産業財産権 - 石川　健治

シリコン酸化膜の評価方法及び装置並びに半導体装置の製造方法及び装置

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出願日：2005年3月

特許番号/登録番号：3844770  登録日：2006年8月 

出願国：国内  

半導体装置の製造方法

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出願日：2004年9月

特許番号/登録番号：4283189  登録日：2009年3月 

出願国：国内  

シリコン酸化膜の評価方法及び半導体装置の製造方法

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出願日：2002年12月

特許番号/登録番号：3816440  登録日：2006年6月 

出願国：国内  

半導体装置の製造方法

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出願日：1999年3月

特許番号/登録番号：3326718  登録日：2002年7月 

出願国：国内  

半導体装置の製造方法

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出願日：1999年2月

特許番号/登録番号：3326717  登録日：2002年7月 

出願国：国内  

シリコン酸化膜の評価方法及び半導体装置の製造方法

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出願日：1995年3月

特許番号/登録番号：3670336  登録日：2005年4月 

出願国：国内  

Silicon oxide film evaluation method

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出願日：1994年3月

特許番号/登録番号：US 5,595,916  登録日：1997年1月 

出願国：外国  

シリコン酸化膜の評価方法及び装置、並びに半導体装置の製造方法及び装置

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出願日：1994年3月

特許番号/登録番号：3452629  登録日：2003年7月 

出願国：国内