書籍等出版物 - 石川 健治
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高アスペクト比エッチングにおけるプラズマの挙動と表面反応の制御
石川健治（ 担当： 共著 , 範囲: 第５章 ドライエッチング技術の開発動向とプロセス制御 第３節）
技術情報協会 2023年9月
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Chapter 2. Physical and chemical basis of non-thermal plasma. In: "Plasma Medical Science"
Kenji Ishikawa（ 担当： 分担執筆 , 範囲: Chapter 2-1, 2-4, 2-5, 2-6, and 2-8. ）
Academic Press 2018年7月 （ ISBN:9780128150054 ）
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Chapter 5. "Plasma Diagnostics" In: "Cold Plasma in Food and Agriculture, Fundamentals and Applications"
Kenji Ishikawa（ 担当： 分担執筆）
Academic Press 2016年8月 （ ISBN: 9780128013656 ）
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7.2節 表面計測法 In: プラズマプロセス技術
石川健治，堀勝（ 担当： 分担執筆）
森北出版 2016年5月 （ ISBN:978-4-627-77561-9 ）
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化学便覧 応用化学編 第7版 7.5.2「ドライエッチング」
堀勝、石川健治（ 担当： 単著）
丸善 2014年1月 （ ISBN:978-4-621-08759-6 ）
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ArFフォトレジストのプラズマエッチング技術
石川健治，堀勝（ 担当： 共著）
技術情報協会 2013年7月
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ドライエッチング In: 「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成（表面技術協会編）」
石川健治，堀勝（ 担当： 共著）
丸善 2013年5月 （ ISBN:978-4-339-04631-1 ）
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層間絶縁膜の成膜とエッチング
石川健治，堀勝（ 担当： 共著）
エヌティエス出版 2012年7月 （ ISBN:978-4-86469-039-3 ）
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エッチング工程の手法およびレジスト・レジストパターンへの影響
石川健治，堀勝（ 担当： 共著）
情報機構 2011年9月 （ ISBN:978-4-904080-90-0 ）
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半導体プロセス洗浄方法とその効果
石川健治（ 担当： 共著）
有機汚染物質／アウトガスの発生メカニズムとトラブル対策事例集（技術情報協会） 2008年
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シリコン基板の洗浄
石川健治（ 担当： 共著）
エレクトロニクス洗浄技術（技術情報協会） 2007年