論文 - 髙見　誠一

Preparation of CuCl microcrystals-doped SiO2 glass by co-sputtering method 査読有り

Seiichi Takami, Yasuyuki Egashira, Itaru Honma, Hiroshi Komiyama

Applied Physics Letters   68 巻 ( 7 ) 頁： 1020-1021   1996年2月

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記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1063/1.116215

Control of Selective Tungsten Chemical Vapor Deposition by Monolayer Nitridation of Silicon Surface 査読有り

Seiichi Takami, Takeyasu Saito, Minoru Fujii, Yasuyuki Egashira, Hiroshi Komiyama

Journal of the Electrochemical Society   143 巻 ( 2 ) 頁： L38-L40   1996年2月

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記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1149/1.1836450

Synchrotron-radiation photochemical-vapor deposition of amorphous carbon 査読有り

A. Endo, S. Takami, T. Osawa, I. Honma, H. Komiyama

Journal of Applied Physics   77 巻 ( 7 ) 頁： 3453-3457   1995年4月

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記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1063/1.358639

Monolayer nitridation of silicon surfaces by a dry chemical process using dimethylhydrazine or ammonia 査読有り

Seiichi Takami, Yasuyuki Egashira, Itaru Honma, Hiroshi Komiyama

Applied Physics Letters   66 巻 ( 12 ) 頁： 1527-1529   1995年3月

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記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1063/1.113635

Enhanced optical properties of metal-coated nanoparticles 査読有り

Joseph W. Haus, H. S. Zhou, S. Takami, M. Hirasawa, I. Honma, H. Komiyama

Journal of Applied Physics   73 巻 ( 3 ) 頁： 1043-1048   1993年2月

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記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

DOI： 10.1063/1.353290