,井上陽登,中林荘太,入山陽仁,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    第37回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2024年1月10日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:姫路   国名:日本国  

  19. ビームサイズ可変X線光学系のための単結晶圧電素子を使った形状可変ミラーの開発

    吉水純弥,井上陽登,加納愛彩,中林荘太,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2023  2023年11月27日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道,北海道大学   国名:日本国  

  20. 反射レンズを用いたX線顕微鏡の高分解能化

    松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2023  2023年11月27日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:北海道,北海道大学   国名:日本国  

  21. 面内回転試料のX線顕微鏡画像群を用いた教師なし学習ベースのブラインドデコンボリューション

    栗本晋之介,井上陽登,伊藤俊希,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2023  2023年11月27日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道,北海道大学   国名:日本国  

  22. 17.5keV用多層膜AKBミラーを用いた大開口数X線顕微鏡の開発

    伊藤颯希,表和彦,廣瀬雷太,井上陽登,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2023  2023年11月27日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道,北海道大学   国名:日本国  

  23. 超高分解能結像型X線顕微鏡のためのアダプティブミラー光学系の開発

    井上陽登,中林荘太,田中優人,上松航太,加納愛彩,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2023  2023年11月27日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道,北海道大学   国名:日本国  

  24. ビームサイズ可変X線光学系のための単結晶圧電素子を使った形状可変ミラーの開発

    吉水純弥,井上陽登,加納愛彩,中林荘太,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2023  2023年11月27日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道,北海道大学   国名:日本国  

  25. 面内回転試料のX線顕微鏡画像群を用いた教師なし学習ベースのブラインドデコンボリューション

    栗本晋之介,井上陽登,伊藤俊希,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2023  2023年11月27日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道,北海道大学   国名:日本国  

  26. 17.5keV用多層膜AKBミラーを用いた大開口数X線顕微鏡の開発

    伊藤颯希,表和彦,廣瀬雷太,井上陽登,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2023  2023年11月27日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道,北海道大学   国名:日本国  

  27. 超高分解能結像型X線顕微鏡のためのアダプティブミラー光学系の開発

    井上陽登,中林荘太,田中優人,上松航太,加納愛彩,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2023  2023年11月27日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道,北海道大学   国名:日本国  

  28. Development of X-ray Fourier Ptychography Using Mirror-based Achromatic X-ray Microscope 国際会議

    Toshiki Ito, Takato Inoue, Shinnosuke Kurimoto, Yuto Tanaka, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi and Satoshi Matsuyama

    The 10th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN) 2023  2023年11月21日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:The Hong Kong Polytechnic University, Hong Kong   国名:ホンコン(香港)特別行政区  

  29. Development of a novel deformable X-ray mirror based on a single-crystal piezoelectric element 国際会議

    Junya Yoshimizu, Takato Inoue, Maaya Kano, Sota Nakabayashi, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi and Satoshi Matsuyama

    The 10th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN) 2023  2023年11月21日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:The Hong Kong Polytechnic University, Hong Kong   国名:ホンコン(香港)特別行政区  

  30. Development of X-ray Fourier Ptychography Using Mirror-based Achromatic X-ray Microscope 国際会議

    Toshiki Ito, Takato Inoue, Shinnosuke Kurimoto, Yuto Tanaka, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi and Satoshi Matsuyama

    The 10th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN) 2023  2023年11月21日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:The Hong Kong Polytechnic University, Hong Kong   国名:ホンコン(香港)特別行政区  

  31. Development of a novel deformable X-ray mirror based on a single-crystal piezoelectric element 国際会議

    Junya Yoshimizu, Takato Inoue, Maaya Kano, Sota Nakabayashi, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi and Satoshi Matsuyama

    The 10th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN) 2023  2023年11月21日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:The Hong Kong Polytechnic University, Hong Kong   国名:ホンコン(香港)特別行政区  

  32. 試料回転を用いたブラインドデコンボリューション手法の開発

    栗本晋之介,井上陽登,伊藤俊希,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  33. 試料回転を用いたブラインドデコンボリューション手法の開発

    栗本晋之介,井上陽登,伊藤俊希,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  34. 単結晶圧電素子ベース形状可変ミラーを用いたアダプティブ結像型X線顕微鏡の開発

    中林荘太,井上陽登,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  35. ニオブ酸リチウムを用いた大変形可能なX線形状可変ミラーの開発

    吉水純弥,井上陽登,加納愛彩,中林荘太,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  36. ニオブ酸リチウムを用いた大変形可能なX線形状可変ミラーの開発

    吉水純弥,井上陽登,加納愛彩,中林荘太,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  37. 単結晶圧電素子ベース形状可変ミラーを用いたアダプティブ結像型X線顕微鏡の開発

    中林荘太,井上陽登,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  38. 試料回転を用いたブラインドデコンボリューション手法の開発

    栗本晋之介,井上陽登,伊藤俊希,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  39. 試料回転を用いたブラインドデコンボリューション手法の開発

    栗本晋之介,井上陽登,伊藤俊希,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  40. 単結晶圧電素子ベース形状可変ミラーを用いたアダプティブ結像型X線顕微鏡の開発

    中林荘太,井上陽登,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  41. ニオブ酸リチウムを用いた大変形可能なX線形状可変ミラーの開発

    吉水純弥,井上陽登,加納愛彩,中林荘太,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  42. ニオブ酸リチウムを用いた大変形可能なX線形状可変ミラーの開発

    吉水純弥,井上陽登,加納愛彩,中林荘太,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  43. 単結晶圧電素子ベース形状可変ミラーを用いたアダプティブ結像型X線顕微鏡の開発

    中林荘太,井上陽登,伊藤颯希,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会秋季大会学術講演会  2023年9月12日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:福岡,福岡工業大学   国名:日本国  

  44. Development of ultraprecise X-ray adaptive optical system for high-resolution full-field microscopy 国際会議

    Sota Nakabayashi, Takato Inoue, Kota Uematsu, Yuto Tanaka, Yoshio Ichii, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi and Satoshi Matsuyama

    8th International Conference on X-ray Optics and Applications 2023 (XOPT2023) in OPIC2023  2023年4月18日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Pacifico Yokohama, Kanagawa   国名:日本国  

  45. X-ray Fourier Ptychography using advanced Kirkpatrick-Baez mirrors 国際会議

    Shinnosuke Kurimoto, Takato Inoue, Toshiki Ito, Hitoshi Aoto, Yuto Tanaka, Jumpei Yamada, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi, Satoshi Matsuyama

    8th International Conference on X-ray Optics and Applications 2023 (XOPT2023) in OPIC2023  2023年4月18日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Pacifico Yokohama, Kanagawa   国名:日本国  

  46. Development of ultraprecise X-ray adaptive optical system for high-resolution full-field microscopy 国際会議

    Sota Nakabayashi, Takato Inoue, Kota Uematsu, Yuto Tanaka, Yoshio Ichii, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi and Satoshi Matsuyama

    8th International Conference on X-ray Optics and Applications 2023 (XOPT2023) in OPIC2023  2023年4月18日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Pacifico Yokohama, Kanagawa   国名:日本国  

  47. X-ray Fourier Ptychography using advanced Kirkpatrick-Baez mirrors 国際会議

    Shinnosuke Kurimoto, Takato Inoue, Toshiki Ito, Hitoshi Aoto, Yuto Tanaka, Jumpei Yamada, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi, Satoshi Matsuyama

    8th International Conference on X-ray Optics and Applications 2023 (XOPT2023) in OPIC2023  2023年4月18日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Pacifico Yokohama, Kanagawa   国名:日本国  

  48. 高空間周波数形状制御可能な新規構造の形状可変ミラーの開発

    加納愛彩,井上陽登,中林荘太,上松航太,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会春季大会学術講演会  2023年3月16日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京,東京理科大学葛飾キャンパス   国名:日本国  

  49. X線フーリエタイコグラフィによる超解像イメージング

    伊藤俊希,井上陽登,栗本晋之介,田中優人,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会春季大会学術講演会  2023年3月16日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京,東京理科大学葛飾キャンパス   国名:日本国  

  50. X線顕微鏡のためのin-situ波面計測法の開発~点とエッジを用いた方法の検討~

    伊藤颯希,田中優人,中林荘太,上松航太,井上陽登,栗本晋之介,青戸仁志,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2023年度精密工学会春季大会学術講演会  2023年3月16日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京,東京理科大学葛飾キャンパス   国名:日本国  

  51. 単結晶圧電素子を用いた大変形可能なX線形状可変ミラーの開発

    吉水純弥,井上陽登,中林荘太,上松航太,松山智至

    2023年度精密工学会春季大会学術講演会  2023年3月16日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京,東京理科大学葛飾キャンパス   国名:日本国  

  52. 高空間分解能な結像型X線顕微鏡のためのX線ミラー補償光学系

    田中優人,井上陽登,中林荘太,上松航太,伊藤颯希,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,山内和人,松山智至

    第36回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:滋賀,立命館大学 BKC   国名:日本国  

  53. Advanced Kirkpatrick-Baezミラーを用いたX線フーリエタイコグラフィ

    栗本晋之介,井上陽登,田中優人,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    第36回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:滋賀,立命館大学 BKC   国名:日本国  

  54. X線フーリエタイコグラフィによる超解像イメージング -シミュレーションを用いた様々な誤差の調査-

    伊藤俊希,井上陽登,栗本晋之介,田中優人,松山智至

    第36回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:滋賀,立命館大学 BKC   国名:日本国  

  55. 大視野を持つX線斜入射結像光学系の開発

    入山陽仁,井上陽登,松山智至

    第36回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:滋賀,立命館大学 BKC   国名:日本国  

  56. ニオブ酸リチウムを用いた高精度形状可変ミラーの開発

    中林荘太,井上陽登,上松航太,矢橋牧名,香村芳樹,松山智至

    第36回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:滋賀,立命館大学 BKC   国名:日本国  

  57. Development of an ultraprecise X-ray deformable mirror based on a single-crystal piezoelectric element 国際会議

    Kota Uematsu, Takato Inoue, Sota Nakabayashi, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi and Satoshi Matsuyama

    The 19th International Conference on Precision Engineering (ICPE 2022 in Nara) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年11月 - 2022年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Nara Prefectural Convention Center, Nara   国名:日本国  

  58. 教師なし機械学習を用いたX線顕微鏡像からの波面推定

    青戸仁志,井上陽登,栗本晋之介,田中優人,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2022  2022年11月15日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:栃木, 栃木県総合文化センター   国名:日本国  

  59. 次世代X線顕微鏡のための高精度X線形状可変ミラーの開発

    井上陽登,中林荘太,上松航太,一井愛雄,香村芳樹,矢橋牧名,山内和人,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2022  2022年11月15日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:栃木, 栃木県総合文化センター   国名:日本国  

  60. Advanced Kirkpatrick-Baezミラーを用いたX線フーリエタイコグラフィ

    栗本晋之介,井上陽登,青戸仁志,田中優人,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2022  2022年11月15日  日本光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:栃木, 栃木県総合文化センター   国名:日本国  

  61. Development of a Fourier Ptychography-based wavefront measurement method for mirror-based full-field X-ray microscopes 国際会議

    Y. Tanaka, S. Kurimoto, T. Inoue, J. Yamada, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, and S. Matsuyama

    Asia-Oceania Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation 2022 (AO-SRI 2022)  

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Sakura Hall, Tohoku University, Miyagi   国名:日本国  

  62. Development of ultra precise adaptive X-ray optical imaging system for high-resolution X-ray microscope 国際会議

    Sota Nakabayashi, Takato Inoue, Kota Uematsu, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi and Satoshi Matsuyama

    Asia-Oceania Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation 2022 (AO-SRI 2022)  

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Sakura Hall, Tohoku University, Miyagi   国名:日本国  

  63. 教師なし学習による X 線 顕微鏡画像群からの波面 を推定する手法の開発

    青戸仁志,井上陽登,栗本晋之介,田中優人,松山智至

    2022年度精密工学会秋季大会学術講演会  2022年9月9日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  64. フーリエタイコグラフィに基づいたX線波面計測法の開発

    栗本晋之介,井上陽登,青戸仁志,田中優人,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2022年度精密工学会秋季大会学術講演会  2022年9月9日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  65. ニオブ酸リチウム単結晶を用いたX線用形状可変ミラーの開発 ー第2報:アダプティブ Advanced KBミラー光学系の構築ー

    中林荘太,井上陽登,上松航太,香村芳樹,矢橋牧名,松山智至

    2022年度精密工学会秋季大会学術講演会  2022年9月9日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  66. Development of adaptive multilayer mirror optics for sub-5 nm focusing of a hard X-ray 国際会議

    T. Inoue, S. Matsuyama, Y. Tanaka, A. Ito, Y. Ichii, J. Yamada, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, and K. Yamauchi

    SPIE Optics+Photonics2022 

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    開催年月日: 2022年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:San Diego Convention Center, San Diego, California   国名:アメリカ合衆国  

  67. Development of sub-5-nm focusing system using a multilayer-coated deformable mirror 国際会議

    T. Inoue, S. Matsuyama, Y. Tanaka, A. Ito, Y. Ichii, J. Yamada, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, and K. Yamauchi

    15th International Conference on X-ray Microscopy (XRM2022) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:台湾  

  68. Advanced Kirkpatrick-Baez mirror optics based on Wolter type I and III configurations for hard X-ray full-field microscopy 国際会議

    J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Tanaka, H. Takano, T. Uraga, K. Yamauchi, and M. Yabashi

    15th International Conference on X-ray Microscopy (XRM2022) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:台湾  

  69. Propagation-based phase-contrast imaging with full-field X-ray microscope using advanced Kirkpatrick?Baez mirrors 国際会議

    Y. Tanaka, S. Matsuyama, J. Yamada, T. Inoue, T. Kimura, M. Shimura, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi

    15th International Conference on X-ray Microscopy (XRM2022) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Online   国名:台湾  

  70. XFEL sub-10 nm focusing system based on X-ray imaging mirrors 国際会議

    A. Ito, J. Yamada, S. Matsuyama, T. Inoue, Y. Tanaka, I. Inoue, T. Osaka, Y. Inubushi, H. Yumoto, T. Koyama, H. Ohashi, M. Yabashi, K. Yamauchi

    15th International Conference on X-ray Microscopy (XRM2022) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Online   国名:台湾  

  71. Novel deformable X-ray mirrors based on lithium niobate single crystal 国際会議

    Sota Nakabayashi, Kota Uematsu, Takato Inoue, and Satoshi Matsuyama

    7th International Conference on X-ray Optics and Applications 2022 (XOPT2022) 

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    開催年月日: 2022年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Pacifico Yokohama, Kanagawa   国名:日本国  

  72. Development of mirror-based full-field X-ray microscope toward XANES nano-CT measurement 国際会議

    J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Tanaka, H. Takano, T. Uruga, K. Yamauchi and M. Yabashi

    7th International Conference on X-ray Optics and Applications 2022 (XOPT2022) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Pacifico Yokohama, Kanagawa   国名:日本国  

  73. Propagation-based phase-contrast imaging for full-field X-ray microscope with advanced Kirkpatrick-Baez mirror 国際会議

    Y. Tanaka, S. Matsuyama, T. Inoue, J. Yamada, T. Kimura, M. Shimura, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi

    7th International Conference on X-ray Optics and Applications 2022 (XOPT2022) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Pacifico Yokohama, Kanagawa   国名:日本国  

  74. Beam size characterization method of sub-10 nm focused XFEL using uniform nanospheres 国際会議

    A. Ito, J. Yamada, S. Matsuyama, T. Inoue, Y. Tanaka, I. Inoue, T. Osaka, H. Yumoto, T. Koyama, H. Ohashi, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi

    7th International Conference on X-ray Optics and Applications 2022 (XOPT2022) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Pacifico Yokohama, Kanagawa   国名:日本国  

  75. Development of sub-5 nm focusing system based on piezoelectric deformable mirrors 国際会議

    T. Inoue, S. Matsuyama, Y. Tanaka, A. Ito, Y. Ichii, J. Yamada, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, and K. Yamauchi

    7th International Conference on X-ray Optics and Applications 2022 (XOPT2022) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Pacifico Yokohama, Kanagawa   国名:日本国  

  76. Fabrication of XFEL sub-10 nm focusing optics based on advanced Kirkpatrick-Baez mirrors 国際会議

    J. Yamada, S. Matsuyama, T. Inoue, A. Ito, T. Osaka, I. Inoue, Y. Inubushi, H. Yumoto, T. Koyama, H. Ohashi, K. Yamauchi, and M. Yabashi

    7th International Workshop on Metrology for X-ray Optics, Mirror Design and Fabrication (IWXM2022) 

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    開催年月日: 2022年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:ドイツ連邦共和国  

  77. XFEL sub-10nm focusing system using Wolter type III-based advanced KB mirrors 国際会議

    J. Yamada, S. Matsuyama, T. Inoue, N. Nakamura, Y. Tanaka, A. Ito, T. Osaka, I. Inoue, Y. Inubushi, H. Yumoto, T. Koyama, H. Ohashi, K. Yamauchi, and M. Yabashi

    14th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI2021) 

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    開催年月日: 2022年3月 - 2022年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:ドイツ連邦共和国  

  78. Development of hard X-ray sub-5-nm focusing system with an adaptive multilayer focusing mirror 国際会議

    T. Inoue, S. Matsuyama, Y. Tanaka, Y. Ichii, J. Yamada, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi

    14th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI2021) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年3月 - 2022年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:ドイツ連邦共和国  

  79. Development of image-based wavefront measurement for adaptive full-field X-ray microscopy 国際会議

    Y. Tanaka, S. Matsuyama, T. Inoue, N. Nakamura, J. Yamada, Y. Kohmura, M. Yabashi, K. Omote, T. Ishikawa, and K. Yamauchi

    14th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI2021) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年3月 - 2022年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Online   国名:ドイツ連邦共和国  

  80. 単結晶圧電素子を用いた形状可変ミラーの開発

    上松航太、中林荘太、井上陽登、松山智至

    2022精密工学会春季大会学術講演会  2022年3月15日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  81. 単結晶圧電素子を用いたX線用形状可変ミラーの開発

    中林荘太,上松航太,松山智至

    2022精密工学会春季大会学術講演会  2022年3月15日  精密工学会

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    開催年月日: 2022年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  82. 機械学習を用いたX線顕微鏡像からの波面推定

    青戸仁志,田中優人,松山智至

    2022精密工学会春季大会学術講演会  2022年3月15日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  83. 機械学習を用いたX線顕微鏡像からの波面推定

    青戸仁志,田中優人,松山智至

    第35回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2022年1月8日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年1月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Online   国名:日本国  

  84. 単結晶圧電素子を用いた形状可変ミラーの開発

    上松航太、中林荘太、松山智至

    第35回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2022年1月8日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年1月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Online   国名:日本国  

  85. ミラーベースのX線結像光学システム 招待有り

    松山智至

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2021  2021年10月28日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Online  

  86. 結像型 X 線顕微鏡を用いた位相イメージング手法の開発

    田中優人,松山智至,井上陽登,山田純平,木村隆志,志村まり,香村芳樹,矢橋牧名,石川哲也,山内和人

    日本光学会年次学術講演会 Optics and Photonics Japan 2021  2021年10月26日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online  

  87. Optimization of mirror deformation strategy using mechanical and piezoelectric bending system 国際共著 国際会議

    T. Inoue, Y. Nishioka, S. Matsuyama, J. Sonoyama, K. Akiyama, H. Nakamori, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, L. Assoufid, K. Yamauchi

    SPIE Optics+Photonics2021  2021年8月1日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:online  

  88. Image-based wavefront measurement for full-field X-ray microscopy 国際会議

    Y. Tanaka, S. Matsuyama, T. Inoue, N. Nakamura, J. Yamada, Y. Kohmura, M. Yabashi, K. Omote, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    SPIE Optics+Photonics2021  2021年8月1日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:online  

  89. ミラーベースのX線結像光学システム 招待有り

    松山智至

    SAGA-LSセミナー  2021年7月19日  SAGA-LS

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年7月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  90. 結像型 X 線顕微鏡におけるマルチハイト位相回復法の開発

    田中優人,松山智至,井上陽登,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,石川哲也,山内和人

    2021年度関西地方定期学術講演会  2021年6月30日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年6月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

  91. 形状可変ミラーと多層膜の高次光反射を利用したX 線sub-5 nm集光光学系の開発

    二村浩平,井上陽登,松山智至,田中優人,一井愛雄,山田純平,佐野泰久,香村芳樹,矢橋牧名,石川哲也,山内和人

    2021年度関西地方定期学術講演会  2021年6月30日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年6月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

  92. Single-grating interferometer for hard X-ray sub-10 nm focusing mirror system 国際会議

    J. Yamada, S. Matsuyama, N. Nakamura, T. Inoue, T. Osaka, I. Inoue, H. Yumoto, T. Koyama, H. Ohashi, K. Yamauchi, and M. Yabashi

    6th International Conference on X-ray Optics and Applications 2021 (XOPT2021)   2021年4月19日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:online  

  93. Development of wavefront sensing in full-field X-ray microscopy 国際会議

    Y. Tanaka, S. Matsuyama, T. Inoue, N. Nakamura, J. Yamada, Y. Kohmura, M. Yabashi, K. Omote, T. Ishikawa, and K. Yamauchi

    6th International Conference on X-ray Optics and Applications 2021 (XOPT2021)   2021年4月19日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:online  

  94. Optimization of mirror deformation method for hybrid bender combining mechanical and piezoelectric bending 国際会議

    Y. Nishioka, T. Inoue, S. Matsuyama, J. Sonoyama, K. Akiyama, H. Nakamori, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

    6th International Conference on X-ray Optics and Applications 2021 (XOPT2021)   2021年4月19日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:online  

  95. Development of sub-5 nm focusing system based on precise deformable mirrors 国際会議

    T. Inoue, S. Matsuyama, Y. Tanaka, K. Futamura, Y. Ichii, J. Yamada, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi

    6th International Conference on X-ray Optics and Applications 2021 (XOPT2021)   2021年4月19日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:online  

  96. 複数の凸⾯鏡を持つ⾼度な硬 X 線結像光学系の開発(第⼀報)

    松⼭智⾄,波多健太郎,⼭内和⼈

    2021年度精密工学会春季大会学術講演会  2021年3月16日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  97. 結像型 X 線顕微鏡における波⾯計測⼿法の開発

    ⽥中優⼈,松⼭智⾄,井上陽登,中村南美,⼭⽥純平, ⾹村芳樹,⽮橋牧名,表和彦,⽯川哲也,⼭内和⼈

    2021年度精密工学会春季大会学術講演会  2021年3月16日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  98. 圧電素⼦駆動型形状可変ミラーを⽤いた X 線 sub-5 nm 集光システムの開発

    井上陽登,松⼭智⾄,⽥中優⼈,⼆村浩平,⼀井愛雄,⼭⽥純平,佐野泰久,⾹村芳樹,⽮橋牧名(,⽯川哲也,⼭内和 ⼈

    2021年度精密工学会春季大会学術講演会  2021年3月16日  精密工学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  99. X 線結像ミラーベースの高分解能 X 線顕微鏡 招待有り

    松山智至

    ISSPワークショッフ゜「先端軟X線科学への基幹技術」  2021年3月4日  東京大学物性研究所

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  100. 結像型 X 線顕微鏡における in-situ 波面計測手法の開発

    田中優人,松山智至,井上陽登,中村南美,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,表和彦,石川哲也,山内和人

    第34回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2021年1月8日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  101. Wolter III 型 advanced KBミラーによる XFEL sub-10 nm 集光光学系の開発

    山田純平,松山智至,井上陽登,中村南美,田中優人,大坂泰斗,井上伊知郎,犬伏雄一,湯本博勝,小山貴久,大橋治彦,山内和人,矢橋牧名

    第34回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2021年1月8日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  102. コヒーレントX線散乱を用いたXFELナノビーム強度プロファイルの再構成

    中村南美,松山智至,山田純平,井上陽登,井上伊知郎,矢橋牧名,石川哲也,山内和人

    第34回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2021年1月8日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  103. X線ミラーを用いたsub-5nm集光システムの開発

    井上陽登,松山智至,一井愛雄,山田純平,佐野泰久,山内和人

    第34回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2021年1月8日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

  104. XFELの反射型セルフシード用マイクロチャネルカット結晶の大気圧プラズマによる内壁無歪み化 -ワイヤ電極を用いた高能率エッチング条件の検討-

    松村正太郎, 中野勝太, 佐野泰久, 大坂泰斗, 井上伊知郎,松山智至,山内和人, 矢橋牧名

    第34回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム  2021年1月8日  日本放射光学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online   国名:日本国  

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科研費 36

  1. X線結像ミラーを用いた次世代X線結像顕微鏡の開発

    2017年

      詳細を見る

    資金種別:産学連携による資金

  2. 高精度反射結像レンズを用いたnmスケール分解能X線顕微鏡の開発

    2017年

    科学技術振興機構 

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    資金種別:その他

  3. 色収差のない結像型X線顕微鏡の開発と顕微分光への応用

    2015年

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    資金種別:産学連携による資金

  4. 新規構造を持つ高精度形状可変鏡の開発

    研究課題/研究課題番号:22K18752  2022年6月 - 2024年3月

    科学研究費助成事業  挑戦的研究(萌芽)

    松山 智至

      詳細を見る

    担当区分:研究代表者 

    配分額:6370000円 ( 直接経費:4900000円 、 間接経費:1470000円 )

    X線光学では,波長が1nm~1ÅのX線を扱うため,理想的な実験をしようとすると,非常に高い形状精度を持つ鏡が必要である.しかし,現在の最先端技術をもってしても鏡の作製には2nm前後の誤差が生じてしまう.このような鏡の形状誤差は,X線の波面を歪めるため,集光や結像などの高度な実験を困難にする.本研究では自由かつ高精度に変形できる鏡(形状可変鏡)を実現し,その形状をX線照射下でその場調整することでこの課題を克服する.高い完成度でX線領域の補償光学を実現すべく,全く新しい構造を持つ形状可変鏡を提案し,Åオーダーの精度と安定性の達成に挑む.

  5. 新規結像ミラー光学系を用いた大視野X線顕微鏡の開発

    研究課題/研究課題番号:22H03866  2022年4月 - 2025年3月

    科学研究費助成事業  基盤研究(B)

    松山 智至

      詳細を見る

    担当区分:研究代表者 

    配分額:17420000円 ( 直接経費:13400000円 、 間接経費:4020000円 )

    実用的なX線顕微分光を実施するために,大視野,高空間分解能,高効率,色収差なしを実現できる新しいX線顕微鏡を開発する.これまで像面湾曲収差によって大視野化が難しかったX線結像ミラー光学系において,像面湾曲収差をキャンセルさせることができる新規結像光学系を実現する.本顕微鏡を大型放射光施設にインストールし,実用的なXAFS顕微鏡のデモンストレーション実験を実施する.

  6. 伝播波面の精密制御によるコヒーレントX線のナノビーム形成

    研究課題/研究課題番号:21H05004  2021年7月 - 2025年3月

    科学研究費助成事業  基盤研究(S)

    山内 和人, 松山 智至, 山田 純平, 佐野 泰久, 藤 大雪

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    担当区分:研究分担者 

    X線自由電子レーザーや次世代の蓄積リング型X線源から得られる空間的にコヒーレントなX線を極限まで活用することができるナノビームを形成し、X線非線形光学や高分解能X線顕微鏡科学などの未踏の学術分野を開拓する。特に光学系の開発では、X線集光の課題であるコマ収差を効果的に抑制できる凸凹面複合ミラー光学系を実現し、波動光学を駆使した補償光学に基づく波面の精密制御を行うことによって、コヒーレントX線の極限サイズ(10nm以下)のナノビームを実現する。

  7. X線顕微鏡のためのアダプティブ反射レンズの開発

    研究課題/研究課題番号:20K21146  2020年7月 - 2022年3月

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  挑戦的研究(萌芽)

    松山 智至

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    担当区分:研究代表者 

    配分額:6370000円 ( 直接経費:4900000円 、 間接経費:1470000円 )

    X線顕微鏡は透過力が高いため,厚い試料の内部や水中・ガス中などの実環境下での観察に威力を発揮する.また,X線は波長が短いため原理的に高分解能を実現できる.さらに,その高いエネルギーを活かして分析も可能である.一方で,X線は短波長であるため,光学素子作製が難しい.また,分解能向上のためには開口数を大きく設計する必要があるが,開口数に比例して素子作製は難しくなる.本研究では,アダプティブ反射レンズを開発することで,この問題を解決する.本反射レンズは圧電素子が取り付けられており,形状を自由かつ高精度に変えられる.超高分解能X線顕微鏡を実現することを目指し,アダプティブ反射レンズを試作する.
    X線は高透過力・短波長であるため,これを用いて顕微鏡を構築できれば,物質科学・生物学などの分野でブレイクスルーが期待される.しかし,その性能を決定づけるX線レンズはまだまだ開発の余地が多く,世界各国で研究開発が行われている.本研究では,反射型のX線レンズに注目し,その高性能化のために,専用の高精度形状可変ミラーを設計・シミュレーション・試作・性能評価を実施した.試作した形状可変ミラーは,1nm以下という高い精度で形状を変形することができた(可視光干渉計に計測).実際にX線集光光学系に組み込んで,その性能を評価したところ,λ/4程度まで波面収差を修正することに成功した.
    本研究では,X線顕微鏡の性能を大幅に向上可能な形状可変ミラーを開発した.本ミラーをX線顕微鏡の反射レンズに組み込むことで,空間分解能をさらに小さくすることができる.これまで見ることができなかった様々な試料・現象を高精細に観察することができるようになり,例えば,触媒や電池,半導体デバイスの内部観察に力を発揮できる.これらの観察を足掛かりに高性能な触媒・電池半導体デバイスなどを開発することが可能となる.

  8. 高精度形状可変ミラー光学系の構築とX線自由電子レーザーのアダプティブ集光

    研究課題/研究課題番号:16H06358  2020年

    日本学術振興会 

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    資金種別:産学連携による資金

  9. 高精度形状可変ミラー光学系の構築とX線自由電子レーザーのアダプティブ集光

    研究課題/研究課題番号:16H06358  2019年

    日本学術振興会 

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    資金種別:産学連携による資金

  10. X線結像ミラーを用いた次世代X線結像顕微鏡の開発

    研究課題/研究課題番号:17H01073  2017年4月 - 2022年3月

    科学研究費助成事業  基盤研究(A)

    松山 智至

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    担当区分:研究代表者 

    配分額:41860000円 ( 直接経費:32200000円 、 間接経費:9660000円 )

    本研究では,キーデバイスであるAdvanced Kirkpatrick-Baez結像ミラーを世界に先駆けて開発することで,高性能な結像型X線顕微鏡の実現を目指した.
    様々な観点から結像ミラーを設計・シミュレーションし,最適化したものを試作した.多層膜コーティングをすることで8keVのX線に対応した反射型レンズを開発した.SPring-8にてX線顕微鏡を構築しその性能を評価したところ,20nm構造を解像することができた.結像ミラーを用いたX線顕微鏡において世界最小分解能を達成することができた.
    高分解能なX線顕微鏡を開発できた点と,さらなる高分解能化のための足掛かりを得ることができた点が,本研究の主要な成果である.本研究がさらに進むことで,これまでは見ることができなかった試料や現象を高精細に可視化・分析し,その理解を深めることで新しい科学を拓くことが可能となる.例えば,昨今注目されている電池や触媒の挙動を詳細に可視化・分析することで,その性能を飛躍的に高めるなどが期待される.

  11. 高精度形状可変ミラー光学系の構築とX線自由電子レーザーのアダプティブ集光

    研究課題/研究課題番号:16H06358  2016年5月 - 2021年3月

    山内 和人

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    担当区分:研究分担者 

    本年度は,目的達成のための要素技術である以下の5つの項目を中心に実施した.
    ①XFEL照射に対応可能な大面積ナノ精度加工の高度化:昨年度に引き続き,大型ミラー対応可能な3次元形状計測機や干渉計を高性能化した.これと数値制御EEMや差分成膜法を高度に連携させることで,ミラー形状を1nmの精度で修正する技術を確立した.大型形状可変ミラーだけでなく大型集光ミラーを高い形状精度で作製することが可能となった.
    ②XFELに最適化された2段集光光学系の提案とデモ実験:既存のズームコンデンサーは2組のアダプティブKBミラーで構成されていたが,新たにコンパクトかつ制御性のよい新規ズームコンデンサーを提案した.本光学系では,形状可変ミラーを凸面鏡から凹面鏡やその逆に変形させることでアダプティブ集光を行う.シミュレーションの結果,期待されるビーム径可変集光を実現できることが分かった.SPring-8にてデモ実験を実施したところ,予想したビーム径変化を確認した.
    ③ピエゾ素子の変形ドリフトの抑制法の高度化:形状可変ミラーに搭載しているピエゾ素子の変形ドリフトを抑制するために,特別な電圧パターンを印加する方法を研究した.また,単結晶圧電素子を用いた形状可変ミラーを試作しその動作を調べた.これらは変形ドリフトの抑制効果が見られ,形状可変ミラーのさらなる安定性向上が可能となった.
    ④波面計測法・集光ビーム径評価法の高度化:X線集光ミラーの形状誤差を高精度に決定するために必要となるX線波面計測法をテストした.ペンシルビーム法,グレーチング干渉計,タイコグラフィ法の精度を検証した.また,XFELにおける集光ビームの評価法として,スペックル計測法や蛍光X線の強度干渉計測などを試み,それぞれの精度について研究した.
    大型形状可変ミラーやそれに関わる要素技術の開発が順調に進んでいる.また,新型のズームコンデンサー光学系を提案し,そのデモ実験に成功した.これによって,本研究の応用範囲が広がった.
    今後の予定として,①新型形状可変ミラーを使ったアダプティブ集光のテスト,②新型形状可変ミラーの機械式ベント部分の高性能化,③波面計測法や集光ビーム径評価法の高度化 を中心に進める予定である.完成度の高い集光システムの完成を目指し,高精度かつユニークな要素技術の開発を進めていく.

  12. 高精度形状可変ミラー光学系の構築とX線自由電子レーザーのアダプティブ集光

    研究課題/研究課題番号:16H06358  2016年

    日本学術振興会 

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    資金種別:産学連携による資金

  13. コヒーレントX線による走査透過X線顕微鏡システムの構築と分析科学への応用

    2015年

    JST 

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    資金種別:その他

  14. コヒーレントX線による走査透過X線顕微鏡システムの構築と分析科学への応用

    2014年

    JST 

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    資金種別:その他

  15. 色収差のない結像型X線顕微鏡の開発と顕微分光への応用

    2014年

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    資金種別:産学連携による資金

  16. XFELとパワーレーザーによる新極限物質材料の探索

    2014年

    文部科学省, 科学技術振興機構 

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    資金種別:その他

  17. 高精度X線ミラー作製のための新規形状創生プロセスの開発

    2014年

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    資金種別:産学連携による資金

  18. 新規2段非球面ミラーを用いた色収差のない結像型硬X線顕微鏡の開発

    2013年

    コニカミノルタ科学技術振興財団 

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    資金種別:産学連携による資金

  19. コヒーレントX線による走査透過X線顕微鏡システムの構築と分析科学への応用

    2013年

    JST 

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    資金種別:その他

  20. XFELとパワーレーザーによる新極限物質材料の探索

    2013年

    文部科学省, 科学技術振興機構 

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    資金種別:その他

  21. 高精度X線ミラー作製のための新規形状創生プロセスの開発

    2013年

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    資金種別:産学連携による資金

  22. コヒーレントX線による走査透過X線顕微鏡システムの構築と分析科学への応用

    2012年

    JST 

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    資金種別:その他

  23. XFELとパワーレーザーによる新極限物質材料の探索

    2012年

    文部科学省, 科学技術振興機構 

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    資金種別:その他

  24. コヒーレントX線による走査透過X線顕微鏡システムの構築と分析科学への応用

    2011年

    JST 

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    資金種別:その他

  25. 新規2段非球面ミラーを用いた高分解能X線結像光学系の開発

    2011年

    大阪大学大学院工学研究科若手教員専門力アッププロジェクト 

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    資金種別:その他

  26. 補償光学系を駆使した多段光学系によるX線自由電子レーザーのナノメートル集光

    2011年

    日本学術振興会 

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    資金種別:産学連携による資金

  27. 高密度X線ナノビーム形成と走査型蛍光X線顕微鏡への応用

    2011年

    日本学術振興会 

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    資金種別:産学連携による資金

  28. コヒーレントX線による走査透過X線顕微鏡システムの構築と分析科学への応用

    2010年

    JST 

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    資金種別:その他

  29. 新規X線集光光学系による細胞内元素分布の高速・高感度イメージング

    2010年

    日本学術振興会 

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    資金種別:産学連携による資金

  30. サブ50nm空間分解能を持つX線顕微鏡開発を可能にするアクロマティックX線結像光学系の開発

    2010年

    財団法人 池谷科学技術振興財団 

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    資金種別:その他

  31. 空間分解能30nmを持つアクロマティック硬X線顕微鏡の開発

    2010年

    大阪大学,“飛翔30”若手プログラム 

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    資金種別:産学連携による資金

  32. 4枚の非球面ミラーを用いた結像型硬X線顕微鏡の開発

    2010年

    科学技術振興機構,産学イノベーション加速事業【先端計測分析技術・機器開発】要素技術プログラム 

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    資金種別:その他

  33. 新規X線集光光学系による細胞内元素分布の高速・高感度イメージング

    2009年

    日本学術振興会 

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    資金種別:産学連携による資金

  34. 細胞イメージングのための30nmの分解能を持つ硬X線照射型可視共焦点顕微鏡の開発

    2008年

    文部科学省 

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    資金種別:産学連携による資金

  35. 細胞内元素アレイ解析の臨床応用に向けた基盤研究

    2008年

    厚生労働省 

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    資金種別:その他

  36. 細胞イメージングのための30nmの分解能を持つ硬X線照射型可視共焦点顕微鏡の開発

    2007年

    文部科学省 

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    資金種別:産学連携による資金

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担当経験のある科目 (本学以外) 9

  1. 精密工学演習 II

    2020年

  2. 精密工学演習I

    2020年

  3. 精密工学演習 IV

    2020年

  4. 精密工学演習 III

    2020年

  5. 物理学実験

    2017年

  6. 精密科学の世界I

    2015年

  7. 精密科学の世界I

    2014年

  8. 情報活用基礎A

    2013年

  9. 情報活用基礎A

    2012年

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社会貢献活動 1

  1. 放射光X線を用いた究極の分析技術

    役割:講師

    豊田西高等学校  豊西総合大学  2021年11月