受賞国：日本国

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担当区分：最終著者,　責任著者   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：SAGE Publications  

We propose and demonstrate remotely activated (“wireless”) microvalves that utilize the volume change of thermoresponsive gels, induced by the magnetic heating of magnetic nanoparticles (MNPs) embedded within these gels. The thermoresponsive gels were precisely patterned on Si substrates via photolithography. Notably, embedding MNPs in the gels did not compromise the patterning accuracy; the MNP concentration range of 1?3?wt% in the sols (the range of interest in this study) does not strongly affect the swelling behavior of the thermoresponsive gels. The microvalves exhibited strong actuation due to the magnetic heating of the MNPs when subjected to alternating magnetic fields. Our investigation of the valve switching response demonstrated that the opening and closing behavior closely follows the switching of the applied magnetic field.

DOI： 10.1177/13835416251331334

その他リンク： https://journals.sagepub.com/doi/full-xml/10.1177/13835416251331334

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers  

<p>The vibration energy harvesting properties of Fe-based nanocrystalline soft magnetostrictive material (Fe-Si-B-P-Cu-C) thin films were systematically investigated. Thin films were deposited using rotational sputtering and subsequently annealed. Nanocrystallization occurred in the samples annealed at 100-110% of the crystallization temperature. This nanocrystallization process enhanced soft magnetic properties, however, decrease saturation magnetostriction reflecting the influence of the negative magnetostrictive <i>α</i>-Fe phase. The film annealed at 105% of the crystallization temperature exhibited the highest vibration power generation performance. This superior performance was attributed to the combination of enhanced soft magnetic properties, high saturation magnetic flux density, and a relatively large saturation magnetostriction.</p>

DOI： 10.1587/elex.22.20250031

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Springer  

DOI： 10.1007/978-981-96-9513-3_7

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Fuji Technology Press Ltd.  

<p>Fast atom beam (FAB) source is used for surface activated bonding. This process is attracting attention as an essential process for next-generation semiconductor manufacturing. Traditional wafer direct bonding processes require annealing or cannot be directly bonded at room temperature. Therefore, there are restrictions on the materials that can be bonded and the combinations of materials that can be bonded. However, surface activated bonding has made it possible to directly bond dissimilar materials at room temperature. This technology is expected to be applied to the manufacturing of various MEMS and three-dimensional stacking of semiconductors. This bonding process involves bombarding the wafer surface with fast argon atom beam in a vacuum chamber. Irradiation removes oxide layer and contaminants, exposing dangling bonds. By pressing the wafers together, the dangling bonds are bonded together, and a strong bond is achieved. The device that generates this fast argon atom beam is FAB source. This device has been of the type that generates a saddle field electric field. However, this FAB source had a narrow beam irradiation area and was unable to support the recent increase in wafer diameter. Therefore, it was necessary to perform irradiation using multiple FAB sources. At production sites, there is a need to develop new FAB sources that can irradiate large areas. In this study, we developed FAB source in which the beam is generated by parallel plate electrodes. We performed a comparison with the saddle field type FAB source and found that the performance was inferior in initial experiments. Next, we improved the design to operate at higher voltages and increased the aperture area. Through these improvements, we have achieved performance superior to the saddle field type FAB source.</p>

DOI： 10.20965/ijat.2024.p0513

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Fuji Technology Press Ltd.  

<p>Magnetic Barkhausen noise (MBN) is a magnetic signal caused by domain wall motion and is used for non-destructive testing and evaluation of ferromagnetic materials because of its sensitivity to both mechanical and magnetic properties. Recently, machine learning models have been employed to evaluate materials based on MBN; however, the application of material evaluation to low-volume targets is challenging because of their low signal-to-noise ratio, which is due to their low volume. Therefore, understanding the influence of the signal-to-noise ratio is important, particularly for low-volume objects. However, very few reports have quantitatively assessed the influence of noise in MBN analysis. In this study, we focused on noise to improve the accuracy of MBN analysis using machine learning, investigated its impact on the prediction accuracy of machine learning models, and explored methods to mitigate its effects. A method for grain size evaluation based on MBN analysis was adopted and performed for Fe-Co alloy wires with different grain sizes. After the measurement of MBN, the relationship between the extracted features from the analysis of MBN by fast Fourier transform and grain size was learned using a gradient boosting decision tree to create a grain size evaluation model, and the coefficient of determination was used to evaluate the prediction accuracy of the grain size evaluation. The machine learning model demonstrated high prediction accuracy (<i>R</i>² = 0.926) across the entire grain size range. Using the model to assess the effect of signal-to-noise ratio, experiments were also conducted using MBN time-series data with artificially applied Gaussian noise. Additionally, from the insight of the distribution of predicted grain sizes, we confirmed that a noise reduction method by averaging the MBN prediction results can improve the prediction accuracy by reducing the effect of noise as expected. This research will lead to the adoption of MBN applications, which are simple and practical methods of material evaluation, for the micro?nano discipline.</p>

DOI： 10.20965/ijat.2024.p0528

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

We investigated the temperature dependence of agglomeration systems consisting of interacting single-domain magnetic nanoparticles (MNPs). In our study, we utilized electron spin resonance (ESR) experiments to measure how temperature-induced change in agglomerate state affects the peak-to-peak width of ESR spectra (Hpp) and validated these observations through simulations. Micromagnetic simulations were conducted by combining the classical magnetic dipolar Metropolis Monte Carlo method with the semi-classical macro-spin Landau-Lifshitz-Gilbert finite element method, and the results were compared with experimental findings. Our research elucidates the behavior of thermally-induced disruption of MNP agglomerates. We discovered that the temperature at which MNPs are completely dispersed might correspond to one at which the temperature dependence of Hpp disappears.

DOI： 10.1016/j.aej.2024.03.101

掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

We suggested improving the conversion efficiency of dye-sensitized solar cells (DSSCs) by the micro-nano periodic textures to control the diffusion angle of the incident light for certain absorbed wavelengths of the used dye. A periodic texture (Prd-Tx) was designed to enhance the light path of the wavelength of DSSCs’ dye absorption with a wide process window by optical simulation (pitch: 1400 nm, pillar diameter: 460-560 nm, pillar height: more than 500 nm). The Prd-Tx was fabricated by photolithography processes and nanoimprinting (pitch: 1400 nm, pillar diameter: 500 nm, pillar height: 1000 nm). The Prd-Tx increased the DSSCs’ conversion efficiency (η of 3.13%), surpassing our previous best result (refabricated W-Tx, η of 3.08%). It was considered that the ohmic loss was suppressed owing to the Prd-Tx enhanced electrical conductivity at the interface between the transparent electrode, F-doped tin oxide (FTO), and TiO2

DOI： 10.35848/1347-4065/ad2417

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Japanese Journal of Applied Physics  

Although high-aspect-ratio iron-oxide nanoparticles (IONPs) are known to have higher heating efficiency than spherical and cubic IONPs and focused in cancer treatment areas, their synthesis methods require high temperatures, vacuum, reduction conditions, and substantial time. In this study, we proposed and established a facile manufacturing method for one-dimensional assemblies of IONPs, expected to increase heating efficiency similar to high-aspect-ratio IONPs. We investigated how the fabrication conditions affect the length of the assemblies and found that the average length of the one-dimensional assemblies increased with the extension of magnetic-field-application time. This result demonstrates that the length could be controlled by adjusting the duration of the magnetic field application.

DOI： 10.35848/1347-4065/ad26bd

記述言語：日本語   出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会  

DOI： 10.2493/jjspe.90.34

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Springer  

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Sensors  

Microelectromechanical systems (MEMS)-based capacitive pressure sensors are conventionally fabricated from diaphragms made of Si, which has a high elastic modulus that limits the control of internal stress and constrains size reduction and low-pressure measurements. Ru-based thin-film metallic glass (TFMG) exhibits a low elastic modulus, and the internal stress can be controlled by heat treatment, so it may be a suitable diaphragm material for facilitating size reduction of the sensor without performance degradation. In this study, a Ru-based TFMG was used to realize a flattened diaphragm, and structural relaxation was achieved through annealing at 310 °C for 1 h in a vacuum. The diaphragm easily deformed, even under low differential pressure, when reduced in size. A diaphragm with a diameter of 1.7 mm was then applied to successfully fabricate a capacitive pressure sensor with a sensor size of 2.4 mm2. The sensor exhibited a linearity of ±3.70% full scale and a sensitivity of 0.09 fF/Pa in the differential pressure range of 0?500 Pa.

DOI： 10.3390/s23239557

その他リンク： https://www.mdpi.com/1424-8220/23/23/9557

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Microelectronic Engineering  

The lift-off process is a microfabrication technique that has the capability of forming thin film structures. However, several issues, such as structural shape and burr formation, arise when applying this method to the formation of thick film structures. Thick film structures formed through the lift-off process exhibit a mountainous cross-sectional shape and non-uniform film thickness due to variations in the width of the structure. These challenges make it difficult to apply the method to MEMS. While the reverse lift-off process addresses some of the structural shape problems, its initial development using metal molds makes it challenging to directly apply to MEMS without modification. Therefore, this paper proposes an adaptation to the Si process and presents a method to reduce burrs. The microfabrication characteristics are evaluated by comparing the cross-sectional shapes of thick metallic glass structures formed through both the lift-off and reverse lift-off processes. The structures formed through the reverse lift-off process exhibit a rectangular cross-sectional shape, and the film thickness remains consistent regardless of the structure's width. However, burrs persist on the backside edge of the structure, which hinders its application to MEMS. This paper confirms that pre-etching the underlying Si substrate into an inverse tapered shape effectively reduces burrs. As an illustration of the improved reverse lift-off process applied to MEMS, MEMS mirror structures are fabricated, and their resonance frequency closely aligns with the design value.

DOI： 10.1016/j.mee.2023.112081

その他リンク： https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0167931723001466

担当区分：責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：一般社団法人 電気学会  

DOI： 10.1541/ieejsmas.143.236

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Microelectronic Engineering  

Non-destructive testing methods based on magnetic Barkhausen noise (MBN) are expected to be applied to thin films. Recently, MBN analysis using machine learning has been performed on bulk materials and used as an in-situ stress and material evaluation method. However, for thin films, it is difficult to measure due to the weak MBN signal intensity, and few examples of its use as a stress and material evaluation method have been reported. This study acquired and analyzed MBN of Fe?Co polycrystalline thin films under bending stress. After pre-processing the acquired MBNs, two representative machine learning algorithms were used to learn the relationship between MBN and stress. By quantitatively comparing the prediction accuracy of each machine learning method, the characteristics of the MBN-based stress evaluation method were discussed from two perspectives: the need for domain knowledge and its applicability to unknown data. This study provides insight into machine learning-assisted MBN analysis as a stress evaluation method for thin films. The extension of MBN-based stress evaluation methods to thin films could be applied to the non-destructive stress evaluation of micro- and nanostructures, where stress state is critical, and could improve process development efficiency.

DOI： 10.1016/j.mee.2023.112057

その他リンク： https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0167931723001223

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.3390/nanomanufacturing3030020

その他リンク： https://www.mdpi.com/2673-687X/3/3/20

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：The Japan Society of Mechanical Engineers  

<p>As the application areas of MEMS (microelectromechanical systems) expand, more advanced functions and performance are being demanded from MEMS. To meet these demands, materials with various functionalities such as mechanical strength and shape memory, which are difficult to achieve with Si-based materials alone, are being used in MEMS. When applying new materials to MEMS, it is essential to establish micromachining techniques and control internal stresses in the same way as for Si-based thin films. In this research, a method for measuring the internal stress of thin film structures formed by microfabrication technology was developed. The thin film structure sample to be measured is in the form of a beam with fixed ends. The uniaxial strain due to internal stress is measured using a micro spring, and the internal stress is calculated. A process for fabricating a device that realizes the novel measurement method was devised and the device was fabricated. The microfabrication technique used was a reverse lift-off process, which can form thin film structures with rectangular cross-sections and uniform film thickness. Thin film metallic glass, an amorphous alloy with higher strength and lower Young's modulus than Si-based materials, was used as the new material to be measured. Using the developed measurement method, the internal stress change of the thin film was measured as a function of annealing temperature. As a result, it was confirmed that the internal stress of the thin film changed from the compressive direction to the tensile direction with increasing annealing temperature. The internal stress values measured by the novel method were compared with those measured by Stoney's equation, and the two measurement methods were close, demonstrating the usefulness of the new measurement method.</p>

DOI： 10.1299/mej.23-00074

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IEEE Magnetics Letters  

We present a novel manufacturing technique for generating unidirectional pores in ultraviolet (UV)-curable resins using self-assembled magnetic nanoparticles (MNPs) with chain-like structures. The method utilizes two templation mechanisms for pore formation: the UV-masking effect of the MNP chains and the physical presence of MNP chains themselves. Fe3O4 nanoparticles and PAK-01 were used as the template and UV-curable resin, respectively. Unidirectional pores formed only when resin/MNP mixtures were cured under a strong externally applied magnetic field. Water absorption tests indicated that some of the unidirectional pores were through-hole-type pores. The pores were cylindrical with an ellipsoidal cross-section. When the UV irradiation angle theta) was 30 degrees, the long and short diameters of the pores were approximately 9 and 8 mu m, respectively, before MNP removal, and 12 and 8 mu m, respectively, after removal. After MNP removal, the ellipticity of the pores in the samples increased from 1.5 to 2.4 with the increase in theta because of the increased UV-masking effect of the MNP chains.

DOI： 10.1109/LMAG.2023.3268851

担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：一般社団法人 日本機械学会  

DOI： 10.1299/jsmemag.126.1253_38

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IOP Publishing Ltd  

In this paper, the effect of structural relaxation at temperatures below crystallization on internal stress of Ni-Nb-Zr thin film amorphous alloy (including thin film metallic glass: TFMG) diaphragms was investigated. We fabiricated the Ni-Nb-Zr diaphragm samples with four compositions. Before fabrication of diaphragm structure by etching, Ni-Nb-Zr thin films on Si substrate were annealed at a temperature below crystallization (473, 523, and 573 K) for structural relaxation. By performing bulge tests on annealed Ni-Nb-Zr diaphragms, we were able to determine their mechanical properties. As the result, Young's modulus of all samples increased slightly with increasing annealing temperature because of the decrease of the free volumes during structural relaxation. Based on the results of internal stress, structural relaxation of all samples occurred below 473 K. Moreover, the effects of annealing temperature on internal stress differed by compositions. They were thought to be caused by the rate of structural relaxation. (C) 2022 The Japan Society of Applied Physics

DOI： 10.35848/1347-4065/ac5d12

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IOP Publishing Ltd  

In this study, we searched for Ti-Ni-Hf high formable shape memory alloys (HFSMAs) using combinatorial methods. By adding Hf to Ti-Ni SMAs, the potential is that Ti-Ni SMAs become metallic glasses. For efficient material search, the glass transition temperature was evaluated through combinatorial measurement of electrical resistance during crystallization. From the results, we searched for Ti-Ni-Hf HFSMAs, which undergo glass transition in the amorphous state. Ni-rich Ti-Ni-Hf thin-film amorphous alloys with more than 10 at% Hf content became thin film metallic glasses, whereas Ni-poor samples did not. Further, we evaluated the effect of annealing temperature on the martensitic transformation temperature of Ti-Ni-Hf SMAs using combinatorial methods. From the results, we measured the reverse transformation start temperature A (s) at 368-404 K, and it varied with the annealing temperature and Hf composition.

DOI： 10.35848/1347-4065/ac6a97

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1109/TMAG.2021.3126898

記述言語：日本語   出版者・発行元：一般社団法人 電気学会  

DOI： 10.1541/ieejsmas.141.304

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：ASME  

Catheter surgery is a minimally invasive treatment in which visual information is limited to a two-dimensional image generated by an X-ray camera. This results in the possibility that stress applied by the catheter onto a blood vessel wall damages the vessel. Doctors must therefore be skillful at catheter surgery. We proposed a catheter surgery simulator that visualizes the stress applied to the blood vessel wall using photoelasticity. The manufacture of this simulator requires creating blood vessel mimics that reproduce the physical properties of blood vessel tissue using photoelasticity. This study investigated the mechanical and photoelastic properties of gel materials and selected a gel composition suitable for making blood vessel mimics. The mechanical properties of polyvinyl alcohol (PVA) hydrogel changed in the range 70-335 kPa by changing the composition ratio, and double network (DN) gel changed in the range 0.13-1.06 MPa by changing the composition ratio. These gels could be adjusted by changing the material composition to provide Young's moduli similar to that of blood vessels. The photoelastic properties of PVA hydrogel changed in the range 1.38-2.76 x 10(-9)/Pa by changing the composition ratio, and DN gel changed in the range 0.012-0.029 x 10(-9)/Pa by changing the composition ratio.

DOI： 10.1115/1.4051516

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：ELSEVIER  

Fe-based nanocrystalline FeSiBPCuC alloys (NANOMET (R)) with a combination of high magnetic flux density, high permeability, and low iron loss have attracted much attention for use in magnetic core devices such as small power supplies, motors, and transformers. However, further improvement of the corrosion resistance is still required because surface oxidation during the water atomization process inevitably deteriorates the magnetic properties of these alloys. Here, we use a combinatorial magnetron sputtering system to fabricate new (FeSiBPCuC)100xyNix(Nb,Mo)y (0 < x < 10, 0 < y < 2 at%) amorphous thin films with enhanced corrosion resistance. We found that the co-presence of Ni (2-4 at%) and Mo (1-2 at%) in the FeSiBPCuC amorphous thin films promoted a further improvement of the corrosion resistance. The magnetic coercivity of (FeSiBPCuC)95.5Ni4.0Nb0.5 and (FeSiBPCuC)97.0Ni2.0Mo1.0 thin films was deteriorated compared with that of a FeSiBPCuC ribbon.

DOI： 10.1016/j.jnoncrysol.2021.120808

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IOP PUBLISHING LTD  

Ar plasma in a fast atom beam (FAB) source with magnetic fields, which was previously developed [Precis. Eng. 62, 106 (2020)] to achieve high-performance surface activated bonding, was analyzed by particle-in-cell-Monte Carlo collision simulation and experimental measurements. Simulation in the proposed FAB source with magnetic fields shows that higher electron density accumulation occurs near the irradiation port by E x B drift, and the potential gradient near the irradiation port steepens, which results in an increase in Ar+ flux to the irradiation port. The variation in the plasma distribution due to the effect of the magnetic field contributes to an increase in the amount of Ar-FAB irradiation, which reduces erosion of the carbon electrodes and suppresses the formation of carbon agglomerates. These simulation results were verified experimentally with Langmuir probe measurements and FAB irradiation experiments with oxide layer removal. The analysis results explain why high performance is achieved with the proposed FAB source.

DOI： 10.35848/1347-4065/abe683

担当区分：最終著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

? 2019 Elsevier Inc. Surface-activated bonding (SAB), also called room-temperature bonding, is used in three-dimensional integration technology for semiconductor devices. An Ar fast atom beam (FAB) is used for SAB. However, conventional FAB guns must be replaced after hundreds of minutes of irradiation because carbon abrasion powders are generated by Ar ions sputtering in the gun. Therefore, this study develops a novel FAB gun with improved lifetime. The proposed FAB gun applies magnetic fields to guide Ar ions to reduce sputtering in the gun and improve irradiation efficiency. The proposed FAB gun indicates the possibility of improving gun lifetime.

DOI： 10.1016/j.precisioneng.2019.11.006

記述言語：英語   出版者・発行元：FRONTIERS MEDIA SA  

? 2019 THOSS Media &amp; De Gruyter, Berlin/Boston. We proposed a fabrication of nanoimprinted textures on a front glass/transparent conductive oxide interface for dye-sensitized solar cells (DSSCs). These textures were fabricated through polydimethylsiloxane (PDMS) nanoimprint lithography on organosilsesquioxane solution. The texture structures were estimated via optical simulation. Master molds were anodic aluminum oxide templates with nano-texture (N-Tx) and micro-nano double texture (D-Tx). Meanwhile, replicate molds used a hard PDMS. Fluorine-doped tin oxide and titanium dioxide were deposited on textured glass substrates to generate electrodes for DSSCs. Unlike the DSSCs without texture, textured DSSCs realized 11.4% (N-Tx) and 10% (D-Tx) improvement in conversion efficiency.

DOI： 10.1515/aot-2019-0010

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：The Institute of Electrical Engineers of Japan  

<p>Nonspherical monodisperse polydimethylsiloxane (PDMS) microparticles were fabricated by lithography and ultraviolet ozone (UVO) treatment for self-assembly of periodic structures. PDMS solution was poured into photoresist molds on glass substrates, whereupon it was cured at 80°C. After irradiating ultraviolet to the surface of the PDMS, remaining thin PDMS films on the molds were eliminated using ultrasonic waves. Attenuated-total-reflection Fourier-transform infrared spectra indicated that the surface of the UVO treated PDMS was changed to glass SiO₂-like materials, resulting that the remaining thin PDMS films could be ultrasonically removed by fracture. The PDMS microparticles were separated from the substrates using ultrasonic waves, and microparticles of a desired shaped were formed. A suspension was prepared by mixing the PDMS microparticles in deionized water, and a droplet of the suspension was placed on a hydrophobic template substrate. The PDMS microparticles self-assembled on the substrate along the template walls, leading to PDMS microparticles being closely packed. Such PDMS microfabrication would be useful for microdevices.</p>

DOI： 10.1541/ieejsmas.139.132

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

? 1992-2012 IEEE. Based on our prior combinatorial analysis aimed at materials discovery, Cu82Cr18 and Cu80Cr20 were selected in chemical dealloying experiments as candidates for incorporation in sensors for the first time. The Cu82Cr18 film was Cu-dealloyed, altering its composition to Cu25Cr75 after 7 min of dealloying. The dealloyed Cu82Cr18 film exhibited a Cr-based nanoporous structure with 20-40-nm-diameter pores, indicating that Cu was sufficiently dealloyed. In contrast, the Cu80Cr20 film could not be sufficiently Cu-dealloyed, which was consistent with the results of the combinatorial analysis; the original composition was changed to Cu46Cr54 after 7 min, and the pores were not visible. Sensors A and B were fabricated via chemical dealloying of Cu82Cr18 and Cu80Cr20, respectively, and they were evaluated with respect to a reference sensor in both air and oil. The measured hysteresis in the air was 7.4% full scale (FS) for sensor A, which was below the acceptable limit of 10.0% FS, whereas that for sensor B was 13.3% FS. Moreover, the 90% response time in oil was 8 min for sensor A and 10 min for sensor B, as compared to 12 min for the reference sensor; thus, the response time of sensor A was below the acceptable limit of 10 min. [2018-0242]

DOI： 10.1109/JMEMS.2019.2895164

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：MDPI AG  

Direct laser-writing techniques have attracted attention for their use in two- and three-dimensional printing technologies. In this article, we report on a micropatterning process that uses femtosecond laser reductive sintering of mixed CuO/NiO nanoparticles. The writing speed, laser fluence, and incident total energy were varied to investigate the influence of heat accumulation on the micropatterns formed by these materials. Heat accumulation and the thermal history of the laser irradiation process significantly affected the material composition and the thermoelectric properties of the fabricated micropatterns. Short laser irradiation durations and high laser fluences decrease the amount of metal oxide in the micropatterns. Selective fabrication of p-type and n-type thermoelectric micropatterns was demonstrated to be possible with control of the reduction and reoxidization reactions through the control of writing speed and total irradiation energy.

DOI： 10.3390/mi9060264

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Springer Verlag  

p-type and n-type thermoelectric micropatterns were selectively fabricated via the reduction and reoxidation of CuO/NiO mixed nanoparticles using femtosecond laser pulses. The micropatterns were formed by raster scanning focused femtosecond laser pulses on a solution film containing CuO and NiO nanoparticles, ethylene glycol, and polyvinylpyrrolidone, followed by the removal of the non-irradiated nanoparticles. Cu?Ni was generated by reductive sintering of the CuO/NiO mixed nanoparticles at laser scanning speeds ranging from 5 to 20?mm/s and a laser fluence of 0.055?J/cm2. In contrast, intense peaks corresponding to Cu2O and NiO were observed in the X-ray diffraction spectrum of the micropattern formed at a scanning speed of 1?mm/s, indicating that Cu2O and NiO were generated via the reoxidation of the reduced metals. The Seebeck coefficients of the micropatterns formed at a fluence of 0.055?J/cm2 and scanning speeds of 5?20?mm/s were between － 32 and － 16??V/K, whereas that of the micropattern formed at a fluence of 0.055?J/cm2 and scanning speed of 1?mm/s was ~ 250??V/K. These results suggest that the Seebeck coefficient depends on the generated n-type Cu?Ni and p-type Cu2O and NiO phases. A thermoelectric couple was fabricated by selectively fabricating p-type and n-type thermoelectric elements. The thermoelectric couple exhibited a thermoelectric voltage of 0.25?mV/K when a temperature gradient was applied between its hot and cold sides. The generated voltage was nearly consistent with the estimated voltage based on the Seebeck coefficient. The developed process for selective fabrication is expected to be useful for the direct writing of thermoelectric-type sensors.

DOI： 10.1007/s00339-017-1489-x

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   出版者・発行元：一般社団法人 レーザー学会  

DOI： 10.2184/lsj.46.5_257

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1557/adv.2018.198

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IOP PUBLISHING LTD  

Ni-based composite micropatterns were fabricated by the femtosecond laser reductive sintering of NiO/Cr mixed nanoparticles. A NiO/Cr mixed nanoparticle solution including ethylene glycol and polyvinylpyrrolidone was irradiated with focused femtosecond laser pulses. The X-ray diffraction spectra of the fabricated micropatterns indicated that NiO nanoparticles were well reduced under atmospheric conditions in the laser scanning speed range of 5-15mm/s. In contrast, micropatterns including NiO were formed at a laser scanning speed of 1mm/s, indicating that the reduced Ni was reoxidized by overheating. These results were supported by those of energy-dispersive X-ray spectrometry analysis and the electrical resistivity of the micropatterns. The compositions such as Ni, NiO, Cr2O3, and Ni-Cr in the fabricated micropatterns depended on laser scanning speed. The selective fabrication of a ferromagnetic free microgear from the substrate and an axis fixed on the substrate was demonstrated by controlling the laser scanning speed. The fabrication process for Ni-based composite microstructures is useful for the fabrication of ferromagnetic microdevices. (C) 2017 The Japan Society of Applied Physics

DOI： 10.7567/JJAP.56.06GN08

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IOP PUBLISHING LTD  

We designed and fabricated thin-film thermoelectric generators (TEGs) with ball lenses, which separated visible light and near-infrared (NIR) solar light using a chromatic aberration. The transmitted visible light was used as daylight and the NIR light was used for thermoelectric generation. Solar light was estimated to be separated into the visible light and NIR light by a ray tracing method. 92.7% of the visible light was used as daylight and 9.9% of the NIR light was used for thermoelectric generation. Then, the temperature difference of the pn junctions of the TEG surface was 0.71 K, determined by heat conduction analysis using a finite element method. The thin-film TEGs were fabricated using lithography and deposition processes. When the solar light (A.M. 1.5) was irradiated to the TEGs, the open-circuit voltage and maximum power were 4.5 V/m(2) and 51 mu W/m(2), respectively. These TEGs are expected to be used as an energy supply for Internet of Things sensors. (C) 2017 The Japan Society of Applied Physics

DOI： 10.7567/JJAP.56.06GN06

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IOP PUBLISHING LTD  

We have demonstrated the fabrication of two types of thermal flow sensors with Cu-rich and Cu2O-rich microheaters using femtosecond laser-induced reduction of CuO nanoparticles. The microheaters in the shape of microbridge structures were formed to thermally isolate from the substrates by four layer-by-layer laminations of two-dimensional micropatterns. First, we evaluated the patterning properties such as dispensing coating conditions and degree of reduction for the selective fabrication of three-dimensional Cu-rich and Cu2O-rich microstructures. Then, a hot-film flow sensor with a Cu-rich microheater and a calorimetric flow sensor with a Cu2O-rich microheater were fabricated using their respective appropriate laser irradiation conditions. The hot-film sensor with the Cu-rich microbridge single heater enabled us to measure the flow rate in a wide range of 0-450 cc min(-1). Although a large temperature dependence of the Cu2O-rich microbridge heaters caused a large error for the hot-film flow sensors with single heaters, they showed higher heat-resistance and generated heat with a lower drive power. The temperature coefficient of resistance of the Cu2O-rich microstructures had a semiconductor-like large absolute value and was less than -4.6 x 10(-8) degrees C-1. The higher temperature sensitivity of the Cu2O-rich microstructures was useful for thermal detection. Based on these advantages, a calorimetric flow sensor composed of the Cu2O-rich microbridge single heater and two Cu2O-rich thermal detectors was proposed and fabricated. The calorimetric flow sensor was driven by a circuit for measuring the temperature difference. The Cu2O-rich flow sensor could detect bi-directional flow with a small output error.

DOI： 10.1088/1361-6439/aa6820

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Japan Society of Applied Physics  

Three-dimensional Cu microstructures were formed using a combined process of dispensing coating and femtosecond laser-induced reduction of CuO nanoparticles. Layer-by-layer lamination of two-dimensional Cu micropatterns was performed by alternately coating with a CuO nanoparticle solution and using direct laser writing, followed by the removal of nonirradiated CuO nanoparticles. The resistance of the 3D microstructures decreased as the number of layers increased, indicating that each layer was electrically connected to the others. We also demonstrated the fabrication of a microbridge heater composed of electrode pads and a microbridge, and found that its heating characteristics are suitable for use in microsensors, such as thermal-type flow sensors.

DOI： 10.7567/APEX.10.017201

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：The Institute of Electrical Engineers of Japan  

<p>A moisture-in-oil sensor, with a sandwich structure of Cr nanoporous thin film/polyimide film/Au electrode, was fabricated using a lithographic process, sputter deposition, and chemical dealloying. One of the Cr nanoporous thin films used as a molecular filter was made using oblique incidence film formation and sputter deposition at 2.5 Pa of argon and a 60 degree attaching angle. The fabricated Cr nanoporous thin film consisted of 30-50 nm pore sizes as a result of a “shadowing effect”. A moisture-in-oil sensor made with this Cr nanoporous thin film showed favorable responsiveness in oil, with a response time of about 7 minutes, well within the desired maximum value of 10 minutes. To further improve the responsiveness of the sensor, another Cr nanoporous thin film was prepared using a chemical dealloying process, which facilitates control of the pore sizes. This process consists of co-sputtering Cu and Cr, annealing for 1 h at 573 K and dealloying for 15 h in 32.5% HNO₃. The thin film pore sizes depend on the initial Cu-Cr compositions, which were researched using a combinatorial technique at various fabrication conditions. We investigated a wide compositional range between 32 and 22 at.% Cr. It was found that between 28 and 22 at.% Cr, chemical dealloying results in low residual Cu, less than 10 at.%. The pore sizes obtained were <20 nm for 32 at.% Cr, 20-40 nm for 28 at.% Cr, 40-60 nm for 25 at.% Cr and >60 nm for 22 at.% Cr. The initial composition ratio of 28 at.% Cr was used to fabricate a Cr nanoporous electrode film filter for a moisture sensor. Unfortunately, the final residual Cu composition ratio was 17 at.%, which is more than the desired maximum of 10 at.%, because the thin film had a uniform composition. The changes in the electrostatic capacity of the moisture sensor as a function of relative humidity (50%RH-90%RH) in air were studied, and the sensor output followed changes in the relative humidity.</p>

DOI： 10.1541/ieejsmas.137.15

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Fuji Technology Press Ltd.  

<p>We investigated the effect of different solvents on the Cu micropatterns formed via femtosecond laser reduction patterning. Solvents such as ethylene glycol, 2-propanol, and glycerol were mixed with CuO nanoparticles and polyvinylpyrrolidone. The degree of reduction and the resistivity of the fabricated micropatterns depended on the solvent. Glycerol was the most effective reducing agent. This solution was used to fabricate Cu/Cu₂O composite micro-temperature sensors. Cu-rich electrodes and Cu₂O-rich sensors were selectively formed by controlling the laser scanning speed at 5 mm/s and 0.5 mm/s, respectively, when the pulse energy was 0.53 nJ. The temperature sensor exhibited a negative temperature coefficient of the resistance, which was consistent with the value for Cu₂O.</p>

DOI： 10.20965/ijat.2016.p0934

担当区分：最終著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.4172/2321-6212.1000155

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IOP publishing  

We fabricated antireflection structures (ARSs) on the hot side of a thermoelectric generator (TEG) to absorb near-infrared (NIR) solar light with low reflective energy loss. First, the ARSs, composed of a CuO thin-film coated hemisphere array were designed using rigorous coupled wave analysis. Reflective loss was reduced to 6.7% at a grating period of 200 nm, as determined by simulation. Then, the ARSs were fabricated on a glass substrate using self-arranged submicron SiO<inf>2</inf>spheres, following the coating of a CuO thin film. Finally, the effect of the ARSs on NIR solar light generation was investigated by evaluating the generation properties of the TEG with the ARSs on the hot side. In comparison with the TEG with the CuO flat thin film on the hot side, the ARSs increased the temperature difference between the hot and cold sides by approximately 1.4 times. The CuO-based ARSs absorbed NIR solar light effectively.

DOI： 10.7567/JJAP.55.06GP07

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IOP publishing  

Micro-temperature sensors, which composed of a Cu<inf>2</inf>O-rich sensing part and two Cu-rich electrodes, were directly fabricated by femtosecond laser reduction patterning of CuO nanoparticles. Patterning of the microstructures was performed by laser scanning with pitches of 5, 10, and 15 ?m. Cu<inf>2</inf>O-rich micropatterns were formed at the laser scan speed of 1 mm/s, the pitch of 5 ?m, and the pulse energy of 0.54 nJ. Cu-rich micropatterns that had high generation selectivity of Cu against Cu<inf>2</inf>O were fabricated at the laser scan speed of 15 mm/s, the pitch of 5 ?m, and the pulse energy of 0.45 nJ. Electrical resistivities of the Cu<inf>2</inf>O- and Cu-rich micropatterns were approximately 10 Ω m and 9 ?Ω m, respectively. The temperature coefficient of the resistance of the micro-temperature sensor fabricated under these laser irradiation conditions was －5.5 × 10^－3/°C. This resistance property with a negative value was consistent with that of semiconductor Cu<inf>2</inf>O.

DOI： 10.7567/JJAP.55.06GP05

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.jssc.2015.12.003

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Institute of Physics  

Cu-based micro-temperature detectors were fabricated using femtosecond laser reduction of CuO nanoparticles. Cu-based microstructures were directly created by laser scanning on a CuO nanoparticle solution film. Cu-rich and Cu<inf>2</inf>O-rich microstructures were selectively formed to electrically connect two Cu thin-film electrodes for use in temperature detectors. Cu-rich and Cu<inf>2</inf>O-rich micro-temperature detectors were fabricated at scanning speeds of 500 and 1000 ?m/s, respectively, at a pulse energy of 1.2 nJ. The temperature coefficient of resistance values of the Cu-rich and Cu<inf>2</inf>O-rich microstructures were positive and negative, respectively; these temperature behaviors are typical of metal and semiconductor materials, respectively.

DOI： 10.7567/APEX.9.036701

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：一般社団法人 日本機械学会  

DOI： 10.1299/jsmemag.119.1170_300

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1007/s11664-015-4105-x

担当区分：最終著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Fuji Technology Press Ltd.  

<p>In technologies involving micro electromechanical systems, lift-off processes combined with sputter deposition are general patterning methods for the formation of amorphous alloy thick film structures. However, the thicknesses of structures fabricated in this manner are not uniform because sputtered particles are blocked by the sidewalls of the lift-off layer. In this paper, a reverse lift-off process is proposed as a new patterning method for fabricating amorphous alloy thick film structures of uniform thickness. In the reverse lift-off process, a template of the desired structure is formed on top of the chosen substrate. The thick film structure is then formed by sputter deposition on the top surface of the template. In contrast to a conventional lift-off process, here the thickness of the structure is uniform because there is nothing to hinder the sputtered particles. To demonstrate this process, we successfully fabricated a Cu-Zr-Ti metallic glass thick film structure with a uniform film thickness and a rectangular cross section across different target structure widths and thicknesses. This demonstrates that the reverse lift-off process is more suitable than conventional lift-off processes for the fabrication of metallic glass thick film structures.</p>

DOI： 10.20965/ijat.2015.p0646

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Fuji Technology Press Ltd.  

<p>In this paper, we investigate the characteristics of Ti-Ni-Zr thin film metallic glasses (TFMGs)/ shape memory alloys (SMAs) for microelectromechanical systems (MEMS) applications with three-dimensional structures. The amorphous Ti-Ni-Zr thin films having a Ni content of more than 50 at.% and Zr content of more than 11 at.% undergo glass transitions and are TFMGs. The Ti₃₉Ni₅₀Zr₁₁ TFMG has the lowest glass transition temperature T_g of 703 K and a wide supercooled liquid region ΔT of 57 K. Moreover, it has high thermal stability at T_g. However, the apparent viscosity of the Ti₃₉Ni₅₀Zr₁₁ is higher than those of other Ti-Ni-Zr TFMGs. Moreover, the Ti-Ni-Zr TFMG exhibits higher viscosity than conventional TFMGs because the alloy composition of Ti-Ni-Zr TFMGs/SMAs is far from the eutectic point.</p>

DOI： 10.20965/ijat.2015.p0662

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IOP PUBLISHING LTD  

Cu-based microstructures were directly patterned using femtosecond laser-induced CuO nanoparticle reduction. CuO nanoparticle-based solution, consisting CuO nanoparticles, ethylene glycol, and polyvinylpyrrolidone, was spin-coated on glass substrates. Microstructures were formed by irradiating focused femtosecond laser pulses. Cu and Cu2O peak intensities were observed in the X-ray diffraction (XRD) spectra of the microstructures. Compared to single scan, the Cu peak intensities increased by double scan. This result suggests that double scan is effective for increasing the amount of Cu from CuO nanoparticle solution. Cu- and Cu2O-rich microstructures were formed selectively by controlling laser irradiation conditions. The resistivity of the Cu-rich microstructures was estimated by 528 mu Omega m which was 10(4) times and 10 times larger than the values of Cu and Cu2O, respectively. This large resistivity could be applied for microheaters. (C) 2015 The Japan Society of Applied Physics

DOI： 10.7567/JJAP.54.06FP07

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：ELSEVIER SCIENCE BV  

In micro-electro-mechanical systems (MEMS) technology, one of the conventional patterning methods used for metallic thin films is the lift-off process using a photoresist material. However, there is concern regarding the photoresist material generating gas due to the long-term annealing or the high power used in sputter deposition. Thin-film amorphous alloys, such as thin-film metallic glass (TFMG), when used in the device, become crystallized by such heating and outgassing during sputtering. Unlike photoresist material, a metal mask does not generate gas during sputtering. However, a metal mask is subject to deformation by the stress in the sputtered film on the mask. The pattern shape of the TFMG structure can thus collapse due to this mask deformation. Its cross-sectional shape then deviates significantly from a rectangle. We propose a novel lift-off process using a double metal mask for reducing changes in the cross-sectional shape, and maintaining the amorphous nature of the TFMG structure. The characteristic of the double metal mask lift-off process is duplication of the metal mask for restraint of the lower metal mask deformation. Since nearly all of the sputtered material is deposited on the upper metal mask, the material is only minimally deposited onto the lower metal mask. In this work, the double metal mask lift-off process was compared with the conventional lift-off process, and important points for using the double metal mask lift-off process were elucidated. Using the double metal mask lift-off process, a very thick amorphous TFMG structure could be obtained, as compared to the conventional lift-off process. To maintain the rectangular cross-sectional shape of the structure, it was found to be necessary to decrease the height of the double metal mask, as compared to the conventional lift-off process, in anticipation of upper metal mask deformation. (C) 2015 Elsevier B.V. All rights reserved.

DOI： 10.1016/j.mee.2015.02.041

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：The Japan Society of Mechanical Engineers  

Magnetostrictive materials of the Fe-Ni-Cr ternary system for sensitivity enhancement of force sensors were searched by using a combinatorial method. Magnetostrictive materials for force sensors require large magnetostriction, high relative permeability, and high resistivity. This research is an attempt to find composition ranges that satisfy the following requirements: magnetostriction greater than 20×10 ^-6, relative permeability greater than 4,000, and resistivity over 90 μΩ cm. A novel combinatorial deposition method, known as Combinatorial New Facing Targets Sputtering (Combi-NFTS) method was applied to fabricate libraries of samples with various compositions. Samples for measurement of the relative permeability and resistivity were synthesized with a composition distribution by using Combi-NFTS onto a 108 mm×76 mm glass substrate. After deposition of thin film, each sample is divided into 10 mm×10 mm. The relative permeability and resistivity were measured by using a vibrating sample magnetometer and the four probe method, respectively. Bilayer cantilever samples for evaluation of magnetostriction were fabricated onto a 6 mm×20 mm×0.1 mm Si substrate, whereby deflection of the samples changes when a magnetic field is applied. The laser lever method was used to measure the cantilever deflection. The results indicate that the composition range with an Fe content of 26-36.5 at.%, a Ni content of 61-66 at.%, and a Cr content of 7.5-9.5 at.% satisfy the requirement criteria.

DOI： 10.1299/mej.14-00462

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IOP PUBLISHING LTD  

We have demonstrated a patterning process for the fabrication of thermoelectric thick-film modules by a thermally assisted sputtering method (TASM) and a lift-off technique. Given the experimental requirements of TASM, poly(dimethylsiloxane) (PDMS) was used as the heat-resistant masks in the lift-off technique. After the film deposition, the PDMS lift-off mask was removed from the substrate. This process enables the fabrication of 30-mu m-thick and 300-mu m-wide Sb2Te3 and Bi2Te3 thick-film patterns. The increase in film thickness increased the power generated by the module, which was consistent with the theoretical value. (C) 2014 The Japan Society of Applied Physics

DOI： 10.7567/APEX.7.057101

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：ELSEVIER SCIENCE BV  

Mold materials for glass lenses with microstructures, such as gratings, require not only excellent mechanical properties, high thermal stability and oxidation resistance, but also sufficient machinability by Single-Point Diamond Turning (SPDT). Our research on Ni-Nb-Zr alloys has shown that one amorphous alloy composition (Ni35Nb40Zr25 at.%) met almost all the requirements for glass lens mold materials. Unfortunately, when fabricating gratings on the mold, the immense wear on the bit, which may be caused by the high hardness of the alloy (more than 10 GPa by the nano-indentation method), made it impossible to cut precise gratings. Consequently, the addition of a fourth element was considered to decrease the hardness. After several experiments, the addition of Ti was found to decrease the hardness. At first, Ti was added to substitute 10% Zr, to give Ni35Nb40Zr15Ti10 at.%. Although this alloy had a lower hardness (9.5 GPa) than Ni35Nb40Zr25 at.%, it still cannot be micro-cut by SPDT. It was then decided to substitute Ti for Ni-Nb instead of Zr. Three samples: Ni30Nb35Zr25Ti10 at.%, Ni28Nb32Zr25Ti15 at.% and Ni25Nb30Zr25Ti20 at.%, were fabricated for evaluation. Finally, the Ni28Nb32Zr25Ti15 at.% and Ni25Nb30Zr25Ti20 at.% were found to have a low enough hardness to allow for precision machining. (C) 2013 Elsevier B.V. All rights reserved.

DOI： 10.1016/j.mee.2013.11.008

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：WILEY-BLACKWELL  

This paper suggests a poly(vinylidene fluoride) (PVDF) piezoelectric diaphragm actuator used in a novel fatigue test method for thin metal films. A thin-film metal specimen is stamped on top of the actuator using a stamping epoxy. As the actuator vibrates, the stress in the specimen increases until it fails under fatigue. A finite element model of the actuator is built, and its vibration amplitude is confirmed to be in a good agreement with experiment. Then, a model of the specimen is added to this model to simulate the vibration of the specimen for fatigue test. Stress analysis of the specimen at a driving voltage of 200 V0p confirms that this actuator can increase the stress in the specimen to near 1 GPa, which is high enough for the fatigue test of metals such as titanium. In the experiment, a thin-film titanium specimen is stamped on top of the actuator which is then vibrated. The stress in the fatigue gauge on thin-film specimen increased until the specimen failed under fatigue. This shows that the proposed PVDF actuator is suitable for the fatigue test of thin-film metals such as titanium. (c) 2012 Institute of Electrical Engineers of Japan. Published by John Wiley & Sons, Inc.

DOI： 10.1002/tee.21840

担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：一般社団法人 日本機械学会  

DOI： 10.1299/jsmemag.116.1137_534_2

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：一般社団法人 電気学会  

DOI： 10.1541/ieejsmas.133.348

担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：一般社団法人 日本機械学会  

DOI： 10.1299/jsmemag.116.1130_11

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：The Institute of Electrical Engineers of Japan  

Combinatorial search is one of the useful methods that could search for optimal composition of alloy materials or novel alloy materials. Combinatorial sputtering provides sample group (library) having different compositions in a limited place. Then, the properties of the samples can be scanned in an efficient way. In this research, it was studied that magnetostrictive material with high magnetostriction, relative permeability and resistivity. Desired value of magnetostriction is more than 20×10^-6, relative permeability is more than 4000, and resistivity is more than 100 ?Ω?cm. As a result, composition that Cr content is less than 14 at.% fill the desired value of relative permeability, and more than 10 at.% fill the desired value of resistivity. There is possibility to fill the desired value of magnetostriction.

DOI： 10.1541/ieejsmas.133.342

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IEICE-INST ELECTRONICS INFORMATION COMMUNICATIONS ENG  

Novel high-frequency bending fatigue test method for sputtered metallic thin films using PVDF microactuator is proposed. Thin film titanium specimen as an example and a PVDF piezoelectric microactuator are fabricated. The specimen is stamped on this actuator and the actuator is vibrated at its resonance frequency until the specimen fails by fatigue. The stress in the specimen is calculated from vibration amplitude. By using the proposed method, the stress-fatigue life cycle (S-N) curve of the thin film titanium is obtained over 50 times faster than conventional method.

DOI： 10.1587/elex.9.403

担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：ELSEVIER SCIENCE SA  

We conducted a search for Ti-Ni-Zr thin film metallic glasses (TFMGs) exhibiting a shape memory effect after crystallization. We investigated the possibility of (Ti, Zr)((100-x))-Ni-x thin film amorphous alloys exhibiting a glass transition. All prepared samples were classified into three groups such as Ti-rich (x &lt; 50). equiatomic (50 &lt; x &lt; 51)and Ni-rich (x &gt; 51) samples. Equiatomic Ti-Ni-Zr thin film amorphous alloys with Zr content ranging from 11 to 17 at.% showed a glass transition, and thus were concluded to be TFMGs. Several Ni-rich samples exhibit glass transition and were also TFMGs. On the other hand, Ti-rich samples did not exhibit a glass transition irrespective of the Zr content. Moreover, we investigated the shape memory behavior of crystallized TiNiZrTFMGs. Ti39Ni50Zr11 TFMGs annealed at 973 K for 3.6 ks exhibited a martensitic transformation from the B2 to the B19' phase upon cooling and heating. The martensitic phase start temperature and reverse martensitic phase start temperature were 296 and 352 K, respectively. In addition, this alloy showed good shape memory behavior, achieving recovery strain of 2.5% and a critical stress for slip of 500 MPa. (C) 2012 Elsevier B.V. All rights reserved.

DOI： 10.1016/j.msea.2012.01.075

担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1299/kikaic.77.4136

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.precisioneng.2011.05.004

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1143/JJAP.50.066601

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1109/TUFFC.2010.5688410

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.4028/www.scientific.net/KEM.447-448.661

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.precisioneng.2009.12.007

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.4028/www.scientific.net/MSF.654-656.2426

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.sna.2010.05.027

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.4028/www.scientific.net/MSF.654-656.1066

担当区分：最終著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1299/jmmp.4.1742

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1143/JJAP.49.076601

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1143/APEX.3.125601

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1299/kikaia.76.682

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1109/TUFFC.2010.1507662

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.ultras.2009.09.008

担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1088/0964-1726/19/4/045008

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.sna.2009.04.029

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.mee.2008.12.087

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1299/jmmp.3.387

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.2472/jsms.58.821

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.sna.2009.10.004

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1143/APEX.2.046503

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1143/APEX.2.036501

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1143/JJAP.48.025503

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1299/jmmp.3.1022

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.mseb.2007.09.055

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.mseb.2007.09.077

担当区分：責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.2493/jjspe.74.252

担当区分：責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1299/kikaic.74.1020

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.apsusc.2007.03.075

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.apsusc.2007.05.092

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1541/ieejsmas.127.267

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1143/JJAP.46.1590

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/j.mee.2006.01.233

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1143/JJAP.45.2708

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1109/JMEMS.2004.839345

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/S0141-6359(02)00182-4

担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1016/S0167-9317(03)00117-5

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1109/JMEMS.2002.807475

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1143/JJAP.42.2190

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.2493/jjspe.69.438

記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1143/JJAP.40.5382

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1299/kikaic.67.2707

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.2493/jjspe.67.1708

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.2493/jjspe.66.96

記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.2493/jjspe.66.282

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.2493/jjspe.66.287

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1117/12.364504

担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1299/kikaic.65.2080

記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.2493/jjspe.64.546

開催年月日： 2025年11月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

開催年月日： 2025年11月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Tokyo, Japan   国名：日本国  

開催年月日： 2025年11月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Hilton Guam Resort & Spa, Guam, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2025年11月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Hilton Guam Resort & Spa, Guam, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2025年10月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Washington, D.C., USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2025年9月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Paris-Saclay, France   国名：フランス共和国  

開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：北海道大学 札幌キャンパス   国名：日本国  

開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：北海道大学 札幌キャンパス   国名：日本国  

開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：北海道大学 札幌キャンパス   国名：日本国  

開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：北海道大学 札幌キャンパス   国名：日本国  

開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：北海道大学 札幌キャンパス   国名：日本国  

開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：北海道大学 札幌キャンパス   国名：日本国  

開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：北海道大学 札幌キャンパス   国名：日本国  

開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：北海道大学 札幌キャンパス   国名：日本国  

開催年月日： 2025年7月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：横河電機株式会社   国名：日本国  

開催年月日： 2025年7月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Michigan, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2025年6月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：北海道大学 学術交流会館   国名：日本国  

開催年月日： 2024年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：愛媛大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2024.j114p-04

開催年月日： 2024年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：愛媛大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2024.j221-02

開催年月日： 2024年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：愛媛大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2024.j221p-14

開催年月日： 2024年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：愛媛大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2024.j114p-06

開催年月日： 2024年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：愛媛大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2024.j221-05

開催年月日： 2024年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：愛媛大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2024.j114p-05

開催年月日： 2023年11月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Nagoya   国名：日本国  

開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：東京都立大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2023.j133p-06

開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：東京都立大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2023.j133p-02

開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：東京都立大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2023.j133p-04

開催年月日： 2023年6月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Granada, Spain   国名：スペイン  

開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Nagoya   国名：日本国  

開催年月日： 2022年11月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Okinawa   国名：日本国  

開催年月日： 2022年11月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Okinawa, Japan   国名：日本国  

開催年月日： 2022年11月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Okinawa   国名：日本国  

開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Yokohama  

開催年月日： 2022年9月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Colorado   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：オンライン   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2021.j221-07

開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

開催地：オンライン   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2021.k041-01

開催年月日： 2021年6月

記述言語：英語  

開催地：Online   国名：日本国  

開催年月日： 2021年3月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催年月日： 2021年3月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催年月日： 2020年11月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

開催年月日： 2020年11月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemp.2020.28.267

開催年月日： 2020年11月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemp.2020.28.266

開催年月日： 2020年11月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemp.2020.28.156

開催年月日： 2020年11月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

国名：日本国  

開催年月日： 2020年11月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催年月日： 2020年11月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

国名：日本国  

開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：名古屋   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2020.j22204

開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：名古屋大学（オンライン）   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2020.j24111

開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：名古屋   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2020.j22210

開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：名古屋   国名：日本国  

開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：名古屋   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2020.j22207

開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：名古屋   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2020.j13105

開催年月日： 2020年2月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

開催年月日： 2019年9月

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：秋田大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2019.j22208p

開催年月日： 2018年9月

記述言語：日本語  

開催地：関西大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2018.j2220305

開催年月日： 2018年9月

記述言語：日本語  

開催地：関西大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2018.j2220303

開催年月日： 2018年9月

記述言語：日本語  

開催地：関西大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2018.j2220304

開催年月日： 2018年9月

記述言語：日本語  

開催地：関西大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2018.j1110203

開催年月日： 2018年9月

記述言語：日本語  

開催地：関西大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2018.s0410103

開催年月日： 2018年9月

記述言語：日本語  

開催地：関西大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2018.j2220204

開催年月日： 2018年9月

記述言語：日本語  

開催地：関西大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2018.j2220202

開催年月日： 2018年9月

記述言語：日本語  

開催地：関西大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2018.j2220201

開催年月日： 2017年10月 - 2017年11月

記述言語：日本語  

開催地：広島国際会議場   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemnm.2017.8.pn-16

開催年月日： 2017年10月 - 2017年11月

記述言語：日本語  

開催地：広島国際会議場   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemnm.2017.8.pn-17

開催年月日： 2017年10月 - 2017年11月

記述言語：日本語  

開催地：広島国際会議場   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemnm.2017.8.pn-70

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.j2220102

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.s0460101

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.j0470305

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.j2220101

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.j2220201

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.j2220202

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.j0470302

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.j2220105

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.j2220203

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.j2220103

開催年月日： 2017年9月

記述言語：日本語  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2017.j2220104

開催年月日： 2016年12月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：東京   国名：日本国  

開催年月日： 2016年11月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：早稲田大学   国名：日本国  

開催年月日： 2016年11月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Kyoto   国名：日本国  

開催年月日： 2016年10月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：平戸   国名：日本国  

開催年月日： 2016年10月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：平戸   国名：日本国  

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：神奈川   国名：日本国  

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：九州大学   国名：日本国  

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：九州大学   国名：日本国  

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：九州大学   国名：日本国  

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2016.j2240102

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2016.j2240101

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2016.j2240105

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2016.j2240204

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2016.j2230101

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2016.j2240103

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2016.j2240203

開催年月日： 2016年9月

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2016.j2240201

開催年月日： 2016年8月 - 2016年9月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Brasov   国名：ルーマニア  

開催年月日： 2016年8月 - 2016年9月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Brasov   国名：ルーマニア  

開催年月日： 2016年7月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：名古屋   国名：日本国  

開催年月日： 2016年7月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：京都   国名：日本国  

開催年月日： 2016年5月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：パシフィコ横浜   国名：日本国  

開催年月日： 2016年5月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Yokohama   国名：日本国  

開催年月日： 2016年5月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Yokohama   国名：日本国  

開催年月日： 2015年10月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：朱鷺メッセ（新潟市）   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemnm.2015.7._29pm1-b-4

開催年月日： 2015年10月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：朱鷺メッセ（新潟市）   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemnm.2015.7._28pm3-f-7

開催年月日： 2015年9月

記述言語：日本語  

開催地：北海道大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2015._s0440103-

開催年月日： 2015年9月

記述言語：日本語  

開催地：北海道大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2015._j2220305-

開催年月日： 2015年9月

記述言語：日本語  

開催地：北海道大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2015._s0440102-

開催年月日： 2015年9月

記述言語：日本語  

開催地：北海道大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2015._j2220302-

開催年月日： 2015年9月

記述言語：日本語  

開催地：北海道大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2015._j2220201-

開催年月日： 2015年9月

記述言語：日本語  

開催地：北海道大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2015._j2220101-

開催年月日： 2015年9月

記述言語：日本語  

開催地：北海道大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2015._j2220102-

開催年月日： 2015年9月

記述言語：日本語  

開催地：北海道大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2015._j2220105-

開催年月日： 2014年9月

記述言語：日本語  

開催地：東京電機大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2014._s0440101-

開催年月日： 2014年9月

記述言語：日本語  

開催地：東京電機大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2014._j2220102-

開催年月日： 2014年9月

記述言語：日本語  

開催地：東京電機大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2014._j2220202-

開催年月日： 2014年9月

記述言語：日本語  

開催地：東京電機大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2014._j2220203-

開催年月日： 2014年9月

記述言語：日本語  

開催地：東京電機大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2014._f041003-1

開催年月日： 2014年7月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

開催地：豊橋技術科学大学   国名：日本国  

開催年月日： 2013年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：岡山大学   国名：日本国  

開催年月日： 2013年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：岡山大学   国名：日本国  

開催年月日： 2013年9月

記述言語：日本語  

開催地：岡山大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2013._j212036-1

開催年月日： 2013年9月

記述言語：日本語  

開催地：岡山大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2013._j212021-1

開催年月日： 2013年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：岡山大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2013._j212012-1

開催年月日： 2013年9月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：岡山大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2013._j212017-1

開催年月日： 2013年9月

記述言語：日本語  

開催地：岡山大学   国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemecj.2013._f113004-1

開催年月日： 2012年11月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：滋賀・立命館大学びわこ・くさつキャンパス　エポック立命２１   国名：日本国  

開催年月日： 2011年1月

記述言語：英語  

開催地：Cancun, Mexico   国名：メキシコ合衆国  

開催年月日： 2010年8月

記述言語：英語  

開催地：Cairns, Australia   国名：オーストラリア連邦  

開催年月日： 2010年8月

記述言語：英語  

開催地：Cairns, Australia   国名：オーストラリア連邦  

開催年月日： 2009年9月

記述言語：英語  

開催地：Kurashiki, Okayama, Japan   国名：日本国  

開催年月日： 2009年4月

記述言語：英語  

開催地：San Francisco, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2008年10月

記述言語：英語  

開催地：Evanston, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2008年10月

記述言語：英語  

開催地：Evanston, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2008年9月

記述言語：英語  

開催地：Athens, Greece   国名：ギリシャ共和国  

開催年月日： 2008年7月

記述言語：英語  

開催地：Lausanne, Switzerland   国名：スイス連邦  

開催年月日： 2008年5月

記述言語：英語  

開催地：Zurich, Switzerland   国名：スイス連邦  

開催年月日： 2007年11月

記述言語：英語  

開催地：Boston, MA, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2007年11月

記述言語：英語  

開催地：Boston, MA, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2007年11月

記述言語：英語  

開催地：Boston, MA, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2007年8月

記述言語：英語  

開催地：Tokyo, Japan   国名：日本国  

開催年月日： 2007年5月

記述言語：英語  

開催地：Kanagawa, Japan   国名：日本国  

開催年月日： 2007年5月

記述言語：英語  

開催地：Bremen, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

開催年月日： 2006年12月

記述言語：英語  

開催地：San Juan, Puerto Rico, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2006年12月

記述言語：英語  

開催地：San Juan, Puerto Rico, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2005年11月 - 2005年12月

記述言語：英語  

開催地：Boston, MA, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2005年11月 - 2005年12月

記述言語：英語  

開催地：Boston, MA, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2005年11月 - 2005年12月

記述言語：英語  

開催地：Boston, MA, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2005年11月

記述言語：英語  

開催地：Ouro Preto, Brazil   国名：ブラジル連邦共和国  

開催年月日： 2005年9月

記述言語：英語  

開催地：Vienna, Austria   国名：オーストリア共和国  

開催年月日： 2005年9月

記述言語：英語  

開催地：Vienna, Austria   国名：オーストリア共和国  

開催年月日： 2005年1月 - 2005年2月

記述言語：英語  

開催地：Miami, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2004年12月

記述言語：英語  

開催地：Sydney, Australia   国名：オーストラリア連邦  

開催年月日： 2004年5月 - 2004年6月

記述言語：英語  

開催地：Glasgow, Scotland  

開催年月日： 2004年5月 - 2004年6月

記述言語：英語  

開催地：Glasgow, Scotland  

開催年月日： 2003年12月

記述言語：英語  

開催地：Perth, Australia   国名：オーストラリア連邦  

開催年月日： 2003年10月

記述言語：英語  

開催地：Munich, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

開催年月日： 2003年9月

記述言語：英語  

開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

開催年月日： 2002年9月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Nagoya   国名：日本国  

開催年月日： 2002年9月

記述言語：英語  

開催地：Lugano, Switzerland   国名：スイス連邦  

開催年月日： 2002年9月

記述言語：英語  

開催地：Lugano, Switzerland   国名：スイス連邦  

開催年月日： 2002年1月

記述言語：英語  

開催地：Las Vegas, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2002年1月

記述言語：英語  

開催地：Las Vegas, USA   国名：アメリカ合衆国  

開催年月日： 2001年7月

記述言語：英語  

開催地：Yokohama, Japan   国名：日本国  

開催年月日： 2001年1月

記述言語：英語  

開催地：Interlaken, Switzerland   国名：スイス連邦  

開催年月日： 1999年10月

記述言語：英語  

開催地：Queensland, Australia   国名：オーストラリア連邦  

開催年月日： 1999年10月

記述言語：英語  

開催地：Queensland, Australia   国名：オーストラリア連邦  

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：埼玉大学   国名：日本国  

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

国名：日本国  

記述言語：英語  

In this paper, we report the fabrication and evaluation of an actuator for reaction force variable passive-type tactile displays using a highly formable Ti-Ni-Cu shape-memory alloy. The actuator relies on the superelastic effect of SMAs and can influence the applied reaction force. We successfully fabricated the desired convex cross structure with a height of 123 mu m, varied the reaction force between 40 and 80 mN at a depth of 100 mu m, and controlled the electrical resistance linearly with temperature.

DOI： 10.1109/TRANSDUCERS50396.2021.9495608

記述言語：英語  

DOI： 10.1109/LTB-3D53950.2021.9598414

国名：日本国  

国名：日本国  

会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：名古屋大学   国名：日本国  

会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：金沢   国名：日本国  

会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

<p>表面活性化接合は，常温かつ低加圧でウエハを直接接合する技術である．この接合プロセスに用いられる高速原子ビーム（FAB）源には，ウエハ径の増大に伴って，大面積を均一に照射する性能が求められる．本研究では，従来形とは異なる平行平板形の電極を採用したFAB源を試作し，性能を評価した．さらに，従来形FAB源を上回るエッチングレートとFABの照射均一性を達成するため，照射口設計の改良と動作条件の探索を行った．</p>

DOI： 10.11522/pscjspe.2023s.0_720

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

<p>本研究では，微細テクスチャの回折効果を利用してDSSCsの変換効率を向上させることを目指した．光学シミュレーションからDSSCs使用色素に適した回折テクスチャ形状を設計し，ナノインプリント等の微細加工を用いて作製した．回折テクスチャを適用したDSSCsは変換効率を向上させたが，これは回折テクスチャ上に成膜された透明電極FTOの広い表面積により，FTO/TiO₂界面の導電性が向上したことに起因すると考えられた．</p>

DOI： 10.11522/pscjspe.2024s.0_713

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

<p>高成形性形状記憶合金（HFSMA）は，非晶質状態で金属ガラスの特性を，結晶化後に形状記憶特性を示す．熱ナノインプリントによりHFSMA製繊毛構造体の加工を行い，ナノ繊毛アクチュエータの作製を検討している．本研究では，リソグラフィによりマイクロホールのSiモールドを作製し，熱ナノインプリントによってHFSMAマイクロ柱状構造体を作製した．今後は，高アスペクト比のナノ柱状（繊毛）構造体の作製を目指す．</p>

DOI： 10.11522/pscjspe.2024a.0_146

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

国名：日本国  

DOI： 10.11511/jacc.68.0_569

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：松本   国名：日本国  

記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

開催地：KFCホール   国名：日本国  

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmemp.2020.28.158

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmetokai.2018.67.221

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmetokai.2018.67.216

記述言語：日本語  

国名：日本国  

DOI： 10.1299/jsmetokai.2018.67.219

記述言語：英語  

DOI： 10.1109/MEMSYS.2018.8346753