所属
未来材料・システム研究所 附属未来エレクトロニクス集積研究センター 国際客員部 特任助教
職名
特任助教
連絡先
ヤン シュウ
楊 旭
YANG Xu
学位 1
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工学博士 （ 2018年9月 名古屋大学 ）
研究キーワード 1
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III-Nitrides, 2D materials, Crystal growth, Power electronic devices
経歴 2
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国立研究開発法人物質・材料研究機構
2020年 - 2023年
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名古屋大学 研究員
2018年 - 2020年
論文 6
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Impact of graphene state on the orientation of III–nitride 招待有り 査読有り
Jeong-Hwan Park, Nan Hu, Mun-Do Park, Jia Wang, Xu Yang, Dong-Seon Lee, Hiroshi Amano, Markus Pristovsek
Applied Physics Letters 123 巻 ( 12 ) 2023年9月
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Fabrication of Lattice-Mismatched MoTe2/MoSe2 Heterostructures using Molecular-Beam Epitaxy 査読有り
Akihiro Ohtake and Xu Yang
Crystal Growth & Design 23 巻 ( 7 ) 2023年6月
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Scalable growth of atomically thin MoS2 layers in a conventional MOCVD system using molybdenum dichloride dioxide as the molybdenum source 査読有り
Xu Yang, Shisheng Li, Naoki Ikeda, Akihiro Ohtake, Yoshiki Sakuma
Applied Surface Science 636 巻 2023年
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Highly Efficient Deposition of Centimeter-Scale MoS2Monolayer Film on Dragontrail Glass with Large Single-Crystalline Domains 査読有り
Xu Yang, Shisheng Li, and Yoshiki Sakuma
6 巻 ( 12 ) 2022年12月
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Observation of strain relaxing in nanoscale WS2 monolayers grown on SiO2/Si by organic solvent treatment 査読有り
Japanese Journal of Applied Physics 61 巻 ( 7 ) 2022年7月
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Oxide Scale Sublimation Chemical Vapor Deposition for Controllable Growth of Monolayer MoS2 Crystals 査読有り
Xu Yang, Shisheng Li, Naoki Ikeda, and Yoshiki Sakuma
Small Methods 6 巻 ( 2 ) 2022年2月
講演・口頭発表等 2
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Scalable growth of atomically-thin MoS2 layers in conventional MOCVD system using molybdenum oxychloride as the molybdenum source 国際会議
Xu Yang, Shisheng Li, Naoki Ikeda, Akihiro Ohtake,and Yoshiki Sakuma
International Conference on Crystal Growth and Epitaxy 2023年8月
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Growth of AlPyN1-y on GaN by Metal-Organic Vapour Phase Epitaxy 招待有り 国際会議
Markus Pristovsek, Xu Yang
International Conference on Crystal Growth and Epitaxy 2023年8月