2021/10/28 更新

写真a

ゴトウ カズヒロ
後藤 和泰
GOTOH Kazuhiro
所属
大学院工学研究科 物質プロセス工学専攻 物質創成工学 助教
大学院担当
大学院工学研究科
学部担当
工学部 マテリアル工学科
職名
助教
外部リンク

学位 3

  1. 博士(工学) ( 2016年3月   東京工業大学 ) 

  2. 修士(工学) ( 2013年3月   東京工業大学 ) 

  3. 学士(理学) ( 2011年3月   東京理科大学 ) 

研究キーワード 3

  1. ヘテロ接合

  2. 太陽電池

  3. 界面制御

研究分野 2

  1. ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学

  2. ナノテク・材料 / 応用物性

現在の研究課題とSDGs 3

  1. 酸化チタン薄膜と結晶シリコンとの界面における未結合手不活化における水素機能の解明

  2. 従来にない高効率、低コスト、高耐久性を兼ね備えた太陽電池を実現する要素技術開発

  3. シリコンナノ結晶をキャリア輸送経路に用いた新規導電性保護膜の研究

経歴 2

  1. 名古屋大学大学院   工学研究科物質プロセス工学専攻   助教

    2017年12月 - 現在

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    国名:日本国

  2. 名古屋大学大学院   工学研究科マテリアル理工学専攻   特任助教

    2016年4月 - 2017年11月

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    国名:日本国

学歴 3

  1. 東京工業大学   総合理工学研究科   物質科学創造専攻

    2013年4月 - 2016年3月

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    国名: 日本国

  2. 東京工業大学   総合理工学研究科   物質科学創造専攻

    2011年4月 - 2013年3月

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    国名: 日本国

  3. 東京理科大学   理工学部   物理学科

    2007年4月 - 2011年3月

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    国名: 日本国

所属学協会 4

  1. 日本材料学会   正会員

    2021年10月 - 現在

  2. 日本太陽光発電学会   正会員

    2020年4月 - 現在

  3. IEEE会員

  4. 応用物理学会

委員歴 3

  1. International Conference on Solid State Devices and Materials   Program Committee  

    2021年4月 - 現在   

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    団体区分:学協会

  2. 33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-33)   Steering Committee  

    2021年4月 - 現在   

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    団体区分:学協会

  3. 応用物理学会若手チャプター「太陽光エネルギー変換材料・デバイス開発研究会」   副幹事  

    2018年4月 - 現在   

受賞 4

  1. イノベイティブPV奨励賞

    2019年7月   日本学術振興会 175委員会   a-Si:H/c-Siヘテロ構造のパッシベーション性能と水素分布における成膜温度の影響

    後藤 和泰

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    受賞区分:国内学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  2. 第7回研究部共同研究利用・共同研究若手萌芽研究最優秀賞

    2019年5月   東北大学金属材料研究所   結晶シリコン界面の未結合手不活化における水素機能の解明

    後藤和泰,望月 健矢

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    受賞国:日本国

  3. 薄膜太陽電池奨励賞

    2013年11月   薄膜太陽電池セミナー実行委員会   タイプII型Ge/Si量子ドットを導入したヘテロ接合型太陽電池の作製

    後藤 和泰

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    受賞区分:国内学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  4. 土肥賞

    2013年2月   東京工業大学   シリコン基板上自己形成ゲルマニウム量子ドットの高均一かつ高密度化

    後藤 和泰

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    受賞国:日本国

 

論文 57

  1. Impact of chemically grown silicon oxide interlayers on the hydrogen distribution at hydrogenated amorphous silicon/crystalline silicon heterointerfaces 査読有り

    K. Gotoh, M. Wilde, S. Ogura, Y. Kurokawa, K. Fukutani, N. Usami

    Applied Surface Science   567 巻   頁: 150799   2021年11月

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    担当区分:筆頭著者, 責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  2. Fabrication of heterojunction crystalline Si solar cells with BaSi2 thin films prepared by 2-step evaporation method 査読有り

    Y. Nakagawa, K. Takahashi, M. Fujiwara, K. O. Hara, K. Gotoh, Y. Kurokawa, T. Itoh, T. Suemasu, and N. Usami

    Japanese Journal of Applied Physics   60 巻   頁: 105503   2021年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  3. Improved Performance of Titanium Oxide/Silicon Oxide Electron-Selective Contacts by Implementation of Magnesium Interlayers 査読有り

    Y. Nakagawa, K. Gotoh, T. Inoue, Y. Kurokawa, N. Usami

    Physica Status Solidi a   218 巻   頁: 2100296   2021年8月

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    担当区分:責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  4. Fabrication of Silicon Nanowire Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Al2O3/TiO2/Al2O3 Stacked Dielectric Films for the Application to Energy Storage Devices 査読有り

    R. Nezasa, K. Gotoh, S. Kato, S. Miyamoto, N. Usami and Y. Kurokawa

    Energies   14 巻   頁: 4538   2021年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  5. Application of Bayesian Optimization for High-Performance TiOx/SiOy/c-Si Passivating Contact 査読有り

    Shinsuke Miyagawa, Kazuhiro Gotoh, Kentaro Kutsukake, Yasuyoshi Kurokawa and Noritaka Usami

    Solar Energy Materials & Solar Cells   230 巻   頁: 111251   2021年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  6. Application of Bayesian optimization for improved passivation performance in TiOx/SiOy/c-Si heterostructure by hydrogen plasma treatment 査読有り

    Miyagawa Shinsuke, Gotoh Kazuhiro, Kutsukake Kentaro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   14 巻 ( 2 )   2021年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/abd869

    Web of Science

  7. Simulation study on lateral minority carrier transport in the surface inversion layer of the p-aSi:H/i-aSi:H/cSi heterojunction solar cell 査読有り

    Kamioka Takefumi, Hayashi Yutaka, Gotoh Kazuhiro, Hara Tomohiko, Ozaki Ryo, Morimura Motoo, Shimizu Ayako, Nakamura Kyotaro, Usami Noritaka, Ogura Atsushi, Ohshita Yoshio

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   60 巻 ( 2 )   2021年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abdd02

    Web of Science

  8. Passivation mechanism of the high-performance titanium oxide carrier-selective contacts on crystalline silicon studied by spectroscopic ellipsometry 査読有り

    Gotoh Kazuhiro, Miura Hiroyuki, Shimizu Ayako, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   60 巻 ( SB )   2021年1月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abd6dd

    Web of Science

  9. Activation energy of hydrogen desorption from high-performance titanium oxide carrier-selective contacts with silicon oxide interlayers 査読有り

    Gotoh Kazuhiro, Mochizuki Takeya, Hojo Tomohiko, Shibayama Yuki, Kurokawa Yasuyoshi, Akiyama Eiji, Usami Noritaka

    CURRENT APPLIED PHYSICS   21 巻   頁: 36 - 42   2021年1月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cap.2020.10.002

    Web of Science

  10. Impact of Ge deposition temperature on parameters of c-Si solar cells with surface texture formed by etching of Si using SiGe islands as a mask 査読有り

    Nguyen V. H., Novikov A., Shaleev M., Yurasov D., Semma M., Gotoh K., Kurokawa Y., Usami N.

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   114 巻   2020年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.mssp.2020.105065

    Web of Science

  11. Atomic hydrogen passivation for photoresponsivity enhancement of boron-doped p-BaSi2 films and performance improvement of boron-doped p-BaSi2/n-Si heterojunction solar cells 査読有り

    Xu Zhihao, Sato Takuma, Benincasa Louise, Yamashita Yudai, Deng Tianguo, Gotoh Kazuhiro, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Filonov Andrew B., Migas Dmitri B., Shohonov Denis A., Suemasu Takashi

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   127 巻 ( 23 )   2020年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0005763

    Web of Science

  12. Impact of deposition of indium tin oxide double layers on hydrogenated amorphous silicon/crystalline silicon heterojunction 査読有り

    Semma Masanori, Gotoh Kazuhiro, Wilde Markus, Ogura Shohei, Kurokawa Yasuyoshi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    AIP ADVANCES   10 巻 ( 6 )   2020年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0009994

    Web of Science

  13. Undoped p-type BaSi2 emitter prepared by thermal evaporation and post-annealing for crystalline silicon heterojunction solar cells 査読有り

    Kimura Yuki, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   13 巻 ( 5 )   2020年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/ab8727

    Web of Science

  14. Significant enhancement of photoresponsivity in As-doped n-BaSi2 epitaxial films by atomic hydrogen passivation 査読有り

    Aonuki Sho, Yamashita Yudai, Sato Takuma, Xu Zhihao, Gotoh Kazuhiro, Toko Kaoru, Terai Yoshikazu, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   13 巻 ( 5 ) 頁: .   2020年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  15. Synthesis of Mg2Si thin film by thermal treatment under inert gas atmosphere and evaluation of film quality 査読有り

    Horiba Issei, Fujiwara Michinobu, Nakagawa Yoshihiko, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Itoh Takashi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab6b79

    Web of Science

  16. Surface inversion layer effective minority carrier mobility as one of the measures of surface quality of the p-aSi:H/i-aSi:H/cSi heterojunction solar cell 査読有り

    Kamioka Takefumi, Hayashi Yutaka, Gotoh Kazuhiro, Ozaki Ryo, Nakamura Kyotaro, Morimura Motoo, Naitou Shimako, Usami Noritaka, Ogura Atsushi, Ohshita Yoshio

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab70a0

    Web of Science

  17. Effects of evaporation vapor composition and post-annealing conditions on carrier density of undoped BaSi2 evaporated films 査読有り

    Kimura Yuki, Fujiwara Michinobu, Nakagawa Yoshihiko, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab6418

    Web of Science

  18. Drastic enhancement of photoresponsivity in C-doped BaSi2 films formed by radio-frequency sputtering 査読有り

    Nemoto T., Matsuno S., Sato T., Gotoh K., Mesuda M., Kuramochi H., Toko K., Usami N., Suemasu T.

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59 巻   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab69dc

    Web of Science

  19. Effect of hydrogen plasma treatment on the passivation performance of TiOx on crystalline silicon prepared by atomic layer deposition 査読有り

    Miyagawa Shinsuke, Gotoh Kazuhiro, Ogura Shohei, Wilde Markus, Kurokawa Yasuyoshi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   38 巻 ( 2 )   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.5134720

    Web of Science

  20. Effect of forming gas annealing on hydrogen content and surface morphology of titanium oxide coated crystalline silicon heterocontacts 査読有り

    Nakagawa Yuta, Gotoh Kazuhiro, Wilde Markus, Ogura Shohei, Kurokawa Yasuyoshi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   38 巻 ( 2 )   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.5134719

    Web of Science

  21. Effect of the Niobium-Doped Titanium Oxide Thickness and Thermal Oxide Layer for Silicon Quantum Dot Solar Cells as a Dopant-Blocking Layer 査読有り

    Akaishi Ryushiro, Kitazawa Kohei, Gotoh Kazuhiro, Kato Shinya, Usami Noritaka, Kurokawa Yasuyoshi

    NANOSCALE RESEARCH LETTERS   15 巻 ( 1 )   2020年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1186/s11671-020-3272-8

    Web of Science

  22. Tuning the Electrical Properties of Titanium Oxide Bilayers Prepared by Atomic Layer Deposition at Different Temperatures 査読有り

    Gotoh Kazuhiro, Mochizuki Takeya, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE   216 巻 ( 22 )   2019年11月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssa.201900495

    Web of Science

  23. Hydrogen concentration at a-Si:H/c-Si heterointerfaces-The impact of deposition temperature on passivation performance 査読有り

    Gotoh Kazuhiro, Wilde Markus, Kato Shinya, Ogura Shohei, Kurokawa Yasuyoshi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    AIP ADVANCES   9 巻 ( 7 )   2019年7月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5100086

    Web of Science

  24. Marked enhancement of the photoresponsivity and minority-carrier lifetime of BaSi2 passivated with atomic hydrogen 査読有り

    Xu Zhihao, Shohonov Denis A., Filonov Andrew B., Gotoh Kazuhiro, Deng Tianguo, Honda Syuta, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Migas Dmitri B., Borisenko Victor E., Suemasu Takashi

    PHYSICAL REVIEW MATERIALS   3 巻 ( 6 )   2019年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1103/PhysRevMaterials.3.065403

    Web of Science

  25. Evidence of solute PEDOT:PSS as an efficient passivation material for fabrication of hybrid c-Si solar cells 査読有り

    Van Hoang Nguyen, Kato Shinya, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    SUSTAINABLE ENERGY & FUELS   3 巻 ( 6 ) 頁: 1448 - 1454   2019年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/c9se00093c

    Web of Science

  26. Epitaxial growth of SiGe on Si substrate by printing and firing of Al-Ge mixed paste 査読有り

    Fukami Shogo, Nakagawa Yoshihiko, Hainey Mel E. Jr., Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Nakahara Masahiro, Dhamrin Marwan, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   58 巻 ( 4 )   2019年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab00e5

    Web of Science

  27. Impact of size distributions of Ge islands as etching masks for anisotropic etching on formation of anti-reflection structures 査読有り

    Ota Yushi, Yurasov Dmitry, Novikov Alexey, Shaleev Mikhail, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   58 巻 ( 4 )   2019年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab003b

    Web of Science

  28. Silicon Nanowire Heterojunction Solar Cells with an Al2O3 Passivation Film Fabricated by Atomic Layer Deposition 査読有り

    Kato Shinya, Kurokawa Yasuyoshi, Gotoh Kazuhiro, Soga Tetsuo

    NANOSCALE RESEARCH LETTERS   14 巻   2019年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1186/s11671-019-2930-1

    Web of Science

  29. Fabrication of a Silicon Nanowire Solar Cell on a Silicon-on-Insulator Substrate 査読有り

    Kato Shinya, Kurokawa Yasuyoshi, Gotoh Kazuhiro, Soga Tetsuo

    APPLIED SCIENCES-BASEL   9 巻 ( 5 )   2019年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/app9050818

    Web of Science

  30. Local Structure of High Performance TiOx Electron-Selective Contact Revealed by Electron Energy Loss Spectroscopy 査読有り

    Mochizuki Takeya, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Yamamoto Takahisa, Usami Noritaka

    ADVANCED MATERIALS INTERFACES   6 巻 ( 3 )   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/admi.201801645

    Web of Science

  31. Significant improvement on electrical properties of BaSi2 due to atomic H passivation by radio-frequency plasma 査読有り

    Xu Zhihao, Gotoh Kazuhiro, Deng Tianguo, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    Proceedings for IEEE-PVSC2019     頁: 12-14   2019年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    Web of Science

  32. Electrical properties of TiOx bilayer prepared by atomic layer deposition at different temperatures 査読有り

    Takeya Mochizuki; Kazuhiro Gotoh; Yasuyoshi Kurokawa; Noritaka Usami

    Proceedings for IEEE-PVSC2019     2019年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  33. Activation mechanism of TiOx passivating layer on crystalline Si 査読有り

    Mochizuki Takeya, Gotoh Kazuhiro, Ohta Akio, Ogura Shohei, Kurokawa Yasuyoshi, Miyazaki Seiichi, Fukutani Katsuyuki, Usami Noritaka

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   11 巻 ( 10 )   2018年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.11.102301

    Web of Science

  34. Impact of boron incorporation on properties of silicon solar cells employing p-type polycrystalline silicon grown by aluminum-induced crystallization 査読有り

    Masuda Shota, Gotoh Kazuhiro, Takahashi Isao, Nakamura Kyotaro, Ohshita Yoshio, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 8 )   2018年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.08RB12

    Web of Science

  35. Fabrication of light-trapping structure by selective etching of thin Si substrates masked with a Ge dot layer and nanomasks 査読有り

    Hombe Atsushi, Kurokawa Yasuyoshi, Gotoh Kazuhiro, Akagi Seimei, Yamamoto Yuzo, Yurasov Dmitry, Novikov Alexey, Usami Noritaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 8 )   2018年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.08RF09

    Web of Science

  36. Effect of substrate type on the electrical and structural properties of TiO2 thin films deposited by reactive DC sputtering 査読有り

    Cheng Xuemei, Gotoh Kazuhiro, Nakagawa Yoshihiko, Usami Noritaka

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   491 巻   頁: 120-125   2018年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2018.04.001

    Web of Science

  37. Improving the photoresponse spectra of BaSi2 layers by capping with hydrogenated amorphous Si layers prepared by radio-frequency hydrogen plasma 査読有り

    Xu Zhihao, Gotoh Kazuhiro, Deng Tianguo, Sato Takuma, Takabe Ryota, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    AIP ADVANCES   8 巻 ( 5 )   2018年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5025021

    Web of Science

  38. Local analysis of TiOx/SiOx stack with excellent electrical properties for carrier selective contact

    Takeya Mochizuki, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Takahisa Yamamoto, Noritaka Usami

    Proceedings for The Forum on the Science and Technology of Silicon Materials 2018     頁: 1-4   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  39. Controllable optical and electrical properties of Nb doped TiO2 films by RF sputtering 査読有り

    Xuemei Cheng, K. Gotoh, T. Mochizuki and N. Usami

    Proceedings for WCPEC-7     頁: 1-3   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  40. Local Structure of High Performance TiOx Passivating Layer Revealed by Electron Energy Loss Spectroscopy 査読有り

    Takeya Mochizuki, Kazuhiro Gotoh, Akio Ohta, Yasuyoshi Kurokawa, Seiichi Miyazaki, Takahisa Yamamoto, Noritaka Usami

    Proceedings for WCPEC-7     頁: 1-4   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  41. Development of the Passivation Layer For P-type CuI Thin Film Fabricated by the 2-step Method as the Novel Hole Selective Contact of Silicon Heterojunction Solar Cells 査読有り

    Cui Min, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Usami Noritaka

    Proceedings for WCPEC-7     頁: 2118-2120   2018年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    Web of Science

  42. Deposition and Characterization of Si Quantum Dot Multilayers Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition using SiH4 and CO2 Gases 査読有り

    Akaishi Ryushiro, Kitazawa Kouhei, Ono Satoshi, Gotoh Kazuhiro, Ichihara Eiji, Kato Shinya, Usami Noritaka, Kurokawa Yasuyoshi

    Proceedings for WCPEC-7     頁: 2852-2856   2018年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    Web of Science

  43. Controllable Optical and Electrical Properties of Nb Doped TiO2 Films by RF Sputtering 査読有り

    Cheng Xuemei, Gotoh Kazuhiro, Mochizuki Takeya, Usami Noritaka

    Proceedings for WCPEC-7     頁: 1986-1990   2018年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    Web of Science

  44. Application of light trapping structure using Ge dot mask by alkaline etching to heterojunction solar cell 査読有り

    Hombe Atsushi, Kurokawa Yasuyoshi, Gotoh Kazuhiro, Usami Noritaka

    Proceedings for WCPEC-7     頁: 3097-3101   2018年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    Web of Science

  45. Improving Intrinsic Silicon Nanoparticle Film by Press Treatment for use in p-i n Solar Cells 査読有り

    Ichihara Eiji, Kato Shinya, Akaishi Ryushiro, Gotoh Kazuhiro, Kurokawa Yasuyoshi, Kishi Naoki, Soga Tetsuo

    Proceedings for WCPEC-7     頁: 0317-0320   2018年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    Web of Science

  46. Photoresponsivity improvement of BaSi2 epitaxial films by capping with hydrogenated amorphous Si layers by radio-frequency H-2 plasma 査読有り

    Xu Zhihao, Gotoh Kazuhiro, Deng Tianguo, Sato Takuma, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    Proceedings for WCPEC-7     頁: 1871-1873   2018年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    Web of Science

  47. Stacks of a-SiOx:H/a-Si:H Passivation Layer for Low Parasitic Absorption and High Passivation in Silicon Heterojunction Solar Cells 査読有り

    K. Gotoh, M. Cui, R. Akaishi, Y. Kurokawa, N. Usami

    Proceedings for EUPVSEC2018     2018年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  48. Boron-doped p-BaSi2/n-Si solar cells formed on textured n-Si(001) with a pyramid structure consisting of {111} facets 査読有り

    Deng Tianguo, Gotoh Kazuhiro, Takabe Ryota, Xu Zhihao, Yachi Suguru, Yamashita Yudai, Toko Kaoru, Usami Noritaka, Suemasu Takashi

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH   475 巻   頁: 186-191   2017年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2017.06.017

    Web of Science

  49. Development of spin-coated copper iodide film on silicon for use in hole-selective contacts 査読有り

    K. Gotoh, M. Cui, I. Takahashi, Y. Kurokawa, N. Usami

    Energy Procedia   124 巻   頁: 598-603   2017年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  50. Fabrication of CuI/a-Si:H/c-Si Structure for Application to Hole-selective Contacts of Heterojunction Si Solar Cells 査読有り

    K. Gotoh, M. Cui, N. C. Thanh, K. Koyama, I. Takahashi, Y. Kurokawa, H. Matsumura, N. Usami

    44th IEEE PVSC Conference Proceeding     頁: 0000   2017年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  51. Boron-doped p-baSi2/n-Si solar cells formed on textured n-Si(001) with a pyramid structure consisting of {111} facets 査読有り

    T. Deng, K. Gotoh, R. Takabe, Z. Xu, S. Yachi, Y. Yamashita, K. Toko, N. Usami, T. Suemasu

    Journal of Crystal Growth   475 巻   頁: 186-191   2017年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  52. Solar Cells Application of p-type poly-Si Thin Film by Aluminum Induced Crystallization 査読有り

    S. Masuda, K. Gotoh, I. Takahashi, K. Nakamura, Y. Oshita, Y. Kurokawa, N. Usami

    44th IEEE PVSC Conference Proceeding     頁: 0000   2017年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  53. Fabrication of strain-compensated heterojunction Ge/Si1-xCx quantum dots solar cells 査読有り

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Yayagaki, T. Sugaya, K. Matsubara, M. Kondo

    32nd EUPVSEC Proceeding     頁: 28-31   2016年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  54. Strain-compensated Ge/Si1-xCx quantum dots with Si mediating layers grown by molecular beam epitaxy 査読有り

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, I. Sakata, K. Matsubara, M. Kondo

    Journal of Crystal Growth   425 巻   頁: 167-171   2015年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  55. Effect of deposition rate on the characteristics of Ge quantum dots on Si(001) substrates 査読有り

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, I. Sakata, K. Matsubara, M. Kondo

    Thin Solid Films   557 巻   頁: 80-83   2014年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  56. Optical and structural studies of highly uniform Ge quantum dots on Si(001) substrate grown by solid-source molecular beam epitaxy 査読有り

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, I. Sakata, K. Matsubara, M. Kondo

    Journal of Crystal Growth   378 巻   頁: 439-441   2013年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  57. Fabrication of type-II self-assembled Ge/Si quantum dots for high efficiency solar cells 査読有り

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, I. Sakata, K. Matsubara, M. Kondo

    28th EUPVSEC Proceeding     頁: 147-150   2013年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

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MISC 1

  1. 水素局在化によるヘテロ界面機能の強化 招待有り 査読有り

    後藤和泰、宇佐美徳隆  

    セラミックス協会56 巻 ( 2 ) 頁: 80 - 83   2021年2月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

講演・口頭発表等 132

  1. 水素パッシベーションによるAs-doped n-BaSi2膜の分光感度向上及び第一原理計算を用いた考察

    青貫翔, 山下雄大, Z. Xu, 後藤和泰, 都甲薫, 宇佐美徳隆, D. Migas, 末益宗

    第18回次世代の太陽光発電システムシンポジウム  2021年10月15日  日本太陽光発電学会

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    開催年月日: 2021年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  2. TiOx/結晶Siヘテロ構造における電極製膜後のパッシベーション性能の定量的評価の検討

    深谷昌平, 後藤和泰, 松井卓矢, 齋均, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第18回次世代の太陽光発電システムシンポジウム  2021年10月15日  日本太陽光発電学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  3. 真空蒸着法により作製したMg₂Si薄膜の高品質化に向けたface-to-faceアニール効果

    佐藤 海誓,宮本 聡,後藤 和泰, 黒川 康良, 伊藤 孝至, 宇佐美 徳隆

    第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年9月11日  応用物理学会

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    開催年月日: 2021年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  4. a-Si:H層のPECVD成膜による結晶シリコンへのダメージの評価

    小島遥希、西原達平、後藤和泰、宇佐美徳隆、原友彦、大下祥雄、小椋厚志

    第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年9月10日  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  5. シリコンナノ結晶/酸化シリコン複合膜におけるキャリア選択能の水素プラズマ処理温度依存性

    松見優志,後藤和泰,ビルデ マーカス,黒川康良,福谷克之,宇佐美徳隆

    第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年9月10日  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  6. ベイズ最適化を援用したシリコン量子ドット積層構造の欠陥低減

    熊谷風雅,宮川晋輔, 後藤和泰, 沓掛健太朗, 加藤慎也, 宇佐美徳隆, 黒川康良

    第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年9月10日  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  7. 真空蒸着法によるステンレス基板上へのBaSi2薄膜の作製

    陳 嘉坤,宮本 聡,後藤 和泰, 黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    第19回シリサイド系半導体・夏の学校  2021年8月21日  応用物理学会シリサイド系半導体と関連物質研究会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年8月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:オンライン  

  8. Face-to-faceアニールを用いて作製したMg₂Si薄膜のラマン散乱解析

    佐藤 海誓,宮本 聡,後藤 和泰, 黒川 康良, 伊藤 孝至, 宇佐美 徳隆

    第19回シリサイド系半導体・夏の学校  2021年8月21日  応用物理学会シリサイド系半導体と関連物質研究会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年8月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:オンライン  

  9. DEVELOPMENT OF SILICON-NANOCRYSTALS-EMBEDDED SILICON OXIDE PASSIVATING CONTACTS FOR USE IN CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELLS 招待有り 国際会議

    K. Gotoh, R. Tsubata, M. Matsumi, M. Wilde, T. Inoue, Y. Kurokawa, K. Fukutani and N. Usami

    Global Photovoltaic Conference 2021 (GPVC 2021)  2021年7月9日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Hybrid (Gwangju/virtural)  

  10. Realization of the Cystalline Silicon Solar Cell Using Nanocrystalline Transport Path in Ultra-thin Dielectrics for Reinforced Passivating Contact 国際会議

    R. Tsubata, K. Gotoh, T. Inoue, Y. Kurokawa, and N. Usami

    48th IEEE Photovoltaic Specialists Conference  2021年6月21日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online  

  11. 極薄シリコン酸化膜をパッシベーティングコンタクトとして用いた太陽電池の 研究開発動向 招待有り

    後藤 和泰

    日本太陽光発電学会 次世代太陽電池セル・モジュール分科会 第1回研究会  2021年6月8日  日本太陽光発電学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年6月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:オンライン  

  12. Application of Bayesian Optimization for Improved Passivation Performance in TiOx/SiOy/c-Si Heterostructure by Hydrogen Plasma Treatment 国際会議

    Shinsuke Miyagawa, Kazuhiro Gotoh, Kentaro Kutsukake, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    11th International Conference on Crystalline Silicon Photovoltaics  2021年4月21日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Online  

  13. Improved Performance of Titanium Oxide Electron-Selective Contact by Implementation of Magnesium Interlayer 国際会議

    Yuta Nakagawa, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    11th International Conference on Crystalline Silicon Photovoltaics  2021年4月21日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Online  

  14. ベイズ最適化を援用した高性能パッシベーティングコンタクトの実現 ~TiOx/結晶Siヘテロ構造への適用~

    宮川晋輔, 後藤和泰, 沓掛健太朗, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第68回応用物理学会春季学術講演会  2021年3月18日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  15. シリコンナノ結晶/酸化シリコンを複合化した導電性パッシベーション膜の太陽電池応用

    津幡亮平, 後藤和泰, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第68回応用物理学会春季学術講演会  2021年3月18日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  16. シリコンナノ結晶/酸化シリコン複合膜に対する水素化処理の検討

    松見優志, 後藤和泰, ビルデマーカス, 黒川康良, 福谷克之, 宇佐美徳隆

    第68回応用物理学会春季学術講演会  2021年3月18日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  17. 成長速度の二段階制御による真空蒸着BaSi2薄膜の高品質化

    吉野孝政, 後藤和泰, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第3回結晶工学×ISYSE合同研究会  2020年12月23日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年12月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  18. ベイズ最適化を用いたTiOx/SiOy結晶Siへテロ構造における水素プラズマ処理条件の最適化

    宮川晋輔, 後藤和泰, 沓掛健太朗, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第3回結晶工学×ISYSE合同研究会  2020年12月23日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年12月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  19. Effect of forming gas annealing on hydrogen content and surface morphology of titanium oxide-coated crystalline silicon heterocontacts 国際会議

    Yuta Nakagawa, Kazuhiro Gotoh, Markus Wilde, Shohei Ogura, Yasuyoshi Kurokawa, Katsuyuki Fukutani, Noritaka Usami

    The 30th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-30)  2020年11月11日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  20. DEPENDENCE OF ELECTRICAL PROPERTIES OF STACKED SN-DOPED IN2O3 FILMS ON OXYGEN PARTIAL PRESSURE 国際会議

    Tetsuya Inoue, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, and Noritaka Usami

    The 30th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-30)  2020年11月11日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:大韓民国  

  21. CARBON DIOXIDE/ SILANE GAS FLOW RATE DEPENDENCY ON ELECTRICAL PROPERTIES IN SILICON-NANOCRYSTALS-EMBEDDED SILICON OXIDE PASSIVATING CONTACTS 国際会議

    Ryohei Tsubata, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    The 30th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-30)  2020年11月11日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:大韓民国  

  22. Impact of hydrogen plasma treatment on the passivation performance of TiOx prepared on crystalline silicon by atomic layer deposition 国際会議

    Shinsuke Miyagawa, Kazuhiro Gotoh, Shohei Ogura, Markus Wilde, Yasuyoshi Kurokawa, Katsuyuki Fukutani, Noritaka Usami

    The 30th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-30)  2020年11月11日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  23. Improvement of BaSi2 thin film quality by two-step growth rate control of vacuum evaporation 国際会議

    Takamasa Yoshino, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    The 30th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-30)  2020年11月10日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:大韓民国  

  24. 光電子ピンセットにより制御されたコロイド結晶化のその場観察

    中川原英亜, 新家寛正, 石川晃平, 後藤和泰, 野澤純, 岡田純平, 宇田聡

    第50回結晶成長国内会議  2020年11月9日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

  25. 成長速度の二段階制御による真空蒸着BaSi2薄膜の高品質化

    吉野孝政, 後藤和泰, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第17回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム  2020年10月16日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  26. 積層Sn添加In2O3薄膜における電気的特性の酸素分圧依存性

    井上徹哉, 後藤和泰, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第17回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム  2020年10月16日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  27. シリコンナノ結晶/酸化シリコン復合膜における炭酸ガス/シランガス流量比依存性

    津幡亮平, 後藤和泰, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第17回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム  2020年10月16日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  28. ベイズ最適化を用いたTiOx/SiOy結晶Siへテロ構造における水素プラズマ処理条件の最適化

    宮川晋輔, 後藤和泰, 沓掛健太朗, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第17回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム  2020年10月16日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  29. Mg層を挿入したTiOx/SiOy/Si構造の接合特性のTiOx膜厚依存性

    中川裕太, 後藤和泰, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第17回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム  2020年10月16日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年11月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  30. 原子層堆積法で作製した酸化チタンの結晶シリコンに対するパッシベーション効果の発現機構

    後藤 和泰

    日本表面真空学会分科会: SP部会第164回定例研究会  2020年9月7日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    国名:日本国  

  31. Passivation Mechanism of the High-performance Titanium Oxide Passivating Contacts on Crystalline Silicon Studied by Spectroscopic Ellipsometry 国際会議

    K. Gotoh, H. Miura, A. Shimizu, T. Kurokawa, and N. Usami

    2020 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2020)  2020年9月30日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  32. Fabrication of TiOx thin film on Si using solution-based process and its passivation performance 国際会議

    H. Luo, V. H. Nguyen, K. Gotoh, Y. Kurokawa, and N. Usami

    2020 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2020)  2020年9月30日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  33. Size effect of silicon nanocrystals on Seebeck coefficient of phosphorus-doped Si nanocrystals/silicon oxide multilayers 国際会議

    H. Kobayashi, S. Kato, M. Kurosawa, K. Gotoh, N. Usami, and Y. Kurokawa

    2020 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2020)  2020年9月28日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  34. Mg層挿入によるTiOx/Siヘテロ接合の接合特性の向上

    中川 裕太, 後藤 和泰, 黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    第81回応用物理学会秋季学術講演会  2020年9月9日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  35. シリコンナノ結晶/酸化シリコンを複合化した導電性パッシベーション膜の検討

    津幡 亮平, 後藤 和泰, ⿊川 康良, 宇佐美 徳隆

    第81回応用物理学会秋季学術講演会  2020年9月9日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  36. ベイズ最適化を用いた酸化チタンパッシベーション膜における水素プラズマ処理条件の最適化

    宮川 晋輔, 後藤 和泰, 沓掛 健太朗,  黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    第81回応用物理学会秋季学術講演会  2020年9月9日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  37. Formation of p-Type BaSi2 Thin Film and its Application to Silicon-Based Heterojunction Solar Cells 国際会議

    Yuki Kimura, Michinobu Fujiwara, Kazuma Takahashi, Yoshihiko Nakagawa, Takamasa Yoshino, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, and Noritaka Usami

    37th European PV Solar Eneregy Conference and Exhibition  2020年9月8日 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  38. Effect of Hydrogen Plasma Treatment on Silicon Quantum Dot Multilalyers Using Amorphous SiOx 国際会議

    R. Akaishi, K. Gotoh, N. Usami & Y. Kurokawa

    37th European PV Solar Eneregy Conference and Exhibition  2020年9月8日 

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    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

  39. Work function of indium oxide thin films on p-type hydrogenated amorphous silicon 国際会議

    Masanori Semma, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    47th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC 47)  2020年6月15日 

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    開催年月日: 2020年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:アメリカ合衆国  

  40. Fabrication of silicon-nanocrystals-embedded silicon oxide passivating contacts 国際会議

    Ryohei Tsubata, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    47th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC 47)  2020年6月15日 

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    開催年月日: 2020年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:アメリカ合衆国  

  41. MoOx CSC/Si太陽電池のPDAによる特性変動 (3)-表⾯反転層をチャネルとするFET-TEGのS/Dコンダクタンスによる評価

    林 豊, 神岡 武⽂,後藤 和泰, 尾崎 亮, 中村 京太郎, 森村 元勇, 宇佐美 徳隆, ⼤下 祥雄, ⼩椋 厚志

    第67回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2020年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  42. ポストアニール処理を用いたアンドープp-BaSi2/n-Siヘテロ接合太陽電池の作製

    木村 裕希, 吉野 孝政, 後藤 和泰, 黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    第67回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2020年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  43. 核反応解析法と原⼦間⼒顕微鏡を⽤いたTiOx/SiOx/Siヘテロ 構造におけるパッシベーション性能の⽀配要因

    中川 裕太, 後藤 和泰, ビルデ マーカス, ⼩倉 正平, ⿊ 川 康良, 福⾕ 克之, 宇佐美 徳隆

    第67回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2020年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  44. 酸化チタン/結晶シリコンヘテロ構造における水素プラズマ処理の効果

    宮川 晋輔, 後藤 和泰, Markus Wilde,小倉 正平, 黒川 康良, 福谷 克之, 宇佐美 徳隆

    第67回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2020年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  45. Marked photoresponsivity enhancement and minority carrier lifetime increase of boron-doped BaSi2 by atomic H passivation 国際会議

    Zhihao Xu, Kazuhiro Gotoh, Kaoru Toko, Noritaka Usami, Takashi Suemasu

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    開催年月日: 2020年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  46. 不活性ガス雰囲気下での熱処理を⽤いたクラックフリーMg2Si厚膜 の合成

    堀場 ⼀成, 後藤 和泰, ⿊川 康良, 伊藤 孝⾄, 宇佐美 徳隆

    第67回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2020年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  47. Activation energy of hydrogen effusion of high performance TiOx/SiOx/c-Si heterocontacts 国際会議

    Kazuhiro Gotoh, Takeya Mochizuki, Tomohiko Hojo, Yasuyoshi Kurokawa, Eiji Akiyama, Noritaka Usami

    Material Reserch Meeting 2019 

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    開催年月日: 2019年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  48. 酸化チタン/結晶シリコンヘテロ構造における水素プラズマ処理の影響

    宮川 晋輔, 後藤 和泰, Markus Wilde,小倉 正平, 黒川 康良, 福谷 克之, 宇佐美 徳隆

    第2回ハイドロジェノミクス研究会 

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    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  49. 分光エリプソメトリーを用いた酸化チタン パッシベーション膜のポストアニール効果に関する研究

    後藤和泰, 三浦裕之, 清水彩子, 宮川晋輔, 中川裕太, 黒川康良, 宇佐美徳隆

    第4回フロンティア太陽電池セミナー 

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    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  50. ポストアニール条件がアンドープBaSi2薄膜のキャリア密度に与える影響

    木村 裕希, 藤原 道信, 中川 慶彦, 後藤 和泰, 黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    第2回結晶工学×ISYSE合同研究会 

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    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  51. 不活性ガス雰囲気下での熱処理を用いたMg2Si薄膜の作製とその膜質評価

    堀場一成, 藤原道信, 中川慶彦, 後藤和泰, 黒川康義, 伊藤孝至, 宇佐美徳隆

    第2回結晶工学×ISYSE合同研究会 

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    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  52. New Analysis Method to Evaluate Amorphous/Crystalline Si Interface for High Efficiency Heterojunction Solar Cells 国際会議

    Takefumi Kamioka, Yutaka Hayashi, Kazuhiro Gotoh, Ryo Ozaki, Motoo Morimura, Ayako Shimizu, Kyotaro Nakamura, Noritaka Usami, Yoshio Ohshita, Atsushi Ogura

    PVSEC-29 

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    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:中華人民共和国  

  53. Characteriztion of Silicon Quntum Dot Solar Cell with the Phosphorus Blocking Layer 国際会議

    Ryushiro Akaishi Kazuhiro Gotoh Shinya Kato Noritaka Usami Yasuyoshi Kurokawa

    PVSEC-29 

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    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:中華人民共和国  

  54. Impact of indium tin oxide double layers deposition on the passivation performance of a-Si:H/c-Si heterocontact 国際会議

    Masanori Semma, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    PVSEC-29 

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    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:中華人民共和国  

  55. Evidence of Solute PEDOT:PSS as an Efficient Passivation Material 国際会議

    Van Hoang Nguyen, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami, Shinya Kato

    EU PVSEC 2019, the 36th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition 

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    開催年月日: 2019年9月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:フランス共和国  

  56. Solute PEDOT:PSS as an Excellent Passivation Material of Si Substrate 国際会議

    Van Hoang Nguyen, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami, Shinya Kato

    2019 International Conference on Solid State Devices and Materials 

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    開催年月日: 2019年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  57. New Analysis Method to Evaluate Amorphous/Crystalline Si Interface for High Efficiency Heterojunction Solar Cells 国際会議

    Yutaka Hayashi, Takefumi Kamioka, Kazuhiro Gotoh, Ryo Ozaki, Kyotaro Nakamura, Motoo Morimura, Shimako Naito, Noritaka Usami, Atsushi Ogura, Yoshio Ohshita

    2019 International Conference on Solid State Devices and Materials 

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    開催年月日: 2019年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  58. TiOx/SiOx/結晶Siヘテロ界面における水素の脱離エネルギー

    後藤 和泰、望月 健矢、北條 智彦、黒川 康良、秋山 英二、宇佐美 徳隆

    新学術「ハイドロジェノミクス」 第4回若手育成スクール 

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    開催年月日: 2019年8月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  59. 酸化チタン/結晶シリコンヘテロ構造における水素プラズマ処理の検討

    宮川 晋輔、後藤 和泰、黒川 康良、 宇佐美 徳隆

    新学術「ハイドロジェノミクス」 第4回若手育成スクール 

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    開催年月日: 2019年8月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  60. 原子層堆積法による結晶Si/SiOx/TiOx構造の作製と熱処理の効果

    中川 裕太、後藤 和泰、宮本 聡、黒川 康良、宇佐美 徳隆

    新学術「ハイドロジェノミクス」 第4回若手育成スクール 

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    開催年月日: 2019年8月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  61. 水素プラズマ処理によるシリコン量子ドット積層構造の欠陥密度低減と構造特性評価

    赤石 龍士郎、後藤 和泰、黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    新学術「ハイドロジェノミクス」 第4回若手育成スクール 

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    開催年月日: 2019年8月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  62. キャリア輸送経路にナノドットを用いたパッシベーション膜の作製と評価

    津幡 亮平 後藤 和泰 黒川 康良 宇佐美 徳隆

    応用物理学会 若手チャプター 「太陽光エネルギー変換材料・デバイス研究会」 第1回サマーセミナー  

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    開催年月日: 2019年8月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  63. TiOx/結晶Siの電気的特性における光照射効果

    宮川 晋輔 後藤 和泰 黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    応用物理学会 若手チャプター 「太陽光エネルギー変換材料・デバイス研究会」 第1回サマーセミナー  

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    開催年月日: 2019年8月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  64. Synthesis of Mg2Si thin film by thermal treatment under inert gas atmosphere and evaluation of film quality 国際会議

    Issei Horiba, Michinobu Fujiwara, Yoshihiko Nakagawa, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Takashi Itoh, Noritaka Usami

    APAC-Silicide 2019 

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    開催年月日: 2019年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  65. Influence of Post Annealing Conditions on Carrier Density of Undoped Evaporated BaSi 2 Films 国際会議

    Yuki Kimura, Michinobu Fujiwara, Yoshihiko Nakagawa, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    APAC-Silicide 2019 

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    開催年月日: 2019年7月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  66. ITO積層化のa-Si:H/c-Si界面パッシベーション性能に及ぼす影響

    扇間 政典, 後藤 和泰, 黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    学振175委員会 第16回 「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム 

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    開催年月日: 2019年7月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  67. a-Si:H/c-Siヘテロ構造のパッシベーション性能と水素分布における製膜温度の影響

    後藤 和泰,ビルデ マーカス, 加藤 慎也, 小倉 正平, 黒川 康良, 福谷 克之, 宇佐美 徳隆

    学振175委員会 第16回 「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年7月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  68. Significant improvement of optical properties of BaSi2 due to atomic H passivation by radio-frequency plasma 国際会議

    Zhihao Xu, Kazuhiro Gotoh, Tianguo Deng, Kaoru Toko, Noritaka Usami, Takashi Suemasu

    The 64th IEEE Photovoltaics Specialist Conference 

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    開催年月日: 2019年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:アメリカ合衆国  

  69. Electrical properties of TiOx bilayer prepared by atomic layer deposition at different temperatures 国際会議

    Takeya Mochizuki, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    The 64th IEEE Photovoltaics Specialist Conference 

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    開催年月日: 2019年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:アメリカ合衆国  

  70. Impact of pre-oxidation on hydrogen depth profiles around a-Si:H/c-Si heterointerface 国際会議

    Kazuhiro Gotoh, Shohei Ogura, Yasuyoshi Kurokawa, Markus Wilde, Katsuyuki Fukutani, Noritaka Usami

    SiliconPV 2019 

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    開催年月日: 2019年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ベルギー王国  

  71. Surface passivation of low temperature processed titanium oxide /alluminium oxide for silicon substrate 国際会議

    X. Cheng, K. Gotoh, T., N. Usami

    Global Photovoltaic Conference 2019 

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:大韓民国  

  72. Impact of textured structure on performance of PEDOT:PSS hybrid Si solar cells 国際会議

    V.H. Nguyen , Y. Ota, A. Novikov, M. Shaleev, K. Gotoh, Y. Kurokawa, N. Usami

    XXIII International symposium "Nanophysics & Nanoelectronics" 

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ロシア連邦  

  73. Using Ge (Si) islands to increase the efficiency of thin crystalline solar cells 国際会議

    Mv Shaleev, A.V. Novikov, D.V. Yurasov, N.A. Baidakova, E.E. Morozova, Y. Ota, V.H. Nguyen, K. Gotokh, Y. Kurokawa, N. Usami

    XXIII International symposium "Nanophysics & Nanoelectronics" 

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ロシア連邦  

  74. ALD 法で作製したTiOx 電子選択層の積層化による電気的特性の制御

    望月 健矢, 後藤 和泰, 黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  75. SiOxを障壁層としたSi量⼦ドット太陽電池の作製

    赤石 龍士郎, 北沢 宏平, 加藤 慎也, 後藤 和泰, 宇佐美 徳 隆, 黒川 康良

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  76. 薄型基板上へのGeドットマスクを用いた光閉じ込め構造の作製と太陽電池への応用

    太田 湧士,後藤 和泰,黒川 康良,宇佐美 徳隆 Dmitrij Yurasov, Alexey Novikov, Mikhail Shaleev

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  77. ポストアニール条件がBaSi2薄膜のキャリア密度に与える影響

    木村 裕希, 藤原 道信, 中川 慶彦, 後藤 和泰, 黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  78. 印刷と焼成によるSi基板上へのSiGe層のエピタキシャル成長におけるSi基板方位の影響 国際会議

    中原 正博、深見 昌吾、Mel F. Hainey, Jr.、中川 慶彦、有元 圭介、後藤 和泰、 黒川 康良、前田 健作、藤原 航三、ダムリン マルワン、宇佐美 徳隆

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  79. ALD法で作製した法で作製したTiOx/SiOx/結晶Siヘテロ界面のパッシベーョン効果発現メカニズム〜水素原子脱離の影響〜

    望月 健矢, 後藤 和泰, 北條 智彦, 黒川 康良, 秋山 英二, 宇佐美 徳隆

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  80. Silicon Quantum Dot Superlattice Structure for Next Generation Solar Cell Application 国際会議

    Ryushiro Akaishi, Kohei Kitazawa, Kazuhiro Gotoh, Shinya Kato, Noritaka Usami, Yasuyoshi Kurokawa

    Japan-Korea PV Joint Student Seminar 

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    開催年月日: 2019年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  81. Influence of Light Soaking on c-Si Surface Passivation by Atomic Layer Deposited Titanium Oxide 国際会議

    Shinsuke Miyagawa, Takeya Mochizuki, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, and Noritaka Usami

    Japan-Korea PV Joint Student Seminar 

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    開催年月日: 2019年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  82. Explorative Studies of Novel Structures as Carrier Selective Contacts 国際会議

    Ryohei Tsubata, Yuta Nakagawa, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    Japan-Korea PV Joint Student Seminar 

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    開催年月日: 2019年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  83. Passivation Performance of Crystalline Silicon Solar Cells Employing Stacks of Ultrathin Oxide and Polycrystalline Si Formed by Aluminum Induced Crystallization 国際会議

    Yuqing Li, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    Japan-Korea PV Joint Student Seminar 

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    開催年月日: 2019年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  84. BaSi2: Novel Si-Based Material for High Efficiency Thin Film Solar Cells 国際会議

    Yuki Kimura, Takamasa Yoshino, Michinobu Fujiwara, Yoshihiko Nakagawa, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    Japan-Korea PV Joint Student Seminar 

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    開催年月日: 2019年2月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  85. Formation of Light-trapping Structure using Ge Islands Grown by Gas-source Molecular Beam Epitaxy as Etching Masks on a Si Thin Substrate 国際会議

    Yushi Ota, Dmitry Yurasov, Alexey Novikov, Mikhail Shaleev, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    Japan-Korea PV Joint Student Seminar 

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    開催年月日: 2019年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  86. Thin PEDOT:PSS: An Excellent Passivation Material 国際会議

    Van Hoang Nguyen, Shinya Kato, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, and Noritaka Usami

    Japan-Korea PV Joint Student Seminar 

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    開催年月日: 2019年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  87. ヘテロ接合の高性能化メカニズムと太陽電池応用 招待有り

    後藤 和泰

    学振175委員会 次世代シリコン太陽電池分科会第10回研究会 

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    開催年月日: 2019年2月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  88. シリコン酸化膜を用いたシリコン量子ドット積層構造における構造・電気的特性評価

    赤石 龍士郎, 北沢 宏平, 後藤 和泰, 加藤 慎也, 宇佐美 徳隆, 黒川 康良

    第3回フロンティア太陽電池セミナー 

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    開催年月日: 2018年12月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  89. 超薄膜TiOx/結晶Si界面における酸素・水素原子の挙動

    望月健矢,後藤和泰,黒川康良,山本剛久,宇佐美徳隆

    第12回 物性科学領域横断研究会 

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    開催年月日: 2018年11月 - 2018年12月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  90. Effect of slow-speed evaporation of BaSi2 on the performance of p-type BaSi2/n-type crystalline Si solar cells 国際会議

    Michinobu Fujiwara, Kazuma Takahashi, Yoshihiko Nakagawa, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    Material Research Society 2018 Fall Meeting 

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    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

  91. Epitaxial growth of SiGe on Si substrate by printing and firing of Al-Ge mixed paste 国際会議

    Shogo Fukami, Yoshihiko Nakagawa, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Masahiro Nakahara, Marwan Dhamrin, Noritaka Usami

    Material Research Society 2018 Fall Meeting 

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    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

  92. ポストアニール温度によるBaSi2薄膜のキャリア密度への影響

    木村 裕希, 藤原 道信, 中川 慶彦, 後藤 和泰, 黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    第6回応用物理学会 名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会 

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    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  93. Degradation of passivation performance of crystalline silicon solar cells employing stacksof ultrathin oxide and polycrystalline Si formed by aluminum induced crystallization

    Yuqing Li, Kazuhiro Gotoh, Takeya Mochizuki, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

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    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  94. Local analysis of TiOx/SiOx stack with excellent electrical properties for carrier selective contact 国際会議

    Takeya Mochizuki, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Takahisa Yamamoto, Noritaka Usami

    The Forum on the Science and Technology of Silicon Materials 2018 

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    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  95. Influence of illumination during ITO sputtering on passivation performance at a-Si:H/c-Si interface 国際会議

    Masanori Semma, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Noritaka Usami

    The 7th Korea-Japan Joint Seminar on PV 

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    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:大韓民国  

  96. Transparent conductive Nb doped titanium oxide thin film deposited under low temperature by RF magnetron sputtering 国際会議

    Xuemei Cheng, Kazuhiro Gotoh, Hyunju Lee and Noritaka Usami

    14th China SoG Silicon and PV Power Conference 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:中華人民共和国  

  97. Enhancing conductivity of PEDOT:PSS thin film for fabrication of c-Si solar cell 国際会議

    Hoang Van Nguyen, Shinya Kato, Kazyhiro Goto, Yasuyoshi Kurokawa

    Emerging Material Technologies Summit 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ベトナム社会主義共和国  

  98. Geドットマスクを用いた光閉じ込め構造の作製とa-Si:Hパッシベーション:Ge成長温度の効果

    太田 湧士,後藤 和泰,黒川 康良,宇佐美 徳隆 Dmitrij Yurasov, Alexey Novikov, Mikhail Shaleev

    第79回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  99. シリコン酸化膜を用いたシリコン量子ドット積層構造における構造・電気的特性評価

    赤石 龍士郎, 北沢 宏平, 後藤 和泰, 加藤 慎也, 宇佐美 徳隆, 黒川 康良

    第79回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  100. ITO製膜時の光照射がa-Si:H/c-Si界面におけるパッシベーション性能に及ぼす影響

    扇間政典,後藤和泰,黒川康良,山本剛久,宇佐美徳隆

    第79回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  101. 電子エネルギー損失分光法を用いた高パッシベーション性能TiOx/SiOxヘテロ界面の局所構造の解明

    望月健矢,後藤和泰,黒川康良,山本剛久,宇佐美徳隆

    第79回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  102. p型BaSi2/n型結晶Siヘテロ接合形成におけるBaSi2低速蒸着の効果 国際会議

    藤原 道信,高橋 一真,中川 慶彦,後藤 和泰,黒川 康良,伊藤 孝至,宇佐美 徳隆

    第79回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  103. 不活性ガス雰囲気下での熱処理を用いたMg2Si薄膜の合成と膜質評価

    堀場 一成, 藤原 道信, 中川 慶彦, 後藤 和泰, 黒川 康良, 伊藤 孝至, 宇佐美 徳隆

    第79回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  104. 印刷と焼成によるSi基板上へのSiGe層のエピタキシャル成長における熱処理条件の効果 国際会議

    深見 昌吾、中川 慶彦、後藤 和泰、黒川 康良、中原 正博、ダムリン マルワン、宇佐美 徳隆

    第79回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  105. Low temperature processed high conductive Nb doped titanium oxide thin film deposited by RF magnetron sputtering

    Xuemei Cheng, Kazuhiro Gotoh and Noritaka Usami

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  106. Conductivity enhancement of PEDOT:PSS thin film for ITO-free hybrid c-Si solar cell

    Hoang Van Nguyen,Shinya Kato,Kazuhiro Goto,Yasuyoshi Kurokawa,Noritaka Usami

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  107. 真空蒸着法による透明導電膜上へのBaSi2 薄膜作製と評価

    中川 慶彦, 望月 健矢,後藤 和泰, 黒川 康良, 宇佐美 徳隆

    第79回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  108. Stacks of a-SiOx:H/a-Si:H Passivation Layer for Low Parasitic Absorption and High Passivation in Silicon Heterojunction Solar Cells 国際会議

    K. Gotoh, M, Cui, R. Akaishi, Y. Kurokawa, and N. Usami

    35th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition 

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  109. SiOxを障壁層としたSi量子ドット太陽電池構造作製のためのTiO2:NbによるP拡散抑制

    北沢宏平, 赤石龍士郎, 小野聖, 加藤慎也, 後藤和泰, 宇佐美徳隆, 黒川康良

    第15回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム 

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    開催年月日: 2018年7月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  110. Controllable optical and electrical properties of Nb doped TiO2 films by RF sputtering 国際会議

    X. Cheng, K. Gotoh, T. Mochizuki and N. Usami

    the 7th World Conference on Photovoltaic EnergyConversion (WCPEC-7) 

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    開催年月日: 2018年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:アメリカ合衆国  

  111. Local structure of high performance TiOx passivating layer revealed by electron energy loss spectroscopy 国際会議

    T. Mochizuki, K. Gotoh, A. Ohta, Y. Kurokawa, S. Miyazaki, T. Yamamoto, N. Usami

    the 7th World Conference on Photovoltaic EnergyConversion (WCPEC-7) 

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    開催年月日: 2018年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

  112. Deposition and Characterization of Si Quantum Dot Multilayers Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition using SiH4 and CO2 Gases 国際会議

    R. Akaishi, K Kitazawa, . Ono, K. Gotoh, E. Ichihara, S. Kato, N. Usami and Y. Kurokawa

    the 7th World Conference on Photovoltaic EnergyConversion (WCPEC-7) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:アメリカ合衆国  

  113. Development of the Passivation Layer for p-type CuI Thin Film Fabricated by the 2-step Method as the Novel Hole Selective Contact of Silicon Heterojunction Solar Cells 国際会議

    M. Cui, K. Gotoh, Y. Kurokawa and N. Usami

    the 7th World Conference on Photovoltaic EnergyConversion (WCPEC-7) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:アメリカ合衆国  

  114. Improving intrinsic silicon nanoparticle film by press treatment for use in pin solar cells 国際会議

    Eiji Ichihara, Shinya Kato, Ryushiro Akaishi, Kazuhiro Gotoh, Yasuyoshi Kurokawa, Naoki Kishi, Tetsuo Soga

    the 7th World Conference on Photovoltaic EnergyConversion (WCPEC-7) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:アメリカ合衆国  

  115. Application of light-trapping structure using Ge dot mask by alkaline etching to heterojunction solar cell 国際会議

    Atsushi Hombe, Yasuyoshi Kurokawa, Kazuhiro Gotoh, Noritaka Usami

    the 7th World Conference on Photovoltaic EnergyConversion (WCPEC-7) 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:アメリカ合衆国  

  116. Nb-doped TiO2 for silicon quantum dot solar cells as a carrier selective contact layer 国際会議

    Y. Kurokawa, K. Kitazawa, R. Akaishi, S. Ono, K. Gotoh, and N. Usami

    10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells 

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    開催年月日: 2018年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  117. Characterization of hydrogen around a-Si:H/c-Si interface by resonance nuclear reaction analysis 国際会議

    K. Gotoh, S. Ogura, S. Kato, Y. Kurokawa, K. Fukutani, and N. Usami

    10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells 

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    開催年月日: 2018年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  118. Impact of interlayers on thermal stability of TiOx passivating layer deposited by atomic layer deposition 国際会議

    T. Mochizuki, K. Gotoh, Y. Kurokawa, and N. Usami

    10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells 

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    開催年月日: 2018年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  119. Investigation on the thermal stability of p-type CuI as hole selective contact for the silicon heterojunction solar cells 国際会議

    Min Cui, K. Gotoh, Y. Kurokawa, and N. Usami

    10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells 

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    開催年月日: 2018年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  120. Surface Passivation Property of Ultra-thin Titanium Oxide/Aluminum Oxide stacks for Silicon Based Selective Contact 国際会議

    Xuemei Cheng, K. Gotoh, R. Nezasa, T. Mochizuki, and N. Usami

    10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  121. Surface passivation quality of atomic layer deposited TiO2 thin layer for carrier selective contact on crystalline silicon 国際会議

    T. Mochizuki, K. Gotoh, I. Takahashi, Y. Kurokawa, N. Usami

    2017 MRS Fall meeting 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年11月 - 2017年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Boston (USA)   国名:アメリカ合衆国  

  122. Effect of sputtered a-Si on effective carrier lifetime of c-Si with ultra-thin SiO2 structure 国際会議

    K. Gotoh, I. Takahashi, Y. Kurokawa, N. Usami

    EUPVSEC 2017 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年9月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:オランダ王国  

  123. Fabrication of CuI/a-Si:H/c-Si Structure for Application to Hole-selective Contacts of Heterojunction Si Solar Cells 国際会議

    K. Gotoh, M. Cui, N. C. Thanh, K. Koyama, I. Takahashi, Y. Kurokawa, H. Matsumura, N. Usami

    44th IEEE PVSC Conference 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Washington D.C. (USA)   国名:アメリカ合衆国  

  124. Solar Cells Application of p-type poly-Si Thin Film by Aluminum Induced Crystallization 国際会議

    S. Masuda, K. Gotoh, I. Takahashi, K. Nakamura, Y. Oshita, Y. Kurokawa, N. Usami

    44th IEEE PVSC Conference 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:日本国  

  125. Development of spin-coated copper iodide film on silicon for use in hole-selective contacts 国際会議

    K. Gotoh, M. Cui, I. Takahashi, Y. Kurokawa, N. Usami

    Silicon PV 2017 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年4月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    国名:ドイツ連邦共和国  

  126. Fabrication of strain-compensated heterojunction Ge/Si1-xCx quantum dots solar cells 国際会議

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, T. Tayagaki, K. Matsubara, M. Kondo

    EUPVSEC 2016 

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    開催年月日: 2016年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

  127. Studies on highly stacked Ge/Si quantum dot heterojunction solar cells grown up to 100 stacked layers 国際会議

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, I. Sakata, K. Matsubara, M. Kondo

    PVSEC 2015 

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    開催年月日: 2015年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Pusan (South Korea)   国名:大韓民国  

  128. Strain-compensated Ge/Si1-xCx quantum dots with Si mediating layers grown by molecular beam epitaxy 国際会議

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, I. Sakata, K. Matsubara, M. Kondo

    MBE 2014 

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    開催年月日: 2014年9月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Flagstaff (USA)   国名:アメリカ合衆国  

  129. Fabrication of type-II self-assembled Ge/Si quantum dots for use in high efficiency solar cells 国際会議

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, I. Sakata, K. Matsubara, M. Kondo

    Japanese-German Students Symposium on Material Science 

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    開催年月日: 2014年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Magdeburg (Germany)   国名:ドイツ連邦共和国  

  130. Fabrication of Type-II Self-Assembled Ge/Si Quantum Dots for High Efficiency Solar Cells 国際会議

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, I. Sakata, K. Matsubara, M. Kondo

    EUPVSEC 2013 

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    開催年月日: 2013年9月 - 2013年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  131. Effect of deposition rate on the characteristics of Ge quantum dots on Si(100) substrate 国際会議

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, I. Sakata, K. Matsubara, M. Kondo

    ICSI-8 

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    開催年月日: 2013年6月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Fukuoka (Japan)   国名:日本国  

  132. Optical and structural studies on highly uniform Ge quantum dots on Si(001) substrate by solid source molecular beam epitaxy 国際会議

    K. Gotoh, R. Oshima, T. Sugaya, I. Sakata, K. Matsubara, M. Kondo

    MBE2012 

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    開催年月日: 2012年9月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Nara (Japan)   国名:日本国  

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共同研究・競争的資金等の研究課題 4

  1. 従来にない高効率、低コスト、高耐久性を兼ね備えた太陽電池を実現する要素技術開発

    研究課題番号:20332524  2020年12月 - 2024年2月

    クリーンエネルギー分野における革新的技術の国際共同研究開発事業 

    松井 卓矢

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    担当区分:研究分担者  資金種別:競争的資金

    配分額:26398000円 ( 直接経費:22958000円 、 間接経費:3440000円 )

  2. 超高効率モジュール技術開発/超高効率多段接合モジュール開発

    研究課題番号:P20015  2020年7月 - 2023年2月

    太陽光発電主力電源化推進技術開 

    宇佐美徳隆、黒川康良、後藤和泰

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    担当区分:研究分担者  資金種別:競争的資金

    配分額:30000000円 ( 直接経費:2696000円 、 間接経費:3912000円 )

  3. 酸化チタン薄膜と結晶シリコンとの界面における未結合手不活化における水素機 能の解明

    研究課題番号:C047  2019年5月 - 2021年3月

    MALT共同利用 

  4. 結晶シリコン界面の未結合手不活性化における水素機能の解明

    研究課題番号:18K0093  2018年4月 - 2019年3月

    平成30年度東北大学金属材料研究所共同研究 

    後藤 和泰

      詳細を見る

    資金種別:競争的資金

    配分額:300000円 ( 直接経費:300000円 )

科研費 4

  1. 光パスツールピンセットを駆使したカイラル結晶相転移科学の創成

    研究課題/研究課題番号:20H02686  2020年4月 - 2023年3月

    日本学術振興会  科学研究費助成事業 

    新家 寛正

      詳細を見る

    担当区分:研究分担者  資金種別:競争的資金

    本研究では、電磁場のカイラリティの尺度を表す保存量である「Optical Chirality」の勾配を起源とする光学力による鏡像体選択的な光学捕捉技術により、水溶液中の分子クラスターを鏡像体選択的に濃集し鏡像対称性の破れを伴う結晶核形成を人為的に誘起する。誘電体ナノ構造体のMie共振により発生するOptical Chiralityの増強された近接場を鏡像対称性の破れた外場とみなし、これを印可することで本来熱力学的に等価な結晶鏡像異性体を熱力学的に区別する。これにより、相転移を記述する上で基本的な量である化学ポテンシャルにカイラリティの概念を導入する。

  2. シリコンナノ結晶をキャリア輸送経路に用いた新規導電性保護膜の研究

    研究課題/研究課題番号:20K15127  2020年4月 - 2023年3月

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  若手研究

    後藤 和泰

      詳細を見る

    担当区分:研究代表者 

    配分額:4160000円 ( 直接経費:3200000円 、 間接経費:960000円 )

    本研究では、酸化シリコン中のシリコンナノ結晶をキャリア輸送経路とした新規導電性保護膜の開発を目指す。酸化シリコンはシリコンに対して良好な保護膜として機能するが、絶縁性を示すためキャリア輸送に不利である。そこで、申請者はキャリア輸送経路としてシリコン酸化膜中にシリコンナノ結晶を応用することに着目した。本研究では、シリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜の構造特性、光学的特性および電気的特性の相関を調査することにより、シリコンナノ結晶を用いた極薄シリコン酸化膜のキャリアの輸送に関する基礎研究を行い、保護性能と導電性を両立した新規導電性保護膜の開発を志向する。

  3. シリコンナノドットを用いた新規導電性保護膜の開発

    研究課題/研究課題番号:19K21110  2019年4月 - 2020年3月

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  研究活動スタート支援

    後藤 和泰

      詳細を見る

    担当区分:研究代表者 

    配分額:2990000円 ( 直接経費:2300000円 、 間接経費:690000円 )

    本研究では、酸化シリコン中のシリコンナノドットをキャリア輸送経路とした新規保護膜の開発を目指す。申請者は、キャリア輸送経路としてシリコン酸化膜中のシリコンナノドットを応用することに着目した。申請者の研究グループでは、シリコン酸化膜中にシリコンナノドットを形成する技術を有しており、シリコンナノドットのサイズなどの構造制御が可能である。本研究では、シリコン酸化膜中にシリコンナノドットを形成し、形成時のパラメータと構造及び電気的特性の相関を調査する。本研究により、本来絶縁性の保護膜であるシリコン酸化膜にキャリア輸送経路を形成して制御を行い、新規導電性保護膜の基盤を構築することが期待できる。
    本研究は、酸化シリコン中のシリコンナノ結晶をキャリア輸送経路とした新規導電性保護膜の開発を目指して実施された。試料は、シリコンリッチのアモルファス酸化シリコンを酸素リッチのアモルファス酸化シリコンで挟み込む順番でシリコン基板上に3層構造を製膜し、熱処理を行うことにより酸化シリコン中にシリコンのナノ結晶を形成した。
    酸素リッチのアモルファス酸化シリコンを採用することにより、酸化シリコン中にシリコンのナノ結晶が形成し、保護性能を示すことを確認した。さらに、酸化シリコン中のシリコンナノ結晶が電気伝導を担っていることを示唆し、保護性能と電気伝導を両立する導電性保護膜の開発が期待できる結果が得られた。
    シリコンは、現在の社会を成り立たせる材料の一つである。シリコン表面に対する良好な保護性能を示す保護膜は、通常絶縁性の材料であり電気伝導との両立が困難である。本研究では、良好な保護特性と電気伝導性を両立する導電性保護膜の開発を志向した。その結果、シリコン酸化膜中のナノ結晶シリコンの比率が大きくなるほど、保護性能が低下する一方、電気伝導が向上する結果を得た。このことは、保護性能と電気伝導を制御することが可能となることを意味している。開発した導電性保護膜は、太陽電池への応用だけでなく、シリコン基板と様々な材料との接合材として利用するなどの展開が可能であり、高い社会的意義が期待できる成果が得られた。

  4. 歪み補償系積層ゲルマニウム量 子ドットの開発と超高効率太陽電池への応用

    2014年4月 - 2016年3月

    科学研究費補助金 

      詳細を見る

    担当区分:研究代表者 

    本研究は,太陽電池応用のための歪み補償系積層ゲルマニウム量子ドットの開発を目的として行われた.積層量子ドットを用いた太陽電池は,膜厚の薄いスペーサー層を用いることによりキャリアの輸送特性の向上が期待できる.しかし,スペーサー層の薄膜化は,量子ドット層で生じる歪みの伝搬・蓄積を増大させ,積層欠陥の発生により結晶品質が悪化する.炭素を添加したシリコン(Si1-xCx)層は歪み補償層として作用し,量子ドットサイズの増大を抑制することが期待できる.そこで、Si1-xCx歪み補償層の開発とSi1-xCx母材を用いた積層ゲルマニウム(Ge)量子ドットの開発に取り組み、太陽電池応用に有利である高均一かつ高密度な積層Ge/Si0.9995C0.0005量子ドットの作製を達成した。さらに,積層Ge/Si1-xCx量子ドット太陽電池の作製,および量子ドット間隔が太陽電池に及ぼす影響を調査も行った。電圧を印加させながら量子効率を評価することで、通常のGe/Si太陽電池と比較してGe/Si0.9995C0.0005太陽電池ではGe/Si0.9995C0.0005太陽電池ではキャリアの収集が改善していることを見出すことができた。

産業財産権 1

  1. 導電性保護膜および太陽電池

    後藤和泰,津幡亮平,宇佐美徳隆

     詳細を見る

    出願人:国立大学法人名古屋大学

    出願番号:特願2020-061178  出願日:2020年3月

    出願国:国内  

 

担当経験のある科目 (本学) 31

  1. 物質創製工学セミナー2E

    2021

  2. 物質創製工学セミナー2D

    2021

  3. 物質創製工学セミナー2C

    2021

  4. 物質創製工学セミナー2B

    2021

  5. 物質創製工学セミナー2A

    2021

  6. 卒業研究B

    2021

  7. 卒業研究A

    2021

  8. マテリアル工学概論

    2021

  9. 学生実験2

    2021

  10. 学生実験1

    2021

  11. 物質創製工学特別実験及び演習2

    2020

  12. 物質創製工学セミナー2A

    2020

  13. 物質創製工学セミナー2B

    2020

  14. 物質創製工学セミナー2C

    2020

  15. 物質創製工学セミナー2D

    2020

  16. 物質創製工学セミナー2E

    2020

  17. 物質創製工学特別実験及び演習1

    2020

  18. 物質創製工学セミナー1C

    2020

  19. 物質創製工学セミナー1D

    2020

  20. 物質創製工学セミナー1B

    2020

  21. 物質創製工学セミナー1A

    2020

  22. 卒業研究A

    2020

  23. 卒業研究B

    2020

  24. マテリアル工学概論

    2020

  25. 学生実験2

    2020

  26. 学生実験1

    2020

  27. 学生実験2

    2019

  28. 学生実験1

    2019

  29. マテリアル工学概論

    2019

  30. 材料工学実験及び演習2

    2018

  31. 材料工学実験及び演習1

    2018

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社会貢献活動 6

  1. 第16回再生可能エネルギー世界展示会&フォーラム

    役割:出演, 企画

    再生可能エネルギー協議会  2022年1月

  2. 名古屋大学工学部テクノサイエンスセミナー(TSS)

    役割:企画

    2019年8月

  3. PVJapan 2019

    役割:情報提供

    2019年7月

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    対象: 研究者, 社会人・一般, 学術団体, 市民団体, 行政機関

    種別:その他

  4. PV Japan2018

    役割:情報提供

    2018年6月

  5. PV Japan2017

    役割:情報提供

    2017年7月

  6. PV Japan2016

    役割:情報提供

    2016年6月 - 2016年7月

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メディア報道 4

  1. 結晶シリコン太陽電池の高性能化を実現、名古屋大学が新材料 インターネットメディア

    スマートジャパン  スマートジャパン  2019年1月

  2. 名大、シリコン太陽電池で新材料、高効率化に期待 インターネットメディア

    日経XTECH  日経XTECH  2019年1月

  3. 太陽電池の変換効率、酸化チタンで向上へ 新聞・雑誌

    日経新聞  日経新聞  2019年1月

  4. 太陽光発電の普及に期待!~太陽電池の高性能化に有用な新材料の開発~

    名古屋大学  2018年12月

     詳細を見る

    執筆者:本人 

学術貢献活動 4

  1. 第18回次世代の太陽光発電システムシンポジウム 座長

    役割:パネル司会・セッションチェア等

    日本太陽光発電学会  2021年10月

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    種別:大会・シンポジウム等 

  2. International Conference on Solid State Devices and Materials 2021 座長 国際学術貢献

    役割:パネル司会・セッションチェア等

    2021年9月

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    種別:学会・研究会等 

  3. 第17回次世代の太陽光発電システムシンポジウム実行委員会Web担当

    役割:企画立案・運営等

    日本太陽光発電学会  2020年10月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

  4. 応用物理学会若手チャプター 太陽光エネルギー変換機能材料・デバイス開発研究会

    役割:企画立案・運営等

    2018年1月 - 現在

     詳細を見る

    種別:学会・研究会等