2024/08/27 更新

写真a

ウサミ ノリタカ
宇佐美 徳隆
USAMI Noritaka
所属
大学院工学研究科 物質プロセス工学専攻 物質創成工学 教授
大学院担当
大学院工学研究科
学部担当
工学部 マテリアル工学科
職名
教授
連絡先
メールアドレス

学位 1

  1. 博士(工学) ( 1998年1月   東京大学 ) 

研究キーワード 4

  1. 結晶成長

  2. 多結晶材料情報学

  3. 欠陥制御

  4. 太陽電池

研究分野 3

  1. ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学

  2. ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性

  3. ナノテク・材料 / 結晶工学

現在の研究課題とSDGs 4

  1. 多結晶材料情報学の学理構築と高品質多結晶材料創製

  2. 脱炭素社会の早期実現に向けた次世代太陽電池に関する研究

  3. 非真空プロセスによるシリコン系多元混晶材料のエピタキシャル成長

  4. 量子計算機用高品質半導体基板創製に関する研究

経歴 10

  1. 名古屋大学   大学院工学研究科   教授

    2013年4月 - 現在

  2. 名古屋大学   未来社会創造機構脱炭素社会創造センター   教授

    2022年4月 - 現在

  3. 内閣府   政策統括官(科学技術・イノベーション担当)付 総合科学技術・イノベーション会議事務局   上席科学技術政策フェロー

    2018年4月 - 2020年3月

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    国名:日本国

  4. 名古屋大学   未来材料・システム研究所 附属未来エレクトロニクス集積研究センター   教授

    2017年4月 - 2027年3月

  5. 筑波大学大学院数理物質科学研究科非常勤講師

    2015年10月 - 2016年3月

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    国名:日本国

  6. 東北大学流体科学研究所客員教授

    2013年5月 - 2017年3月

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    国名:日本国

  7. 東北大学   金属材料研究所   准教授

    2007年4月 - 2013年3月

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    国名:日本国

  8. 東北大学   金属材料研究所   助教授

    2000年2月 - 2007年3月

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    国名:日本国

  9. ドレスデン工大   応用光物理研究所   客員研究員

    1998年3月 - 1999年1月

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    国名:ドイツ連邦共和国

  10. 東京大学   先端科学技術研究センター   助手

    1994年7月 - 2000年1月

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    国名:日本国

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学歴 3

  1. 東京大学   工学系研究科   物理工学専攻

    1993年4月 - 1994年7月

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    国名: 日本国

  2. 東京大学   工学系研究科   物理工学専攻

    1991年4月 - 1993年3月

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    国名: 日本国

  3. 東京大学   工学部   物理工学科

    1987年4月 - 1991年3月

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    国名: 日本国

所属学協会 6

  1. 日本太陽光発電学会   理事,前会長

    2020年10月 - 現在

  2. 応用物理学会   元理事

    1991年3月 - 現在

  3. 日本金属学会   東海支部理事

  4. 日本結晶成長学会   会員

  5. Material Research Society

  6. 日本MRS水素科学技術連携研究会

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委員歴 30

  1. 11th International Workshop on Modeling in Crystal Growth   Member of the international advisory committee  

    2023年12月 - 現在   

  2. 半導体の結晶成長と加工および評価に関する産学連携委員会   委員  

    2023年4月 - 現在   

  3. The 35th International Photovoltaic Science and Engineering Conference   プログラム副委員長  

    2023年4月 - 2025年3月   

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    団体区分:その他

  4. 新潟大学カーボンニュートラル融合技術研究センター   運営委員  

    2022年10月 - 現在   

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    団体区分:その他

  5. 10th International Workshop on Modeling in Crystal Growth   Member of the International Advisory Committee  

    2022年4月 - 2023年3月   

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    団体区分:その他

  6. 3rd International Symposium on Crytal Growth Processes and Devices   Member of Scientific Advisory Committee  

    2022年4月 - 2023年3月   

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    団体区分:学協会

  7. Indo-Japan Joint Workshop on Photovoltaics   Convenor  

    2022年4月 - 2023年3月   

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    団体区分:学協会

  8. NIMS次期拠点プロジェクト   外部評価委員  

    2021年10月 - 現在   

  9. APAC Silicide 2022   Program committee member  

    2021年9月 - 2023年3月   

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    団体区分:学協会

  10. 宮﨑大学テニュアトラック教員選考評価委員会   委員  

    2021年9月   

  11. 日本学術振興会産学協力委員会R032産業イノベーションのための結晶成長委員会   運営委員  

    2021年7月 - 現在   

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    団体区分:学協会

  12. 9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces   International Program Committee  

    2021年4月 - 2023年3月   

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    団体区分:学協会

  13. 多結晶材料情報学応用技術研究会   座長  

    2021年4月 - 2023年3月   

  14. 新エネルギー・産業技術総合開発機構   技術委員  

    2021年1月 - 2026年3月   

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    団体区分:その他

  15. 次世代の太陽光発電シンポジウム   プログラム委員  

    2020年10月 - 現在   

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    団体区分:学協会

  16. 日本太陽光発電学会次世代セル・モジュール分科会   幹事  

    2020年10月 - 現在   

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    団体区分:学協会

  17. International Advisory Committee of the International Photovoltaic Science and Engineering Conference   member  

    2020年8月 - 現在   

  18. International Advisory Committee of World Conference on Photovoltaic Energy Conversion   member  

    2020年8月 - 現在   

  19. The 22nd International Vacuum Congress   Chair of sub-program committee, Electronic Materials and Processing  

    2020年4月 - 2023年3月   

  20. 第8回シリコン材料の先端科学と技術国際シンポジウム   実行委員  

    2020年4月 - 2023年3月   

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    団体区分:学協会

  21. The 8th Asian Conference on Crystal Growth and Crystal Technology   Co-Chair of Program and Award Selection Committee  

    2019年 - 2021年3月   

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    団体区分:その他

  22. The 33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference   General Chair of Organizing Committee  

    2018年12月 - 2023年3月   

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    団体区分:その他

  23. Member of the international advisory committee  

    2018年4月 - 2022年4月   

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    団体区分:学協会

  24. The 10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells   Co-Chair of the organizing committee  

    2016年4月 - 2018年4月   

  25. 東北大学金属材料研究所研究部共同利用委員会   委員  

    2016年4月 - 2018年3月   

  26. 東北大学産学連携先端材料研究開発センター運営評議委員会   委員  

    2015年4月 - 2019年3月   

  27. 日本学術振興会結晶加工と評価技術第145委員会   幹事  

    2013年 - 2023年3月   

  28. 日本学術振興会次世代の太陽光発電システム第175委員会   副委員長  

    2009年 - 2020年3月   

  29. International Advisory Committee of the International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells   member  

    2006年10月 - 現在   

  30. 日本学術振興会結晶成長の科学と技術第161委員会   幹事長代理  

    2000年 - 2021年3月   

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受賞 11

  1. 科学技術分野の文部科学大臣表彰 科学技術賞(研究部門)

    2022年4月   文部科学省  

  2. 応用物理学会フェロー

    2021年9月   応用物理学会   シリコン系材料の多様な結晶成長とデバイス応用に関する研究

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    受賞区分:国内学会・会議・シンポジウム等の賞 

  3. Photo & Illustration Contest 最優秀賞

    2018年9月   応用物理学会   Semicondoctor Nanoflower

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    受賞区分:国内学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  4. SiliconPV Award

    2018年3月   SiliconPV 2018   3D Visualization and Analysis of Dislocation Clusters in Multicrystalline Si Ingot by Approach of Data Science

    Y. Hayama, T. Muramatsu, T. Matsumoto, K. Kutsukake, H. Kudo, N. Usami

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    受賞区分:国際学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:スイス連邦

  5. イノベイティブPV論文賞

    2017年7月   独立行政法人日本学術振興会   多結晶材料情報学によるスマートシリコンインゴットの創製に向けて

    "宇佐美徳隆、羽山優介、髙橋勲、松本哲也、工藤博章、横井達矢、松永克志、沓掛健太朗、大野裕 "

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    受賞区分:国内学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  6. The best poster award

    2012年6月  

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    受賞国:アメリカ合衆国

  7. The best paper award

    2009年11月  

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    受賞国:大韓民国

  8. インテリジェント・コスモス奨励賞

    2008年8月   財団法人インテリジェント・コスモス学術振興財団  

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    受賞国:日本国

  9. 安藤博記念学術奨励賞

    2000年7月   一般財団法人安藤研究所  

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    受賞国:日本国

  10. Engineering Conference Foundation Fellowship on Silicon Heterostructrues

    1997年9月  

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    受賞国:アメリカ合衆国

  11. Young Researcher Award of International Conference on Solid State Devices and Materials

    1993年8月  

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    受賞国:日本国

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論文 559

  1. Exploring mc-Silicon Wafers: Utilizing Machine Learning to Enhance Wafer Quality Through Etching Studies 招待有り 査読有り 国際共著

    Madhesh Raji, Sreeja Balakrishnapillai Suseela, Srinivasan Manikkam, Gowthami Anbazhagan, Kentaro Kutsukake, Keerthivasan Thamotharan, Ramadoss Rajavel, Noritaka Usami, Ramasamy Perumalsamy

    Crystal Research and Technology     頁: 2300279-1 - 2300279-12   2024年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  2. Core-shell yarn-structured triboelectric nanogenerator for harvesting both waterdrop and biomechanics energies

    Wang, HT; Kurokawa, Y; Zhang, JH; Gotoh, K; Liu, X; Miyamoto, S; Usami, N

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   17 巻 ( 1 )   2024年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/ad1f06

    Web of Science

  3. Investigating impurities and surface properties in germanium co-doped multi-crystalline silicon: a combined computational and experimental investigation 国際共著

    Keerthivasan, T; Anbu, G; Srinivasan, M; Kojima, T; Rath, JK; Usami, N; Vijayan, N; Madhesh, R; Balaji, C; Singh, M; Rao, C; Ramasamy, P

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE-MATERIALS IN ELECTRONICS   35 巻 ( 1 )   2024年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s10854-023-11750-7

    Web of Science

  4. Pioneering Multicrystalline Informatics 招待有り 査読有り

    Noritaka USAMI

    JSAP Review     2024年1月

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    担当区分:筆頭著者, 最終著者, 責任著者   記述言語:英語  

  5. Microstructural, electrical, and optoelectronic properties of BaSi2 epitaxial films grown on Si substrates by close-spaced evaporation 査読有り 国際誌

    Hara Kosuke O., Takagaki Ryota, Arimoto Keisuke, Usami Noritaka

    JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS   966 巻   2023年12月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jallcom.2023.171588

    Web of Science

  6. Free-Standing Electrode and Fixed Surface Tiny Electrode Implemented Triboelectric Nanogenerator with High Instantaneous Current 査読有り 国際共著

    Haitao Wang, Yasuyoshi Kurokawa, Jia Wang, Wentao Cai, Jia-Han Zhang, Shinya Kato, Noritaka Usami

    Small     頁: 2308531-1 - 2308531-9   2023年12月

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    担当区分:最終著者, 責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1002/smll.202308531

  7. Multicrystalline Informatics Applied to Multicrystalline Silicon for Unraveling The Microscopic Root Cause of Dislocation Generation 査読有り

    Kenta Yamakoshi, Yutaka Ohno, Kentaro Kutsukake, Takuto Kojima, Tatsuya Yokoi, Hideto Yoshida, Hiroyuki Tanaka, Xin Liu, Hiroaki Kudo, Noritaka Usami

    Advanced Materials     頁: 2308599-1 - 2308599-13   2023年12月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者, 責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1002/adma.202308599

  8. Hydrogenation of silicon-nanocrystals-embedded silicon oxide passivating contacts 招待有り 査読有り 国際誌

    Masashi Matsumi, Kazuhiro Gotoh, Markus Wilde, Yasuyoshi Kurokawa, Katsuyuki Fukutani and Noritaka Usami

    Nanotechnology     2023年11月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1088/1361-6528/ad115d

  9. Nanoscale Size Control of Si Pyramid Texture for Perovskite/Si Tandem Solar Cells Enabling Solution‐Based Perovskite Top‐Cell Fabrication and Improved Si Bottom‐Cell Response 査読有り 国際誌

    Yuqing Li, Hitoshi Sai, Calum McDonald, Zhihao Xu, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami, Takuya Matsui

    Advanced Materials Interfaces     頁: 2300504-1 - 2300504-9   2023年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1002/admi.202300504

  10. Improvement of passivation performance of silicon nanocrystal/silicon oxide compound layer by two-step hydrogen plasma treatment 査読有り 国際誌

    Masashi Matsumi, Kazuhiro Gotoh, Markus Wilde, Yasuyoshi Kurokawa, Katsuyuki Fukutani, Noritaka Usami

    Solar Energy Materials and Solar Cells   262 巻   頁: 112358-1 - 112358-6   2023年9月

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    担当区分:最終著者, 責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1016/j.solmat.2023.112538

  11. Thermoelectric properties of Mg2Si thin films prepared by thermal evaporation of Mg and face-to-face annealing 査読有り 国際誌

    Kurokawa Yasuyoshi, Sato Kaisei, Shibata Keisuke, Kato Shinya, Miyamoto Satoru, Gotoh Kazuhiro, Itoh Takashi, Usami Noritaka

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   163 巻   2023年8月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.mssp.2023.107552

    Web of Science

  12. Impact of B2H6 plasma treatment on contact resistivity in silicon heterojunction solar cells 査読有り 国際誌

    Gotoh Kazuhiro, Ozaki Ryo, Morimura Motoo, Tanaka Aki, Iseki Yoshiko, Nakamura Kyotaro, Muramatsu Kazuo, Kurokawa Yasuyoshi, Ohshita Yoshio, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 巻 ( SK )   2023年8月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/acc953

    Web of Science

  13. Quantitative evaluation of implied open-circuit voltage after metal electrode deposition on TiO (x) /Si heterostructures by photoluminescence imaging: impact of metallization on passivation performance 査読有り 国際誌

    Fukaya Shohei, Gotoh Kazuhiro, Matsui Takuya, Sai Hitoshi, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 巻 ( SK )   2023年8月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/acc813

    Web of Science

  14. 3D CNN and grad-CAM based visualization for predicting generation of dislocation clusters in multicrystalline silicon 査読有り 国際誌

    Kyoka Hara, Takuto Kojima, Kentaro Kutsukake, Hiroaki Kudo, and Noritaka Usami

    APL Machine Learning   1 巻   頁: 036106-1 - 036106-9   2023年7月

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    担当区分:最終著者, 責任著者   記述言語:英語  

    DOI: https://doi.org/10.1063/5.0156044

  15. A machine learning-based prediction of crystal orientations for multicrystalline materials 査読有り 国際誌

    Kyoka Hara, Takuto Kojima, Kentaro Kutsukake, Hiroaki Kudo, and Noritaka Usami

    APL Machine Learning   1 巻   頁: 026113-1 - 026113-9   2023年5月

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    担当区分:最終著者, 責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1063/5.0138099

  16. Fabrication of light trapping structures specialized for near-infrared light by nanoimprinting for the application to thin crystalline silicon solar cells 査読有り 国際誌

    Kimata Yuto, Gotoh Kazuhiro, Miyamoto Satoru, Kato Shinya, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    DISCOVER NANO   18 巻 ( 1 )   2023年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1186/s11671-023-03840-6

    Web of Science

  17. Preparation and thermoelectric characterization of boron-doped Si nanocrystals/silicon oxide multilayers 査読有り 国際誌

    Shibata Keisuke, Kato Shinya, Kurosawa Masashi, Gotoh Kazuhiro, Miyamoto Satoru, Usami Noritaka, Kurokawa Yasuyoshi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 巻 ( SC ) 頁: SC1074   2023年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/acb779

    Web of Science

  18. Performance enhancement of droplet-based electricity generator using a CYTOP intermediate layer 査読有り 国際誌

    Wang Haitao, Kurokawa Yasuyoshi, Gotoh Kazuhiro, Kato Shinya, Yamada Shigeru, Itoh Takashi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 巻 ( SC ) 頁: SC1032   2023年4月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/acaca7

    Web of Science

  19. The impact on mc-Si ingot grown in a directional solidification furnace by partially replacing the susceptor bottom with an insulation material: A numerical investigation 査読有り 国際共著 国際誌

    Keerthivasan T., Liu Xin, Srinivasan M., Usami Noritaka, Anbu G., Aravindan G., Ramasamy P.

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   607 巻   頁: 127130-1 - 127130-7   2023年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2023.127130

    Web of Science

  20. Bayesian optimization of hydrogen plasma treatment in silicon quantum dot multilayer and application to solar cells 査読有り 国際誌

    Fuga Kumagai, Kazuhiro Gotoh, Satoru Miyamoto, Shinya Kato, Kentaro Kutsukake, Noritaka Usami and Yasuyoshi Kurokawa

    Discover Nano   43 巻   2023年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1186/s11671-023-03821-9

  21. Evaluation of Damage in Crystalline Silicon Substrate Induced by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Amorphous Silicon Films 査読有り 国際誌

    Kojima H., Nishihara T., Gotoh K., Usami N., Hara T., Nakamura K., Ohshita Y., Ogura A.

    ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY   12 巻 ( 1 ) 頁: 015003   2023年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1149/2162-8777/acb4bb

    Web of Science

  22. Influence of post-oxidizing treatment on passivation performance on the spin-coated titanium oxide films on crystalline silicon 査読有り 国際誌

    Luo Hao, Nguyen Van Hoang, Gotoh Kazuhiro, Ajito Saya, Hojo Tomohiko, Kurokawa Yasuyoshi, Akiyama Eiji, Usami Noritaka

    THIN SOLID FILMS   764 巻   頁: 139597   2023年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2022.139597

    Web of Science

  23. Quantitative evaluation of implied open-circuit voltage after metal electrode deposition on TiOx/Si heterostructures by photoluminescence imaging: Impact of metallization on passivation performance 招待有り 査読有り 国際誌

    Shohei Fukaya, Kazuhiro Gotoh, Takuya Matsui, Hitoshi Sai, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    Japanese Journal of Applied Physics     2023年

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語  

  24. Impurity analysis of the effect of partial replacement of retort with an insulation material on mc-silicon grown in directional solidification furnace: Computational modeling 査読有り 国際共著 国際誌

    Keerthivasan T., Liu Xin, Srinivasan M., Usami Noritaka, Aravindan G., Ramasamy P.

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   599 巻   頁: 126892   2022年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2022.126892

    Web of Science

  25. Analysis of grain growth behavior of multicrystalline Mg2Si 査読有り 国際誌

    Deshimaru Takumi, Yamakoshi Kenta, Kutsukake Kentaro, Kojima Takuto, Umehara Tsubasa, Udono Haruhiko, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 巻 ( SD )   2022年11月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/aca032

    Web of Science

  26. Nanopyramid Texture Formation by One-Step Ag-Assisted Solution Process for High-Efficiency Monocrystalline Si Solar Cells 査読有り 国際誌

    Li Yuqing, Sai Hitoshi, Matsui Takuya, Xu Zhihao, Nguyen Van Hoang, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    SOLAR RRL   6 巻 ( 11 )   2022年9月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/solr.202200707

    Web of Science

  27. Epitaxial growth of SiGe films by annealing Al-Ge alloyed pastes on Si substrate 査読有り 国際誌

    Fukuda Keisuke, Miyamoto Satoru, Nakahara Masahiro, Suzuki Shota, Dhamrin Marwan, Maeda Kensaku, Fujiwara Kozo, Uraoka Yukiharu, Usami Noritaka

    SCIENTIFIC REPORTS   12 巻 ( 1 )   2022年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-022-19122-7

    Web of Science

  28. Study on electrical activity of grain boundaries in silicon through systematic control of structural parameters and characterization using a pretrained machine learning model 査読有り 国際誌

    Fukuda Yusuke, Kutsukake Kentaro, Kojima Takuto, Ohno Yutaka, Usami Noritaka

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   132 巻 ( 2 )   2022年7月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0086193

    Web of Science

  29. Estimation of Crystal Orientation of Grains on Polycrystalline Silicon Substrate by Recurrent Neural Network 査読有り 国際誌

    Kato Hikaru, Kamibeppu Soichiro, Kojima Takuto, Matsumoto Tetsuya, Kudo Hiroaki, Takeuchi Yoshinori, Kutsukake Kentaro, Usami Noritaka

    IEEJ TRANSACTIONS ON ELECTRICAL AND ELECTRONIC ENGINEERING   17 巻 ( 11 ) 頁: 1685 - 1687   2022年7月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/tee.23676

    Web of Science

  30. Fabrication of BaSi2 homojunction diodes on Nb-doped TiO2 coated glass substrates by aluminum-induced crystallization and two-step evaporation method 査読有り 国際誌

    Kurokawa Yasuyoshi, Yoshino Takamasa, Gotoh Kazuhiro, Miyamoto Satoru, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   61 巻 ( SC )   2022年5月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ac4077

    Web of Science

  31. Improved conversion efficiency of p-type BaSi2/n-type crystalline Si heterojunction solar cells by a low growth rate deposition of BaSi2 招待有り 査読有り 国際誌

    Fujiwara Michinobu, Takahashi Kazuma, Nakagawa Yoshihiko, Gotoh Kazuhiro, Itoh Takashi, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    AIP ADVANCES   12 巻 ( 4 )   2022年4月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0083812

    Web of Science

  32. Zn1-xGexOy Passivating Interlayers for BaSi2 Thin-Film Solar Cells 査読有り

    Yamashita Yudai, Takayanagi Kaori, Gotoh Kazuhiro, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES   14 巻 ( 11 ) 頁: 13828 - 13835   2022年3月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsami.1c23070

    Web of Science

  33. Effects of grain boundary structure and shape of the solid-liquid interface on the growth direction of the grain boundaries in multicrystalline silicon 査読有り 国際誌

    Fukuda Yusuke, Kutsukake Kentaro, Kojima Takuto, Usami Noritaka

    CRYSTENGCOMM   24 巻 ( 10 ) 頁: 1948 - 1954   2022年3月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/d1ce01573g

    Web of Science

  34. Data-Driven Optimization and Experimental Validation for the Lab-Scale Mono-Like Silicon Ingot Growth by Directional Solidification 査読有り 国際誌

    Liu Xin, Dang Yifan, Tanaka Hiroyuki, Fukuda Yusuke, Kutsukake Kentaro, Kojima Takuto, Ujihara Toru, Usami Noritaka

    ACS OMEGA   7 巻 ( 8 ) 頁: 6665 - 6673   2022年3月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsomega.1c06018

    Web of Science

  35. Silicon Nanocrystals Embedded in Nanolayered Silicon Oxide for Crystalline Silicon Solar Cells 査読有り 国際誌

    Tsubata Ryohei, Gotoh Kazuhiro, Matsumi Masashi, Wilde Markus, Inoue Tetsuya, Kurokawa Yasuyoshi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    ACS APPLIED NANO MATERIALS   5 巻 ( 2 )   2022年2月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsanm.1c03355

    Web of Science

  36. Zn1-x Gex Oy Passivating Interlayers for BaSi2 Thin-Film Solar Cells 査読有り 国際誌

    Yudai Yamashita, Kaori Takayanagi, Kazuhiro Gotoh, Kaoru Toko, Noritaka Usami, and Takashi Suemasu

    ACS Appl. Mater. Interfaces     2022年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  37. Fabrication of BaSi2 homojunction diodes on Nb-doped TiO2 coated glass substrates by aluminum-induced crystallization and two-step evaporation method 査読有り 国際誌

    Japanese Journal of Applied Physics     2022年2月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  38. Effects of grain boundary structure and shape of the solid–liquid interface on the growth direction of the grain boundaries in multicrystalline silicon 査読有り 国際誌

    Yusuke Fukuda, Kentaro Kutsukake, Takuto Kojima, Noritaka Usami

    CrystEngComm     2022年2月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語  

    DOI: doi.org/10.1039/d1ce01573g

  39. Silicon Nanocrystals Embedded in Nanolayered Silicon Oxide for Crystalline Silicon Solar Cells 査読有り 国際誌

    ACS Appl. Nano Mater.   5 巻 ( 2 ) 頁: 1820 - 187   2022年1月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語  

    DOI: doi.org/10.1021/acsanm.1c03355

  40. Fractal dimension analogous scale-invariant derivative of Hirsch's index 査読有り 国際誌

    Fujita Yuji, Usami Noritaka

    APPLIED NETWORK SCIENCE   7 巻 ( 1 )   2022年1月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s41109-021-00443-x

    Web of Science

  41. Fine Line Screen-Printing Aluminum for Front side p(+) Metallization of High Efficiency Solar Cells 査読有り 国際共著 国際誌

    Tsuji Kosuke, Suzuki Shota, Dhamrin Marwan, Adrian Adrian, Buck Thomas, Usami Noritaka

    11TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON CRYSTALLINE SILICON PHOTOVOLTAICS (SILICONPV 2021)   2487 巻   2022年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0089217

    Web of Science

  42. Impact of chemically grown silicon oxide interlayers on the hydrogen distribution at hydrogenated amorphous silicon/crystalline silicon heterointerfaces 査読有り 国際誌

    Gotoh Kazuhiro, Wilde Markus, Ogura Shohei, Kurokawa Yasuyoshi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    APPLIED SURFACE SCIENCE   567 巻   2021年11月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.apsusc.2021.150799

    Web of Science

  43. Fabrication of heterojunction crystalline Si solar cells with BaSi2 thin films prepared by a two-step evaporation method 査読有り 国際誌

    Nakagawa Yoshihiko, Takahashi Kazuma, Fujiwara Michinobu, Hara Kosuke O., Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Itoh Takashi, Suemasu Takashi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   60 巻 ( 10 )   2021年10月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ac23ec

    Web of Science

  44. Improved Performance of Titanium Oxide/Silicon Oxide Electron-Selective Contacts by Implementation of Magnesium Interlayers 国際誌

    Nakagawa Yuta, Gotoh Kazuhiro, Inoue Tetsuya, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE   218 巻 ( 19 )   2021年10月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssa.202100296

    Web of Science

  45. Bayesian Optimization of Passivating Contacts for Crystalline Silicon Solar Cells 招待有り 査読有り 国際誌

    ECS Meeting Abstracts     2021年10月

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    担当区分:筆頭著者, 責任著者   記述言語:英語  

    DOI: doi.org/10.1149/MA2021-0213641mtgabs

  46. Contact control of Al/Si interface of Si solar cells by local contact opening method 査読有り 国際共著 国際誌

    Tsuji Kosuke, Suzuki Shota, Morishita Naoya, Kuroki Takashi, Nakahara Masahiro, Dhamrin Marwan, Adrian Adrian, Peng Zih-Wei, Buck Thomas, Usami Noritaka

    MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS   270 巻   2021年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.matchemphys.2021.124833

    Web of Science

  47. Application of Bayesian optimization for high-performance TiOx/SiOy/c-Si passivating contact 査読有り 国際誌

    Miyagawa Shinsuke, Gotoh Kazuhiro, Kutsukake Kentaro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS   230 巻   2021年9月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.solmat.2021.111251

    Web of Science

  48. Fabrication of Silicon Nanowire Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Al2O3/TiO2/Al2O3 Stacked Dielectric Films for the Application to Energy Storage Devices 査読有り 国際誌

    Nezasa Ryota, Gotoh Kazuhiro, Kato Shinya, Miyamoto Satoru, Usami Noritaka, Kurokawa Yasuyoshi

    ENERGIES   14 巻 ( 15 )   2021年8月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/en14154538

    Web of Science

  49. Direct prediction of electrical properties of grain boundaries from photoluminescence profiles using machine learning 査読有り 国際誌

    Kutsukake Kentaro, Mitamura Kazuki, Usami Noritaka, Kojima Takuto

    APPLIED PHYSICS LETTERS   119 巻 ( 3 )   2021年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0049847

    Web of Science

  50. Occurrence Prediction of Dislocation Regions in Photoluminescence Image of Multicrystalline Silicon Wafers Using Transfer Learning of Convolutional Neural Network 査読有り 国際誌

    Kudo Hiroaki, Matsumoto Tetsuya, Kutsukake Kentaro, Usami Noritaka

    IEICE TRANSACTIONS ON FUNDAMENTALS OF ELECTRONICS COMMUNICATIONS AND COMPUTER SCIENCES   E104A 巻 ( 6 ) 頁: 857 - 865   2021年6月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1587/transfun.2020IMP0010

    Web of Science

  51. Passivation mechanism of the high-performance titanium oxide carrier-selective contacts on crystalline silicon studied by spectroscopic ellipsometry 査読有り 国際誌

    Gotoh Kazuhiro, Miura Hiroyuki, Shimizu Ayako, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   60 巻 ( SB )   2021年5月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abd6dd

    Web of Science

  52. Mechanisms of carrier lifetime enhancement and conductivity-type switching on hydrogen-incorporated arsenic-doped BaSi2 査読有り 国際誌

    Aonuki Sho, Xu Zhihao, Yamashita Yudai, Gotoh Kazuhiro, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Filonov Andrew B., Nikitsiuk Siarhei A., Migas Dmitri B., Shohonov Denis A., Suemasu Takashi

    THIN SOLID FILMS   724 巻   2021年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2021.138629

    Web of Science

  53. Versatile fabrication of a passivation material, solute PEDOT:PSS, for a c-Si substrate using alcoholic solvents 査読有り 国際共著 国際誌

    Nguyen Van Hoang, Hoang Tuan K. A., Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    SUSTAINABLE ENERGY & FUELS   5 巻 ( 3 ) 頁: 666 - 670   2021年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/d0se01700k

    Web of Science

  54. Application of Bayesian optimization for improved passivation performance in TiOx/SiOy/c-Si heterostructure by hydrogen plasma treatment 査読有り 国際誌

    Miyagawa Shinsuke, Gotoh Kazuhiro, Kutsukake Kentaro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   14 巻 ( 2 )   2021年2月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/abd869

    Web of Science

  55. Simulation study on lateral minority carrier transport in the surface inversion layer of the p-aSi:H/i-aSi:H/cSi heterojunction solar cell 査読有り 国際誌

    Kamioka Takefumi, Hayashi Yutaka, Gotoh Kazuhiro, Hara Tomohiko, Ozaki Ryo, Morimura Motoo, Shimizu Ayako, Nakamura Kyotaro, Usami Noritaka, Ogura Atsushi, Ohshita Yoshio

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   60 巻 ( 2 )   2021年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abdd02

    Web of Science

  56. Propagation of Crystal Defects during Directional Solidification of Silicon via Induction of Functional Defects 国際共著 国際誌

    Krenckel Patricia, Hayama Yusuke, Schindler Florian, Troetschler Theresa, Riepe Stephan, Usami Noritaka

    CRYSTALS   11 巻 ( 2 ) 頁: 1 - 10   2021年2月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/cryst11020090

    Web of Science

  57. Origin of recombination activity of non-coherent sigma 3{111} grain boundaries with a positive deviation in the tilt angle in cast-grown silicon ingots 査読有り 国際誌

    Ohno Yutaka, Tamaoka Takehiro, Yoshida Hideto, Shimizu Yasuo, Kutsukake Kentaro, Nagai Yasuyoshi, Usami Noritaka

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   14 巻 ( 1 ) 頁: .   2021年1月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  58. Activation energy of hydrogen desorption from high-performance titanium oxide carrier-selective contacts with silicon oxide interlayers 査読有り 国際誌

    Gotoh Kazuhiro, Mochizuki Takeya, Hojo Tomohiko, Shibayama Yuki, Kurokawa Yasuyoshi, Akiyama Eiji, Usami Noritaka

    CURRENT APPLIED PHYSICS   21 巻   頁: 36 - 42   2021年1月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cap.2020.10.002

    Web of Science

  59. Realization of the Crystalline Silicon Solar Cell Using Nanocrystalline Transport Path in Ultra-thin Dielectrics for Reinforced Passivating Contact

    Tsubata Ryohei, Gotoh Kazuhiro, Inoue Tetsuya, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    2021 IEEE 48TH PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE (PVSC)     頁: 908 - 911   2021年

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/PVSC43889.2021.9519096

    Web of Science

  60. The impact of highly excessive PbI2 on the correlation of MAPbI(3) perovskite morphology and carrier lifetimes 査読有り 国際共著 国際誌

    Van Hoang Nguyen, Hoang Tuan K. A., Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C   8 巻 ( 41 ) 頁: 14481 - 14489   2020年11月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/d0tc04071a

    Web of Science

  61. Generation of dislocation clusters at triple junctions of random angle grain boundaries during cast growth of silicon ingots 査読有り 国際誌

    Ohno Yutaka, Tajima Kazuya, Kutsukake Kentaro, Usami Noritaka

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   13 巻 ( 10 )   2020年10月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/abbb1c

    Web of Science

  62. Determination of carrier recombination velocity at inclined grain boundaries in multicrystalline silicon through photoluminescence imaging and carrier simulation 査読有り 国際誌

    Mitamura Kazuki, Kutsukake Kentaro, Kojima Takuto, Usami Noritaka

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   128 巻 ( 12 )   2020年9月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0017823

    Web of Science

  63. Impact of Ge deposition temperature on parameters of c-Si solar cells with surface texture formed by etching of Si using SiGe islands as a mask 査読有り 国際共著 国際誌

    Nguyen V. H., Novikov A., Shaleev M., Yurasov D., Semma M., Gotoh K., Kurokawa Y., Usami N.

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   114 巻   2020年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.mssp.2020.105065

    Web of Science

  64. Reactive deposition growth of highly (001)-oriented BaSi2 films by close-spaced evaporation 査読有り 国際誌

    Hara Kosuke O., Takizawa Shuhei, Yamanaka Junji, Usami Noritaka, Arimoto Keisuke

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   113 巻   2020年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.mssp.2020.105044

    Web of Science

  65. Atomic hydrogen passivation for photoresponsivity enhancement of boron-doped p-BaSi2 films and performance improvement of boron-doped p-BaSi2/n-Si heterojunction solar cells 査読有り 国際共著 国際誌

    Xu Zhihao, Sato Takuma, Benincasa Louise, Yamashita Yudai, Deng Tianguo, Gotoh Kazuhiro, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Filonov Andrew B., Migas Dmitri B., Shohonov Denis A., Suemasu Takashi

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   127 巻 ( 23 )   2020年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0005763

    Web of Science

  66. Impact of deposition of indium tin oxide double layers on hydrogenated amorphous silicon/crystalline silicon heterojunction 査読有り 国際誌

    Semma Masanori, Gotoh Kazuhiro, Wilde Markus, Ogura Shohei, Kurokawa Yasuyoshi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    AIP ADVANCES   10 巻 ( 6 )   2020年6月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0009994

    Web of Science

  67. Significant enhancement of photoresponsivity in As-doped n-BaSi2 epitaxial films by atomic hydrogen passivation 査読有り 国際誌

    Aonuki Sho, Yamashita Yudai, Sato Takuma, Xu Zhihao, Gotoh Kazuhiro, Toko Kaoru, Terai Yoshikazu, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   13 巻 ( 5 ) 頁: .   2020年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  68. Undoped p-type BaSi2 emitter prepared by thermal evaporation and post-annealing for crystalline silicon heterojunction solar cells 査読有り 国際誌

    Kimura Yuki, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   13 巻 ( 5 )   2020年5月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/ab8727

    Web of Science

  69. Scalable fabrication of GaN on amorphous substrates via MOCVD on highly oriented silicon seed layers 査読有り 国際共著 国際誌

    Hainey Mel Jr., Robin Yoann, Avit Geoffrey, Amano Hiroshi, Usami Noritaka

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   535 巻   2020年4月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2020.125522

    Web of Science

  70. 3D visualization of growth interfaces in cast Si ingot using inclusions distribution 査読有り 国際共著 国際誌

    Kamibeppu Soichiro, Krenckel Patricia, Troetschler Theresa, Hess Adam, Riepe Stephan, Usami Noritaka

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   535 巻   2020年4月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2020.125535

    Web of Science

  71. Drastic enhancement of photoresponsivity in C-doped BaSi2 films formed by radio-frequency sputtering 査読有り 国際誌

    Nemoto T., Matsuno S., Sato T., Gotoh K., Mesuda M., Kuramochi H., Toko K., Usami N., Suemasu T.

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab69dc

    Web of Science

  72. Synthesis of Mg2Si thin film by thermal treatment under inert gas atmosphere and evaluation of film quality 査読有り 国際誌

    Horiba Issei, Fujiwara Michinobu, Nakagawa Yoshihiko, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Itoh Takashi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab6b79

    Web of Science

  73. Surface inversion layer effective minority carrier mobility as one of the measures of surface quality of the p-aSi:H/i-aSi:H/cSi heterojunction solar cell 査読有り 国際誌

    Kamioka Takefumi, Hayashi Yutaka, Gotoh Kazuhiro, Ozaki Ryo, Nakamura Kyotaro, Morimura Motoo, Naitou Shimako, Usami Noritaka, Ogura Atsushi, Ohshita Yoshio

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab70a0

    Web of Science

  74. Preparation and thermoelectric characterization of phosphorus-doped Si nanocrystals/silicon oxide multilayers 査読有り 国際誌

    Kobayashi Hisayoshi, Akaishi Ryushiro, Kato Shinya, Kurosawa Masashi, Usami Noritaka, Kurokawa Yasuyoshi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab6346

    Web of Science

  75. Influence of the time-dependent vapor composition on structural properties of the BaSi2 thin films fabricated by vacuum evaporation 査読有り 国際誌

    Yoshino Takamasa, Nakagawa Yoshihiko, Kimura Yuki, Fujiwara Michinobu, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab6b78

    Web of Science

  76. Fabrication of group IV semiconductor alloys on Si substrate applying Al paste with screen-printing 査読有り 国際誌

    Nakahara Masahiro, Matsubara Moeko, Suzuki Shota, Dhamrin Marwan, Miyamoto Satoru, Hainey Mel Forrest Jr., Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab6e0b

    Web of Science

  77. Effects of evaporation vapor composition and post-annealing conditions on carrier density of undoped BaSi2 evaporated films 査読有り 国際誌

    Kimura Yuki, Fujiwara Michinobu, Nakagawa Yoshihiko, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab6418

    Web of Science

  78. Effect of Si substrate modification on improving the crystalline quality, optical and electrical properties of thermally-evaporated BaSi2 thin-films for solar cell applications 査読有り 国際共著 国際誌

    Mai Thi Kieu Lien, Usami Noritaka

    INTERNATIONAL JOURNAL OF MODERN PHYSICS B   34 巻 ( 8 )   2020年3月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1142/S021797922050068X

    Web of Science

  79. Surface-orientation control of silicon thin films via aluminum-induced crystallization on monocrystalline cubic substrates 国際共著

    Hainey Mel Jr., Zhou Eddie (Chenhui), Viguerie Loic, Usami Noritaka

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   533 巻   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2019.125441

    Web of Science

  80. Effect of hydrogen plasma treatment on the passivation performance of TiOx on crystalline silicon prepared by atomic layer deposition 査読有り 国際誌

    Miyagawa Shinsuke, Gotoh Kazuhiro, Ogura Shohei, Wilde Markus, Kurokawa Yasuyoshi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   38 巻 ( 2 )   2020年3月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.5134720

    Web of Science

  81. Effect of forming gas annealing on hydrogen content and surface morphology of titanium oxide coated crystalline silicon heterocontacts 査読有り 国際誌

    Nakagawa Yuta, Gotoh Kazuhiro, Wilde Markus, Ogura Shohei, Kurokawa Yasuyoshi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   38 巻 ( 2 )   2020年3月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.5134719

    Web of Science

  82. Point defects in BaSi2 thin films for photovoltaic applications studied by positron annihilation spectroscopy 国際共著

    Montes A., Eijt S. W. H., Tian Y., Gram R., Schut H., Suemasu T., Usami N., Zeman M., Serra J., Isabella O.

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   127 巻 ( 8 )   2020年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5126264

    Web of Science

  83. Effect of the Niobium-Doped Titanium Oxide Thickness and Thermal Oxide Layer for Silicon Quantum Dot Solar Cells as a Dopant-Blocking Layer 査読有り 国際誌

    Akaishi Ryushiro, Kitazawa Kohei, Gotoh Kazuhiro, Kato Shinya, Usami Noritaka, Kurokawa Yasuyoshi

    NANOSCALE RESEARCH LETTERS   15 巻 ( 1 )   2020年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1186/s11671-020-3272-8

    Web of Science

  84. Work function of indium oxide thin films on p-type hydrogenated amorphous silicon

    Semma Masanori, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    2020 47TH IEEE PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE (PVSC)     頁: 124 - 127   2020年

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  85. Structural properties of triple junctions acting as dislocation sources in high-performance Si ingots

    Ohno Yutaka, Tajima Kazuya, Kutsukake Kentaro, Usami Noritaka

    2020 47TH IEEE PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE (PVSC)     頁: 2340 - 2340   2020年

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  86. Fabrication of silicon-nanocrystals-embedded silicon oxide passivating contacts

    Tsubata Ryohei, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    2020 47TH IEEE PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE (PVSC)     頁: 969 - 972   2020年

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  87. Application of artificial neural network to optimize sensor positions for accurate monitoring: an example with thermocouples in a crystal growth furnace 査読有り 国際誌

    Boucetta Abderahmane, Kutsukake Kentaro, Kojima Takuto, Kudo Hiroaki, Matsumoto Tetsuya, Usami Noritaka

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   12 巻 ( 12 )   2019年12月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1882-0786/ab52a9

    Web of Science

  88. Tuning the Electrical Properties of Titanium Oxide Bilayers Prepared by Atomic Layer Deposition at Different Temperatures

    Gotoh Kazuhiro, Mochizuki Takeya, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE   216 巻 ( 22 )   2019年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssa.201900495

    Web of Science

  89. Mossbauer spectroscopic microscope study on diffusion and segregation of Fe impurities in mc-Si wafer 査読有り

    Yoshida Yutaka, Watanabe Tomio, Ino Yuji, Kobayashi Masashi, Takahashi Isao, Usami Noritaka

    HYPERFINE INTERACTIONS   240 巻 ( 1 )   2019年9月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s10751-019-1651-2

    Web of Science

  90. Hydrogen concentration at a-Si:H/c-Si heterointerfaces-The impact of deposition temperature on passivation performance

    Gotoh Kazuhiro, Wilde Markus, Kato Shinya, Ogura Shohei, Kurokawa Yasuyoshi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    AIP ADVANCES   9 巻 ( 7 )   2019年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5100086

    Web of Science

  91. Marked enhancement of the photoresponsivity and minority-carrier lifetime of BaSi2 passivated with atomic hydrogen 国際共著

    Xu Zhihao, Shohonov Denis A., Filonov Andrew B., Gotoh Kazuhiro, Deng Tianguo, Honda Syuta, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Migas Dmitri B., Borisenko Victor E., Suemasu Takashi

    PHYSICAL REVIEW MATERIALS   3 巻 ( 6 )   2019年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1103/PhysRevMaterials.3.065403

    Web of Science

  92. Evidence of solute PEDOT:PSS as an efficient passivation material for fabrication of hybrid c-Si solar cells 査読有り 国際誌

    Van Hoang Nguyen, Kato Shinya, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    SUSTAINABLE ENERGY & FUELS   3 巻 ( 6 ) 頁: 1448 - 1454   2019年6月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/c9se00093c

    Web of Science

  93. Impact of size distributions of Ge islands as etching masks for anisotropic etching on formation of anti-reflection structures 国際共著

    Ota Yushi, Yurasov Dmitry, Novikov Alexey, Shaleev Mikhail, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   58 巻 ( 4 )   2019年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab003b

    Web of Science

  94. Epitaxial growth of SiGe on Si substrate by printing and firing of Al-Ge mixed paste 査読有り 国際誌

    Fukami Shogo, Nakagawa Yoshihiko, Hainey Mel E. Jr., Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Nakahara Masahiro, Dhamrin Marwan, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   58 巻 ( 4 )   2019年4月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab00e5

    Web of Science

  95. Local Structure of High Performance TiOx Electron-Selective Contact Revealed by Electron Energy Loss Spectroscopy 査読有り

    Mochizuki Takeya, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Yamamoto Takahisa, Usami Noritaka

    ADVANCED MATERIALS INTERFACES   6 巻 ( 3 )   2019年2月

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    担当区分:責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/admi.201801645

    Web of Science

  96. Pole figure analysis from electron backscatter diffraction-an effective method of evaluating fiber-textured silicon thin films as seed layers for epitaxy 査読有り

    Hainey Mel Jr., Robin Yoann, Amano Hiroshi, Usami Noritaka

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   12 巻 ( 2 )   2019年2月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1882-0786/aafb26

    Web of Science

  97. 3D visualization and analysis of dislocation clusters in multicrystalline silicon ingot by approach of data science 査読有り

    Hayama Yusuke, Matsumoto Tetsuya, Muramatsu Tetsuro, Kutsukake Kentaro, Kudo Hiroaki, Usami Noritaka

    SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS   189 巻   頁: 239-244   2019年1月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.solmat.2018.06.008

    Web of Science

  98. Fabrication of Si1-xGex layer on Si substrate by Screen-Printing

    Nakahara Masahiro, Matsubara Moeko, Suzuki Shota, Fukami Shogo, Dhamrin Manvan, Usami Noritaka

    MRS ADVANCES   4 巻 ( 13 ) 頁: 749 - 754   2019年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2019.15

    Web of Science

  99. Effects of Surface Doping of Si Absorbers on the Band Alignment and Electrical Performance of TiO2-Based Electron-Selective Contacts 査読有り

    Lee Hyunju, Kamioka Takefumi, Usami Noritaka, Ohshita Yoshio

    MRS ADVANCES   4 巻 ( 13 ) 頁: 769-775   2019年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2019.164

    Web of Science

  100. Significant improvement on electrical properties of BaSi2 due to atomic H passivation by radio-frequency plasma 査読有り

    Xu Zhihao, Gotoh Kazuhiro, Deng Tianguo, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    2019 IEEE 46TH PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE (PVSC)     頁: 12-14   2019年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  101. Fine Line Al Printing on Narrow Point Contact Opening for Front Side Metallization 査読有り

    Tsuji Kosuke, Suzuki Shota, Morishita Naoya, Kuroki Takashi, Nakahara Masahiro, Dhamrin Marwan, Peng Zih-Wei, Buck Thomas, Usami Noritaka

    9TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON CRYSTALLINE SILICON PHOTOVOLTAICS (SILICONPV 2019)   2147 巻   2019年

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5123846

    Web of Science

  102. Optimized electrical control of a Si/SiGe spin qubit in the presence of an induced frequency shift 査読有り 国際共著

    Takeda K., Yoneda J., Otsuka T., Nakajima T., Delbecq M. R., Allison G., Hoshi Y., Usami N., Itoh K. M., Oda S., Kodera T., Tarucha S.

    NPJ QUANTUM INFORMATION   4 巻   2018年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41534-018-0105-z

    Web of Science

  103. Application of weighted Voronoi diagrams to analyze nucleation sites of multicrystalline silicon ingots 査読有り

    Muramatsu Tetsuro, Hayama Yusuke, Kutsukake Kentaro, Maeda Kensaku, Matsumoto Tetsuya, Kudo Hiroaki, Fujiwara Kozo, Usami Noritaka

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   499 巻   頁: 62-66   2018年10月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2018.07.028

    Web of Science

  104. Fabrication and properties characterization of BaSi2 thin-films thermally-evaporated on Ge (100) modified substrates 査読有り

    Mai Thi Kieu Lien, Nakagawa Yoshihiko, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    THIN SOLID FILMS   663 巻   頁: 14-20   2018年10月

     詳細を見る

    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2018.08.004

    Web of Science

  105. Activation mechanism of TiOx passivating layer on crystalline Si

    Mochizuki Takeya, Gotoh Kazuhiro, Ohta Akio, Ogura Shohei, Kurokawa Yasuyoshi, Miyazaki Seiichi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   11 巻 ( 10 )   2018年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.11.102301

    Web of Science

  106. Fabrication of light-trapping structure by selective etching of thin Si substrates masked with a Ge dot layer and nanomasks 査読有り

    Hombe Atsushi, Kurokawa Yasuyoshi, Gotoh Kazuhiro, Akagi Seimei, Yamamoto Yuzo, Yurasov Dmitry, Novikov Alexey, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 8 )   2018年8月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.08RF09

    Web of Science

  107. Investigation of effective near-infrared light-trapping structure with submicron diameter for crystalline silicon thin film solar cells

    Sei Miki, Kurokawa Yasuyoshi, Kato Shinya, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 8 )   2018年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.08RB21

    Web of Science

  108. Influence of barrier layer's height on the performance of Si quantum dot solar cells 査読有り

    Kitazawa Kouhei, Akaishi Ryushiro, Ono Satoshi, Takahashi Isao, Usami Noritaka, Kurokawa Yasuyoshi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 8 )   2018年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.08RF08

    Web of Science

  109. Impact of boron incorporation on properties of silicon solar cells employing p-type polycrystalline silicon grown by aluminum-induced crystallization

    Masuda Shota, Gotoh Kazuhiro, Takahashi Isao, Nakamura Kyotaro, Ohshita Yoshio, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 8 )   2018年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.08RB12

    Web of Science

  110. Formation of light-trapping structure using Ge islands grown by gas-source molecular beam epitaxy as etching masks

    Ota Yushi, Hombe Atsushi, Nezasa Ryota, Yurasov Dmitry, Novikov Alexey, Shaleev Mikhail, Baidakova Natalie, Morozova Elena, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 8 )   2018年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.08RB04

    Web of Science

  111. Photovoltaic Science and Engineering FOREWORD

    Matsubara Koji, Yamada Akira, Minemoto Takashi, Itoh Takashi, Arafune Koji, Fujiwara Hiroyuki, Hayase Shuzi, Hiramoto Masahiro, Hishikawa Yoshihiro, Imaizumi Mitsuru, Ito Masakazu, Kaizuka Izumi, Kato Takuya, Komoto Keiichi, Kubo Takaya, Maitani Masato, Masuda Atsushi, Miyajima Shinsuke, Morita Kengo, Negami Takayuki, Ogimoto Kazuhiko, Ohdaira Keisuke, Ohshita Yoshio, Okada Yoshitaka, Okamoto Tamotsu, Osaka Itaru, Sai Hitoshi, Sakurai Takeaki, Shen Qing, Shibata Hajima, Sugaya Takeyoshi, Sugiyama Mutsumi, Takamoto Tatsuya, Tanaka Tooru, Terakawa Akira, Ueda Yuzuru, Usami Noritaka, Wakao Shinji, Yagi Shuhei, Yamanaka Sanshiro, Yoshida Yuji, Yoshita Masahiro

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 8 )   2018年8月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.08R001

    Web of Science

  112. Effect of substrate type on the electrical and structural properties of TiO2 thin films deposited by reactive DC sputtering

    Cheng Xuemei, Gotoh Kazuhiro, Nakagawa Yoshihiko, Usami Noritaka

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   491 巻   頁: 120-125   2018年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2018.04.001

    Web of Science

  113. Improving the photoresponse spectra of BaSi2 layers by capping with hydrogenated amorphous Si layers prepared by radio-frequency hydrogen plasma

    Xu Zhihao, Gotoh Kazuhiro, Deng Tianguo, Sato Takuma, Takabe Ryota, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    AIP ADVANCES   8 巻 ( 5 )   2018年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5025021

    Web of Science

  114. BaSi2 formation mechanism in thermally evaporated films and its application to reducing oxygen impurity concentration

    Hara Kosuke O., Yamamoto Chiaya, Yamanaka Junji, Arimoto Keisuke, Nakagawa Kiyokazu, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 4 )   2018年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.04FS01

    Web of Science

  115. Simple method for significant improvement of minority-carrier lifetime of evaporated BaSi2 thin film by sputtered-AlOx passivation

    N.M. Shaalan, K.O. Hara, C.T. Trinh, Y. Nakagawa, and N. Usami

    Materials Science in Semiconductor Processing   76 巻   頁: 37-41   2018年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  116. Simple method for significant improvement of minority-carrier lifetime of evaporated BaSi2 thin film by sputtered-AlOx passivation

    Shaalan N. M., Hara K. O., Trinh C. T., Nakagawa Y., Usami N.

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   76 巻   頁: 37 - 41   2018年3月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.mssp.2017.12.015

    Web of Science

  117. Formation of black silicon using SiGe self-assembled islands as a mask for selective anisotropic etching of silicon

    D. V. Yurasov, A. V. Novikov, M. V. Shaleev, N. A. Baidakova, E. E. Morozova, E. V. Skorokhodov, Y. Ota, A. Hombe, Y. Kurokawa, and N. Usami

    Materials Science in Semiconductor Processing   ( 75 ) 頁: 143-148   2018年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  118. Formation of black silicon using SiGe self-assembled islands as a mask for selective anisotropic etching of silicon

    Yurasov D. V., Novikov A. V., Shaleev M. V., Baidakova N. A., Morozova E. E., Skorokhodov E. V., Ota Y., Hombe A., Kurokawa Y., Usami N.

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   75 巻   頁: 143 - 148   2018年3月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.mssp.2017.11.032

    Web of Science

  119. BaSi2 formation mechanism in thermally-evaporated films and its application to reducing oxygen impurity concentration

    K.O. Hara, C. Yamamoto, J. Yamanaka, K. Arimoto, K. Nakagawa, and N. Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   ( 57 ) 頁: 04FS01   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  120. A quantum-dot spin qubit with coherence limited by charge noise and fidelity higher than 99.9%

    Yoneda Jun, Takeda Kenta, Otsuka Tomohiro, Nakajima Takashi, Delbecq Matthieu R., Allison Giles, Honda Takumu, Kodera Tetsuo, Oda Shunri, Hoshi Yusuke, Usami Noritaka, Itoh Kohei M., Tarucha Seigo

    NATURE NANOTECHNOLOGY   13 巻 ( 2 ) 頁: 102 - +   2018年2月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41565-017-0014-x

    Web of Science

  121. Alternative simple method to realize p-type BaSi2 thin films for Si heterojunction solar cell applications

    Takahashi Kazuma, Nakagawa Yoshihiko, Hara Kosuke O., Takahashi Isao, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    MRS ADVANCES   3 巻 ( 25 ) 頁: 1435-1442   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2018.191

    Web of Science

  122. Suppression of Near-interface Oxidation in Thermally-evaporated BaSi2 Films and Its Effects on Preferred Orientation and the Rectification Behavior of n-BaSi2/p(+)-Si Diodes

    Hara Kosuke O., Arimoto Keisuke, Yamanaka Junji, Nakagawa Kiyokazu, Usami Noritaka

    MRS ADVANCES   3 巻 ( 25 ) 頁: 1387-1392   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2018.31

    Web of Science

  123. Fabrication of silicon nanowire based solar cells using TiO2/Al2O3 stack thin films

    Kurokawa Yasuyoshi, Nezasa Ryota, Kato Shinya, Miyazaki Hisashi, Takahashi Isao, Usami Noritaka

    MRS ADVANCES   3 巻 ( 25 ) 頁: 1419-1426   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2018.40

    Web of Science

  124. Local Structure of High Performance TiOx Passivating Layer Revealed by Electron Energy Loss Spectroscopy

    Mochizuki Takeya, Gotoh Kazuhiro, Ohta Akio, Kurokawa Yasuyoshi, Miyazaki Seiichi, Yamamoto Takahisa, Usami Noritaka

    2018 IEEE 7TH WORLD CONFERENCE ON PHOTOVOLTAIC ENERGY CONVERSION (WCPEC) (A JOINT CONFERENCE OF 45TH IEEE PVSC, 28TH PVSEC & 34TH EU PVSEC)     頁: 3896-3899   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  125. Photoresponsivity improvement of BaSi2 epitaxial films by capping with hydrogenated amorphous Si layers by radio-frequency H-2 plasma

    Xu Zhihao, Gotoh Kazuhiro, Deng Tianguo, Sato Takuma, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    2018 IEEE 7TH WORLD CONFERENCE ON PHOTOVOLTAIC ENERGY CONVERSION (WCPEC) (A JOINT CONFERENCE OF 45TH IEEE PVSC, 28TH PVSEC & 34TH EU PVSEC)     頁: 1871-1873   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  126. Application of light trapping structure using Ge dot mask by alkaline etching to heterojunction solar cell

    Hombe Atsushi, Kurokawa Yasuyoshi, Gotoh Kazuhiro, Usami Noritaka

    2018 IEEE 7TH WORLD CONFERENCE ON PHOTOVOLTAIC ENERGY CONVERSION (WCPEC) (A JOINT CONFERENCE OF 45TH IEEE PVSC, 28TH PVSEC & 34TH EU PVSEC)     頁: 3097-3101   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  127. Evaluation of Si Nanowire MOS Capacitor Using High-k Dielectric Materials

    Nezasa R., Kurokawa Y., Usami N.

    2018 IEEE 18TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOTECHNOLOGY (IEEE-NANO)     頁: .   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  128. Development of the Passivation Layer For P-type CuI Thin Film Fabricated by the 2-step Method as the Novel Hole Selective Contact of Silicon Heterojunction Solar Cells

    Cui Min, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    2018 IEEE 7TH WORLD CONFERENCE ON PHOTOVOLTAIC ENERGY CONVERSION (WCPEC) (A JOINT CONFERENCE OF 45TH IEEE PVSC, 28TH PVSEC & 34TH EU PVSEC)     頁: 2118-2120   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  129. Deposition and Characterization of Si Quantum Dot Multilayers Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition using SiH4 and CO2 Gases

    Akaishi Ryushiro, Kitazawa Kouhei, Ono Satoshi, Gotoh Kazuhiro, Ichihara Eiji, Kato Shinya, Usami Noritaka, Kurokawa Yasuyoshi

    2018 IEEE 7TH WORLD CONFERENCE ON PHOTOVOLTAIC ENERGY CONVERSION (WCPEC) (A JOINT CONFERENCE OF 45TH IEEE PVSC, 28TH PVSEC & 34TH EU PVSEC)     頁: 2852-2856   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  130. Controllable Optical and Electrical Properties of Nb Doped TiO2 Films by RF Sputtering

    Cheng Xuemei, Gotoh Kazuhiro, Mochizuki Takeya, Usami Noritaka

    2018 IEEE 7TH WORLD CONFERENCE ON PHOTOVOLTAIC ENERGY CONVERSION (WCPEC) (A JOINT CONFERENCE OF 45TH IEEE PVSC, 28TH PVSEC & 34TH EU PVSEC)     頁: 1986-1990   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  131. Investigation on the origin of preferred a-axis orientation of BaSi2 films deposited on Si(100) by thermal evaporation

    Hara Kosuke O., Yamamoto Chiaya, Yamanaka Junji, Arimoto Keisuke, Nakagawa Kiyokazu, Usami Noritaka

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   72 巻   頁: 93-98   2017年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.mssp.2017.09.020

    Web of Science

  132. Selective etching of Si, SiGe, Ge and its usage for increasing the efficiency of silicon solar cells

    Baidakova N. A., Verbus V. A., Morozova E. E., Novikov A. V., Skorohodov E. V., Shaleev M. V., Yurasov D. V., Hombe A., Kurokawa Y., Usami N.

    SEMICONDUCTORS   51 巻 ( 12 ) 頁: 1542 - 1546   2017年12月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1134/S1063782617120028

    Web of Science

  133. Thermal stability of compressively strained Si/relaxed Si1-xCx heterostructures formed on Ar ion implanted Si (100) substrates

    Y. Arisawa, Y. Hoshi, K. Sawano, J. Yamanaka, K. Arimoto, C. Yamamoto, and N. Usami

    Materials Science in Semiconductor Processing   ( 70 ) 頁: 127-132   2017年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  134. Thermal stability of compressively strained Si/relaxed Si1-xCx heterostructures formed on Ar ion implanted Si (100) substrates

    Arisawa You, Hoshi Yusuke, Sawano Kentarou, Yamanaka Junji, Arimoto Keisuke, Yamamoto Chiaya, Usami Noritaka

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   70 巻   頁: 127 - 132   2017年11月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.mssp.2016.11.024

    Web of Science

  135. Growth of strained Si/relaxed SiGe heterostructures on Si(110) substrates using solid-source molecular beam epitaxy

    Arimoto Keisuke, Nakazawa Hiroki, Mitsui Shohei, Utsuyama Naoto, Yamanaka Junji, Hara Kosuke O., Usami Noritaka, Nakagawa Kiyokazu

    SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY   32 巻 ( 11 )   2017年11月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6641/aa8a87

    Web of Science

  136. Investigation on the origin of preferred a-axis orientation of BaSi2 films deposited on Si(100) by thermal evaporation

    K. O. Hara, C. Yamamoto, J. Yamanaka, K. Arimoto, K. Nakagawa, and N. Usami

    Materials Science in Semiconductor Processing   ( 72 ) 頁: 93-98   2017年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  137. Boron-doped p-BaSi2/n-Si solar cells formed on textured n-Si(001) with a pyramid structure consisting of {111} facets

    Deng Tianguo, Gotoh Kazuhiro, Takabe Ryota, Xu Zhihao, Yachi Suguru, Yamashita Yudai, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   475 巻   頁: 186-191   2017年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2017.06.017

    Web of Science

  138. Formation of metastable cubic phase in SnS thin films fabricated by thermal evaporation

    Hara Kosuke O., Suzuki Shintaro, Usami Noritaka

    THIN SOLID FILMS   639 巻   頁: 7 - 11   2017年10月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2017.08.025

    Web of Science

  139. Growth of strained Si/relaxed SiGe heterostructures on Si(110) substrates using solid-source molecular beam epitaxy

    K. Arimoto, H. Nakazawa, S. Mitsui, N. Utsuyama, J. Yamanaka, K. O. Hara, N. Usami, and K. Nakagawa

    Semiconductor Science and Technology   ( 32 ) 頁: 114002   2017年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  140. Fabrication of BaSi2 thin films capped with amorphous Si using a single evaporation source

    Hara Kosuke O., Cham Thi Trinh, Kurokawa Yasuyoshi, Arimoto Keisuke, Yamanaka Junji, Nakagawa Kiyokazu, Usami Noritaka

    THIN SOLID FILMS   636 巻   頁: 546-551   2017年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2017.06.055

    Web of Science

  141. Formation of metastable cubic phase in SnS thin films fabricated by thermal evaporation

    K. O. Hara, S. Suzuki, N. Usami

    Thin Solid Films   ( 639 ) 頁: 7-11   2017年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  142. Effects of surface morphology randomness on optical properties of Si-based photonic nanostructures

    Kurokawa Yasuyoshi, Aonuma Osamu, Tayagaki Takeshi, Takahashi Isao, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 巻 ( 8 )   2017年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.08MA02

    Web of Science

  143. Effect of Surface Morphology Randomness on Optical Properties of Si-based Photonic Nanostructures 査読有り

    Y. Kurokawa, O. Aonuma, T. Tayagaki ,I. Takahashi, and N. Usami

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 56 ) 頁: 08MA02   2017年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  144. Effect of ALD-Al2O3 Passivated Silicon Quantum Dot Superlattices on p/i/n+ Solar Cells

    M. M. Rahman, Yi-Chia Tsai, Ming-Yi Lee, A. Higo, Yiming Li, Y. Hoshi, N. Usami, and S. Samukawa

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES   64 巻   頁: 7   2017年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  145. Effect of ALD-Al2O3 Passivated Silicon Quantum Dot Superlattices on p/i/n(+) Solar Cells

    Rahman Mohammad Maksudur, Tsai Yi-Chia, Lee Ming-Yi, Higo Akio, Li Yiming, Hoshi Yusuke, Usami Noritaka, Samukawa Seiji

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES   64 巻 ( 7 ) 頁: 2886-2892   2017年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TED.2017.2704294

    Web of Science

  146. On the growth mechanism of multicrystalline silicon ingots with small grains fabricated using single-layer silicon beads

    Muramatsu Tetsurou, Takahashi Isao, Babu G. Anandha, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 巻 ( 7 )   2017年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.075502

    Web of Science

  147. Effects of grain boundary structure controlled by artificially designed seeds on dislocation generation 査読有り 国際誌

    Iwata Taisho, Takahashi Isao, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 巻 ( 7 )   2017年7月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.075501

    Web of Science

  148. Impact of anodic aluminum oxide fabrication and post-deposition anneal on the effective carrier lifetime of vertical silicon nanowires

    Van Hoang Nguyen, Sichanugrist Porponth, Kato Shinya, Usami Noritaka

    SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS   166 巻   頁: 39 - 44   2017年7月

     詳細を見る

    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.solmat.2017.03.013

    Web of Science

  149. Fabrication of BaSi2 thin films capped with amorphous Si using a single evaporation source

    K. O. Hara, C. T. Trinh. Y. Kurokawa; K. Arimoto, J. Yamanaka, K. Nakagawa, and N. Usami

    Thin Solid Films   ( 646 ) 頁: 546-551   2017年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  150. Boron-doped p-BaSi2/n-Si solar cells formed on textured n-Si(001) with a pyramid structure consisting of {111} facets

    T. Deng, K. Gotoh, R. Takabe, Z. Xu, S. Yachi, Y. Yamashita, K. Toko, N. Usami, and T. Suemasu

    Journal of Crystal Growth   ( 475 ) 頁: 186-191   2017年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  151. Study on ion implantation conditions in fabricating compressively strained Si/relaxed Si1-xCx heterostructures using the defect control by ion implantation technique

    Y. Arisawa, K. Sawano, and N. Usami

    Journal of Crystal Growth   468 巻   頁: 601-604   2017年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  152. Controlling impurity distributions in crystalline Si for solar cells by using artificial designed defects

    Hayama Yusuke, Takahashi Isao, Usami Noritaka

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   468 巻   頁: 610 - 613   2017年6月

     詳細を見る

    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2016.12.092

    Web of Science

  153. Towards optimized nucleation control in multicrystalline silicon ingot for solar cells

    G.A.Babu, I.Takahashi, T.Muramatsu, and N.Usami

    Journal of Crystal Growth   468 巻   頁: 620-624   2017年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  154. Hole mobility in strained Si/SiGe/vicinal Si(110) grown by gas source MBE

    K.Arimoto, S.Yagi, J.Yamanaka, K.O.Hara, K.Sawano, N.Usami, and K.Nakagawa

    Journal of Crystal Growth   468 巻   頁: 625-629   2017年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  155. Controlling Impurity Distribution in Quasi-mono Crystalline Si Ingot by Seed Manipulation for Artificially Controlled Defect Technique

    Y. Hayama, I. Takahashi, and N. Usami

    Energy Procedia   127 巻   頁: 610-613   2017年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  156. Hole mobility in strained Si/SiGe/vicinal Si(110) grown by gas source MBE

    Arimoto Keisuke, Yagi Sosuke, Yamanaka Junji, Hara Kosuke O., Sawano Kentarou, Usami Noritaka, Nakagawa Kiyokazu

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   468 巻   頁: 625 - 629   2017年6月

     詳細を見る

    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2016.12.076

    Web of Science

  157. Towards optimized nucleation control in multicrystalline silicon ingot for solar cells

    Babu G. Anandha, Takahashi Isao, Muramatsu Tetsurou, Usami Noritaka

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   468 巻   頁: 620 - 624   2017年6月

     詳細を見る

    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2016.12.066

    Web of Science

  158. Study on ion implantation conditions in fabricating compressively strained Si/relaxed Si1-xCx heterostructures using the defect control by ion implantation technique

    Arisawa You, Sawano Kentarou, Usami Noritaka

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   468 巻   頁: 601 - 604   2017年6月

     詳細を見る

    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2016.12.065

    Web of Science

  159. On the growth mechanism of multicrystalline silicon ingots with small grains by using single layer silicon beads

    T. Muramatsu, I. Takahashi, G. Anandha babu, and N. Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   ( 56 ) 頁: 075502   2017年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  160. Effects of grain boundary structure controlled by artificially designed seeds on dislocation generation

    T. Iwata, I. Takahashi, and N. Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   ( 56 ) 頁: 075501   2017年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  161. Growth of BaSi2 film on Ge(100) by vacuum evaporation and its photoresponse properties

    Cham Thi Trinh, Nakagawa Yoshihiko, Hara Kosuke O., Kurokawa Yasuyoshi, Takabe Ryota, Suemasu Takashi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 巻 ( 5 )   2017年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.05DB06

    Web of Science

  162. Minority-carrier lifetime and photoresponse properties of B-doped p-BaSi2, a potential light absorber for solar cells

    Bayu M. Emha, Cham Thi Trinh, Takabe Ryota, Yachi Suguru, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 巻 ( 5 )   2017年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.05DB01

    Web of Science

  163. Investigation of p-type emitter layer materials for heterojunction barium disilicide thin film solar cells

    Takahashi Kazuma, Nakagawa Yoshihiko, Hara Kosuke O., Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 巻 ( 5 )   2017年5月

     詳細を見る

    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.05DB04

    Web of Science

  164. Postannealing effects on undoped BaSi2 evaporated films grown on Si substrates

    Suhara Takamichi, Murata Koichi, Navabi Aryan, Hara Kosuke O., Nakagawa Yoshihiko, Cham Thi Trinh, Kurokawa Yasuyoshi, Suemasu Takashi, Wang Kang L., Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 巻 ( 5 )   2017年5月

     詳細を見る

    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.05DB05

    Web of Science

  165. Growth of BaSi2 film on Ge(100) by vacuum evaporation and its photoresponse properties 査読有り

    C. T. Trinh, Y. Nakagawa, K. O. Hara, Y. Kurokawa, R. Takabe, T. Suemasu, and N. Usami

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 56 ) 頁: 05DB06   2017年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  166. Postannealing effects on undoped BaSi2 evaporated films grown on Si substrates 査読有り

    T. Suhara, K. Murata, A. Navabi, K. O. Hara, Y. Nakagawa, C. T. Trinh, Y. Kurokawa, T. Suemasu, K. L. Wang, and N. Usami

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 56 ) 頁: 05DB05   2017年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  167. Investigation of p-type emitter layer materials for heterojunction barium disilicide thin film solar cells 査読有り

    K. Takahashi, Y. Nakagawa, K. O. Hara, Y. Kurokawa, and N. Usami

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 56 ) 頁: 05DB04   2017年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  168. Post-annealing effects on the surface structure and carrier lifetime of evaporated BaSi2 films

    Hara Kosuke O., Cham Thi Trinh, Kurokawa Yasuyoshi, Arimoto Keisuke, Yamanaka Junji, Nakagawa Kiyokazu, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 巻 ( 4 )   2017年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.04CS07

    Web of Science

  169. Optical characterization of double-side-textured silicon wafer based on photonic nanostructures for thin-wafer crystalline silicon solar cells

    Tayagaki Takeshi, Furuta Daichi, Aonuma Osamu, Takahashi Isao, Hoshi Yusuke, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 巻 ( 4 )   2017年4月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.04CS01

    Web of Science

  170. Impact of anodic aluminum oxide fabrication and post-deposition anneal on the effective carrier lifetime of vertical silicon nanowires

    V. H. Nguyen, P. Sichanugrist, S. Kato, and N. Usami

    Solar Energy Materials and Solar Cells   166 巻   頁: 39-44   2017年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  171. Post-annealing effects on the surface structure and carrier lifetime of evaporated BaSi2 films 査読有り

    K. O. Hara, C. T. Trinh, Y. Kurokawa, K. Arimoto, J. Yamanaka, K. Nakagawa, and N. Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   56 巻   頁: 04CS07   2017年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  172. Minority-carrier lifetime and photoresponse properties of B-doped p-BaSi2, a potential light absorber for solar cells 査読有り

    M. E. Bayu, C. T. Trinh, R. Takabe, S. Yachi, K. Toko, N. Usami, and T. Suemasu

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 56 ) 頁: 05DB01   2017年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  173. Optical characterization of double-side-textured silicon wafer based on photonic nanostructures for thin-wafer crystalline silicon solar cells 査読有り

    T.Tayagaki, D.Furuta, O.Aonuma, I.Takahashi, Y.Hoshi, Y.Kurokawa, and N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   56 巻   頁: 04CS01   2017年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  174. Exploring the potential of semiconducting BaSi2 for thin-film solar cell applications

    Suemasu Takashi, Usami Noritaka

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   50 巻 ( 2 ) 頁: 1-18   2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/50/2/023001

    Web of Science

  175. TEM and STEM Observations of a Flat Continuous Silicon-Germanium Thin Film Epitaxially Grown on Porous Silicon 査読有り

    J. Yamanaka, N. Usami, S. Amtablian, A. Fave, M. Lemiti, C. Yamamoto, and K. Nakagawa

    Journal of Materials Science and Chemical Engineering   5 巻   頁: 26-34   2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  176. Preferred Orientation of BaSi2 Thin Films Fabricated by Thermal Evaporation

    K. O. Hara, C. T. Trinh, Y. Nakagawa, Y. Kurokawa, K. Arimoto, J. Yamanaka, K. Nakagawa, and N. Usami

    JJAP Conference Proceedings   ( 5 ) 頁: 11202   2017年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  177. Realization of Crystalline BaSi2 Thin Films by Vacuum Evaporation on (111)-oriented Si Layers Fabricated by Aluminum Induced Crystallization

    J. A. Wibowo, I. Takahashi, K. O. Hara, and N. Usami

    JJAP Conference Proceedings   ( 5 ) 頁: 11201   2017年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  178. Controlling impurity distributions in crystalline Si for solar cells by using artificial designed defects

    Y.Hayama, I.Takahashi, and N.Usami

    Journal of Crystal Growth   468 巻   頁: 625-629   2017年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  179. Selective Etching of Si, SiGe, Ge and Its Usage for Increasing the Efficiency of Silicon Solar Cells

    N.A. Baidakova, V.A. Verbus, E.E. Morozova, A.V. Novikov, E.V. Skorohodov, M.V. Shaleev, D.V. Yurasov, A. Hombe, Y. Kurokawa, and N. Usami

    Semiconductors   51 巻 ( 12 ) 頁: 1542-1546   2017年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  180. Development of Spin-coated Copper Iodide Film on Silicon for Use in Hole-selective Contacts

    K. Gotoh, M. Cui, I. Takahashi, Y. Kurokawa, and N. Usami

    Energy Procedia   124 巻   頁: 598-603   2017年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  181. Controlling impurity distribution in quasi-mono crystalline Si ingot by seed manipulation for artificially controlled defects technique

    Hayama Yusuke, Takahashi Isao, Usami Noritaka

    7TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SILICON PHOTOVOLTAICS, SILICONPV 2017   124 巻   頁: 734-739   2017年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.egypro.2017.09.088

    Web of Science

  182. Development of spin-coated copper iodide on silicon for use in hole-selective contacts

    Gotoh Kazuhiro, Cui Min, Takahashi Isao, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    7TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SILICON PHOTOVOLTAICS, SILICONPV 2017   124 巻   頁: 598-603   2017年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.egypro.2017.09.081

    Web of Science

  183. Fabrication of CuI/a-Si:H/c-Si Structure for Application to Hole-selective Contacts of Heterojunction Si Solar Cells

    Gotoh Kazuhiro, Cui Min, Thanh Nguyen Cong, Koyama Koichi, Takahashi Isao, Kurokawa Yasuyoshi, Matsumura Hideki, Usami Noritaka

    2017 IEEE 44TH PHOTOVOLTAIC SPECIALIST CONFERENCE (PVSC)     頁: 1765-1768   2017年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  184. Solar Cells Application of p-type poly-Si Thin Film by Aluminum Induced Crystallization

    Masuda Shota, Gotoh Kazuhiro, Takahashi Isao, Nakamura Kyotaro, Ohshita Yoshio, Usami Noritaka

    2017 IEEE 44TH PHOTOVOLTAIC SPECIALIST CONFERENCE (PVSC)     頁: 1794-1796   2017年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  185. Numerical simulation and performance optimization of perovskite solar cell

    Nanduri Sai Naga Raghuram, Siddiki Mahbube K., Chaudhry Ghulam M., Alharthi Yahya Z.

    2017 IEEE 44TH PHOTOVOLTAIC SPECIALIST CONFERENCE (PVSC)     頁: 1018 - 1021   2017年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  186. Exploring the Potential of Semiconducting BaSi2 for Thin-Film Solar Cell Applications 査読有り

    T. Suemasu and N. Usami

    Journal of Physics D: Applied Physics   50 巻   頁: 023001   2016年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  187. Effects of the Si/Al layer thickness on the continuity, crystalline orientation and the growth kinetics of the poly-Si thin films formed by aluminum-induced crystallization

    S.Tutashkonko, N.Usami

    Thin Solid Films   616 巻   頁: 213-219   2016年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  188. Growth direction control of dendrite crystals in parallel direction to realize high-quality multicrystalline silicon ingot

    T.Hiramatsu, I.Takahashi, S.Matsushima, and N.Usami

    Jpn. J. Appl. Phys.   55 巻   頁: 091302   2016年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  189. Light-induced recovery of effective carier lifetime in boron-doped Czochralski silicon at room temperature 査読有り

    H.Ichikawaa, I.Takahashi, N.Usami, K.Shirasawa, H.Takato

    Energy Procedia   92 巻   頁: 801-807   2016年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  190. Photoresponse properties of BaSi2 film grown on Si (100) by vacuum evaporation .

    C.T.Trinh, Y.Nakagawa, K.O.Hara, R.Takabe, T.Suemasu, and N.Usami

    Materials Research Express   3 巻 ( 7 ) 頁: 076204   2016年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  191. Evidence for efficient passivation of vertical silicon nanowires by anodic aluminum oxide

    V.H.Nguyen, S.Kato, and N.Usami

    Solar Energy Materials and Solar Cells   157 巻   頁: 393-398   2016年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  192. Effect of grain boundary character of multicrystalline Si on external and internal (phosphorus) gettering of impurities 査読有り

    S.Joonwichien, I.Takahashi, K.Kutsukake, and N.Usami

    PROGRESS IN PHOTOVOLTAICS: RESEARCH AND APPLICATIONS     2016年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1002/pip.2795

  193. p-BaSi2/n-Si heterojunction solar cells with conversion efficiency reaching 9.0%

    D.Tsukahara, S.Yachi, H.Takeuchi, R.Takabe, W.Du, M.Baba, Y.Li, K.Toko, N.Usami, and T.Suemasu

    APPLIED PHYSICS LETTERS   108 巻   頁: 152101   2016年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  194. Modulated surface nanostructures for enhanced light trapping and reduced surface reflection of crystalline silicon solar cells 査読有り

    T.Tayagaki, Y.Hoshi, Y.Hirai, Y.Matsuo, and N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   ( 55 ) 頁: 52302   2016年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  195. Simple vacuum evaporation route to BaSi2 thin films for solar cell applications 査読有り

    K.O.Hara, Y.Nakagawa, T.Suemasu, and N. Usami

    Energy Procedia   141 巻   頁: 27-31   2016年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  196. On the mechanism of BaSi2 thin film formation on Si substrate by vacuum evaporation 査読有り

    Y.Nakagawaa, K.O.Hara, T.Suemasu, and N.Usami

    Energy Procedia   141 巻   頁: 23-26   2016年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  197. Improved multicrystalline silicon ingot quality using single layer silicon beads coated with silicon nitride as seed layer

    G.Anandha babu, I.Takahashi, S.Matsushima, and N.Usami

    Journal of Crystal Growth   441 巻   頁: 124-130   2016年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  198. Effect of passivation layer grown by atomic layer deposition and sputtering processes on Si quantum dot superlattice to generate high photocurrent for high-efficiency solar cells

    M.M.Rahman, A.Higo, H.Sekhar, M.E.Syazwan, Y.Hoshi, N.Usami, and S.Samukawa

    Japanese Journal of Applied Physics   ( 55 ) 頁: 032303   2016年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  199. Control of electrical properties of BaSi2 thin films by alkali-metal doping using alkali-metal fluorides 査読有り

    K.O.Hara, W.Du, K.Arimoto, J.Yamanaka, K.Nakagawa, K.Toko, T. Suemasu, and N.Usami

    Thin Solid Films   603 巻   頁: 218-223   2016年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  200. Compressively strained Si/Si1_xCx heterostructures formed on Ar ion implanted Si(100) substrates 査読有り

    Y.Hoshi, Y.Arisawa, K. Arimoto, J.Yamanaka, K.Nakagawa, K.Sawano, and N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   55 巻   頁: 031302   2016年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  201. Impact of silicon quantum dot super lattice and quantum well structure as intermediate layer on p-i-n silicon solar cells

    M.M.Rahman, M-Y, Lee, Y-C,Tsai, A. Higo, H.Sekhar, M.Igarashi, M.E.Syazwan, Y.Hoshi, K.Sawano, N.Usami, Y.Li, and S.Samukawa

    PROGRESS IN PHOTOVOLTAICS   ( 28 ) 頁: 774-780   2015年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pip.2726

  202. Structural and electrical characterizations of crack-free BaSi2 thin filmsfabricated by thermal evaporation

    K.O.Hara, J.Yamanaka, K. Arimoto, K.Nakagawa, T.Suemasu, N.Usami

    Thin Solid Films   595 巻   頁: 68-72   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  203. Seed manipulation for artificially controlled defect technique in new growth method for quasi-monocrystalline Si ingot based on casting 査読有り

    I.Takahashi, S.Joonwichien, T.Iwata, and N.Usami

    Applied Physics Express   8 巻   頁: 105501   2015年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  204. Selective growth of vertical silicon nanowire array guided by anodic aluminum oxide template 査読有り

    V.H.Nguyen, Y.Hoshi, N.Usami, M.Konagai

    Japanese Journal of Applied Physics   54 巻   頁: 095003   2015年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  205. Comparison of phosphorus gettering effect in faceted dendrite and small grain of multicrystalline silicon wafers grown by floating cast method 査読有り

    S.Joonwichien, I.Takahashi, S.Matsushima, N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   54 巻   頁: 08KD11   2015年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  206. Application of heterojunction to Si-based solar cells using photonic nanostructures coupled with vertically aligned Ge quantum dots 査読有り

    I.Takahashi, Y.Hoshi, T.Tayagaki, T.Oikawa, K.Ohdaira, N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   54 巻   頁: 08KA06   2015年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  207. Fabrication of single-phase BaSi2 thin films on silicon substrates by vacuumevaporation for solar cell applications 査読有り

    Y.Nakagawa, K.O.Hara, T.Suemasu, N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   54 巻   頁: 08KC03   2015年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  208. Effect of Anodization Process of Aluminum Oxide Template on Selective Growth of Si Nanowires 査読有り

    V.H.Nguyen, S.Tutashkonko, Y.Hoshi, N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   54 巻   頁: 08KA02   2015年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  209. Geometry in Si-based photonic nanostructures coupled with Ge quantum dot multilayers and its impact on optical properties 査読有り

    O.Aonuma, Y.Hoshi, T.Tayagaki, A.Novikov, D.Yurasov, N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   54 巻   頁: 08KA01   2015年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  210. Suppression of metastable-phase inclusion in N-polar (0001¯) InGaN/GaN multiple quantum wells grown by metalorganic vapor phase epitaxy 査読有り

    K.Shojiki, J-H.Choi, T.Iwabuchi, N.Usami, T.Tanikawa, S.Kuboya, T.Hanada, R.Katayama, T.Matsuoka

    Applied Physics Letters   106 巻   頁: 222102   2015年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  211. Relationship between dislocation density and contact angle of dendrite crystals in practical size silicon ingot

    I.Takahashi, S.Joonwichien, S.Matsushima, N.Usami

    Journal of Applied Physics   ( 117 ) 頁: 095701   2015年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  212. Realization of single-phase BaSi2 films by vacuum evaporation with suitable optical properties and carrier lifetime for solar cell applications 査読有り

    K.O.Hara, Y.Nakagawa, T.Suemasu, N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   54 巻   頁: 07JE02   2015年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  213. Cross-sectional potential profile across a BaSi2 pn junction by Kelvin probe force microscopy

    D.Tsukahara, M.Baba, K.Watanabe, T.Kimura, K.O.Hara, W.Du, N.Usami, K.Toko, T.Sekiguchi, T.Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   54 巻 ( 3 ) 頁: 030306   2015年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  214. Cross-sectional potential profile across a BaSi2 pn junction by Kelvin probe force microscopy 査読有り

    D.Tsukahara, M.Baba, K.Watanabe, T.Kimura, K.O.Hara, W.Du, N.Usami, K.Toko, T.Sekiguchi, T.Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   54 巻   頁: 030306   2015年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  215. Absorption enhancement in nanotextured solar cells with Ge/Si heterostructures

    T.Tayagaki, Y.Kishimoto, Y.Hoshi, N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   ( 54 ) 頁: 04DR03   2015年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  216. Influence of Substrate on Crystal Orientation of Large-Grained Si Thin Films Formed by Metal-Induced Crystallization 査読有り

    K.Toko, M.Nakata, A.Okada, M.Sasase, N.Usami, T.Suemasu

    INTERNATIONAL JOURNAL OF PHOTOENERGY   ( 2015 ) 頁: 790242   2015年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  217. バルク結晶成長のこの10年 査読有り

    宇治原 徹, 島村清史, 宇佐美 徳隆, 太子 敏則, 樋口 幹雄, 吉村 政志

      42 巻 ( 1 ) 頁: pp.64-68   2015年

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  218. Light trapping by direction-dependent light transmission in front-surface photonic nanostructures

    T.Tayagaki, Y.Kishimoto, Y.Hoshi, N.Usami

    Applied Physics Express   7 巻   頁: 122301   2014年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  219. Simulation study of Ge/Si heterostructured solar cells yielding improved open-circuit voltage and quantum efficiency

    T.Tayagaki, Y.Kishimoto, Y.Hoshi, I.Takahashi, N.Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   ( 53 ) 頁: 110312   2014年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  220. Potential variations around grain boundaries in impurity-doped BaSi2 epitaxial films evaluated by Kelvin probe force microscopy

    D.Tsukahara, M.Baba, S.Honda, Y.Imai, K.O.Hara, N.Usami, K.Toko, J.H.Werner, T.Suemasu

    D.Tsukahara, M.Baba, S.Honda, Y.Imai, K.O.Hara, N.Usami, K.Toko, J.H.Werner, T.Suemasu   116 巻   頁: 123709   2014年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  221. Towards implementation of floating cast method for growing large-scale high-quality multicrystalline silicon ingot using designed double crucibles

    S.Joonwichien, I.Takahashi, S.Matsushima, N.Usami

    PROGRESS IN PHOTOVOLTAICS: RESEARCH AND APPLICATIONS   ( 22 ) 頁: 726-732   2014年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  222. Evaluation of minority carrier diffusion length of undoped n-BaSi2 epitaxial thin films on Si(001) substrates by electron-beam-induced-current technique

    M.Baba, K.Watanabe, K.O.Hara, K.Toko, T.Sekiguchi, N.Usami, T.Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   ( 53 ) 頁: 078004   2014年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  223. Analysis of the electrical properties of Cr/n-BaSi2 Schottky junction and n-BaSi2/p-Si heterojunction diodes for solar cell applications

    W.D, M.Baba, K.Toko, K.Kosuke, K.Watanabe, T.Sekiguchi, N.Usami, T.Suemasu

    Journal of Applied Physics   115 巻   頁: 223701   2014年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  224. Analysis of the electrical properties of Cr/n-BaSi2 Schottky junction and n-BaSi2/p-Si heterojunction diodes for solar cell applications

    W.Du, M.Baba, K.Toko, K.O.Hara, K.Watanabe, T.Sekiguchi, N.Usami, T.Suemasu

    Journal of Applied Physics   115 巻   頁: 223701   2014年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  225. Influence of grain size and surface condition on minority-carrier lifetime in undoped n-BaSi2 on Si(111) 査読有り

    R.Takabe, K.O.Hara, M.Baba, W.Du, N.Shimada, K.Toko, N.Usami, T.Suemasu

      ( 115 ) 頁: 193510   2014年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  226. Carrier extraction dynamics from Ge/Si quantum wells in Si solar cells

    T.Tayagaki, Y.Hoshi, K.Ooi, T.Kiguchi, N.Usami

    Thin Solid Films   557 巻   頁: 368-371   2014年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.08.042

  227. Control of geometry in Si-based photonic nanostructures formed by maskless wet etching process and its impact on optical properties

    Y.Hoshi, T.Tayagaki, T.Kiguchi, N.Usami

    Thin Solid Films   557 巻   頁: 338-341   2014年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.10.066

  228. Large-grained (111)-oriented Si/Al/SiO2 structures formed by diffusion-controlled Al-induced layer exchange

    R.Numata, K.Toko, N.Usami, T.Suemasu

    Thin Solid Films   557 巻   頁: 147-150   2014年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.08.044

  229. Growth promotion of Al-induced crystallized Ge films on insulators by insertion of a Ge membrane below the Al layer

    R.Numata, K.Toko, K.Nakazawa, N.Usami, T.Suemasu

    Thin Solid Films   557 巻   頁: 143-146   2014年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.08.040

  230. N-type doping of BaSi2 epitaxial films by phosphorus ion implantation and thermal annealing

    K.O.Hara, Y.Hoshi, N.Usami, Y.Shiraki, K.Nakamura, K.Toko, T.Suemasu

    Thin Solid Films   557 巻   頁: 90-93   2014年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.08.038

  231. Selective formation of large-grained, (100)- or (111)-oriented Si on glass by Al-induced layer exchange

    K.Toko, R.Numata, N.Saitoh, N.Yoshizawa, N.Usami, T.Suemasu

    Journal of Applied Physics   115 巻 ( 9 ) 頁: 094301   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4867218

  232. Formation process of Si3N4 particles on surface of Si ingots grown using silica crucibles with Si3N4 coating by noncontact crucible method

    K.Nakajima, K.Morishita, R.Murai, N.Usami

    Journal of Crystal Growth   389 巻   頁: 112-119   2014年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2013.12.006

  233. Orientation control of Ge thin films by underlayer-selected Al-induced crystallization

    K.Toko, K.Nakazawa, N.Saitoh, N.Yoshizawa, N.Usami, T.Suemasu

    CrystEngComm   16 巻 ( 13 ) 頁: 2578-2583   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/c3ce42057d

  234. Structural characterization of polycrystalline Ge thin films on insulators formed by diffusion-enhanced Al-induced layer exchange

    R.Numata, K.Toko, N.Oya, N.Usami and T.Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   53 巻   頁: 04EH03   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  235. Al-induced crystallization of amorphous Ge thin films on conducting layer coated glass substrates

    K.Nakazawa, K.Toko, N.Usami, T.Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   53 巻   頁: 04EH01   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  236. Fabrication and characterization of BaSi2 epitaxial films over 1 mu m in thickness on Si(111) 査読有り

    R.Takabe, K.Nakamura, M.Baba, W.Du, M.A.Khan, K.Toko, M.Sasase, K.Hara, N.Usami, T.Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   53 巻   頁: 04ER04   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  237. Enhanced photocarrier generation in large-scale photonic nanostructures fabricated from vertically aligned quantum dots

    T.Tayagaki, Y.Hoshi, Y.Kishimoto, and N.Usami

    Optics Express   22 巻 ( 52 ) 頁: A225-A232   2014年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1364/oe.22.00a225

  238. Low-temperature (180 degrees C) formation of large-grained Ge (111) thin film on insulator using accelerated metal-induced crystallization

    K.Toko, R.Numata, N.Oya, N.Fukata, N.Usami, T.Suemasu

    Applied Physics Letters   104 巻 ( 2 ) 頁: 022106   2014年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4861890

  239. Grazing-incidence small-angle X-ray scattering from Ge nanodots self-organized on Si(001) examined with soft X-rays

    T.Yamamoto, H.Okuda, K.Takeshita, N.Usami, Y.Kitajima, H.Ogawa

    Journal of Synchrotron Radiation   21 巻   頁: 161-164   2014年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1107/s1600577513026088

  240. Mono-Like Silicon Growth Using Functional Grain Boundaries to Limit Area of Multicrystalline Grains

    K.kutsukake, N.Usami, Y.Ohno,Y.Tokumoto, I.Yonenaga

    Ieee Journal of Photovoltaics   4 巻 ( 1 ) 頁: 84-87   2014年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/jphotov.2013.2281730

  241. Effect of Ge/Al thickness on Al-induced crystallization of amorphous Ge layers on glass substrates

    K.Nakazawa, K.Toko, N.Saitoh, N.Yoshizawa, N.Usami, T.Suemasu

    physica status solidi ©   10 巻   頁: 1781-1784   2013年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  242. Epitaxial growth of BaSi2 films with large grains using vicinal Si(111) substrates

    M.Baba, K.O.Hara, K.Toko, N.Saito, N.Yoshizawa, N.Usami, T.Suemasu

    physica status solidi ©   10 巻   頁: 1756-1768   2013年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  243. Investigation of the tunneling properties and surface morphologies of BaSi2/Si tunnel junctions for BaSi2 solar cell applications

    W.Du, M.Baba, R.Takabe, N.Zhang, K.Toko, N.Usami, T.Suemasu

    physica status solidi ©   10 巻   頁: 1765-1768   2013年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  244. Fabrication of BaSi2 films on (111)-oriented Si layers formed by inverted Al-induced crystallization method on glass structure

    R.Numata, K.Toko, N.Usami, T.Suemasu

    physica status solidi ©   10 巻   頁: 1769-1772   2013年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  245. Fabrication and characterizations of phosphorus-doped n-type BaSi2 epitaxial films grown by molecular beam epitaxy

    R.Takabe, M.Baba, K.Nakamura, W.Du, M.A.Khan, S.Koike, K.Toko, K.O.Hara, N.Usami, T.Suemasu

    physica status solidi ©   10 巻   頁: 1753-1755   2013年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  246. Mechanism of strain relaxation in BaSi2 epitaxial films on Si(111) substrates during post-growth annealing and application for film exfoliation

    K.O.Hara, N.Usami, K.Nakamura, R.Takabe, M.Baba, K.Toko, T.Suemasu

    physica status solidi ©   10 巻   頁: 1677-1680   2013年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  247. Determination of Bulk Minority-Carrier Lifetime in BaSi2 Earth-Abundant-Absorber Films by Utilizing a Drastic Enhancement of Carrier Lifetime by Post-Growth Annealing

    K.O.Hara, N.Usami, K.Nakamura, R.Takabe, M.Baba, K.Toko, T.Suemasu

    Applied Physics Express   6 巻   頁: 112302   2013年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  248. Determination of Bulk Minority-Carrier Lifetime in BaSi2 Earth-Abundant Absorber Films by Utilizing a Drastic Enhancement of Carrier Lifetime by Post-Growth Annealing

    K.O.Hara, N.Usami, K.Nakamura, R.Takabe, M.Baba, K.Toko, T.Suemasu

    Applied Physics Express   6 巻 ( 11 ) 頁: 112302   2013年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/apex.6.112302

  249. Theory of open-circuit voltage and the driving force of charge separation in pn-junction solar cells

    K.O.Hara, N.Usami

    Journal of Applied Physics   114 巻   頁: 153101   2013年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  250. Evaluation of potential variations around grain boundaries in BaSi2 epitaxial films by Kelvin probe force microscopy

    M.Baba, S.Tsurekawa, K.Watanabe, W.Du, K.Toko, K.O.Hara, N.Usami, T.Sekiguchi, T.Suemasu

    Applied Physics Letters   103 巻   頁: 142113   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  251. Investigation of the open-circuit voltage in solar cells doped with quantum dots

    T.Tayagaki, Y.Hoshi, N.Usami

    Scientific Reports   3 巻   頁: 2703   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/srep02703

  252. Control of Grain Boundary Propagation in Mono-Like Si: Utilization of Functional Grain Boundaries

    K.Kutsukake, N.Usami, Y.Ohno, Y.Tokumoto, I.Yonenaga

    Applied Physics Express   6 巻   頁: 025505   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  253. Effect of atomic-hydrogen irradiation on reduction of residual carrier concentration in β-FeSi2 films grown on Si substrates by atomic-hydrogen-assisted molecular beam epitaxy

    Y.Funase, M.Suzuno, K.Toko, K.O.Hara, N.Usami, N.Saito, N.Yoshizawa, T.Suemasu

    Journal of Crystal Growth   378 巻   頁: 365-367   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  254. Enhancement of light emission from Ge quantum dots by photonic crystal nanocavities at room-temperature

    XJ.Xu, N.Usami, T.Maruizumi, Y.Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   378 巻   頁: 636-639   2013年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2012.11.002

  255. On the origin of the uniaxial strain induced in Si/Ge heterostructures with selective ion implantation technique

    K.Sawano, Y.Hoshi, S.Nagakura, K.Arimoto, K.Nakagawa, N.Usami, Y.Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   378 巻   頁: 251-253   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2012.12.100

  256. Molecular beam epitaxy of boron doped p-type BaSi2 epitaxial films on Si(111) substrates for thin-film solar cells

    M.A.Khan, K.O.Hara, K.Nakamura, W.J.Du, M.Baba, K.Toh, M.Suzuno, K.Toko, N.Usami, T.Suemasu

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   378 巻   頁: 201-204   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2012.12.153

  257. Large photoresponsivity in semiconducting BaSi2 epitaxial films grown on Si(001) substrates by molecular beam epitaxy

    S.Koike, K.Toh, M.Baba, K.Toko, K.O.Hara, N.Usami, N.Saito, N.Yoshizawa, T.Suemasu

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   378 巻   頁: 198-200   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2012.12.052

  258. Gas-source MBE growth of strain-relaxed Si1-xCx on Si(100) substrates

    K.Arimoto, S.Sakai, H.Furukawa, J.Yamanaka, K.Nakagawa, N.Usami, Y.Hoshi, K.Sawano, Y.Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   378 巻   頁: 212-217   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2012.12.152

  259. Formation of large-grain-sized BaSi2 epitaxial layers grown on Si(111) by molecular beam epitaxy

    M.Baba, K.Toh, K.Toko, K.O.Hara, N.Usami, N.Saito, N.Yoshizawa, T.Suemasu

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   378 巻   頁: 193-197   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2012.12.176

  260. Large-Grained Polycrystalline (111) Ge Films on Insulators by Thickness-Controlled Al-Induced Crystallization

    K. Nakazawa, K. Toko, N. Saitoh, N.Usami and T. Suemasu

    Ecs Journal of Solid State Science and Technology   2 巻 ( 11 ) 頁: Q195-Q199   2013年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1149/2.007311jss

  261. Control of Dip Shape in Photonic Nanostructures by Maskless Wet-Etching Process and Its Impact on Optical Properties

    Y.Hoshi, WG.Pan, T.Kiguchi, K.Ooi, T.Tayagaki, N.Usami

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 巻 ( 8 ) 頁: UNSP 080202   2013年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.080202

  262. Double-Layered Ge Thin Films on Insulators Formed by an Al-Induced Layer-Exchange Process

    K.Toko, K.Nakazawa, N.Saitoh, N.Yoshizawa, N.Usami, T.Suemasu

    Crystal Growth & Design   13 巻 ( 9 ) 頁: 3908-3912   2013年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/cg4005533

  263. Temperature dependent Al-induced crystallization of amorphous Ge thin films on SiO2 substrates

    K.Toko, N.Fukata, K.Nakazawa, M.Kurosawa, N.Usami, M.Miyao, T.Suemasu

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   372 巻   頁: 189-192   2013年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2013.03.031

  264. Effect of Ga content and growth temperature on Cu(In,Ga)Se2 thin film deposited on heat-resistant glass substrates

    T.Higuchi, N.Usami, T.Minemoto

    Phys.Status Solidi C   10 巻   頁: 1035-1037   2013年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  265. Generation of high photocurrent in three-dimensional silicon quantum dot superlattice fabricated by combining bio-template and neutral beam etching for quantum dot solar cells

    M.Igarashi, WG.Hu, M.M.Rahman, N.Usami, S.Samukawa

    NANOSCALE RESEARCH LETTERS   8 巻   頁: 228   2013年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1186/1556-276X-8-228

  266. Structural study on phosphorus doping of BaSi2 epitaxial films by ion implantation

    K.O.Hara, Y.Hoshi, N.Usami, Y.Shiraki, K.Nakamura, K.Toko, T.Suemasu,

    THIN SOLID FILMS   534 巻   頁: 470-473   2013年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.02.014

  267. Effects of crystal defects and their interactions with impurities on electrical properties of multicrystalline Si

    S.Joonwichien, S.Matsushima, N.Usami

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   113 巻 ( 13 ) 頁: 133503   2013年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4798600

  268. Orientation Control of Large-Grained Si Films on Insulators by Thickness-Modulated Al-Induced Crystallization

    R.Numata, K.Toko, N.Saitoh, N.Yoshizawa, N.Usami, T.Suemasu

    CRYSTAL GROWTH & DESIGN   13 巻 ( 4 ) 頁: 1767-1770   2013年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/cg4000878

  269. In-situ heavily p-type doping of over 10(20) cm(-3) in semiconducting BaSi2 thin films for solar cells applications

    M.A.Khan, K.O.Hara, W.Du, M.Baba, K.Nakamura, M.Suzuno, K.Toko, N.Usami, T.Suemasu

    APPLIED PHYSICS LETTERS   102 巻 ( 11 ) 頁: 112107   2013年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4796142

  270. Lattice and grain-boundary diffusions of boron atoms in BaSi2 epitaxial films on Si(111)

    K. Nakamura, M. Baba, M. A. Khan, W. Du, M. Sasase, K. O. Hara, N. Usami, K. Toko and T. Suemasu

    Journal of Applied Physics   113 巻 ( 5 )   2013年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4790597

  271. Control of Grain Boundary Propagation in Mono-Like Si: Utilization of Functional Grain Boundaries

    K. Kutsukake, N. Usami, Y. Ohno, Y. Tokumoto and I. Yonenaga

    Applied Physics Express   6 巻 ( 2 )   2013年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.6.025505

  272. On the growth mechanism of polycrystalline silicon thin film by Al-induced layer exchange process

    N. Usami, M. N. Jung and T. Suemasu

    Journal of Crystal Growth   362 巻   頁: 16-19   2013年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  273. Effects of formation of mini-bands in two-dimensional array of silicon nanodisks with SiC interlayer for quantum dot solar cells

    M. Igarashi, M. F. Budiman, W. G. Pan, W. G. Hu, Y. Tamura, M. E. Syazwan, N. Usami and S. Samukawa

    Nanotechnology   24 巻 ( 1 )   2013年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0957-4484/24/1/015301

  274. Reflectance anisotropies of compressively strained Si grown on vicinal Si1-xCx(001)

    R. E. Balderas-Navarro, N. A. Ulloa-Castillo, K. Arimoto, G. Ramirez-Melendez, L. F. Lastras-Martinez, H. Furukawa, J. Yamanaka, A. Lastras-Martinez, J. M. Flores-Camacho, N. Usami, D. Stifter and K. Hingerl

    Applied Physics Letters   102 巻 ( 1 )   2013年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4773560

  275. Formation of compressively strained Si/S1-xCx/Si(100) heterostructures using gas-source molecular beam epitaxy

    K. Arimoto, H. Furukawa, J. Yamanaka, C. Yamamoto, K. Nakagawa, N. Usami, K. Sawano and Y. Shiraki

    Journal of Crystal Growth   362 巻   頁: 276-281   2013年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  276. Theory of open-circuit voltage and the driving force of charge separation in pn-junction solar cells

    K.O. Hara, N.Usami

    Journal of Applied Physics   114 巻 ( 15 ) 頁: 153101   2013年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4825046

  277. Evaluation of potential variations around grain boundaries in BaSi2 epitaxial films by Kelvin probe force microscopy

    M.Baba, S.Tsurekawa, K.Watanabe, W.Du, K.Toko, K.O.Hara, N.Usami, T.Sekiguchi and T.Suemasu

    Applied Physics Letters   103 巻   頁: 142113   2013年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4824335

  278. Silicon-Based Light-Emitting Devices Based on Ge Self-Assembled Quantum Dots Embedded in Optical Cavities

    X. J. Xu, S. Narusawa, T. Chiba, T. Tsuboi, J. S. Xia, N. Usami, T. Maruizumi and Y. Shiraki

    Ieee Journal of Selected Topics in Quantum Electronics   18 巻 ( 6 ) 頁: 1830-1838   2012年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  279. Influence of Thermal Annealing on the Carrier Extraction in Ge/Si Quantum Dot Solar Cells

    T. Tayagaki, N. Usami and Y. Kanemitsu

    Japanese Journal of Applied Physics   51 巻 ( 10 )   2012年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.10NE24

  280. Dependence of crystal orientation in Al-induced crystallized poly-Si layers on SiO2 insertion layer thickness

    A. Okada, K. Toko, K. O. Hara, N. Usami and T. Suemasu

    Journal of Crystal Growth   356 巻   頁: 65-69   2012年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  281. Large-Grain Polycrystalline Silicon Films Formed through Flash-Lamp-Induced Explosive Crystallization

    K. Ohdaira, K. Sawada, N. Usami, S. Varlamov and H. Matsumura

    Japanese Journal of Applied Physics   51 巻 ( 10 )   2012年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.10NB15

  282. Realization of Large-Domain Barium Disilicide Epitaxial Thin Film by Introduction of Miscut to Si(111) Substrate

    K. O. Hara, N. Usami, K. Toh, K. Toko and T. Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   51 巻 ( 10 )   2012年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.10NB06

  283. Growth velocity and grain size of multicrystalline solar cell silicon

    I. Brynjulfsen, K. Fujiwara, N. Usami and L. Amberg

    Journal of Crystal Growth   356 巻   頁: 17-21   2012年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  284. Investigation of the recombination mechanism of excess carriers in undoped BaSi2 films on silicon

    K. O. Hara, N. Usami, K. Toh, M. Baba, K. Toko and T. Suemasu

    Journal of Applied Physics   112 巻 ( 8 )   2012年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4759246

  285. Epitaxy of Orthorhombic BaSi2 with Preferential In-Plane Crystal Orientation on Si(001): Effects of Vicinal Substrate and Annealing Temperature

    K. Toh, K. O. Hara, N. Usami, N. Saito, N. Yoshizawa, K. Toko and T. Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   51 巻 ( 9 )   2012年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.095501

  286. Enhanced carrier extraction from Ge quantum dots in Si solar cells under strong photoexcitation

    T. Tayagaki, N. Usami, W. G. Pan, Y. Hoshi, K. Ooi and Y. Kanemitsu

    Applied Physics Letters   101 巻 ( 13 )   2012年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4756895

  287. Molecular Beam Epitaxy of BaSi2 Films with Grain Size over 4 mu m on Si(111)

    M. Baba, K. Nakamura, W. J. Du, M. A. Khan, S. Koike, K. Toko, N. Usami, N. Saito, N. Yoshizawa and T. Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   51 巻 ( 9 )   2012年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.098003

  288. Highly (111)-oriented Ge thin films on insulators formed by Al-induced crystallization

    K. Toko, M. Kurosawa, N. Saitoh, N. Yoshizawa, N. Usami, M. Miyao and T. Suemasu

    Applied Physics Letters   101 巻 ( 7 )   2012年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4744962

  289. Quantum dot solar cells using 2-dimensional array of 6.4-nm-diameter silicon nanodisks fabricated using bio-templates and neutral beam etching

    M. Igarashi, M. F. Budiman, W. G. Pan, W. G. Hu, N. Usami and S. Samukawa

    Applied Physics Letters   101 巻 ( 6 )   2012年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4745195

  290. Silicon-based current-injected light emitting diodes with Ge self-assembled quantum dots embedded in photonic crystal nanocavities

    X. J. Xu, T. Tsuboi, T. Chiba, N. Usami, T. Maruizumi and Y. Shiraki

    Optics Express   20 巻 ( 13 ) 頁: 14714-14721   2012年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  291. Investigation of grain boundaries in BaSi2 epitaxial films on Si(111) substrates using transmission electron microscopy and electron-beam-induced current technique

    M. Baba, K. Toh, K. Toko, N. Saito, N. Yoshizawa, K. Jiptner, T. Sekiguchi, K. O. Hara, N. Usami and T. Suemasu

    Journal of Crystal Growth   348 巻 ( 1 ) 頁: 75-79   2012年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  292. Simultaneous enhanced photon capture and carrier generation in Si solar cells using Ge quantum dot photonic nanocrystals

    N. Usami, W. G. Pan, T. Tayagaki, S. T. Chu, J. S. Li, T. H. Feng, Y. Hoshi and T. Kiguchi

    Nanotechnology   23 巻 ( 18 )   2012年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0957-4484/23/18/185401

  293. Room-Temperature Electroluminescence from Ge Quantum Dots Embedded in Photonic Crystal Microcavities

    T. Tsuboi, X. J. Xu, J. S. Xia, N. Usami, T. Maruizumi and Y. Shiraki

    Applied Physics Express   5 巻 ( 5 )   2012年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.5.052101

  294. Upper limit of two-dimensional hole gas mobility in strained Ge/SiGe heterostructures

    T. Tanaka, Y. Hoshi, K. Sawano, N. Usami, Y. Shiraki and K. M. Itoh

    Applied Physics Letters   100 巻 ( 22 )   2012年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4723690

  295. Molecular beam epitaxy of BaSi2 thin films on Si(001) substrates

    K. Toh, K. O. Hara, N. Usami, N. Saito, N. Yoshizawa, K. Toko and T. Suemasu

    Journal of Crystal Growth   345 巻 ( 1 ) 頁: 16-21   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  296. Growth of multicrystalline Si ingots using noncontact crucible method for reduction of stress

    K. Nakajima, R. Murai, K. Morishita, K. Kutsukake and N. Usami

    Journal of Crystal Growth   344 巻 ( 1 )   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2012.01.051

  297. Effect of Phase Purity on Dislocation Density of Pressurized-Reactor Metalorganic Vapor Phase Epitaxy Grown InN

    T. Iwabuchi, Y. H. Liu, T. Kimura, Y. T. Zhang, K. Prasertsuk, H. Watanabe, N. Usami, R. Katayama and T. Matsuoka

    Japanese Journal of Applied Physics   51 巻 ( 4 )   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.04DH02

  298. Effect of Solid-Phase-Epitaxy Si Layers on Suppression of Sb Diffusion from Sb-Doped n(+)-BaSi2/p(+)-Si Tunnel Junction to Undoped BaSi2 Overlayers

    W. J. Du, T. Saito, M. A. Khan, K. Toko, N. Usami and T. Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   51 巻 ( 4 )   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.04DP01

  299. Improved photoresponsivity of semiconducting BaSi2 epitaxial films grown on a tunnel junction for thin-film solar cells

    W. J. Du, M. Suzuno, M. A. Khan, K. Toh, M. Baba, K. Nakamura, K. Toko, N. Usami and T. Suemasu

    Applied Physics Letters   100 巻 ( 15 )   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3703585

  300. Structural Study of BF2 Ion Implantation and Post Annealing of BaSi2 Epitaxial Films

    K. O. Hara, N. Usami, Y. Hoshi, Y. Shiraki, M. Suzuno, K. Toko and T. Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   50 巻 ( 12 )   2011年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.50.121202

  301. The effect of the presence of an Al-doped ZnO layer on the preferential crystal orientation of polycrystalline silicon thin films grown by an Al-induced layer exchange method

    M. Jung, A. Okada, T. Saito, T. Suemasu and N. Usami

    Journal of Ceramic Processing Research   12 巻   頁: S187-S192   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  302. Generation mechanism of dislocations and their clusters in multicrystalline silicon during two-dimensional growth

    K. Kutsukake, T. Abe, N. Usami, K. Fujiwara, I. Yonenaga, K. Morishita and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   110 巻 ( 8 )   2011年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3652891

  303. Formation mechanism of twin boundaries during crystal growth of silicon

    K. Kutsukake, T. Abe, N. Usami, K. Fujiwara, K. Morishita and K. Nakajima

    Scripta Materialia   65 巻 ( 6 ) 頁: 556-559   2011年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  304. Line Width Dependence of Anisotropic Strain State in SiGe Films Induced by Selective Ion Implantation

    Y. Hoshi, K. Sawano, A. Yamada, S. Nagakura, N. Usami, K. Arimoto, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    Applied Physics Express   4 巻 ( 9 )   2011年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.4.095701

  305. Configuration and local elastic interaction of ferroelectric domains and misfit dislocation in PbTiO3/SrTiO3 epitaxial thin films

    T. Kiguchi, K. Aoyagi, Y. Ehara, H. Funakubo, T. Yamada, N. Usami and T. J. Konno

    Science and Technology of Advanced Materials   12 巻 ( 3 )   2011年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1468-6996/12/3/034413

  306. Implementation of faceted dendrite growth on floating cast method to realize high-quality multicrsytalline Si ingot for solar cells

    N. Usami, I. Takahashi, K. Kutsukake, K. Fujiwara and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   109 巻 ( 8 )   2011年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3576108

  307. Effects of increased compressive strain on hole effective mass and scattering mechanisms in strained Ge channels

    K. Sawano, K. Toyama, R. Masutomi, T. Okamoto, K. Arimoto, K. Nakagawa, N. Usami and Y. Shiraki

    Microelectronic Engineering   88 巻   頁: 465-468   2011年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  308. In situ Observation of Polycrystalline Silicon Thin Films Grown Using Aluminum-Doped Zinc Oxide on Glass Substrate by the Aluminum-Induced Crystallization

    M. Jung, A. Okada, T. Saito, T. Suemasu, C. Y. Chung, Y. Kawazoe and N. Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   50 巻 ( 4 )   2011年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.50.04DP02

  309. Impact of type of crystal defects in multicrystalline Si on electrical properties and interaction with impurities

    I. Takahashi, N. Usami, H. Mizuseki, Y. Kawazoe, G. Stokkan and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   109 巻 ( 3 )   2011年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3544208

  310. Pattern formation mechanism of a periodically faceted interface during crystallization of Si

    M. Tokairin, K. Fujiwara, K. Kutsukake, H. Kodama, N. Usami and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   312 巻 ( 24 ) 頁: 3670-3674   2010年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  311. A grazing incidence small-angle x-ray scattering analysis on capped Ge nanodots in layer structures

    H. Okuda, M. Kato, K. Kuno, S. Ochiai, N. Usami, K. Nakajima and O. Sakata

    Journal of Physics-Condensed Matter   22 巻 ( 47 )   2010年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0953-8984/22/47/474003

  312. Impact of amorphous Ge thin layer at the amorphous Si/Al interface on Al-induced crystallization

    H. Suzuki, N. Usami, A. Nomura, T. Shishido, K. Nakajima and T. Suemasu

    Journal of Crystal Growth   312 巻 ( 22 ) 頁: 3257-3260   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  313. Direct bandgap measurements in a three-dimensionally macroporous silicon 9R polytype using monochromated transmission electron microscope

    L. Gu, Y. Yu, W. Sigle, N. Usami, S. Tsukimoto, J. Maier, Y. Ikuhara and P. A. van Aken

    Applied Physics Letters   97 巻 ( 21 )   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3518703

  314. Room-temperature electroluminescence from Si microdisks with Ge quantum dots

    J. S. Xia, Y. Takeda, N. Usami, T. Maruizumi and Y. Shiraki

    Optics Express   18 巻 ( 13 ) 頁: 13945-13950   2010年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  315. Growth mechanism of the Si < 110 > faceted dendrite

    K. Fujiwara, H. Fukuda, N. Usami, K. Nakajima and S. Uda

    Physical Review B   81 巻 ( 22 )   2010年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1103/PhysRevB.81.224106

  316. Generation mechanism of dislocations during directional solidification of multicrystalline silicon using artificially designed seed

    I. Takahashi, N. Usami, K. Kutsukake, G. Stokkan, K. Morishita and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   312 巻 ( 7 ) 頁: 897-901   2010年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  317. Ion dose, energy, and species dependencies of strain relaxation of SiGe buffer layers fabricated by ion implantation technique

    Y. Hoshi, K. Sawano, A. Yamada, N. Usami, K. Arimoto, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    Journal of Applied Physics   107 巻 ( 10 )   2010年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3374688

  318. Optical anisotropies of Si grown on step-graded SiGe(110) layers

    R. E. Balderas-Navarro, L. F. Lastras-Martinez, K. Arimoto, R. Castro-Garcia, O. Villalobos-Aguilar, A. Lastras-Martinez, K. Nakagawa, K. Sawano, Y. Shiraki, N. Usami and K. Nakajima

    Applied Physics Letters   96 巻 ( 9 )   2010年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3339881

  319. Formation of uniaxially strained SiGe by selective ion implantation technique

    K. Sawano, Y. Hoshi, A. Yamada, Y. Hiraoka, N. Usami, K. Arimoto, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    Thin Solid Films   518 巻 ( 9 ) 頁: 2454-2457   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  320. Relationship between grain boundary structures in Si multicrystals and generation of dislocations during crystal growth

    N. Usami, R. Yokoyama, I. Takahashi, K. Kutsukake, K. Fujiwara and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   107 巻 ( 1 )   2010年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3276219

  321. Ion energy and dose dependence of strain relaxation for thin SiGe buffer layers using Si+ implantation

    Y. Hoshi, K. Sawano, A. Yamada, K. Arimoto, N. Usami, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    Thin Solid Films   518 巻   頁: S162-S164   2010年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  322. Computational Investigation of Relationship between Shear Stress and Multicrystalline Structure in Silicon

    I. Takahashi, N. Usami, K. Kutsukake, K. Morishita and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics   49 巻 ( 4 )   2010年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.49.04DP01

  323. Lattice-Latching Effect in Metalorganic Vapor Phase Epitaxy Growth of InGaAsN Film Lattice-Matched to Bulk InGaAs Substrate

    S. Sanorpim, R. Katayama, K. Onabe, N. Usami and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics   49 巻 ( 4 )   2010年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.49.040202

  324. Epitaxial Growth and Photoresponse Properties of BaSi2 Layers toward Si-Based High-Efficiency Solar Cells

    Y. Matsumoto, D. Tsukada, R. Sasaki, M. Takeishi, T. Saito, T. Suemasu, N. Usami and M. Sasase

    Japanese Journal of Applied Physics   49 巻   2010年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.49.04DP05

  325. Fabrication of n(+)-BaSi2/p(+)-Si Tunnel Junction on Si(111) Surface by Molecular Beam Epitaxy for Photovoltaic Applications

    T. Saito, Y. Matsumoto, M. Suzuno, M. Takeishi, R. Sasaki, T. Suemasu and N. Usami

    Applied Physics Express   3 巻 ( 2 )   2010年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.3.021301

  326. On the Controlling Mechanism of Preferential Orientation of Polycrystalline-Silicon Thin Films Grown by Aluminum-Induced Crystallization

    M. Jung, A. Okada, T. Saito, T. Suemasu and N. Usami

    Applied Physics Express   3 巻 ( 9 )   2010年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.3.095803

  327. Growth behavior of faceted Si crystals at grain boundary formation

    K. Fujiwara, S. Tsumura, M. Tokairin, K. Kutsukake, N. Usami, S. Uda and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   312 巻 ( 1 ) 頁: 19-23   2009年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  328. Formation mechanism of a faceted interface: In situ observation of the Si(100) crystal-melt interface during crystal growth

    M. Tokairin, K. Fujiwara, K. Kutsukake, N. Usami and K. Nakajima

    Physical Review B   80 巻 ( 17 )   2009年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1103/PhysRevB.80.174108

  329. Growth of Compositionally Graded SiGe Bulk Crystal and Its Application As Substrate with Lateral Variation in Ge Content

    R. Nihei, N. Usami and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics   48 巻 ( 11 )   2009年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.48.115507

  330. Strain relaxation mechanisms in compositionally uniform and step-graded SiGe films grown on Si(110) substrates

    K. Arimoto, M. Watanabe, J. Yamanaka, K. Nakagawa, K. Sawano, Y. Shiraki, N. Usami and K. Nakajima

    Solid-State Electronics   53 巻 ( 10 ) 頁: 1135-1143   2009年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  331. Strain dependence of hole effective mass and scattering mechanism in strained Ge channel structures

    K. Sawano, K. Toyama, R. Masutomi, T. Okamoto, N. Usami, K. Arimoto, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   95 巻   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3229998

  332. Fabrication of (111)-oriented Si layers on SiO2 substrates by an aluminum-induced crystallization method and subsequent growth of semiconducting BaSi2 layers for photovoltaic application

    D. Tsukada, Y. Matsumoto, R. Sasaki, M. Takeishi, T. Saito, N. Usami and T. Suemasu

    Journal of Crystal Growth   311 巻 ( 14 ) 頁: 3581-3586   2009年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  333. Microstructures of Si multicrystals and their impact on minority carrier diffusion length

    H. Y. Wang, N. Usami, K. Fujiwara, K. Kutsukake and K. Nakajima

    Acta Materialia   57 巻 ( 11 ) 頁: 3268-3276   2009年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  334. Photoresponse Properties of Polycrystalline BaSi2 Films Grown on SiO2 Substrates Using (111)-Oriented Si Layers by an Aluminum-Induced Crystallization Method

    D. Tsukada, Y. Matsumoto, R. Sasaki, M. Takeishi, T. Saito, N. Usami and T. Suemasu

    Applied Physics Express   2 巻 ( 5 )   2009年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.2.051601

  335. Generation and Wavelength Control of Resonant Luminescence from Silicon Photonic Crystal Microcavities with Ge Dots

    J. Xia, R. Tominaga, S. Fukamitsu, N. Usami and Y. Shiraki

    Japanese Journal of Applied Physics   48 巻 ( 2 )   2009年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.48.022102

  336. Quantitative analysis of subgrain boundaries in Si multicrystals and their impact on electrical properties and solar cell performance

    K. Kutsukake, N. Usami, T. Ohtaniuchi, K. Fujiwara and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   105 巻 ( 4 )   2009年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3079504

  337. Floating cast method to realize high-quality Si bulk multicrystals for solar cells

    Y. Nose, I. Takahashi, W. Pan, N. Usami, K. Fujiwara and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   311 巻 ( 2 ) 頁: 228-231   2009年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  338. Resonant photoluminescence from Ge self-assembled dots in optical microcavities

    J. S. Xia, R. Tominaga, N. Usami, S. Iwamoto, Y. Ikegami, K. Nemoto, Y. Arakawa and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   311 巻   頁: 883-887   2009年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  339. Local control of strain in SiGe by ion-implantation technique

    K. Sawano, Y. Hoshi, Y. Hiraoka, N. Usami, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   311 巻 ( 3 ) 頁: 806-808   2009年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  340. Fabrication of thin strain-relaxed SiGe buffer layers with high Ge composition by ion implantation method

    Y. Hoshi, K. Sawano, Y. Hiraoka, Y. Sato, Y. Ogawa, A. Yamada, N. Usami, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   311 巻 ( 3 ) 頁: 825-828   2009年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  341. Strain relaxation mechanisms in step-graded SiGe/Si(110) heterostructures grown by gas-source MBE at high temperatures

    K. Arimoto, M. Watanabe, J. Yamanaka, K. Nakagawa, N. Usami, K. Nakajima, K. Sawano and Y. Shiraki

    J. Cryst. Growth   311 巻   頁: 819-824   2009年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  342. Crystalline morphologies of step-graded SiGe layers grown on exact and vicinal (110) Si substrates

    K. Arimoto, M. Watanabe, J. Yamanaka, K. Nakagawa, K. Sawano, Y. Shiraki, N. Usami and K. Nakajima

    J. Cryst. Growth   311 巻   頁: 809-813   2009年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  343. Structural and transport properties of strained SiGe grown on V-groove patterned Si(110) substrates

    K. Arimoto, G. Kawaguchi, K. Shimizu, M. Watanabe, J. Yamanaka, K. Nakagawa, N. Usami, K. Nakajima, K. Sawano and Y. Shiraki

    J. Cryst. Growth   311 巻   頁: 814-818   2009年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  344. Influence of growth temperature and cooling rate on the growth of Si epitaxial layer by dropping-type liquid phase epitaxy from the pure Si melt

    Z. M. Wang, K. Kutsukake, H. Kodama, N. Usami, K. Fujiwara, Y. Nose and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   310 巻 ( 24 ) 頁: 5248-5251   2008年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  345. Impact of Defect Density in Si Bulk Multicrystals on Gettering Effect of Impurities

    I. Takahashi, N. Usami, R. Yokoyama, Y. Nose, K. Kutuskake, K. Fuilwara and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics   47 巻 ( 12 ) 頁: 8790-8792   2008年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  346. Introduction of Uniaxial Strain into Si/Ge Heterostructures by Selective Ion Implantation

    K. Sawano, Y. Hoshi, A. Yamada, Y. Hiraoka, N. Usami, K. Arimoto, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    Applied Physics Express   1 巻 ( 12 )   2008年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.1.121401

  347. Room-temperature light-emission from Ge quantum dots in photonic crystals

    J. Xia, K. Nemoto, Y. Ikegami, N. Usami, Y. Nakata and Y. Shiraki

    Thin Solid Films   517 巻 ( 1 ) 頁: 125-127   2008年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  348. Application of SiGe bulk crystal as a substrate for strain-controlled heterostructure materials

    N. Usami, R. Nihei, Y. Azuma, I. Yonenaga, K. Nakajima, K. Sawano and Y. Shiraki

    Thin Solid Films   517 巻 ( 1 ) 頁: 14-16   2008年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  349. Characterizations of polycrystalline SiGe films on SiO2 grown by gas-source molecular beam deposition

    M. Mitsui, M. Tamoto, K. Arimoto, J. Yamanaka, K. Nakagawa, T. Sato, N. Usami, K. Sawano and Y. Shiraki

    Thin Solid Films   517 巻 ( 1 ) 頁: 254-256   2008年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  350. Growth temperature dependence of the crystalline morphology of SiGe films grown on Si(110) substrates with compositionally step-graded buffer

    K. Arimoto, M. Watanabe, J. Yamanaka, K. Nakagawa, K. Sawano, Y. Shiraki, N. Usami and K. Nakajima

    Thin Solid Films   517 巻 ( 1 ) 頁: 235-238   2008年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  351. Vacancy formation during oxidation of silicon crystal surface

    M. Suezawa, Y. Yamamoto, M. Suemitsu, N. Usami and I. Yonenaga

    Applied Physics Letters   93 巻 ( 10 )   2008年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2979708

  352. Development of thin SiGe relaxed layers with high-Ge composition by ion implantation method and application to strained Ge channels

    Y. Hoshi, K. Sawano, Y. Hiraoka, Y. Satoh, Y. Ogawa, A. Yamada, N. Usami, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    Applied Physics Express   1 巻 ( 8 )   2008年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.1.081401

  353. Growth mechanism of Si-faceted dendrites

    K. Fujiwara, K. Maeda, N. Usami and K. Nakajima

    Physical Review Letters   101 巻 ( 5 )   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1103/PhysRevLett.101.055503

  354. Structural origin of a cluster of bright spots in reverse bias electroluminescence image of solar cells based on Si multicrystals

    N. Usami, K. Kutsukake, K. Fujiwara, I. Yonenaga and K. Nakajima

    Applied Physics Express   1 巻 ( 7 )   2008年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.1.075001

  355. Acceptorlike behavior of defects in SiGe alloys grown by molecular beam epitaxy

    M. Satoh, K. Arimoto, K. Nakagawa, S. Koh, K. Sawano, Y. Shiraki, N. Usami and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics   47 巻 ( 6 ) 頁: 4630-4633   2008年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  356. In situ observation of Si faceted dendrite growth from low-degree-of-undercooling melts

    K. Fujiwara, K. Maeda, N. Usami, G. Sazaki, Y. Nose, A. Nomura, T. Shishido and K. Nakajima

    Acta Materialia   56 巻 ( 11 ) 頁: 2663-2668   2008年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  357. On effects of gate bias on hole effective mass and mobility in strained-Ge channel structures

    K. Sawano, Y. Kunishi, Y. Satoh, K. Toyama, K. Arimoto, T. Okamoto, N. Usami, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    Applied Physics Express   1 巻 ( 1 )   2008年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.1.011401

  358. Hole density and strain dependencies of hole effective mass in compressively strained Ge channel structures

    K. Sawano, Y. Kunishi, K. Toyama, T. Okamoto, N. Usami, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    PHYSICA E-LOW-DIMENSIONAL SYSTEMS & NANOSTRUCTURES   40 巻 ( 6 ) 頁: 2122-2124   2008年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  359. Poly-Si films with long carrier lifetime prepared by rapid thermal annealing of Cat-CVD amorphous silicon thin films

    K. Ohdaira, Y. Abe, M. Fukuda, S. Nishizaki, N. Usami, K. Nakajima, T. Karasawa, T. Torikai and H. Matsumura

    THIN SOLID FILMS   516 巻 ( 5 ) 頁: 600-603   2008年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  360. Functional enhancement of metal-semiconductor-metal infrared photodetectors on heteroepitaxial SiGe-on-Si using the anodic oxidation/passivation method

    R. W. Chuang, Z. L. Liao, H. T. Chiang and N. Usami

    Jpn. J. Appl. Phys.   47 巻   頁: 2927-2931   2008年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  361. Modification of local structures in multicrystals revealed by spatially resolved x-ray rocking curve analysis

    N. Usami, K. Kutsukake, K. Fujiwara and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   102 巻 ( 10 )   2007年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2816207

  362. High-quality polycrystalline silicon films with minority carrier lifetimes over 5 mu s formed by flash lamp annealing of precursor amorphous silicon films prepared by catalytic chemical vapor deposition

    K. Ohdaira, S. Nishizaki, Y. Endo, T. Fujiwara, N. Usami, K. Nakajima and H. Matsumura

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Brief Communications & Review Papers   46 巻 ( 11 ) 頁: 7198-7203   2007年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  363. Silicon-based light emitters fabricated by embedding Ge self-assembled quantum dots in microdisks

    J. S. Xia, K. Nemoto, Y. Ikegami, Y. Shiraki and N. Usami

    Applied Physics Letters   91 巻 ( 1 )   2007年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2754356

  364. SiGe double barrier resonant tunneling diodes on bulk SiGe substrates with high peak-to-valley current ratio

    S. Tsujino, N. Usami, A. Weber, G. Mussler, V. Shushunova, D. Grutzmacher, Y. Azuma and K. Nakajima

    Applied Physics Letters   91 巻   2007年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2756363

  365. Formation mechanism of parallel twins related to Si-facetted dendrite growth

    K. Fujiwara, K. Maeda, N. Usami, G. Sazaki, Y. Nose and K. Nakajima

    Scripta Materialia   57 巻 ( 2 ) 頁: 81-84   2007年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  366. Application of Czochralski-grown SiGe bulk crystal as a substrate for luminescent strained quantum wells

    N. Usami, R. Nihei, I. Yonenaga, Y. Nose and K. Nakajima

    Applied Physics Letters   90 巻 ( 18 )   2007年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2735286

  367. Improvement in the conversion efficiency of single-junction SiGe solar cells by intentional introduction of the compositional distribution

    M. Tayanagi, N. Usami, W. Pan, K. Ohdaira, K. Fujiwara, Y. Nose and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   101 巻 ( 5 )   2007年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2709575

  368. Influence of structural imperfection of Sigma 5 grain boundaries in bulk multicrystalline Si on their electrical activities

    K. Kutsukake, N. Usami, K. Fujiwara, Y. Nose and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   101 巻 ( 6 )   2007年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2710348

  369. Step-induced anisotropic growth of pentacene thin film crystals on a hydrogen-terminated Si(111) surface

    S. Nishikata, G. Sazaki, T. Takeuchi, N. Usami, S. Suto and K. Nakajima

    Crystal Growth & Design   7 巻 ( 2 ) 頁: 439-444   2007年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  370. Modification of local structure and its influence on electrical activity of near (310) Sigma 5 grain boundary in bulk silicon

    K. Kutsukake, N. Usami, K. Fujiwara, Y. Nose, T. Sugawara, T. Shishido and K. Nakajima

    Materials Transactions   48 巻 ( 2 ) 頁: 143-147   2007年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  371. Effect of the compositional distribution on the photovoltaic power conversion of SiGe solar cells

    N. Usami, W. Pan, K. Fujiwara, M. Tayanagi, K. Ohdaira and K. Nakajima

    Solar Energy Materials and Solar Cells   91 巻   頁: 123-128   2007年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  372. Control of strain status in SiGe thin film by epitaxial growth on Si with buried porous layer

    N. Usami, K. Kutsukake, N. Kazuo, S. Amtablian, A. Fave and M. Lemiti

    Applied Physics Letters   90 巻 ( 3 )   2007年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2433025

  373. Fabrication of Ge channels with extremely high compressive strain and their magnetotransport properties

    K. Sawano, Y. Kunishi, K. Toyama, T. Okamoto, N. Usami, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   301 巻   頁: 339-342   2007年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  374. Growth temperature dependence of lattice structures of SiGe/graded buffer structures grown on Si(110) substrates by gas-source MBE

    K. Arimoto, J. Yamanaka, K. Nakagawa, K. Sawano, Y. Shiraki, N. Usami and K. Nakajima

    J. Cryst. Growth   301 巻   頁: 343-348   2007年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  375. Annihilation of acceptor-hydrogen pairs in Si crystals due to electron irradiation

    M. Suezawa, K. Koilma, A. Kasuya, I. Yonenaga and N. Usami

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Brief Communications & Review Papers   45 巻 ( 12 ) 頁: 9162-9166   2006年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  376. Strong resonant luminescence from Ge quantum dots in photonic crystal microcavity at room temperature

    J. S. Xia, Y. Ikegami, Y. Shiraki, N. Usami and Y. Nakata

    Applied Physics Letters   89 巻 ( 20 )   2006年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2386915

  377. Magnetotransport properties of Ge channels with extremely high compressive strain

    K. Sawano, Y. Kunishi, Y. Shiraki, K. Toyama, T. Okamoto, N. Usami and K. Nakagawa

    Applied Physics Letters   89 巻 ( 16 )   2006年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2354467

  378. Growth of structure-controlled polycrystalline silicon ingots for solar cells by casting

    K. Fujiwara, W. Pan, N. Usami, K. Sawada, M. Tokairin, Y. Nose, A. Nomura, T. Shishido and K. Nakajima

    Acta Materialia   54 巻 ( 12 ) 頁: 3191-3197   2006年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  379. High sensitive imaging of atomic arrangement of Ge clusters buried in a Si crystal by X-ray fluorescence holography

    S. Kusano, S. Nakatani, K. Sumitani, T. Takahashi, Y. Yoda, N. Usami and Y. Shiraki

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Brief Communications & Review Papers   45 巻 ( 6A ) 頁: 5248-5253   2006年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  380. Suppression of structural imperfection in strained Si by utilizing SiGe bulk substrate

    N. Usami, Y. Nose, K. Fujiwara and K. Nakajima

    Applied Physics Letters   88 巻   2006年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2735286

  381. Realization of bulk multicrystalline silicon with controlled grain boundaries by utilizing spontaneous modification of grain boundary configuration

    N. Usami, K. Kutsukake, T. Sugawara, K. Fujwara, W. Pan, Y. Nose, T. Shishido and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Brief Communications & Review Papers   45 巻 ( 3A ) 頁: 1734-1737   2006年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  382. High-efficiency concave and conventional solar cell integration system using focused reflected light

    K. Ohdaira, K. Fujiwara, W. Pan, N. Usami and K. Nakajiima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Brief Communications & Review Papers   45 巻 ( 3A ) 頁: 1664-1667   2006年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  383. Intermixing of Ge and Si during exposure of GeH4 on Si

    G. Watari, N. Usami, Y. Nose, K. Fujiwara, G. Sazaki and K. Nakajima

    THIN SOLID FILMS   508 巻   頁: 163-165   2006年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  384. Strain field and related roughness formation in SiGe relaxed buffer layers

    K. Sawano, N. Usami, K. Arimoto, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    THIN SOLID FILMS   508 巻 ( 1-2 ) 頁: 117-119   2006年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  385. Influence of stacked Ge islands on the dark current-voltage characteristics and the conversion efficiency of the solar cells

    A. Alguno, N. Usami, K. Ohdaira, W. G. Pan, M. Tayanagi and K. Nakajima

    Thin Solid Films   508 巻   頁: 402-405   2006年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  386. Determination of lattice parameters of SiGe/Si(110) heterostructures

    K. Arimoto, J. Yamanaka, K. Nakagawa, K. Sawano, Y. Shiraki, S. Koh and N. Usami

    Thin Solid Films   508 巻   頁: 132-135   2006年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  387. Directional growth method to obtain high quality polycrystalline silicon from its melt

    K. Fujiwara, W. Pan, K. Sawada, M. Tokairin, N. Usami, Y. Nose, A. Nomura, T. Shishido and K. Nakajima

    J. Cryst. Growth   292 巻   頁: 282-285   2006年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  388. Thickness dependence of strain field distribution in SiGe relaxed buffer layers

    K. Sawano, N. Usami, K. Arimoto, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Brief Communications & Review Papers   44 巻   頁: 8445-8447   2005年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  389. Analysis of the dark-current density in solar cells based on multicrystalline SiGe

    K. Ohdaira, N. Usami, W. G. Pan, K. Fujiwara and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Brief Communications & Review Papers   44 巻 ( 11 ) 頁: 8019-8022   2005年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  390. Floating zone growth of Si-rich SiGe bulk crystal using pre-synthesized SiGe feed rod with uniform composition

    N. Usami, M. Kitamura, K. Obara, Y. Nose, T. Shishido and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   284 巻   頁: 57-64   2005年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  391. Influence of growth temperature on minority-carrier lifetime of Si layer grown by liquid phase epitaxy using Ga solvent

    Y. Satoh, N. Usami, W. Pan, K. Fujiwara, K. Nakajima and T. Ujihara

    Journal of Applied Physics   98 巻 ( 7 )   2005年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2061891

  392. Changes in elastic deformation of strained si by microfabrication (vol 8, pg 181, 2005)

    K. Arimoto, D. Furukawa, J. Yamanaka, K. Nakagawa, K. Sawano, S. Koh, Y. Shiraki and N. Usami

    Materials Science in Semiconductor Processing   8 巻 ( 6 ) 頁: 652-652   2005年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  393. Liquid phase epitaxial growth of Si layers on Si thin substrates from Si pure melts under near-equilibrium conditions

    K. Nakajima, K. Fujiwara, Y. Nose and N. Usami

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Brief Communications & Review Papers   44 巻 ( 7A ) 頁: 5092-5095   2005年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  394. Growth of multicrystalline Si with controlled grain boundary configuration by the floating zone technique

    M. Kitamura, N. Usami, T. Sugawara, K. Kutsukake, K. Fujiwara, Y. Nose, T. Shishido and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   280 巻   頁: 419-424   2005年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  395. Crystal quality of a 6H-SiC layer grown over macrodefects by liquid-phase epitaxy: a Raman spectroscopic study

    T. Ujihara, S. Munetoh, K. Kusunoki, K. Kamei, N. Usami, K. Fujiwara, G. Sazaki and K. Nakajima

    Thin Solid Films   476 巻 ( 1 ) 頁: 206-209   2005年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  396. A simple approach to determine preferential growth orientation using multiple seed crystals with random orientations and its utilization for seed optimization to restrain polycrystallization of SiGe bulk crystal

    Y. Azuma, N. Usami, K. Fujiwara, T. Ujihara and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   276 巻   頁: 393-400   2005年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  397. Structural properties of directionally grown polycrystalline SiGe for solar cells

    K. Fujiwara, W. Pan, N. Usami, K. Sawada, A. Nomura, T. Ujihara, T. Shishido and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   275 巻   頁: 467-473   2005年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  398. On the origin of improved conversion efficiency of solar cells based on SiGe with compositional distribution

    N. Usami, K. Fujiwara, W. G. Pan and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Brief Communications & Review Papers   44 巻 ( 2 ) 頁: 857-860   2005年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  399. Growth of ZnO/MgZnO quantum wells on sapphire substrates and observation of the two-dimensional confinement effect

    B. P. Zhang, N. T. Binh, K. Wakatsuki, C. Y. Liu and Y. Segawa and N. Usami

    Applied Physics Letters   86 巻 ( 3 )   2005年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.1850594

  400. Effects of vicinal steps on the island growth and orientation of epitaxially grown perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic dianhydride (PTCDA) thin film crystals on a hydrogen-terminated Si(111) substrate

    G. Sazaki, T. Fujino, N. Usami, T. Ujihara, K. Fujiwara and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   273 巻   頁: 594-602   2005年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  401. Floating zone growth of Si bicrystals using seed crystals with artificially designed grain boundary configuration

    N. Usami, M. Kitamura, T. Sugawara, K. Kutsukake, K. Ohdaira, Y. Nose, K. Fujiwara, T. Shishido and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters & Express Letters   44 巻 ( 24-27 ) 頁: L778-L780   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  402. Observation of strain field fluctuation in SiGe-relaxed buffer layers and its influence on overgrown structures

    K. Sawano, N. Usami, K. Arimoto, S. Koh, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   8 巻 ( 1-3 ) 頁: 177-180   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  403. Strain-field evaluation of strain-relaxed thin SiGe layers fabricated by ion implantation method

    K. Sawano, Y. Ozawa, A. Fukuoto, N. Usami, J. Yamanaka, K. Suzuki, K. Arimoto, K. Nakagawa and Y. Shiraki

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters & Express Letters   44 巻 ( 42-45 ) 頁: L1316-L1319   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  404. Growth of InGaAs and SiGe homogeneous bulk crystals which have complete miscibility in the phase diagrams

    K. Nakajima, Y. Azuma, N. Usami, G. Sazaki, T. Ujihara, K. Fujiwara, T. Shishido, Y. Nishijima and T. Kusunoki

    International Journal of Materials & Product Technology   22 巻   頁: 185-212   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  405. Changes in elastic deformation of strained Si by microfabrication

    K. Arimoto, D. Furukawa, J. Yamanaka, K. Nakagawa, K. Sawano, S. Koh, Y. Shiraki and N. Usami

    Materials Science in Semiconductor Processing   8 巻   頁: 181-185   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  406. Low-temperature growth of single-crystalline ZnO tubes on sapphire(0001) substrates

    B. P. Zhang, N. T. Binh, K. Wakatsuki, N. Usami and Y. Segawa

    Applied Physics a-Materials Science & Processing   79 巻 ( 7 ) 頁: 1711-1714   2004年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  407. Fabrication of high-quality strain-relaxed thin SiGe layers on ion-implanted Si substrates

    K. Sawano, S. Koh, Y. Shiraki, Y. Ozawa, T. Hattori, J. Yamanaka, K. Suzuki, K. Arimoto, K. Nakagawa and N. Usami

    Applied Physics Letters   85 巻 ( 13 ) 頁: 2514-2516   2004年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  408. On the origin of strain fluctuation in strained-Si grown on SiGe-on-insulator and SiGe virtual substrates

    K. Kutsukake, N. Usami, T. Ujihara, K. Fujiwara, G. Sazaki and K. Nakajima

    Applied Physics Letters   85 巻 ( 8 ) 頁: 1335-1337   2004年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  409. Low-temperature growth of ZnO nanostructure networks

    B. P. Zhang, K. Wakatsuki, N. T. Binh, Y. Segawa and N. Usami

    Journal of Applied Physics   96 巻 ( 1 ) 頁: 340-343   2004年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  410. Pressure-dependent ZnO nanocrsytal growth in a chemical vapor deposition process

    B. P. Zhang, N. T. Binh, K. Wakatsuki, Y. Segawa, Y. Yamada, N. Usami, M. Kawasaki and H. Koinuma

    Journal of Physical Chemistry B   108 巻   頁: 10899-10902   2004年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  411. Ge composition dependence of properties of solar cells based on multicrystalline SiGe with microscopic compositional distribution

    W. G. Pan, K. Fujiwara, N. Usami, T. Ujihara, K. Nakajima and R. Shimokawa

    Journal of Applied Physics   96 巻 ( 2 ) 頁: 1238-1241   2004年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  412. Successful growth of InxGa1-xAs (x > 0.18) single bulk crystal directly on GaAs seed crystal with preferential orientation

    Y. Azuma, Y. Nishijima, K. Nakajima, N. Usami, K. Fujiwara and T. Ujihara

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters & Express Letters   43 巻 ( 7A ) 頁: L907-L909   2004年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  413. Structural and optical properties of ZnO epitaxial films grown on Al2O3 (1120) substrates by metalorganic chemical vapor deposition

    N. T. Binh, B. P. Zhang, C. Y. Liu, K. Wakatsuki, Y. Segawa, N. Usami, Y. Yamada, M. Kawasaki and H. Koinuma

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Short Notes & Review Papers   43 巻 ( 7A ) 頁: 4110-4113   2004年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  414. Effects of growth temperature on the surface morphology of silicon thin films on (111) silicon monocrystalline substrate by liquid phase epitaxy

    T. Ujihara, E. Kanda, K. Obara, K. Fujiwara, N. Usami, G. Sazaki, A. Alguno, T. Shishido and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   266 巻 ( 4 ) 頁: 467-474   2004年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  415. Grain growth behaviors of polycrystalline silicon during melt growth processes

    K. Fujiwara, Y. Obinata, T. Ujihara, N. Usami, G. Sazaki and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   266 巻 ( 4 ) 頁: 441-448   2004年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  416. Formation of highly aligned ZnO tubes on sapphire (0001) substrates

    B. P. Zhang, N. T. Binh, K. Wakatsuki, Y. Segawa, Y. Yamada, N. Usami, M. Kawasaki and H. Koinuma

    Applied Physics Letters   84 巻 ( 20 ) 頁: 4098-4100   2004年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  417. Effects of growth temperature on the characteristics of ZnO epitaxial films deposited by metalorganic chemical vapor deposition

    B. P. Zhang, K. Wakatsuki, N. T. Binh, N. Usami and Y. Segawa

    Thin Solid Films   449 巻   頁: 12-19   2004年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  418. Relationship between device performance and grain boundary structural configuration in a solar cell based on multicrystalline SiGe

    N. Usami, W. G. Pan, K. Fujiwara, T. Ujihara, G. Sazaki and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   43 巻 ( 2B ) 頁: L250-L252   2004年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  419. In situ observation of elementary growth steps on the surface of protein crystals by laser confocal microscopy

    G. Sazaki, T. Matsui, K. Tsukamoto, N. Usami, T. Ujihara, K. Fujiwara and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   262 巻   頁: 536-542   2004年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  420. Epitaxial relation and island growth of perylene-3.4.9.10-tetracarboxylic dianhydride (PTCDA) thin film crystals on a hydrogen-terminated Si(111) substrate

    G. Sazaki, T. Fujino, J. T. Sadowski, N. Usami, T. Ujihara, K. Fujiwara, Y. Takahashi, E. Matsubara, T. Sakurai and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   262 巻   頁: 196-201   2004年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  421. In-situ observations of melt growth behavior of polycrystalline silicon

    K. Fujiwara, Y. Obinata, T. Ujhara, N. Usami, G. Sazaki and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   262 巻   頁: 124-129   2004年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  422. Low-temperature growth of ZnO epitaxial films by metal organic chemical vapor deposition

    B. P. Zhang, N. T. Binh, K. Wakatsuki, N. Usami and Y. Segawa

    Applied Physics a-Materials Science & Processing   78 巻 ( 1 ) 頁: 25-28   2004年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  423. Phase diagram of growth mode for the SiGe/Si heterostructure system with misfit dislocations

    K. Nakajima, T. Ujihara, N. Usami, K. Fujiwara, G. Sazaki and T. Shishido

    Journal of Crystal Growth   260 巻   頁: 372-383   2004年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  424. Fabrication of solar cell with stacked Ge islands for enhanced absorption in the infrared regime

    N. Usami, A. Alguno, K. Sawano, T. Ujihara, K. Fujiwara, G. Sazaki, Y. Shiraki and K. Nakajima

    THIN SOLID FILMS   451 巻   頁: 604-607   2004年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  425. Crystal quality evaluation of 6H-SiC layers grown by liquid phase epitaxy around micropipes using micro-Raman scattering spectroscopy

    T. Ujihara, S. Munetoh, K. Kusunoki, K. Kamei, N. Usami, K. Fujiwara, G. Sazaki and K. Nakajima

    MATERIALS SCIENCE FORUM   457-460 巻   頁: 633-636   2004年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  426. Molten metal flux growth and properties of CrSi2

    T. Shishido, S. Okada, Y. Ishizawa, K. Kudou, K. Iizumi, Y. Sawada, H. Horiuchi, K. Inaba, T. Sekiguchi, J. Ye, S. Miyashita, A. Nomura, T. Sugawara, K. Obara, M. Oku, K. Fujiwara, T. Ujihara, G. Sazaki, N. Usami, S. Kohiki, Y. Kawazoe and K. Nakajima

    JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS   383 巻   頁: 319-321   2004年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  427. Fabrication of SiGe-on-insulator by rapid thermal annealing of Ge on Si-on-insulator substrate

    K. Kutsukake, N. Usami, K. Fujiwara, T. Ujihara, G. Sazaki, K. Nakajima, B. P. Zhang and Y. Segawa

    Appl. Surf. Sci.   224 巻 ( 1-4 ) 頁: 95-98   2004年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  428. Effects of spacer thickness on quantum efficiency of the solar cells with embedded Ge islands in the intrinsic layer

    A. Alguno, N. Usami, T. Ujihara, K. Fujiwara, G. Sazaki, K. Nakajima, K. Sawano and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   84 巻 ( 15 ) 頁: 2802-2804   2004年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  429. High-temperature solution growth and characterization of chromium disilicide

    T. Shishido, S. Okada, Y. Ishizawa, K. Kudou, K. Iizumi, Y. Sawada, H. Horiuchi, K. Inaba, T. Sekiguchi, J. H. Ye, S. Miyashita, A. Nomura, T. Sugawara, K. Obara, Y. Murakami, K. Fujiwara, T. Ujihara, G. Sazaki, N. Usami, M. Oku, Y. Yokoyama, S. Kohiki, Y. Kawazoe and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Short Notes & Review Papers   42 巻 ( 12 ) 頁: 7292-7293   2003年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  430. In-plane strain fluctuation in strained-Si/SiGe heterostructures

    K. Sawano, S. Koh, Y. Shiraki, N. Usami and K. Nakagawa

    Applied Physics Letters   83 巻 ( 21 ) 頁: 4339-4341   2003年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  431. Optical properties of ZnO rods formed by metalorganic chemical vapor deposition

    B. P. Zhang, N. T. Binh, Y. Segawa, K. Wakatsuki and N. Usami

    Applied Physics Letters   83 巻 ( 8 ) 頁: 1635-1637   2003年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  432. Enhanced quantum efficiency of solar cells with self-assembled Ge dots stacked in multilayer structure

    A. Alguno, N. Usami, T. Ujihara, K. Fujiwara, G. Sazaki, K. Nakajima and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   83 巻 ( 6 ) 頁: 1258-1260   2003年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  433. Influence of the elastic strain on the band structure of ellipsoidal SiGe coherently embedded in the Si matrix

    N. Usami, T. Ichitsubo, T. Ujihara, T. Takahashi, K. Fujiwara, G. Sazaki and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   94 巻 ( 2 ) 頁: 916-920   2003年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  434. Effects of high pressure on the growth kinetics of orthorhombic lysozyme crystals

    Y. Nagatoshi, G. Sazaki, Y. Suzuki, S. Miyashita, T. Matsui, T. Ujihara, K. Fujiwara, N. Usami and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   254 巻   頁: 188-195   2003年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  435. Growth of SiGe bulk crystals with uniform composition by utilizing feedback control system of the crystal-melt interface position for precise control of the growth temperature

    Y. Azuma, N. Usami, T. Ujihara, K. Fujiwara, G. Sazaki, Y. Murakami and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   250 巻   頁: 298-304   2003年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  436. In-plane orientation and polarity of ZnO epitaxial films on As-polished sapphire (alpha-Al2O3) (0001) substrates grown by metal organic chemical vapor deposition

    B. P. Zhang, L. Manh, K. Wakatsuki, K. Tamura, T. Ohnishi, M. Lippma, N. Usami, M. Kawasaki, H. Koinuma and Y. Segawa

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   42 巻 ( 3B ) 頁: L264-L266   2003年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  437. High-quality crystalline silicon layer grown by liquid phase epitaxy method at low growth temperature

    T. Ujihara, K. Obara, N. Usami, K. Fujiwara, G. Sazaki, T. Shishido and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   42 巻 ( 3A ) 頁: L217-L219   2003年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  438. Fabrication of SiGe-on-insulator through thermal diffusion of Ge on Si-on-insulator substrate

    K. Kutsukake, N. Usami, K. Fujiwara, T. Ujihara, G. Sazaki, B. P. Zhang, Y. Segawa and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   42 巻 ( 3A ) 頁: L232-L234   2003年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  439. Epitaxial growth and polarity of ZnO films on sapphire (0001) substrates by low-pressure metal organic chemical vapor deposition

    B. P. Zhang, L. H. Manh, K. Wakatsuki, T. Ohnishi, M. Lippmaa, N. Usami, M. Kawasaki and Y. Segawa

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS   42 巻   頁: 2291-2295   2003年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  440. Planarization of SiGe virtual substrates by CMP and its application to strained Si modulation-doped structures

    K. Sawano, K. Arimoto, Y. Hirose, S. Koh, N. Usami, K. Nakagawa, T. Hattori and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   251 巻 ( 1-4 ) 頁: 693-696   2003年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  441. 3D atomic imaging of SiGe system by X-ray fluorescence holography

    K. Hayashi, Y. Takahashi, E. Matsubara, K. Nakajima and N. Usami

    J. Materials Science: Materials in Electronics   14 巻   頁: 459-462   2003年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  442. Strain distribution of Si thin film grown on multicrystalline-SiGe with microscopic compositional distribution

    N. Usami, T. Takahashi, K. Fujiwara, T. Ujihara, G. Sazaki, Y. Murakami and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   92 巻 ( 12 ) 頁: 7098-7101   2002年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  443. In situ observations of crystal growth behavior of silicon melt

    K. Fujiwara, K. Nakajima, T. Ujihara, N. Usami, G. Sazaki, H. Hasegawa and S. Mizoguchi

    Journal of Crystal Growth   243 巻 ( 2 ) 頁: 275-282   2002年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  444. Evidence of the presence of built-in strain in multicrystalline SiGe with large compositional distribution

    N. Usami, T. Takahashi, K. Fujiwara, T. Ujihara, G. Sazaki, Y. Murakami and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Short Notes & Review Papers   41 巻 ( 7A ) 頁: 4462-4465   2002年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  445. Simultaneous in situ measurement of solute and temperature distributions in the alloy solutions

    T. Ujihara, K. Fujiwara, G. Sazaki, N. Usami and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   242 巻   頁: 313-320   2002年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  446. Preparation of a TiO2 film coated Si device for photo-decomposition of water by CVD method using Ti(OPri)(4)

    N. Sato, K. Nakajima, N. Usami, H. Takahashi, A. Muramatsu and E. Matsubara

    Materials Transactions   43 巻 ( 7 ) 頁: 1533-1536   2002年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  447. Growth and properties of SiGe multicrystals with microscopic compositional distribution for high-efficiency solar cells

    K. Nakajima, N. Usami, K. Fujiwara, Y. Murakami, T. Ujihara, G. Sazaki and T. Shishido

    Solar Energy Materials and Solar Cells   73 巻 ( 3 ) 頁: 305-320   2002年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  448. New method for measurement of interdiffusion coefficient in high temperature solutions based on Fick's first law

    T. Ujihara, K. Fujiwara, G. Sazaki, N. Usami and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   241 巻 ( 3 ) 頁: 387-394   2002年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  449. Compositional variation in Si-rich SiGe single crystals grown by multi-component zone melting method using Si seed and source crystals

    K. Nakajima, T. Kusunoki, Y. Azuma, N. Usami, K. Fujiwara, T. Ujihara, G. Sazaki and T. Shishido

    Journal of Crystal Growth   240 巻   頁: 373-381   2002年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  450. Melt growth of multicrystalline SiGe with large compositional distribution for new solar cell applications

    K. Nakajima, N. Usami, K. Fujiwara, Y. Murakami, T. Ujihara, G. Sazaki and T. Shishido

    Solar Energy Materials and Solar Cells   72 巻   頁: 93-100   2002年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  451. In-situ monitoring system of the position and temperature at the crystal-solution interface

    G. Sazaki, Y. Azuma, S. Miyashita, N. Usami, T. Ujihara, K. Fujiwara, Y. Murakami and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   236 巻   頁: 125-131   2002年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  452. Control of macroscopic absorption coefficient of multicrystalline SiGe by microscopic compositional distribution

    N. Usami, K. Fujiwara, T. Ujihara, G. Sazaki, H. Yaguchi, Y. Murakami and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   41 巻 ( 1AB ) 頁: L37-L39   2002年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  453. In situ observation of the Marangoni convection in a NaCl aqueous solutions under microgravity

    G. Sazaki, S. Miyashita, M. Nokura, T. Ujihara, K. Fujiwara, N. Usami and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   234 巻   頁: 516-522   2002年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  454. Raman scattering and x-ray absorption studies of Ge-Si nanocrystallization

    A. Kolobov, H. Oyanagi, N. Usami, S. Tokumitsu, T. Hattori, S. Yamasaki, K. Tanaka, S. Ohtake and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   80 巻 ( 3 ) 頁: 488-490   2002年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  455. Effect of Si diffusion on growth, parameters and photoluminescence of GeSi/Si(001) self-assembled islands

    M. Y. Valakh, N. V. Vostokov, S. A. Gusev, Y. N. Drozdov, Z. F. Krasil'nik, D. N. Lobanov, L. D. Moldavskaya, A. V. Novikov, V. V. Postnikov, M. V. Stepikhova, N. Usami, Y. Shiraki and V. A. Yukhymchuk

    IZVESTIYA AKADEMII NAUK SERIYA FIZICHESKAYA   66 巻   頁: 161-164   2002年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  456. Fabrication of SiGe bulk crystals with uniform composition as substrates for Si-based heterostructures

    N. Usami, Y. Azuma, T. Ujihara, G. Sazaki, K. Fujiwara, Y. Murakami and K. Nakajima

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY   89 巻   頁: 364-367   2002年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  457. Evaluation of the diffusion coefficients in liquid GaGe binary alloys using a novel method based on Fick's first law

    T. Ujihara, K. Fujiwara, G. Sazaki, N. Usami and K. Nakajima

    JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS   312 巻   頁: 196-202   2002年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  458. Strain-driven alloying: effect on sizes, shape and photoluminescence of GeSi/Si(001) self-assembled islands

    A. V. Novikov, B. A. Andreev, N. V. Vostokov, Y. N. Drozdov, Z. F. Krasilnik, D. N. Lobanov, L. D. Moldavskaya, A. N. Yablonskiy, M. Miura, N. Usami, Y. Shiraki, M. Y. Valakh, N. Mestres and J. Pascual

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY   89 巻   頁: 62-65   2002年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  459. Molecular beam epitaxy of GaAs on nearly lattice-matched SiGe substrates grown by the multicomponent zone-melting method

    N. Usami, Y. Azuma, T. Ujihara, G. Sazaki, K. Nakajima, Y. Yakabe, T. Kondo, K. Kawaguchi, S. Koh, Y. Shiraki, B. P. Zhang, Y. Segawa and S. Kodama

    Semiconductor Science and Technology   16 巻 ( 8 ) 頁: 699-703   2001年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  460. Physical model for the evaluation of solid-liquid interfacial tension in silicon

    T. Ujihara, G. Sazaki, K. Fujiwara, N. Usami and K. Nakajima

    Journal of Applied Physics   90 巻 ( 2 ) 頁: 750-755   2001年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  461. Fabrication of strain-balanced Si/Si1-xGex multiple quantum wells on Si1-yGey virtual substrates and their optical properties

    K. Kawaguchi, Y. Shiraki, N. Usami, J. Zhang, N. J. Woods, G. Breton and G. Parry

    Applied Physics Letters   79 巻 ( 3 ) 頁: 344-346   2001年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  462. Growth of SixGe1-x (x=0.15) bulk crystal with uniform composition utilizing in situ monitoring of the crystal-solution interface

    N. Usami, Y. Azuma, T. Ujihara, G. Sazaki, S. Miyashita, Y. Murakami and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Short Notes & Review Papers   40 巻 ( 6A ) 頁: 4141-4144   2001年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  463. Growth of SiGe bulk crystal with uniform composition by directly controlling the growth temperature at the crystal-melt inter-face using in situ monitoring system

    Y. Azuma, N. Usami, T. Ujihara, G. Sazaki, Y. Murakami, S. Miyashita, K. Fujiwara and K. Nakajima

    Journal of Crystal Growth   224 巻   頁: 204-211   2001年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  464. The relation between composition and sizes of GeSi/Si(001) islands grown at different temperatures

    N. V. Vostokov, S. A. Gusev, Y. N. Drozdov, Z. F. Krasilnik, D. N. Lobanov, N. Mesters, M. Miura, L. D. Moldavskaya, A. V. Novikov, J. Pascual, V. V. Postnikov, Y. Shiraki, V. A. Uakhimchuk, N. Usami and M. Y. Valakh

    PHYSICS OF LOW-DIMENSIONAL STRUCTURES   41337 巻   頁: 295-301   2001年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  465. Modification of the growth mode of Ge on Si(100) in the presence of buried Ge islands

    N. Usami, M. Miura, Y. Ito, Y. Araki, K. Nakajima and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   227 巻   頁: 782-785   2001年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  466. Observation of negatively charged excitons and excited states of multi-excitons in quantum dots embedded in modulation doping structures

    K. Ohdaira, N. Usami, K. Ota and Y. Shiraki

    PHYSICA E   11 巻 ( 2-3 ) 頁: 68-71   2001年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  467. Phase diagram calculation for epitaxial growth of GaInAs on InP considering the surface, interfacial and strain energies

    K. Nakajima, T. Ujihara, G. Sazaki and N. Usami

    Journal of Crystal Growth   220 巻 ( 4 ) 頁: 413-424   2000年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  468. SiGe bulk crystal as a lattice-matched substrate to GaAs for solar cell applications

    N. Usami, Y. Azuma, T. Ujihara, G. Sazaki, K. Nakajima, Y. Yakabe, T. Kondo, S. Koh, Y. Shiraki, B. Zhang, Y. Segawa and S. Kodama

    Applied Physics Letters   77 巻 ( 22 ) 頁: 3565-3567   2000年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  469. In situ measurement of composition in high-temperature solutions by X-ray fluorescence spectrometry

    T. Ujihara, G. Sazaki, S. Miyashita, N. Usami and K. Nakajima

    Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Short Notes & Review Papers   39 巻 ( 10 ) 頁: 5981-5982   2000年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  470. Drastic increase of the density of Ge islands by capping with a thin Si layer

    N. Usami, M. Miura, Y. Ito, Y. Araki and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   77 巻 ( 2 ) 頁: 217-219   2000年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  471. Modification of the growth mode of Ge on Si by buried Ge islands

    N. Usami, Y. Araki, Y. Ito, M. Miura and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   76 巻 ( 25 ) 頁: 3723-3725   2000年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  472. Optical investigation of modified Stranski-Krastanov growth mode in the stacking of self-assembled Ge islands

    N. Usami and Y. Shiraki

    THIN SOLID FILMS   369 巻   頁: 108-111   2000年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  473. Microscopic probing of localized excitons in quantum wells

    N. Usami, K. Ota, K. Ohdaira, Y. Shiraki, T. Hasche, V. Lyssenko and K. Leo

    INSTITUTE OF PHYSICS CONFERENCE SERIES   ( 166 ) 頁: 99-102   2000年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  474. Drastic modification of the growth mode of Ge quantum dots on Si by using boron adlayer

    H. Takamiya, M. Miura, N. Usami, T. Hattori and Y. Shiraki

    THIN SOLID FILMS   369 巻 ( 1-2 ) 頁: 84-87   2000年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  475. Growth and characterization of Ge-70(n)/Ge-74(n) isotope superlattices

    K. Morita, K. M. Itoh, J. Muto, K. Mizoguchi, N. Usami, Y. Shiraki and E. E. Haller

    THIN SOLID FILMS   369 巻 ( 1-2 ) 頁: 405-408   2000年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  476. Formation of relaxed SiGe films on Si by selective epitaxial growth

    K. Kawaguchi, N. Usami and Y. Shiraki

    Thin Solid Films   369 巻   頁: 126-129   2000年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  477. Correlation between electronic states and optical properties in indirect GaAsP/GaP quantum wells with insertion of an ultrathin AlP layer

    K. Arimoto, N. Usami and Y. Shiraki

    Physica E   8 巻   頁: 323-327   2000年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  478. Effect of the insertion of an ultrathin AlP layer on the optical properties of GaAsP/GaP quantum wells

    K. Arimoto, T. Sugita, N. Usami and Y. Shiraki

    Physical Review B   60 巻 ( 19 ) 頁: 13735-13739   1999年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  479. Magnetophotoluminescence spectroscopy of AlGaP-based neighboring confinement structures

    N. Usami, T. Sugita, T. Ohta, F. Issiki, Y. Shiraki, K. Uchida and N. Miura

    Physical Review B   60 巻 ( 3 ) 頁: 1879-1883   1999年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  480. Study of a pure-Ge/Si short-period superlattice by x-ray double crystal diffraction

    Z. G. Ji, H. M. Lu, S. G. Zhang, D. L. Que, N. Usami, H. Sunamura and Y. Shiraki

    Journal of Materials Synthesis and Processing   7 巻 ( 3 ) 頁: 205-207   1999年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  481. Selective epitaxial growth of dot structures on patterned Si substrates by gas source molecular beam epitaxy

    E. S. Kim, N. Usami and Y. Shiraki

    Semiconductor Science and Technology   14 巻 ( 3 ) 頁: 257-265   1999年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  482. Optical characterization of strain-induced structural modification in SiGe-based heterostructures

    N. Usami, K. Leo and Y. Shiraki

    Journal of Applied Physics   85 巻 ( 4 ) 頁: 2363-2366   1999年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  483. Gas source molecular beam epitaxy grown strained-Si films on step-graded relaxed Si1-xGex for MOS applications

    L. K. Bera, S. K. Ray, D. K. Nayak, N. Usami, Y. Shiraki and C. K. Maiti

    Journal of Electronic Materials   28 巻 ( 2 ) 頁: 98-104   1999年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  484. Photoluminescence study of InP/GaP highly strained quantum wells

    T. Kimura, H. Yaguchi, N. Usami, K. Onabe and Y. Shiraki

    INSTITUTE OF PHYSICS CONFERENCE SERIES   162 巻   頁: 511-516   1999年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  485. Sublattice reversal in GaAs/Si/GaAs (100) heterostructures by molecular beam epitaxy

    S. J. Koh, T. Kondo, T. Ishiwada, C. Iwamoto, H. Ichinose, H. Yaguchi, T. Usami, Y. Shiraki and R. Ito

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   37 巻 ( 12B ) 頁: L1493-L1496   1998年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  486. Epitaxial growth and photoluminescence of Si/pure-Ge/Si quantum structures on Si(311) substrates

    K. Amano, M. Kobayashi, A. Ohga, T. Hattori, N. Usami and Y. Shiraki

    Semiconductor Science and Technology   13 巻 ( 11 ) 頁: 1277-1283   1998年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  487. Wavy interface morphologies in strained Si1-xGex/Si multilayers on vicinal Si(111) substrates

    J. H. Li, Y. Yamaguchi, H. Hashizume, N. Usami and Y. Shiraki

    Journal of Physics-Condensed Matter   10 巻 ( 39 ) 頁: 8643-8652   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  488. Photoluminescence and Raman scattering of pure germanium/silicon short period superlattice

    Z. G. Ji, N. Usami, H. Sunamura and Y. Shiraki

    Acta Physica Sinica-Overseas Edition   7 巻 ( 8 ) 頁: 608-612   1998年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  489. Electrical properties of N2O/NH3 plasma grown oxynitride on strained-Si

    L. K. Bera, S. K. Ray, M. Mukhopadhyay, D. K. Nayak, N. Usami, Y. Shiraki and C. K. Maiti

    Ieee Electron Device Letters   19 巻 ( 8 ) 頁: 273-275   1998年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  490. Control of Ge dots in dimension and position by selective epitaxial growth and their optical properties

    E. S. Kim, N. Usami and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   72 巻   頁: 1617-1619   1998年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  491. In-plane potential modulation in tensilely strained AlGaP-based neighboring confinement structure

    N. Usami, T. Sugita, T. Ohta, H. Ito, K. Uchida, Y. Shiraki, F. Minami and N. Miura

    PHYSICA E   2 巻   頁: 883-886   1998年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  492. Control of island formation using overgrowth technique on cleaved edges of strained multiple quantum wells and selective epitaxy on patterned substrates

    N. Usami, J. Arai, E. S. Kim, K. Ota, T. Hattori and Y. Shiraki

    PHYSICA E   2 巻   頁: 137-141   1998年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  493. Photoluminescence from pure-Ge/pure-Si neighboring confinement structure

    N. Usami, M. Miura, H. Sunamura and Y. Shiraki

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B   16 巻   頁: 1710-1712   1998年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  494. Exciton diffusion dynamics in quantum nanostructures on V-groove patterned substrates

    N. Usami, Y. Shiraki, W. Pan, H. Yaguchi and K. Onabe

    Superlattices and Microstructures   23 巻 ( 2 ) 頁: 395-400   1998年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  495. Magneto-photoluminescence spectra of GaP/AlP short-period superlattices in high magnetic fields and uniaxial pressures

    K. Uchida, N. Miura, T. Sugita, F. Issiki, N. Usami and Y. Shiraki

    PHYSICA B   251 巻   頁: 909-913   1998年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  496. Enhanced no-phonon transition in indirect GaAsP/GaP quantum wells by insertion of monolayer AlP for electron localization

    T. Sugita, N. Usami and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   188 巻 ( 1-4 ) 頁: 323-327   1998年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  497. New strain-relieving microstructure in pure-Ge/Si short-period superlattices

    H. Sunamura, N. Usami, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B   16 巻 ( 3 ) 頁: 1595-1598   1998年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  498. Temperature dependence of microscopic photoluminescence spectra of quantum dots and quantum wells

    K. Ota, N. Usami and Y. Shiraki

    PHYSICA E   2 巻 ( 1-4 ) 頁: 573-577   1998年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  499. Effect of tensile strain on optical properties of AlGaP-based neighboring confinement structure

    T. Ohta, N. Usami, F. Issiki and Y. Shiraki

    Superlattices and Microstructures   23 巻 ( 1 ) 頁: 97-102   1998年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  500. Spectroscopic study of Si-based quantum wells with neighbouring confinement structure

    N. Usami, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    Semiconductor Science and Technology   12 巻 ( 12 ) 頁: 1596-1602   1997年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  501. Optical investigation of growth mode of Ge thin films on Si(110) substrates

    J. Arai, A. Ohga, T. Hattori, N. Usami and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   71 巻 ( 6 ) 頁: 785-787   1997年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  502. Effects of tensile strain on the optical properties of an AlGaP-based neighbouring confinement structure

    T. Ohta, N. Usami, F. Issiki and Y. Shiraki

    Semiconductor Science and Technology   12 巻 ( 7 ) 頁: 881-887   1997年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  503. Interfacial roughness of Si1-xGex/Si multilayer structures on Si(111) probed by x-ray scattering

    P. M. Reimer, J. H. Li, Y. Yamaguchi, O. Sakata, H. Hashizume, N. Usami and Y. Shiraki

    Journal of Physics-Condensed Matter   9 巻 ( 22 ) 頁: 4521-4533   1997年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  504. Precise control of island formation using overgrowth technique on cleaved edges of strained multiple quantum wells

    J. Arai, N. Usami, K. Ota, Y. Shiraki, A. Ohga and T. Hattori

    Applied Physics Letters   70 巻 ( 22 ) 頁: 2981-2983   1997年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  505. Photoluminescence study of the optical properties of SiGe quantum wells on separation by implanted oxygen substrates

    D. K. Nayak, N. Usami, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    Journal of Applied Physics   81 巻 ( 8 ) 頁: 3484-3489   1997年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  506. Anomalous luminescence peak shift of SiGe/Si quantum well induced by self-assembled Ge islands

    E. S. Kim, N. Usami and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   70 巻 ( 3 ) 頁: 295-297   1997年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  507. Electrical properties of oxides grown on strained Si using microwave N2O plasma

    L. K. Bera, S. K. Ray, D. K. Nayak, N. Usami, Y. Shiraki and C. K. Maiti

    Applied Physics Letters   70 巻 ( 1 ) 頁: 66-68   1997年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  508. Oxidation of strained Si in a microwave electron cyclotron resonance plasma

    L. K. Bera, M. Mukhopadhyay, S. K. Ray, D. K. Nayak, N. Usami, Y. Shiraki and C. K. Maiti

    Applied Physics Letters   70 巻 ( 2 ) 頁: 217-219   1997年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  509. Anomalous photoluminescence of pure-Ge/Si type-II coupled quantum wells (II-CQWs)

    H. Sunamura, N. Usami, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    THIN SOLID FILMS   294 巻 ( 1-2 ) 頁: 336-339   1997年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  510. Luminescence study on Ge islands as stressors on Si1-xGex/Si quantum well

    E. S. Kim, N. Usami, H. Sunamura, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   175 巻   頁: 519-523   1997年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  511. Time-resolved photoluminescence study on AlxGa1-xAs spontaneous vertical quantum well structures

    N. Usami, W. G. Pan, H. Yaguchi, R. Ito, K. Onabe, H. Akiyama and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   68 巻 ( 23 ) 頁: 3221-3223   1996年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  512. Ultrashort lifetime photocarriers in Ge thin films

    N. Sekine, K. Hirakawa, F. Sogawa, Y. Arakawa, N. Usami, Y. Shiraki and T. Katoda

    Applied Physics Letters   68 巻 ( 24 ) 頁: 3419-3421   1996年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  513. Role of heterointerface on enhancement of no-phonon luminescence in Si-based neighboring confinement structure

    N. Usami, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    Applied Physics Letters   68 巻 ( 17 ) 頁: 2340-2342   1996年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  514. Observation of lateral confinement effect in Ge quantum wires self-aligned at step edges on Si(100)

    H. Sunamura, N. Usami, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    Applied Physics Letters   68 巻 ( 13 ) 頁: 1847-1849   1996年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  515. Exciton diffusion dynamics in SiGe/Si quantum wells on a V-groove patterned Si substrate

    N. Usami, H. Akiyama, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    SOLID-STATE ELECTRONICS   40 巻   頁: 733-736   1996年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  516. Formation and optical properties of SiGe/Si quantum structures

    Y. Shiraki, H. Sunamura, N. Usami and S. Fukatsu

    APPLIED SURFACE SCIENCE   102 巻   頁: 263-271   1996年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  517. Polarization properties of GaAsP/AlGaAs tensilely strained quantum wire structures grown on V-grooved GaAs substrates

    W. Pan, H. Yaguchi, K. Onabe, R. Ito, N. Usami and Y. Shiraki

    INSTITUTE OF PHYSICS CONFERENCE SERIES   145 巻   頁: 925-930   1996年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  518. Rectangular AlGaAs/AlAs quantum wires using spontaneous vertical quantum wells

    W. G. Pan, H. Yaguchi, K. Onabe, R. Ito, N. Usami and Y. Shiraki

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS   35 巻 ( 2B ) 頁: 1214-1216   1996年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  519. Improved luminescence quality with an asymmetric confinement potential in Si-based type-II quantum wells grown on a graded SiGe relaxed buffer

    S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    J. Vac. Sci. Technol   14 巻   頁: 2387-2390   1996年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  520. CHARACTERIZATION OF SIGE QUANTUM-WIRE STRUCTURES BY CATHODOLUMINESCENCE IMAGING AND SPECTROSCOPY

    V. Higgs, E. C. Lightowlers, N. Usami, T. Mine, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   67 巻 ( 12 ) 頁: 1709-1711   1995年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  521. DYNAMICS OF EXCITON DIFFUSION IN SIGE QUANTUM-WELLS ON A V-GROOVE PATTERNED SI SUBSTRATE

    N. Usami, H. Akiyama, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    Physical Review B   52 巻 ( 7 ) 頁: 5132-5135   1995年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  522. ENHANCEMENT OF RADIATIVE RECOMBINATION IN SI-BASED QUANTUM-WELLS WITH NEIGHBORING CONFINEMENT STRUCTURE

    N. Usami, F. Issiki, D. K. Nayak, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    Applied Physics Letters   67 巻   頁: 524-526   1995年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  523. ISLAND FORMATION DURING GROWTH OF GE ON SI(100) - A STUDY USING PHOTOLUMINESCENCE SPECTROSCOPY

    H. Sunamura, N. Usami, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    Applied Physics Letters   66 巻 ( 22 ) 頁: 3024-3026   1995年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  524. STRAIN-INDUCED LATERAL BAND-GAP MODULATION IN SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELL AND QUANTUM-WIRE STRUCTURES

    N. Usami, H. Sunamura, T. Mine, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   150 巻   頁: 1065-1069   1995年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  525. Intense photoluminescence from Si-based quantum well structures with neighboring confinement structure

    N. Usami, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   157 巻   頁: 27-30   1995年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  526. Photoluminescence investigation on growth mode changeover of Ge on Si(100)

    H. Sunamura, S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   157 巻 ( 1-4 ) 頁: 265-269   1995年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  527. Anomalous spectral shift of photoluminescence from MBE-grown strained Si1-xGex/Si quantum wells mediated by atomic hydrogen

    G. Ohta, S. Fukatsu, N. Usami, Y. Shiraki and T. Hattori

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   157 巻 ( 1-4 ) 頁: 36-39   1995年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  528. CRUCIAL ROLE OF SI BUFFER LAYER QUALITY IN THE PHOTOLUMINESCENCE EFFICIENCY OF STRAINED SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELLS

    T. Mine, N. Usami, Y. Shiraki and S. Fukatsu

    J. Cryst. Growth   150 巻 ( 1-4 ) 頁: 1033-1037   1995年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  529. Field-driven blue shift of excitonic photoluminescence in Si-Ge quantum wells and superlattices

    J. Y. Kim, S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   157 巻 ( 1-4 ) 頁: 40-44   1995年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  530. CATHODOLUMINESCENCE INVESTIGATION OF SIGE QUANTUM WIRES FABRICATED ON V-GROOVE PATTERNED SI SUBSTRATES

    V. Higgs, E. C. Lightowlers, N. Usami, Y. Shiraki, T. Mine and S. Fukatsu

    J. Cryst. Growth   150 巻   頁: 1070-1073   1995年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  531. ABRUPT SI GE INTERFACE FORMATION USING ATOMIC-HYDROGEN IN SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    G. Ohta, S. Fukatsu, Y. Ebuchi, T. Hattori, N. Usami and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   65 巻 ( 23 ) 頁: 2975-2977   1994年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  532. PHOTOLUMINESCENCE OF SI/SIGE/SI QUANTUM-WELLS ON SEPARATION BY OXYGEN IMPLANTATION SUBSTRATE

    D. K. Nayak, N. Usami, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   64 巻 ( 18 ) 頁: 2373-2375   1994年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  533. OPTICAL ANISOTROPY IN WIRE-GEOMETRY SIGE LAYERS GROWN BY GAS-SOURCE SELECTIVE EPITAXIAL-GROWTH TECHNIQUE

    N. Usami, T. Mine, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   64 巻 ( 9 ) 頁: 1126-1128   1994年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  534. FABRICATION OF SIGE/SI QUANTUM-WIRE STRUCTURES ON A V-GROOVE PATTERNED SI SUBSTRATE BY GAS-SOURCE SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    N. Usami, T. Mine, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    SOLID-STATE ELECTRONICS   37 巻   頁: 539-541   1994年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  535. PHOTOLUMINESCENCE OF SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELLS WITH ABRUPT INTERFACES FORMED BY SEGREGANT-ASSISTED GROWTH

    N. Usami, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS   33 巻 ( 4B ) 頁: 2304-2306   1994年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  536. OPTICAL-DETECTION OF INTERDIFFUSION IN STRAINED SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELL STRUCTURES

    H. Sunamura, S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS   33 巻 ( 4B ) 頁: 2344-2347   1994年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  537. BAND-EDGE PHOTOLUMINESCENCE OF SIGE/STRAINED-SI/SIGE TYPE-II QUANTUM-WELLS ON SI(100)

    D. K. Nayak, N. Usami, H. Sunamura, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    SOLID-STATE ELECTRONICS   37 巻 ( 4-6 ) 頁: 933-936   1994年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  538. A SI1-XGEX/SI SINGLE-QUANTUM-WELL P-I-N STRUCTURE GROWN BY SOLID-SOURCE AND GAS-SOURCE HYBRID SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    Y. Kato, S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   136 巻   頁: 355-360   1994年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  539. GAS-SOURCE MOLECULAR-BEAM EPITAXY AND LUMINESCENCE CHARACTERIZATION OF STRAINED SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELLS

    S. Fukatsu, N. Usami, Y. Kato, H. Sunamura, Y. Shiraki, H. Oku, T. Ohnishi, Y. Ohmori and K. Okumura

    J. Cryst. Growth   136 巻   頁: 315-321   1994年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  540. BAND-EDGE PHOTOLUMINESCENCE OF SIGE STRAINED-SI/SIGE TYPE-II QUANTUM-WELLS ON SI(100)

    D. K. Nayak, N. Usami, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   63 巻 ( 25 ) 頁: 3509-3511   1993年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  541. REALIZATION OF CRESCENT-SHAPED SIGE QUANTUM-WIRE STRUCTURES ON A V-GROOVE PATTERNED SI SUBSTRATE BY GAS-SOURCE SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    N. Usami, T. Mine, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   63 巻 ( 20 ) 頁: 2789-2791   1993年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  542. BAND-EDGE PHOTOLUMINESCENCE OF SIGE STRAINED-SI SIGE TYPE-II QUANTUM-WELLS ON SI(100)

    D. K. Nayak, N. Usami, H. Sunamura, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   32 巻 ( 10A ) 頁: L1391-L1393   1993年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  543. SELF-MODULATING SB INCORPORATION IN SI/SIGE SUPERLATTICES DURING MOLECULAR-BEAM EPITAXIAL-GROWTH

    K. Fujita, S. Fukatsu, N. Usami, Y. Shiraki, H. Yaguchi, R. Ito and K. Nakagawa

    Surface Science   295 巻 ( 3 ) 頁: 335-339   1993年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  544. LUMINESCENCE STUDY ON INTERDIFFUSION IN STRAINED SI1-XGEX/SI SINGLE QUANTUM-WELLS GROWN BY MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    H. Sunamura, S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   63 巻 ( 12 ) 頁: 1651-1653   1993年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  545. HYBRID SI MOLECULAR-BEAM EPITAXIAL REGROWTH FOR A STRAINED SI1-XGEX/SI SINGLE-QUANTUM-WELL ELECTROLUMINESCENT DEVICE

    Y. Kato, S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   63 巻 ( 17 ) 頁: 2414-2416   1993年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  546. HIGH-TEMPERATURE OPERATION OF STRAINED SI0.65GE0.35/SI(111) P-TYPE MULTIPLE-QUANTUM-WELL LIGHT-EMITTING DIODE GROWN BY SOLID SOURCE SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    S. Fukatsu, N. Usami, Y. Shiraki, A. Nishida and K. Nakagawa

    Applied Physics Letters   63 巻 ( 7 ) 頁: 967-969   1993年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  547. ABRUPT COMPOSITIONAL TRANSITION IN LUMINESCENT SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELL STRUCTURES FABRICATED BY SEGREGANT ASSISTED GROWTH USING SB ADLAYER

    N. Usami, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   63 巻 ( 3 ) 頁: 388-390   1993年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  548. DISLOCATION GLIDE MOTION IN HETEROEPITAXIAL THIN-FILMS OF SI1-XGEX/SI(100)

    Y. Yamashita, K. Maeda, K. Fujita, N. Usami, K. Suzuki, S. Fukatsu, Y. Mera and Y. Shiraki

    Philosophical Magazine Letters   67 巻 ( 3 ) 頁: 165-171   1993年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  549. IS LOW-TEMPERATURE GROWTH THE SOLUTION TO ABRUPT SI/SI1-XGEX INTERFACE FORMATION

    S. Fukatsu, N. Usami, K. Fujita, H. Yaguchi, Y. Shiraki and R. Ito

    J. Cryst. Growth   127 巻   頁: 401-405   1993年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  550. INTENSE PHOTOLUMINESCENCE FROM STRAINED SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELL STRUCTURES

    S. Fukatsu, N. Usami, H. Yoshida, A. Fujiwara, Y. Takahashi, Y. Shiraki and R. Ito

    J. Cryst. Growth   127 巻   頁: 489-493   1993年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  551. OBSERVATION OF ELECTROLUMINESCENCE ABOVE ROOM-TEMPERATURE IN STRAINED P-TYPE SI0.65GE0.35/SI(111) MULTIPLE-QUANTUM WELLS

    S. Fukatsu, N. Usami, Y. Shiraki, A. Nishida and K. Nakagawa

    J. Cryst. Growth   127 巻   頁: 1083-1087   1993年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  552. LUMINESCENCE FROM STRAINED SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELLS GROWN BY SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS   32 巻 ( 3B ) 頁: 1502-1507   1993年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  553. LUMINESCENCE FROM SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELLS GROWN BY SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B   11 巻 ( 3 ) 頁: 895-898   1993年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  554. PHOTOGENERATION AND TRANSPORT OF CARRIERS IN STRAINED SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELL STRUCTURES

    S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   31 巻 ( 11A ) 頁: L1525-L1528   1992年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  555. QUANTUM SIZE EFFECT OF EXCITONIC BAND-EDGE LUMINESCENCE IN STRAINED SI1-XGEX/SI SINGLE QUANTUM-WELL STRUCTURES GROWN BY GAS-SOURCE SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    S. Fukatsu, H. Yoshida, N. Usami, A. Fujiwara, Y. Takahashi, Y. Shiraki and R. Ito

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   31 巻 ( 9B ) 頁: L1319-L1321   1992年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  556. OBSERVATION OF DEEP-LEVEL-FREE BAND EDGE LUMINESCENCE AND QUANTUM CONFINEMENT IN STRAINED SI1-XGEX/SI SINGLE QUANTUM-WELL STRUCTURES GROWN BY SOLID SOURCE SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    N. Usami, S. Fukatsu and Y. Shiraki

    Applied Physics Letters   61 巻 ( 14 ) 頁: 1706-1708   1992年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  557. ELECTROLUMINESCENCE FROM STRAINED SIGE/SI QUANTUM-WELL STRUCTURES GROWN BY SOLID SOURCE SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    S. Fukatsu, N. Usami, T. Chinzei, Y. Shiraki, A. Nishida and K. Nakagawa

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   31 巻 ( 8A ) 頁: L1015-L1017   1992年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  558. BAND-EDGE LUMINESCENCE OF STRAINED SIXGE1-X/SI SINGLE QUANTUM-WELL STRUCTURES GROWN ON SI(111) BY SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    S. Fukatsu, N. Usami and Y. Shiraki

    Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters   31 巻 ( 8A ) 頁: L1018-L1020   1992年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  559. SYSTEMATIC BLUE SHIFT OF EXCITON LUMINESCENCE IN STRAINED SI1-XGEX/SI QUANTUM-WELL STRUCTURES GROWN BY GAS SOURCE SILICON MOLECULAR-BEAM EPITAXY

    S. Fukatsu, H. Yoshida, N. Usami, A. Fujiwara, Y. Takahashi, Y. Shiraki and R. Ito

    THIN SOLID FILMS   222 巻   1992年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/0040-6090(92)90025-7

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書籍等出版物 18

  1. 多結晶材料情報学

    宇佐美徳隆、大野裕、沓掛健太朗、工藤博章、小島拓人、横井達矢( 担当: 共著)

    共立出版  2024年5月 

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    記述言語:日本語 著書種別:学術書

  2. カーボンニュートラルへの化学工学

    ( 担当: 共著)

    丸善出版  2023年1月  ( ISBN:978-4-621-30772-4

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    総ページ数:256   記述言語:日本語

  3. ハイドロジェノミクス

    後藤 和泰、宇佐美 徳隆( 担当: 共著 ,  範囲: 4.2 水素ドープ太陽電池)

    共立出版  2022年1月  ( ISBN:978-4-320-04498-2

     詳細を見る

    記述言語:日本語

  4. 脱炭素への工学 査読有り

    宇佐美 徳隆( 担当: 共著 ,  範囲: 第3章3.1 太陽電池の技術動向 )

    三恵社  2021年12月  ( ISBN:978-4-86693-542-3

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    総ページ数:263   担当ページ:12   記述言語:日本語 著書種別:学術書

  5. 太陽電池とLEDの原理

    Adrian Kitai著 宇佐美 徳隆 監訳( 担当: 共著)

    丸善  2013年7月 

     詳細を見る

    記述言語:日本語

  6. 太陽電池技術ハンドブック 4.2.3 シリコン多結晶の欠陥・組織と評価

    宇佐美 徳隆( 担当: 共著)

    オーム社  2013年5月 

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    記述言語:日本語

  7. "第2章第3節 SiGe量子ドット系", "量子ドット太陽電池の最前線"

    豊田太郎(監修)( 担当: 共著)

    シーエムシー出版  2012年 

     詳細を見る

    記述言語:日本語

  8. "Chapter 4. Types of silicon-germanium (SiGe) bulk crystal growth methods and their applications" in "SiGe nanostructures: materials science, technology and applications"

    edited by Y. Shiraki, and N. Usami( 担当: 共著)

    Woodhead publishing  2011年 

     詳細を見る

    記述言語:英語

  9. "第3編第2章 太陽電池の基礎知識", "スマートハウスの発電・蓄電・給電技術の最前線"

    田路 和幸 (監修) ( 担当: 共著)

    シーエムシー出版  2011年 

     詳細を見る

    記述言語:日本語

  10. "第1章第4節 SiGe量子ドットのエピタキシャル成長", "量子ドットエレクトロニクスの最前線"

    荒川泰彦 他41名( 担当: 共著)

    NTS社  2011年 

     詳細を見る

    記述言語:日本語

  11. 太陽電池の基礎と応用 シリコン太陽電池

    宇佐美 徳隆( 担当: 共著)

    培風館  2010年7月 

     詳細を見る

    記述言語:日本語

  12. 「太陽電池の物理」

    Peter Würfel 著、宇佐美 徳隆、石原 照也、中嶋 一雄監訳( 担当: 共著)

    丸善  2010年 

     詳細を見る

    記述言語:日本語

  13. "Chapter 6. Fundamental understanding of subgrain boundaries" in "Advances in Materials Research 14, Crystal Growth of Si for Solar Cells"

    Edited by K. Nakajima, and N. Usami( 担当: 共著)

    Springer  2009年 

     詳細を見る

    記述言語:英語

  14. "Chapter 10. High-quality Si multicrystals with same grain orientation and large grain size by the new dendritic casting method for high-efficiency soalr cell applications" in "Advances in Materials Research 10, Frontiers in Materials Research"

    Edited by Y. Fujikawa, K. Nakajima, and T. Sakurai( 担当: 共著)

    Springer  2008年 

     詳細を見る

    記述言語:英語

  15. "Chaper 12. Floating cast method as a new growth method of silicon bulk multicrystals for solar cells" in "Advances in Materials Research 10, Frontiers in Materials Research"

    Edited by Y. Fujikawa, K. Nakajima, and T. Sakurai( 担当: 共著)

    Springer  2008年 

     詳細を見る

    記述言語:英語

  16. "Chapter 11. Growth of high-quality polycrystalline Si ingot with same grain orientation using dendritic casting method" in "Advances in Materials Research 10, Frontiers in Materials Research"

    Edited by Y. Fujikawa, K. Nakajima, and T. Sakurai( 担当: 共著)

    Springer  2008年 

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    記述言語:英語

  17. "III/34C3. Single and coupled quantum wells:SiGe" in "Landolt-Börnstein New Series"

    Edited by E. Kasper and C. Klingshirn( 担当: 共著)

    Springer  2007年 

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    記述言語:英語

  18. "Chapter 6.6. SiGe quantum structures" in "Mesoscopic Physics and Electronics"

    Edited by T. Ando, Y. Arakawa, K. Furuya, S. Komiyama, and S. Nakashima( 担当: 共著)

    Springer-Verlag  1998年 

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    記述言語:英語

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MISC 4

  1. Pioneering Multicrystalline Informatics

    Noritaka USAMI  

    JSAP Review   2024年1月

  2. 多結晶材料情報学の開拓 査読有り

    宇佐美徳隆  

    応用物理92 巻 ( 11 ) 頁: 662 - 667   2023年11月

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    記述言語:日本語  

    DOI: https://doi.org/10.11470/oubutsu.92.11_662

  3. 太陽電池の高性能化に向けたヘテロ界面制御 招待有り 査読有り

    後藤和泰、宇佐美徳隆  

    表面と真空66 巻   頁: 86 - 90   2023年1月

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    担当区分:最終著者   記述言語:日本語  

    DOI: 10.1380/vss.66.86

  4. 太陽光発電へのインフォマティクス応用 招待有り 国際共著

    宇佐美 徳隆  

    太陽光発電協会会誌   2021年4月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(その他)  

講演・口頭発表等 840

  1. Interface and Surface Control for High Performance of Heterojunction Solar Cells 招待有り

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    開催年月日: 2024年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    国名:アメリカ合衆国  

  2. 酸化チタンを正孔・電子コンタクトに用いた結晶シリコン太陽電池

    松井 卓矢、深谷 昌平、McNab Shona、齋 均、後藤 和泰、宇佐美 徳隆、Bonilla Ruy Sebastian

    第85回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  3. 光ヘテロダイン光熱変位法による人工的に制御したSi粒界構造の界面熱コンダクタンス測定

    原田 知季、沓掛 健太朗、宇佐美 徳隆、碇 哲雄、福山 敦彦

    第85回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  4. 粒界ネットワーク解析を用いたAl2O3微小結晶球製造における凝固開始時のメカニズム解明

    池田 翔太郎、沓掛 健太朗、工藤 博章、勝部 涼司、宇佐美 徳隆

    第85回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  5. ナノ結晶シリコン/酸化シリコン複合膜の電気的特性の組成依存性

    高木 香、荒田 朝基、黒川 康良、増田 淳、宇佐美 徳隆、後藤 和泰

    第85回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  6. スクリーン印刷と焼成による厚いGe-rich領域を伴うSiGe薄膜のSi基板上へのエピタキシャル成長

    伊藤耕平, 今井 友貴, 宮本聡, 勝部 涼司, 鈴木紹太, 南山偉明, ダムリン マルワン, 宇佐美徳隆

    第85回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  7. φ50mmサイズMg2Si結晶の単結晶化機構の調査

    藤久 善司、木村 侑生、島野 航輔、坂根 駿也、劉 鑫、宇佐美 徳隆、鵜殿 治彦

    第85回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  8. 結晶方位分布を考慮した機械学習による結晶欠陥発生予測

    鳥居 和馬、原 京花、沓掛 健太朗、工藤 博章、勝部 涼司、宇佐美 徳隆

    第85回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  9. Mg2Si単結晶成長に及ぼす坩堝形状の影響

    朝倉 康太、劉 鑫、鵜殿 治彦、宇佐美 徳隆

    第85回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  10. 機械学習を用いた光ヘテロダイン光熱変位信号からのSiの熱拡散率とキャリア寿命の推定

    浦野 翔大、原田 知季、沓掛 健太朗、宇佐美 徳隆、碇 哲雄、福山 敦彦

    第85回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  11. GANを活用した擬似的な三次元多結晶Si組織の生成

    弟子丸 拓巳、沓掛 健太朗、工藤 博章、勝部 涼司、宇佐美 徳隆

    第85回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  12. Scheil-Gulliver Model Studies on Al-paste-based SiGe Film Growth for on-silicon Multi-junction Solar Cells 国際会議

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  13. Fabrication of Planar Thermoelectric Generators using Phosphorus-doped Silicon Nanocrystals/Amorphous Silicon Composite Films 国際会議

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    開催年月日: 2024年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  14. Research and development of high-performance crystalline silicon solar cells and expansion to tandem cells 招待有り 国際会議

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    開催年月日: 2024年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    国名:大韓民国  

  15. Liquid phase epitaxy of SiGe films using printing and firing 国際会議

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ポーランド共和国  

  16. 水素濃度を指標としたベイズ最適化を用いた多層パッシベーション膜の製膜条件探索

    近藤 蒼馬,黒川 康良,後藤 和泰,沓掛 健太朗,宇佐美 徳隆

    第21回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム (第4回日本太陽光発電学会学術講演会)  2024年7月11日 

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  17. ナノ結晶シリコン/酸化シリコン複合膜の組成制御

    高木 香,荒田 朝基,黒川 康良,増田 淳,宇佐美 徳隆,後藤 和泰

    第21回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム (第4回日本太陽光発電学会学術講演会)  2024年7月11日 

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  18. 太陽電池応用に向けたシリコンナノシートの作製

    大河内 創太,宮本 聡,加藤 慎也,宇佐美 徳隆,黒川 康良

    第21回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム (第4回日本太陽光発電学会学術講演会)  2024年7月11日 

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  19. 異方性アルカリエッチングで結晶シリコン表面に形成したナノテクスチュアの均一性向上

    山口 大翔,黒川 康良,宇佐美 徳隆

    第21回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム (第4回日本太陽光発電学会学術講演会)  2024年7月11日 

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  20. TiOx/結晶Si ヘテロ構造の実効少数キャリアライフタイムの温度依存性とそのパッシベーション機構

    道下 悠登,後藤 和泰,深谷 昌平,黒川 康良,宇佐美 徳隆

    第21回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム (第4回日本太陽光発電学会学術講演会)  2024年7月11日 

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  21. シリコンナノ結晶/酸化シリコン複合膜におけるi-a-Si:H 層挿入によるブリスタリングの抑制

    水谷 和嗣,後藤 和泰,立花 福久,黒川 康良,宇佐美 徳隆

    第21回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム (第4回日本太陽光発電学会学術講演会)  2024年7月11日 

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  22. 原子層堆積法により作製した酸化チタンへのNb 添加による電界効果パッシベーションの向上

    深谷 昌平,後藤 和泰,黒川 康良,宇佐美 徳隆

    第21回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム (第4回日本太陽光発電学会学術講演会)  2024年7月11日 

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  23. PL イメージングを用いた擬単結晶Si インゴット内部の結晶欠陥解析

    廣野 秀貴,松尾 整,田辺 英義,宇佐美 徳隆

    第21回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム (第4回日本太陽光発電学会学術講演会)  2024年7月11日 

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  24. 廃棄太陽光パネルから抽出したシリコンを用いた熱電変換Mg2Si 化合物の作製

    半澤 克道,加藤 慎也,楠本 倫大,山中 健吾,土居 大亮,黒川 康良,宇佐美 徳隆,伊藤 孝至

    第21回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム (第4回日本太陽光発電学会学術講演会)  2024年7月11日 

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  25. シリコン酸化膜におけるシリコンナノ結晶の成長メカニズムの解明に向けた反応性力場分子動力学法による数値シミュレーション

    田村 玄汰, 上根 直也,後藤 和泰,宇佐美 徳隆,徳増 崇

    第21回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム (第4回日本太陽光発電学会学術講演会)  2024年7月12日 

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  26. Multicrystalline informatics 招待有り 国際会議

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    開催年月日: 2024年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

  27. Fabrication and Performance Evaluation of Thermoelectric Mg2Si Compounds Synthesized Using Silicon Extracted from waste PV modules 国際会議

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    開催年月日: 2024年6月 - 2024年7月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:ポーランド共和国  

  28. Fabrication of tilted Mg2Si/Ni multilayer composite thermoelectric elements using PLA molds and power generation evaluation 国際会議

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    開催年月日: 2024年6月 - 2024年7月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:ポーランド共和国  

  29. Stress Analysis and Dislocation Cluster Generation in Silicon Crystal with Artificial Grain Boundaries 国際会議

    2024年6月25日 

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    開催年月日: 2024年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  30. Enhancement of Near-infrared Light Absorption by Nanoimprinted Light Trapping Structure Implemented into Si Heterojunction Solar Cells 国際会議

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    開催年月日: 2024年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

  31. Improvement for passivation performance of TiOx/SiOy/c-Si heterostructures by capping with Atomic-Layer-Deposited Nb doped TiOx Layer 国際会議

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    開催年月日: 2024年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:アメリカ合衆国  

  32. シリコンをモデルとした多結晶材料情報学の開拓と他材料への展開 招待有り

    宇佐美徳隆

    低温工学・超電導学会材料研究会2024年度第1回シンポジウム  2024年6月7日 

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    開催年月日: 2024年6月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    国名:日本国  

  33. Multicrystalline informatics: A methodology to advance materials science by unraveling complex phenomena 招待有り 国際会議

    2024年5月30日 

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    開催年月日: 2024年5月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    国名:中華人民共和国  

  34. 多結晶Siの結晶成長における界面形状が応力に与える影響

    田近陽輝, 沓掛健太朗, 小島拓人, 劉鑫, 田中博之, 宇佐美徳隆

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年3月22日 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  35. 反応性力場分子動力学法を用いたシリコン酸化膜中のシリコンナノ結晶形成プロセスの解析

    田村玄汰, 上根直也, 後藤和泰, 宇佐美徳隆, 徳増崇

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年3月25日 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  36. 原子層堆積法で作製したTiOx:Nb層の導入によるTiOx/SiOy/c-Siヘテロ構造のパッシベーション性能の向上

    深谷昌平, 後藤和泰, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年3月24日 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  37. CYTOP/BaTiO3ナノ粒子複合膜を用いた薄膜系直流水滴発電デバイス

    王海涛, 黒川康良, 王嘉, 宇佐美徳隆

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年3月24日 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  38. Pドープ/Bドープ ナノ結晶Si/アモルファスSi複合薄膜の熱電デバイス応用

    柴田啓介, 加藤慎也, 黒澤昌志, 後藤和泰, 宮本聡, 伊藤孝至, 宇佐美徳隆, 黒川康良

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年3月24日 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  39. 印刷とパルスレーザーアニールによるGe基板上へのGeSn薄膜成長

    佐藤剛志, 宮本聡, 鈴木紹太, 南山偉明, ダムリン マルワン, 宇佐美徳隆

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年3月23日 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  40. 印刷とパルスレーザーアニールによるSi基板上へのSiGe薄膜成長

    佐藤剛志, 宮本聡, 鈴木紹太, 南山偉明, ダムリン マルワン, 宇佐美徳隆

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年3月23日 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  41. 印刷と焼成によるSiGe 薄膜の液相成長メカニズム

    伊藤耕平, 宮本聡, 鈴木紹太, 南山偉明, ダムリン マルワン, 宇佐美徳隆

    第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年3月23日 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  42. Multicrystalline informatics: A methodology to advance materials science by unraveling complex phenomena 招待有り 国際会議

    Noritaka Usami

    Colloquium at Department of Physics, City University of Hong Kong  2024年3月8日  City University of Hong Kong

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:英語  

    国名:ホンコン(香港)特別行政区  

  43. 名古屋大学におけるカーボンニュートラルに向けた取り組み 招待有り

    宇佐美 徳隆

    第三回カーボンニュートラルシンポジウム  2024年3月6日 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:山形大学   国名:日本国  

  44. Challenges of Material Science for Realization of a Decarbonized Society 招待有り 国際会議

    N. Usami

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  45. Stress analysis and dislocation cluster generation in multicrystalline Si with artificial drain boundaries 国際会議

    H. Tajika, N. Usami

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  46. Crystal growth of group IV mixed crystal thin films using screen-printing and pulse laser annealing 国際会議

    T. Sato, S. Suzuki, H. Minamiyama, M. Dhamrin, S. Miyamoto, N. Usami

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  47. Improvement of Passivation Performance of TiOx/SiOy/c-Si Heterostructure by Introducing an Atomic-Layer-Deposited TiOx:Nb Layer 国際会議

    S. Fukaya, K. Gotoh, Y. Kurokawa, N. Usami

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  48. Investigation of deposition conditions for multilayer passivation films ​using Bayesian optimization and hydrogen concentration grouping​ 国際会議

    S. Kondo, Y. Kurokawa, K. Gotoh, K. Kutsukake, N. Usami

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  49. Wide-area quantum computation substrate evaluation using radio-frequency resonant circuits and gate-controlled Si devices 国際会議

    K. Masuda, S. Miyamoto, N. Usami

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  50. Effect of localized hydrogen on crystal tilting in strained SiGe substrates 国際会議

    Y. Yoneyama, S. Miyamoto, N. Usami

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  51. Nano-textured surfaces of c-Si suitable for perovskite/silicon tandem solar cells by anisotropic alkaline etching 国際会議

    H. Yamaguchi, N. Usami

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  52. 3D reconstruction of mono-like Si structure and analysis of dislocation clusters 国際会議

    H. Hirono, H. Matsuo, H. Tanabe, Y. Kurokawa, N. Usami

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  53. Fabrication and Performance Evaluation of Thermoelectric Mg2Si Compounds Synthesized Using Silicon Extracted from Discarded Solar Panels 国際会議

    K. Hanzawa, S. Kato, K. Yamanaka, T. Doi, Y. Kurokawa, N. Usami, T. Itoh

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  54. Investigation of the Influence of crucible geometry on the vertical Bridgman growth of Mg2Si single crystal by numerical simulation 国際会議

    K. Asakura, X. Liu, H. Udono, N. Usami

    2024 Korea-Japan PV Joint Workshop  2024年2月19日 

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Korea University   国名:大韓民国  

  55. 脱炭素社会創造に向けたシリコン系材料の多様な結晶成長とデバイス応用 招待有り

    宇佐美 徳隆

    電気学会東海支部学術講演会  2023年12月19日  電気学会東海支部

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:愛知工業大学  

  56. Development of 2-inch diameter Mg2Si substrates toward a low-costand environmentally friendly SWIR detector: a practical approach using simulations to avoid the crack formation and advance the experiments 国際会議

    Y. Kimura, X. Liu, N. Usami, S. Sakane and H. Udono

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月23日 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  57. How to generate dislocation clusters during cast-growth of silicon ingots? 国際会議

    Y. Ohno, H. Yoshida, T. Yokoi, K. Matsunaga, K. Yamakoshi, K. Kutsukake, T. Kojima, H. Kudo, N. Usami

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月24日 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  58. Development of crystal orientation analysis for grain boundary structure in Ba-122 bulk 国際会議

    Y. Shimada, Y. Hasegawa, S. Tokuta, K. Muraoka, T. Kojima , Z. Guo, S. Hata, H. Kudo, N. Usami, A. Yamamoto

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月24日 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  59. Analysis of dislocation cluster generation behavior in polycrystalline Si using twin networks 国際共著 国際会議

    K. Torii, T. Kojima, K. Kutsukake, H. Kudo, P. Krenckel, S. Riepe, N. Usami

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月24日 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  60. Effect of Illumination Direction in Data Augmentation Process in Semantic Segmentation of Dislocation Clusters with Multicrystalline Silicon Wafer Images with embedded Crystallographic Orientation Information 国際会議

    H. Kudo, T. Kojima, T. Matsumoto, K. Kutsukake, N. Usami

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月23日 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  61. Thermal Boundary Resistance Measurement of Structure Controlled Grain Boundaries by Laser Heterodyne Photothermal Displacement Method 国際会議

    T. Harada, H. Tajika, T. Iwakiri, K. Kutsukake, N. Usami, T. Ikari, A. Fukuyama

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月23日 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  62. 粒界ネットワーク解析を用いたアルミナ微小粒結晶成長過程の推察

    池田翔太郎, 小島拓人, 沓掛健太郎, 宇佐美徳隆

    第52回結晶成長国内会議  2023年12月6日  日本結晶成長学会

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:名古屋   国名:日本国  

  63. Recall estimation of reference identification by Newton’s cooling law 国際会議

    Yuji Fujita, Noritaka Usami, Fujii Toshiaki, Hiroaki Nagai

    Complex Networks 2023  2023年11月30日 

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    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

  64. Demonstration of Iron-based Superconducting Magnet through Complemental Researcher & Bayesian-driven Process Design and Twinning Network Graph Analysis 国際会議

    A. Yamamoto, S. Ishiwata, S. Kikuchi, Y. Hasegawa, S. Tokuta, A. Ishii, A. Yamanaka, Y. Shimada, Z. Guo, S. Hata, T. Kojima, K. Kutsukake, H. Kudo, N. Usami

    2023 MRS Fall Meeting & Exhibit  2023年11月29日 

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    開催年月日: 2023年11月 - 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  65. Thermoelectric properties of P-doped and B-doped polycrystalline silicon thin films 国際会議

    K. Shibata, S. Kato, M. Kurosawa, K. Gotoh, S. Miyamoto, T. Itoh, N. Usami, Y. Kurokawa

    2023 MRS Fall Meeting & Exhibit  2023年11月28日 

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    開催年月日: 2023年11月 - 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

  66. Small negative effect of domain boundary on carrier lifetime of BaSi2 absorber films 国際会議

    K.O. Hara, R. Takagaki, K. Arimoto, N. Usami

    34th International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2023年11月10日 

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    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  67. Application of informatics to photovoltaic research 招待有り 国際会議

    Noritaka Usami

    34th International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2023年11月8日 

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    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

  68. Improvement of open-circuit voltage and fill factor of silicon quantum dots solar cells by bayesian optimization process 国際会議

    Y. Kurokawa, F. Kumagai, K. Gotoh, S. Miyamoto, S. Kato, K. Kutsukake, N. Usami

    34th International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2023年11月7日 

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    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  69. Passivation enhancement mechanism of TiOx/c-Si heterostructures prepared by atomic layer deposition 国際会議

    Y. Michishita, K. Gotoh, S. Fukaya, Y. Kurokawa, N. Usami

    34th International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2023年11月7日 

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    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  70. Bayesian optimization of carrier selectivity of p-type silicon nano-crystal/silicon oxide compound layer 国際会議

    K. Mizutani, K. Gotoh, Y. Kurokawa, K. Kutsukake, N. Usami

    34th International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2023年11月7日 

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    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  71. TiOx:Nb層の導入によるTiOx/SiOy/Si ヘテロ構造のパッシベーション性能の向上

    深谷昌平, 後藤和泰, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第10回 応用物理学会 名古屋大学 ステューデントチャプター東海地区学術講演会  2023年11月3日 

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    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:名古屋   国名:日本国  

  72. Improved bottom cell current in perovskite/silicon tandem solar cells by double-sided nanopyramid Si texture

    Y. Li, H. Sai, C. McDonald, Z. Xu, Y. Kurokawa, N. Usami, T. Matsui

    2023年9月21日 

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    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  73. Pドープ/Bドープ poly-Si薄膜の熱電特性評価

    柴田 啓介、加藤 慎也、黒澤 昌志、後藤 和泰、宮本 聡、伊藤 孝至、宇佐美 徳隆、黒川 康良

    第84回応用物理学会秋季学術講演会  2023年9月23日  応用物理学会

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    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:熊本   国名:日本国  

  74. 双晶ネットワークを用いた多結晶シリコンにおける 転位クラスター発生挙動の解析

    鳥居 和馬、小島 拓人、沓掛 健太朗、工藤 博章、宇佐美 徳隆

    第84回応用物理学会秋季学術講演会  2023年9月19日  応用物理学会

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    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:熊本   国名:日本国  

  75. Development by using functional grain boundary of n-type mono-cast silicon for solar cells 国際会議

    H. Matsuo, H. Tanabe, and N. Usami

    40th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition  2023年9月19日 

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    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:ポルトガル共和国  

  76. Simultaneous Optimization of Crystal Growth Furnace and Process Using Crystal Growth Simulation and Machine Learning 国際会議

    H. Tanaka, K. Kutsukake, X. Liu, T. Kojima, and N. Usami

    40th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition  2023年9月18日 

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    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:ポルトガル共和国  

  77. カーボンニュートラルに向けた名古屋大学脱炭素社会創造センターの取り組みと太陽光発電に関する研究 招待有り

    宇佐美 徳隆

    令和5年 電気学会 基礎・材料・共通部門大会  2023年9月9日  電気学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:名古屋   国名:日本国  

  78. Growth of Epitaxial BaSi2 Films with Carrier Lifetime over 2 μs by Close-Spaced Evaporation 国際会議

    Kosuke O. Hara, Ryota Takagaki, Keisuke Arimoto, Noritaka Usami

    2023 International Conference on Solid State Devices and Materials  2023年9月7日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  79. Process machine learning, twinning network graph analysis & record high trapped magnetic field of Ba122 polycrystalline bulk superconductors 招待有り 国際会議

    A. Yamamoto, S. Ishiwata, S. Kikuchi, Y. Hasegawa, S. Tokuta, A. Ishii, A. Yamanaka, Y. Shimada, Z. Guo, S. Hata, T. Kojima, K. Kutsukake, H. Kudo and N. Usami

    The 13th International Workshop on Processing and Applications of Superconducting (RE)BCO Materials  2023年8月31日 

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    開催年月日: 2023年8月 - 2023年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    国名:フランス共和国  

  80. SiGe epitaxial growth via pulsed laser annealing of Al-Ge pastes on Si 国際会議

    T. Sato, S. Miyamoto, L. Xuan, S. Suzuki, M. Dhamrin, N. Usami

    International Conference on Crystal Growth and Epitaxy   2023年7月31日 

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    開催年月日: 2023年7月 - 2023年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:イタリア共和国  

  81. Mg2Si crystal growth by the vertical Bridgman method: scale-up and optimization by modeling and growth experiments 国際会議

    . Liu, T. Umehara, H. Udono and N. Usami

    International Conference on Crystal Growth and Epitaxy   2023年8月1日 

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    開催年月日: 2023年7月 - 2023年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    国名:イタリア共和国  

  82. Optimization of temperature distribution transition in directional solidification method without restriction of growth furnace structure 国際会議

    H. Tanaka, K. Kutsukake, T. Kojima, X. Liu, N. Usami

    International Conference on Crystal Growth and Epitaxy   2023年7月31日 

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    開催年月日: 2023年7月 - 2023年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:イタリア共和国  

  83. Stress analysis of multicrystalline Si with artificial grain boundaries to investigate the generation mechanism of dislocation clusters 国際会議

    H. Tajika, K. Kutsukake, T. Kojima, X. Liu, H. Tanaka, N. Usami

    International Conference on Crystal Growth and Epitaxy   2023年8月1日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年7月 - 2023年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:イタリア共和国  

  84. Impact of Silicon Pyramid Texture Size on Perovskite/Silicon Tandem Solar Cell Performance 国際会議

    Y. Li, H. Sai, C. McDonald, Z. Xu, Y. Kurokawa, N. Usami, T. Matsui

    3rd tandemPV International Workshop  2023年7月7日 

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    開催年月日: 2023年7月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:フランス共和国  

  85. カーボンニュートラルに関する大学間連携とキャンパスでの取組 招待有り

    宇佐美 徳隆

    第1回カーボンニュートラル共創シンポジウム・プレイベント  2023年7月5日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年7月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    国名:日本国  

  86. 太陽光発電の歴史の振り返り 招待有り

    宇佐美徳隆

    第20回次世代の太陽光発電シンポジウム  2023年6月30日  日本太陽光発電学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年6月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:京都   国名:日本国  

  87. 廃棄結晶シリコン太陽電池から作製した高機能シリコンナノ粒子 招待有り

    加藤 慎也,曽我 哲夫,宇佐美 徳隆 ,土居 大亮,黒川 康良

    第20回次世代の太陽光発電シンポジウム  2023年6月30日  日本太陽光発電学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年6月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:京都   国名:日本国  

  88. p型シリコンナノ結晶/酸化シリコン複合膜におけるキャリア選択能の向上 招待有り

    水谷 和嗣,後藤 和泰, 黒川 康良, 沓掛 健太朗, 宇佐美 徳隆

    第20回次世代の太陽光発電シンポジウム  2023年6月30日  日本太陽光発電学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年6月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:京都   国名:日本国  

  89. 原子層堆積法で作製したTiOx/c-Siヘテロ構造のパッシベーション性能向上機構 招待有り

    道下 悠登,深谷 昌平,後藤 和泰,黒川 康良 ,宇佐美 徳隆

    第20回次世代の太陽光発電シンポジウム  2023年6月30日  日本太陽光発電学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年6月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:京都   国名:日本国  

  90. Numerical simulation study for analysis of hydrogenated amorphous silicon/crystalline silicon heterostructure by Reactive Molecular Dynamics Method 国際会議

    K. Inoue, N. Uene, K. Gotoh, Y. Kurokawa, T. Tokumasu, N. Usami

    50th IEEE Photovoltaic Specialists Conference  2023年6月11日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:San Juan   国名:プエルトリコ  

  91. Influence of insertion position of a LiF buffer layer on passivation performance of crystalline Si/SiOy/TiOx/Al heterostrucures 国際会議

    S. Fukaya, K. Gotoh, T. Matsui, H. Sai, Y. Kurokawa, N. Usami

    50th IEEE Photovoltaic Specialists Conference  2023年6月11日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:San Juan   国名:プエルトリコ  

  92. Improvement of Passivation Performance of ​Silicon Nanocrystal/Silicon Oxide Compound Layer ​by Two-step Hydrogen Plasma Treatment​ 国際会議

    M. Matsumi, K. Gotoh, M. Wilde, Y. Kurokawa, K. Fukutani, N. Usami

    13th International Conference on Silicon Photovoltaics 2023  2023年4月13日 

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    開催年月日: 2023年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Delft   国名:オランダ王国  

  93. Implementation of Nanoimprinted Light Trapping Structure Into Si Heterojunction Solar Cells 国際会議

    Y. Kurokawa, Y. Kimata, Y. Iseki, K. Gotoh, S. Miyamoto, R. Ozaki, K. Nakamura, Y. Ohshita, N. Usami

    13th International Conference on Silicon Photovoltaics 2023  2023年4月11日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Delft   国名:オランダ王国  

  94. Mover Electrode/Stater with Double Electrodes Triboelectric Nanogenerator with High Instantaneous Current Triggered by a Surficial Contact Electrode 国際共著 国際会議

    H. Wang, Y. Kurokawa, K. Gotoh, S. Kato, J. Zhang and N. Usami

    MRS Spring Meeting & Exhibit  2023年4月11日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

  95. 太陽光発電主力電源化に向けた次世代技術開発 招待有り

    宇佐美 徳隆

    日本化学会第103春季年会  2023年3月23日 

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    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(基調)  

  96. Ba-122多結晶バルクの粒界組織における新規結晶方位解析法開発

    嶋田 雄介,長谷川 友大,徳田 進ノ助,村岡 幸樹,小島 拓人,郭 子萌,波多 聰,工藤 博章,宇佐美 徳隆,山本 明保

    第70回応用物理学会春季学術講演会  2023年3月16日 

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    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  97. BaSi2薄膜の結晶粒界とキャリア寿命の関係

    原康祐, 有元圭介, 宇佐美徳隆

    第70回応用物理学会春季学術講演会 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  98. シリコンのキャスト成長過程における非対称傾角粒界からの転位発生 国際共著

    大野裕, 吉田秀人, 横井達矢, 山腰健太, 小島拓人, 松永克志, Krenckel Patricia, Riepe Stephan, 宇佐美徳隆佐美徳隆

    第70回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  99. 水素化アモルファスシリコン/結晶シリコンヘテロ構造の解析に向けた反応性力場分子動力学法による数値シミュレーション研究

    井上和磨, 上根直也, 後藤和泰, 黒川康良, 徳増崇, 宇佐美徳隆

    第70回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  100. 多結晶Siの転位密度に対する界面形状と成長時間の影響に関する統計的調査

    田中博之, 沓掛健太朗, 小島拓人, 劉鑫, 宇佐美徳隆

    第70回応用物理学会春季学術講演会 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  101. ベイズ最適化を援用したシリコン量子ドット積層構造の高品質化と太陽電池応用

    熊谷風雅, 後藤和泰, 加藤慎也, 宮本聡, 沓掛健太朗, 宇佐美徳隆, 黒川康良

    第70回応用物理学会春季学術講演会 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  102. 2段階水素プラズマ処理によるシリコンナノ結晶/酸化シリコン複合膜のパッシベーション性能向上

    松見優志, 後藤和泰, ビルデ マーカス, 黒川康良, 福谷克之, 宇佐美徳隆

    第70回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  103. TiOx/SiOy/結晶Siヘテロ構造におけるAl成膜後のパッシベーション性能に及ぼすLiF層の効果

    深谷昌平, 後藤和泰, 松井卓矢, 齋均, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第70回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  104. 透明導電膜の成膜による結晶シリコンへのプロセスダメージの評価

    小島遥希, 西原達平, 伊藤佑太, Lee Hyunju, 後藤和泰, 宇佐美徳隆, 原知彦, 中村京太郎, 大下祥雄, 小椋厚志

    第70回応用物理学会春季学術講演会 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  105. SiGe薄膜における歪み緩和と結晶傾斜への水素局在効果

    加納光樹, 宮本聡, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第70回応用物理学会春季学術講演会 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  106. コロイダルリソグラフィ法とナノインプリント法による近赤外光に特化した光閉じ込め構造の作製

    木股佑斗, 後藤和泰, 宮本聡, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第70回応用物理学会春季学術講演会 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  107. 多結晶材料における結晶欠陥発生予測モデルの構築と解析

    原京花, 小島拓人, 沓掛健太朗, 工藤博章, 宇佐美徳隆

    第70回応用物理学会春季学術講演会  2023年3月18日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  108. Research on next-generation PV technology in Japan 招待有り 国際会議

    Noritaka Usami

    2nd Indo -Japan Joint Workshop on Photovoltaics  2023年3月9日 

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    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Chennai   国名:インド  

  109. An overview of the “Multicrystalline Informatics” project 招待有り 国際会議

    Noritaka Usami

    3rd International Symposium on Modeling of Crystal Growth Processes and Devices  2023年3月7日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(基調)  

    開催地:Chennai   国名:インド  

  110. Multi-scale modeling and optimization from the process stability to the grain evolution for the mono-like Si ingot growth 招待有り 国際会議

    X. Liu, Y. Dang, H. Tanaka, K. Kutsukake, T. Ujihara, and N. Usami

    3rd International Symposium on Modeling of Crystal Growth Processes and Devices  2023年3月8日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Chennai   国名:インド  

  111. カーボンニュートラルに向けた名古屋大学での取り組み 招待有り

    宇佐美 徳隆

    新潟大学カーボンニュートラル融合技術研究センター第 1 回研究会  2023年3月3日 

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    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

  112. 多結晶材料情報学を基盤とした材料開発の新展開 招待有り

    宇佐美徳隆

    nano tech 特別シンポジウム  2023年2月2日 

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    開催年月日: 2023年2月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

  113. 太陽光発電主力電源化に向けた先端材料プロセス 招待有り

    宇佐美 徳隆

    第27回宮崎大学未来エネルギープロジェクト講演会  2022年12月12日 

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    開催年月日: 2022年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

  114. Improvement of contact resistivity by boron delta-doping in p-type amorphous silicon surface 国際会議

    Kazuhiro Gotoh, Ryo Ozaki, Motoo Morimura, Yoshiko Iseki, Kyotaro Nakamura, Yasuyoshi Kurokawa, Yoshio Ohshita and Noritaka Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference 

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    開催年月日: 2022年11月

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  115. 3D stress analysis of multicrystalline Si with artificial grain boundaries and evaluation of dislocation cluster distribution 国際会議

    Haruki Tajika, Kentaro Kutsukake, Takuto Kojima, Xin Liu, Hiroyuki Tanaka, Noritaka Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference 

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    開催年月日: 2022年11月

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  116. Dislocation generation via the formation of higher-order twin boundaries in mono-cast silicon 国際会議

    Yutaka Ohno, Kenta Yamakoshi, Takuto Kojima, Hideto Yoshida, Patricia Krenckel, Stephan Riepe, Koji Inoue, Yasuyoshi Nagai, Noritaka Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference 

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    開催年月日: 2022年11月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  117. Image translation from two optical and one grain boundary images to distribution image of generation points of dislocations clusters in a multicrystalline silicon wafer 国際会議

    Hiroaki Kudo, Takuto Kojima, Kentaro Kutsukake, Tetsuya Matsumoto, Noritaka Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference 

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    開催年月日: 2022年11月

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  118. A neural network-based estimation of the generation of dislocation clusters in multicrystalline silicon 国際会議

    Kyoka Hara, Takuto Kojima, Kentaro Kutsukake, Hiroaki Kudo, Noritaka Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference 

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    開催年月日: 2022年11月

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  119. Multiscale modeling on the grain evolution of the SMART ingot growing process by the 3D CAFE method 国際会議

    Xin Liu, Hiroyuki Tanaka, Kentaro Kutsukake, Takuto Kojima, and Noritaka Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference 

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    開催年月日: 2022年11月

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  120. Reflection measurement system with telecentric optics for prediction of crystal orientation in large-scale multicrystalline structure 国際会議

    Takuto Kojima, Kyoka Hara, Kentaro Kutsukake, Tetsuya Matsumoto, Hiroaki Kudo, Noritaka Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference 

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    開催年月日: 2022年11月

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  121. Study on carrier transport pathways in silicon nanocrystal/silicon oxide composite films 国際会議

    A. Arata, K. Gotoh, S. Yamada, Y. Kurokawa, T. Itoh, N. Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2022年11月15日 

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    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  122. Photoconductivity measurement of silicon quantum dot multilayers for the Bayesian optimization 国際会議

    F. Kumagai, K. Gotoh, S. Miyamoto, S. Kato, N. Matsuo, S. Yamada, T. Itoh, N. Usami, Y. Kurokawa

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2022年11月15日 

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    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  123. Application of hydrogenated silicon nanocrystal/silicon oxide compound layer to crystalline silicon solar cells 国際会議

    M. Matsumi, K. Gotoh, S. Miyamoto, Y. Kurokawa, N. Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2022年11月15日 

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    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  124. Effect of a lithium fluoride layer on the passivation performance of metalized titanium oxide/silicon oxide/silicon heterostructures 国際会議

    S. Fukaya, K. Gotoh, T. Matsui, H. Sai, Y. Kurokawa, N. Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2022年11月15日 

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    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  125. Simulation study of boron delta-doping layer on p-type hydrogenated amorphous silicon in silicon heterojunction solar cells 国際会議

    K. Gotoh, R. Ozaki, M. Morimura, Y. Iseki, K. Nakamura, Y. Kurokawa, Y. Ohshita and N. Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2022年11月16日 

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    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  126. Post-annealing effects on dual-layered hydrogenated amorphous silicon/crystalline silicon heterointerfaces 国際会議

    K. Inoue, K. Gotoh, K. Kutsukake, N. Sawamoto, T. Nishihara, Y. Kurokawa, A. Ogura and N. Usami

    33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2022年11月15日 

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    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Nagoya   国名:日本国  

  127. A statical study of the effect of interface shape and growth time on dislocation density in multicrystalline Si 国際会議

    H. Tanaka, K. Kutsukake, T. Kojima, X. Liu, N. Usami

    The 8th International Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon Materials  2022年11月8日 

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    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Okayama   国名:日本国  

  128. e-CSTIにおける研究データ連結の確からしさ

    藤田裕二、宇佐美徳隆、藤井俊彰、永井博昭

    研究・イノベーション学会第37回年次学術大会  2022年10月29日 

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    開催年月日: 2022年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  129. 引用構造のフラクタル次元として定義されるスケール不変な派生h-index

    藤田裕二、宇佐美徳隆

    研究・イノベーション学会第37回年次学術大会  2022年10月29日 

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    開催年月日: 2022年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  130. Multiscale modeling and optimization on the solidification and the grain evolution of the SMART ingot grown by DS-Si process 招待有り 国際共著 国際会議

    X. Liu, H. Tanaka, K. Kutsukake, and N. Usami

    The 10th International Workshop on Modeling in Crystal Growth  2022年10月17日 

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    開催年月日: 2022年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Xian   国名:中華人民共和国  

  131. Growth of mc-Silicon ingot by DS Process: Computational Modeling, Experimental and Machine Learning Studies 招待有り 国際共著 国際会議

    M. Srinivasan, P. Ramasamy, N. Usami

    The 10th International Workshop on Modeling in Crystal Growth  2022年10月17日 

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    開催年月日: 2022年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Xian   国名:中華人民共和国  

  132. Application of Silicon Nanocrystals to Energy Harvesting Devices 招待有り 国際会議

    Y. Kurokawa, F. Kumagai, K. Shibata, K. Gotoh, S. Miyamoto, S. Kato, and N. Usami

    Advanced Materials World Congress  2022年10月13日 

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    開催年月日: 2022年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

  133. Improvem