Presentations -
-
Conversion Ability of sugars to HMF by Solution Plasma Process International conference
Y. MUTA, A. WATTHANAPHANIT, N. SAITO
-
水－アルコール混合溶液中ソリューションプラズマ反応場の解明： 気/液界面への水素結合の影響
簾智仁、上野智永、齋藤永宏
2015年 第62回応用物理学会春季学術講演会
-
表面処理を利用した高感度光ファイバーセンサーの開発
木口崇彦、伊澤昂汰、リ オイルン、齋藤永宏
第62回応用物理学会春季学術講演会
-
デュアルマイクロ波プラズマCVDによる窒化炭素膜の合成
平田泰章、上野智永、齋藤永宏
表面技術協会第131回講演大会
-
メソポーラスシリカ担持Pt 触媒の合成とPROX 反応触媒特性
青木淑恵、是津信行、山本剛久、南部宏暢、齋藤永宏
表面技術協会第131 回講演大会
-
ソリューションプラズマによるカーボン合成における溶媒の効果
吉田彰仁、上野智永、齋藤永宏
第131回表面技術協会
-
ソリューションプラズマによるカーボン合成における溶媒の効果
吉田彰仁、上野智永、齋藤永宏
第131回表面技術協会
-
ソリューションプラズマプロセスによる窒素とホウ素の異種元素ドーピング２Ｄカーボン材料の合成 International conference
李 承效, 上野 智永, 齋藤 永宏
第1３1回表面技術協会
-
Selective production of sugar alcohol from cellulose by solution plasma International conference
Anyarat Watthanaphanit and Nagahiro Saito
-
Conversion Ability of Sugars to HMF by Solution Plasma Process International conference
Y. MUTA, A. WATTHANAPHANIT, N. SAITO
-
プラズマを用いた超撥水・超親水表面の作製
齋藤永宏
第84回表面科学研究会 日本真空学会2015年1月研究例会
-
ソリューションプラズマ分子技術～ヘテロ系カーボン触媒の創成
上野智永、齋藤永宏
2014年度先端化学セミナー ―界面の修飾および制御による高機能化―
-
Solution plasma process and its applications. International conference
Anyarat Watthanaphanit and Nagahiro Saito
-
Gd2SiO5 結晶の塩化物フラックス育成
神谷雄人、青木淑恵、是津信行、齋藤永宏
第9 回日本フラックス成長研究発表会
-
Controllable Synthesis of Conductive Nitrogen Doped Carbon with Graphitic Walls by Solution Plasma Process International conference
K. Y. Hyun, T. Ueno, N. Saito
-
Cellulose conversion to sugar alcohol by solution plasma processing International conference
Anyarat Watthanaphanit, Hoonseung Lee, and Nagahiro Saito
-
Cellulose conversion to sugar alcohol by solution plasma processing International conference
Anyarat Watthanaphanit, Hoonseung Lee, and Nagahiro Saito
-
Cellulose conversion to sugar alcohol by solution plasma processing International conference
Anyarat Watthanaphanit, Hoonseung Lee, and Nagahiro Saito
-
Synthesis of Nano-size Regulated Carbon Materials by Solution Plasma Processing International conference
O.L.Li, N.Saito
-
Hydrocarbon structure effect on the production of carbon materials by the solution plasma process International conference
A. Yoshida, T. Ueno, N. Saito