論文 - 永関 一也
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Positive Ions in RF Discharge Plasmas of C4F8/Ar and C4F8/O2 Mixtures
Jpn J Appl Phys. Pt. 1, Regular papers & short notes 37 巻 ( 10 ) 頁： 5730 - 5734 1998年10月
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Positive Ions in C 4F 8 RF Discharge in a Planar Diode
Jpn J Appl Phys. Pt. 1, Regular papers & short notes 36 巻 ( 8 ) 頁： 5296 - 5299 1997年8月
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Characteristics of Parallel-Plate RF Discharges in C 4F 8 Gas and C 4F 8/O 2 Mixtures
Jpn J Appl Phys. Pt. 1, Regular papers & short notes 36 巻 ( 8 ) 頁： 5286 - 5289 1997年8月
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Ionic Species in 13.56 MHz Discharges in CF 4 Gas and Mixtures of It with Ar and O 2
Jpn J Appl Phys. Pt. 1, Regular papers & short notes 37 巻 ( 7 ) 頁： 4648 - 4650 1997年7月
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Positive and Negative Ions in RF Plasmas of SF 6/N 2 and SF 6/Ar Mixtures in a Planar Diode
Jpn J Appl Phys. Pt. 1, Regular papers & short notes 35 巻 ( 7 ) 頁： 847 - 853 1997年2月
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Positive Ions in RF Discharge Plasma of CF 4 Gas in a Planar Diode
Jpn J Appl Phys. Pt. 1, Regular papers & short notes 35 巻 ( 7 ) 頁： 4081 - 4082 1996年7月
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Negative Ions in 13.56 MHz Discharge of SF6 Gas in a Planar Diode
Jpn J Apl Phys. Pt. 2, Letters 34 巻 ( 7 ) 頁： L852 - L855 1995年7月
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Mass Spectrometry of Discharge Products at 13.56 MHz in SF6 Gas
Jpn J Appl Phys 33 巻 ( ７ ) 頁： 4348 - 4352 1994年7月
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Mass Spectrometric Observation of Decomposition Products SFx (x=1, 2) in SF6 Discharge at 13.56 MHz
Jpn J Appl Phys 32 巻 ( ２ ) 頁： 967 - 968 1993年2月
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Dual-Frequency Superimposed RF Capacitive-Coupled Plasma Etch Process
Jpn J Appl Phys 44 巻 ( 8 ) 頁： 6241 - 6244 2005年8月