産業財産権 - 野呂 篤史
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変性処理により得られるブロック共重合体組成物及びその製造方法、並びにそれに用いられる変性ブロック共重合体組成物及びその製造方法
磯部浩輔、橋本貞治、野澤淳、亀山涼嗣、野呂篤史、梶田貴都、松下裕秀
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固体高分子電解質膜
中村直樹、安達誠、安藤雅樹、野呂篤史、梶田貴都、松下裕秀
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無加湿系プロトン伝導膜，その製法及び燃料電池
野呂篤史、梶田貴都、森貴裕、松下裕秀
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無加湿系プロトン伝導膜、その製法及び燃料電池
野呂篤史、梶田貴都、森貴裕、松下裕秀
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無加湿系プロトン伝導膜、その製法及び燃料電池
野呂篤史、梶田貴都、森貴裕、松下裕秀
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無加湿系プロトン伝導膜，その製法及び燃料電池
野呂篤史、森貴裕
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非共有結合性ソフトエラストマー及びその製法
野呂篤史、大野真穂
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非共有結合性ソフトエラストマー及びその製法
野呂篤史、大野真穂
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非共有結合性ソフトエラストマー及びその製法
野呂篤史、大野真穂
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非共有結合性ソフトエラストマー及びその製法
野呂篤史、大野真穂
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非共有結合性エラストマー
野呂篤史、林幹大、平松竜輔、松下裕秀
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不揮発なフォトニック材料及びその製法
野呂篤史、冨田裕介、松島智、提嶋佳生、松下裕秀、ウォリッシュ・ジョゼフ・ジェイ、トーマス・エドウィン・エル
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不揮発なフォトニック材料及びその製法
野呂篤史、冨田裕介、松島智、提嶋佳生、松下裕秀、ウォリッシュ・ジョゼフ・ジェイ、トーマス・エドウィン・エル
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ブロック共重合体の製法及びそのブロック共重合体を用いたフォトニック材料
野呂篤史、平松竜輔、冨田裕介、松島智、古市康太、提嶋佳生、松下裕秀
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ブロック共重合体の製法及びそのブロック共重合体を用いたフォトニック材料
野呂篤史、平松竜輔、冨田裕介、松島智、古市康太、、提嶋佳生、松下裕秀
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金属含有ブロック共重合体及びその製造方法
野呂篤史、提嶋佳生、松下裕秀