2021/06/24 更新

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ホリ マサル
堀 勝
HORI, Masaru
所属
名古屋大学 低温プラズマ科学研究センター バイオシステム科学部門 教授
職名
教授
連絡先
メールアドレス

学位 1

  1. 工学博士

研究分野 1

  1. その他 / その他  / 表面界面物性

現在の研究課題とSDGs 3

  1. フレキシブルナノデバイスに関する研究

  2. 量子光学技術による原子、分子、ラジカル計測に関する研究

  3. スマートナノプロセスに関する研究

経歴 12

  1. 名古屋大学低温プラズマ科学研究センター長

    2019年4月 - 現在

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    国名:日本国

  2. 名古屋大学未来社会創造機構 機構長補佐

    2016年4月 - 2019年3月

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    国名:日本国

  3. 名古屋大学未来社会創造機構 暮らし・健康基盤情報部門長(COI)

    2014年4月 - 2017年3月

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    国名:日本国

  4. 名古屋大学プラズマ医療科学国際イノベーションセンター長

    2013年8月 - 2019年3月

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    国名:日本国

  5. NU-SKKU 先端プラズマナノ材料研究所(韓国)研究所長

    2011年11月 - 2019年9月

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    国名:大韓民国

  6. 名古屋大学大学院工学研究科付属プラズマナノ工学研究センター長

    2009年4月 - 2013年3月

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    国名:日本国

  7. 名古屋大学教授

    2004年4月 - 現在

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    国名:日本国

  8. 英国ケンブリッジ大学キャベンディシュ研究所客員研究員

    1997年8月 - 1997年12月

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    国名:日本国

  9. 名古屋大学助教授(工学部)

    1996年7月 - 2004年3月

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    国名:日本国

  10. 名古屋大学講師(工学部)

    1994年4月 - 1996年6月

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    国名:日本国

  11. 名古屋大学助手(工学部)

    1992年4月 - 1994年3月

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    国名:日本国

  12. (株)東芝 総合研究所 超LSI研究所

    1986年4月 - 1992年3月

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    国名:日本国

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学歴 2

  1. 名古屋大学   工学研究科   電子工学

    - 1986年

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    国名: 日本国

  2. 早稲田大学   理工学部   電子通信学科

    - 1981年

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    国名: 日本国

所属学協会 7

  1. プラズマ・核融合学会

  2. 応用物理学会

  3. Materials Research Society

  4. American Vacuum Society

  5. 日本分光学会

  6. 日本表面技術科学会

  7. IEEE

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委員歴 9

  1. 学術振興会「153委員会」プラズマ材料科学   委員長  

    2016年4月 - 2017年3月   

  2. 日本学術会議   連携委員  

    2011年4月 - 現在   

  3. 応用物理学会   常務理事  

    2009年4月 - 2011年3月   

  4. 表面技術協会   理事  

    2010年4月 - 2012年3月   

  5. 応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会   幹事長  

    2010年4月 - 2012年3月   

  6. 実行委員長  

    2011年4月 - 2012年3月   

  7. 第58回応用物理学会関係連合講演会   運営委員長  

    2011年3月   

  8. 第71回応用物理学会学術講演会   運営委員長  

    2010年9月   

  9. 応用物理学会   東海支部長  

    2005年4月 - 2007年3月   

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受賞 30

  1. The Best Oral Presentation Awards, ISPlasma2021/IC-PLANTS2021

    2021年3月   13th anniversary International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlsma2021) / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2021)   Dependency of bactericidal effect in oxygen-radical-exposed E. coli suspension containing L-tryptophan on its concentration

    N. Iwata, K. Ishikawa, H. Hashizume, H. Tanaka, J.-S. Oh, M. Ito, M. Hori

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    受賞区分:国際学会・会議・シンポジウム等の賞 

  2. The Best Short Presentation Awards, ISPlasma2021/IC-PLANTS2021

    2021年3月   13th anniversary International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlsma2021) / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2021)   Study of Etching Process Using Gas Condensed Layer at Cryogenic Temperature 2

    Masahiro Hazumi, Suganthamalar Selvaraj, Shih-Nan Hsiao, Chihiro Abe, Toshiyuki Sasaki, Hisataka Hayashi, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori

  3. The Best Oral Presentation Award, ISPlasma2021/IC-PLANTS2021

    2021年3月   13th anniversary International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlsma2021) / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2021)   Design of Removal Process of SnO2 on Glass by H2/Ar Plasma at Atmospheric Pressure and Medium Pressure

    Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa and Masaru Hori

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    受賞区分:国際学会・会議・シンポジウム等の賞 

  4. The Best Short Presentation Awards, ISPlasma2021/IC-PLANTS2021

    2021年3月   13th anniversary International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlsma2021) / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2021)   Apoptosis-inducing Activity through Caspase-9 of Radical-Activated Lactate Ringers Solution for Melanoma Cells

    Yuki Hori, Tomiyasu Murata, Hiromasa Tanaka, Masaru Hori and Masafumi Ito

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    受賞区分:国際学会・会議・シンポジウム等の賞 

  5. 第2回AAPPS-DPPプラズマイノベーション賞

    2020年10月   アジア・太平洋物理学会連合プラズマ物理分科会  

    堀 勝

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    受賞区分:国内外の国際的学術賞  受賞国:日本国

    受賞テーマ:低温プラズマ科学を基盤とした多くの画期的な発見と発明によるイノベーションの推進。  受賞理由:低温プラズマの応用および基礎プラズマ科学技術への多様な卓越した貢献であり、特に半導体製造用プラズマエッチングのための炭素膜マスク技術開発、機能性材料のラジカル制御プラズマ処理と合成のためのコンパクト原子状ラジカル計測装置と高密度ラジカル源の発明と商品化に対して、プラズマ医療においては、様々な癌細胞を選択的に殺すプラズマ活性培養液/プラズマ活性乳酸の発見。

  6. 第18回 プラズマエレクトロニクス賞

    2020年3月   公益社団法人 応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会  

    大村光広、橋本惇一、足立昴拓、近藤祐介、石川勝朗、阿部淳子、酒井伊都子、林久貴、関根誠、堀勝

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    受賞国:日本国

    Japanese Journal of Applied Physics 58, SEEB02 (2019)

  7. IAAM Award Lecture

    2019年10月   International Association of Advanced material (IAAM)   Carbon Nanowalls Propelling Social Innovations

    Masaru Hori

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    受賞区分:国際学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  8. K-T Rie Award for the year 2019

    2019年9月   Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2019)  

    Masaru Hori

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    受賞区分:国内外の国際的学術賞  受賞国:大韓民国

  9. The Best Poster Presentation Awards, ISPlasma2019/IC-PLANTS2019

    2019年3月   ISPlasma2019 / IC-PLANTS2019   Morphological Dynamics of Dying Cells Incubated in Plasma-Activated Medium

    Nanami Ito, Maho Yamada, Yugo Hosoi, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa and Masaru Hori

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    受賞区分:国際学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  10. The Best Poster Presentation Awards, ISPlasma2019/IC-PLANTS2019

    2019年3月   ISPlasma2019 / IC-PLANTS2019   Cytotoxicity of Plasma-Activated Glucose and Amino Acids

    Maho Yamada, Nanami Ito, Yugo Hosoi, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa and Masaru Hori

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    受賞区分:国際学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  11. The Best Oral Presentation Awards in the area of Plasma Science, ISPlasma2019/IC-PLANTS2019

    2019年3月   ISPlasma2019 / IC-PLANTS2019   Control of sp2-C Fraction and Hardness of Amorphous Carbon Films by Formation of Precursor Radicals Depending on a Residence Time

    Hirotsugu Sugiura, Yasuyuki Ohashi, Lingyun Jia, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Toshio Hayashi, Keigo Takeda, Makoto Sekine and Masaru Hori

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    受賞区分:国際学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  12. The Best Oral Presentation Awards, ISPlasma2019/IC-PLANTS2019

    2019年3月   ISPlasma2019 / IC-PLANTS2019   The Best Oral Presentation Awards in the area of Bio Applications, ISPlasma2019/IC-PLANTS2019

    Naoyuki Iwata, Vladislav Gamaleeve, Jun-SeokOh, Hiroshi Hashizume, Takayuki Ohta, Kenji Ishikawa, Masaru Hori and Masafumi Ito

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    受賞区分:国際学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:日本国

  13. 2018 The Plasma Medical Award

    2018年6月   ICPM7  

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    受賞区分:国際学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国:アメリカ合衆国

  14. Best Presentation Award

    2016年3月   ISPlasma2016/10th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials  

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    受賞国:日本国

  15. 第37回(2015年度)応用物理学会論文賞

    2015年9月   応用物理学会  

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    受賞国:日本国

  16. 第11回プラズマエレクトロニクス賞

    2013年3月   応物理学会プラズマエレクトロニクス分科会  

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    受賞国:日本国

    石川健治、河野昭彦、堀邊英夫、竹田圭吾、近藤博基、関根誠、堀勝

  17. ISPlasma2013 Best Poster Presentation Award

    2013年2月   5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma 2013)  

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    受賞国:日本国

  18. 五大成果(全2,000件のうちトップ5)

    2013年2月   文部科学省ナノテクノロジーネットワーク事業(平成19年~24年)  

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    受賞国:日本国

    田畑泰彦 堀勝 馬場嘉信(カーボンナノウォールの細胞培養基材としての特性評価)

  19. 応用物理学会東海支部貢献賞

    2013年1月   応用物理学会  

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    受賞国:日本国

  20. 11th APCPST and 25th SPSM Plasma Science Award

    2012年10月   11th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology) and 25th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials)  

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    受賞国:日本国

  21. 応用物理学会 第6回(2012年度)フェロー表彰

    2012年9月   公益社団法人応用物理学会  

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    受賞国:日本国

    ラジカル制御プラズマプロセスの研究開発

  22. 第14回プラズマ材料科学賞(基礎部門賞)

    2012年8月   日本学術振興会  

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    受賞国:日本国

    原子状ラジカル制御 プラズマプロセスの基礎的研究

  23. The Distinguished Professor Award

    2012年6月  

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    受賞国:日本国

  24. 高温学会 論文賞

    2012年3月   社団法人高温学会  

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    受賞国:日本国

    フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマーソフトマテリアル相互作用の解析

  25. 第9回産学官連携功労者表彰(科学技術政策担当大臣賞)

    2011年9月   第10回産学官連携推進会議  

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    受賞国:日本国

    産学連携功労者表彰

  26. 平成22年度科学技術分野の文部科学大臣表彰・科学技術賞(研究部門)

    2010年4月   文部科学省  

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    受賞国:日本国

  27. プラズマ材料科学賞(奨励部門賞)

    2004年   日本学術振興会  

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    受賞国:日本国

  28. JJAP編集貢献賞

    2004年  

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    受賞国:日本国

  29. プラズマエレクトロニクス賞

    2003年   公益社団法人応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会  

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    受賞国:日本国

  30. マイクロプロセスナノテクノロジー国際会議2000 Award(最優秀発表賞)

    2001年   マイクロプロセスナノテクノロジー国際会議  

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    受賞国:日本国

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論文 645

  1. Brain cell proliferation in adult rats after irradiation with nonequilibrium atmospheric pressure plasma 査読有り

    Yamato Masanori, Tamura Yasuhisa, Tanaka Hiromasa, Ishikawa Kenji, Ikehara Yuzuru, Hori Masaru, Kataoka Yosky

    Applied Physics Express   14 巻 ( 36 )   2021年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/ac03c1

  2. Hydrogen peroxide in lactate solutions irradiated by non-equilibrium atmospheric pressure plasma 査読有り

    Yang Liu, Kenji Ishikawa, Camelia Miron, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka and Masaru Hori

    Plasma Sources Science and Technology   30 巻   2021年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  3. Lysosomal nitric oxide determines transition from autophagy to ferroptosis after exposure to plasma-activated Ringer's lactate 査読有り

    LiJianga, Hao Zhenga, Qinying Lyua Shotaro Hayashi, Kotaro Satoa, Yoshitaka Sekido, Kae Nakamura, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Hiroaki Kajiyama, Masaaki Mizuno, Masaru Hori, ShinyaToyokuni

    Redox Biology   43 巻   2021年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.redox.2021.101989

  4. Plasma-Treated Solutions (PTS) in Cancer Therapy 査読有り

    Hiromasa Tanaka, Sander Bekeschus, Dayun Yan, Masaru Hori, Michael Keidar and Mounir Laroussi

    Cancer   13 巻 ( 7 )   2021年4月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/cancers13071737

  5. Differential data on the responsiveness of multiple cell types to cell death induced by non-thermal atmospheric pressure plasma-activated solutions 査読有り

    Ko Eto, Chiaki Ishinada, Takuya Suemoto, Keiichiro Hyakutake, Hiromasa Tanaka, Masaru Hori

    Data in Brief   36 巻   2021年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.dib.2021.106995

  6. Preclinical Verification of the Efficacy and Safety of Aqueous Plasma for Ovarian Cancer Therapy 査読有り

    Kae Nakamura, Nobuhisa Yoshikawa, Yuko Mizuno, Miwa Ito, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Shinya Toyokuni, Masaru Hori, Fumitaka Kikkawa and Hiroaki Kajiyama

    Cancer   13 巻 ( 5 )   2021年3月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.3390/cancers13051141

  7. 小特集 大気圧低温プラズマに対する細胞応答とがん治療への展開 1.はじめに 査読有り

    田 中 宏 昌,堀 勝

    プラズマ・核融合学会誌   97 巻 ( 3 ) 頁: 117 - 118   2021年3月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  8. 小特集 大気圧低温プラズマに対する細胞応答とがん治療への展開 2.プラズマ照射溶液が誘発する細胞死 査読有り

    田 中 宏 昌,堀 勝

    プラズマ・核融合学会誌   97 巻 ( 3 ) 頁: 119 - 122   2021年3月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  9. 低温プラズマを用いたウイルスの不活性化(-ウイルス滅のプラズマ刃-) 査読有り

    堀 勝,伊藤 昌文

    応用物理学会 特別WEBコラム 新型コロナウィルス禍に学ぶ応用物理     2021年2月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  10. Cyclic C4F8 and O2 plasma etching of TiO2 for high-aspect-ratio three-dimensional devices 査読有り

    Tsubasa Imamura, Itsuko Sakai, Hisataka Hayashi, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   60 巻 ( 3 )   2021年2月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abdf78

  11. A novel and distinctive mode of cell death revealed by using non-thermal atmospheric pressure plasma: The involvements of reactive oxygen species and the translation inhibitor Pdcd4 査読有り

    Ko Eto, Chiaki Ishinada, Takuya Suemoto, Keiichiro Hyakutake, Hiromasa Tanaka, Masaru Hori

    Chemico-Biological Interactions   338 巻   2021年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cbi.2021.109403

  12. Identification of key neutral species in atmospheric‐pressure plasma for promoting proliferation of fibroblast cells 査読有り

    Yuki Hori, Naoyuki Iwata, Vladislav Gamaleev, Jun‐Seok Oh, Tomiyasu Murata, Masaru Hori, Masafumi Ito

    Plasma Processes and Polymers   18 巻 ( 4 )   2021年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.202000225

  13. L-Dehydroascorbate efficiently degrades non-thermal plasma-induced hydrogen peroxide 査読有り

    Yasumasa Okazaki, Yuuri Ishidzu, Fumiya Itoa, Hiromasa Tanaka, Masaru Hori, Shinya Toyokuni

    Archives of Biochemistry and Biophysics   700 巻   2021年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.abb.2021.108762

  14. Effects of Carbon Nanowalls (CNWs) Substrates on Soft Ionization of Low-Molecular-Weight Organic Compounds in Surface-Assisted Laser Desorption/Ionization Mass Spectrometry (SALDI-MS) 査読有り

    Ryusei Sakai, Tomonori Ichikawa, Hiroki Kondo , Kenji Ishikawa, Naohiro Shimizu, Takayuki Ohta, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori

    Nanomaterials    11 巻 ( 262 )   2021年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/nano11020262

  15. Growth inhibition effect on Trypanosoma brucei gambiense by the oxidative stress supplied from low-temperature plasma at atmospheric pressure 査読有り

    Naoaki Yokoyama, Thillaiampalam Sivakumar, Sanae Ikehara, Yoshihiro Akimoto, Takashi Yamaguchi, Ken Wakai, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Tetsuji Shimizu, Hajime Sakakita and Yuzuru Ikehara

    Japanese Journal of Applied Physics   60 巻 ( 2 )   2021年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abd464

  16. Reduction in photon-induced interface defects by optimal pulse repetition rate in the pulse-modulated inductively coupled plasma 査読有り

    Yasufumi Miyoshi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori and Tetsuya Tatsumi

    Japanese Journal of Applied Physics   60 巻 ( 1 )   2020年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abd113

  17. 大気圧低温プラズマとバイオ技術応用 査読有り

    堀 勝

    応用物理    89 巻 ( 12 ) 頁: 701-706   2020年12月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  18. Inactivation mechanism of fungal spores through oxygen radicals in atmospheric-pressure plasma 査読有り

    Masafumi Ito, Hiroshi Hashizume, Jun-Seok Oh, Kenji Ishikawa, Takayuki Ohta and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   60 巻 ( 1 )   2020年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/abcbd1

  19. Influences of substrate temperatures on etch rates of PECVD-SiN thin films with a CF4/H2 plasma 査読有り

    Shih-NanHsiao, Kazuya Nakane, Takayoshi Tsutsumi, KenjiI shikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Applied Surface Science   542 巻   2020年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.apsusc.2020.148550

  20. Selective etching of SiN against SiO2 and poly-Si films in hydrofluoroethane chemistry with a mixture of CH2FCHF2, O2, and Ar 査読有り

    Shih-Nan Hsiao, Kenji Ishikawa, Toshio Hayashi, Jiwei Ni, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Applied Surface Science   541 巻   2020年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.apsusc.2020.148439

  21. Novel Epitaxy for Nitride Semiconductors Using Plasma Technology 査読有り

    Osamu Oda, Masaru Hori

    physica status solidi (a)   218 巻 ( 1 )   2020年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssa.202000462

  22. Formation of spherical Sn particles by reducing SnO2 film in floating wire-assisted H2/Ar plasma at atmospheric pressure 査読有り

    Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa & Masaru Hori

    Scientific Reports   10 巻   2020年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-020-74663-z

  23. Improvement of yield and grain quality by periodic cold plasma treatment with rice plants in a paddy field 査読有り

    Hiroshi Hashizume Hidemi Kitano Hiroko Mizuno Akiko Abe Genki Yuasa Satoe Tohno Hiromasa Tanaka Kenji Ishikawa Shogo Matsumoto

    Plasma Processes and Polymers   18 巻 ( 1 )   2020年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.202000181

  24. Roles of Atomic Nitrogen/Hydrogen in GaN Film Growth by Chemically Assisted Sputtering with Dual Plasma Sources 査読有り

    Atsushi Tanide, Shohei Nakamura, Akira Horikoshi, Shigeru Takatsuji, Takahiro Kimura, Kazuo Kinose, Soichi Nadahara, Masazumi Nishikawa, Akinori Ebe, Kenji Ishikawa, Osamu Oda, and Masaru Hori

    ACS omega   5 巻 ( 41 ) 頁: 26297-26956   2020年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsomega.0c03865

  25. Laser-induced-plasma-activated medium enables killing of HeLa cells 査読有り

    Yukihiro Kurokawa, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka and Masaru Hori

    Applied Physics Express   13 巻 ( 10 )   2020年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/abb68c

  26. Small size gold nanoparticles enhance apoptosis-induced by cold atmospheric plasma via depletion of intracellular GSH and modification of oxidative stress 査読有り

    Mati Ur Rehman, Paras Jawaid, Qing Zhao, Masaki Misawa, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Tadamichi Shimizu, Jun ichi Saitoh, Kyo Noguchi, and Takashi Kondo

    Cell Death Discovery   6 巻   2020年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41420-020-00314-x

  27. Influence of chamber pressure on the crystal quality of homo-epitaxial GaN grown by radical-enhanced MOCVD (REMOCVD) 査読有り

    Frank Wilson Amalraj, NaohiroShimizu, OsamuOda, KenjiIshikawa, MasaruHori

    Journal of Crystal Growth   549 巻   2020年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2020.125863

  28. Silver film etching using halogen gas plasma 査読有り

    Toshiyuki Sasaki, Kenichi Yoshikawa, Kazuhito Furumoto, Itsuko Sakai, Hisataka Hayashi, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Journal of Vacuum Science & Technology A   38 巻 ( 5 ) 頁: 1-12   2020年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/6.0000286

  29. Reaction science of layer-by-layer thinning of graphene with oxygen neutrals at room temperature temperature 査読有り

    Hirotsugu Sugiura, Hiroki Kondo, Kimitaka Higuchi, Shigeo Arai, Ryo Hamaji, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori

    Carbon   170 巻   頁: 93-99   2020年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.carbon.2020.07.052

  30. Steering of surface discharges on Through-Glass-Vias (TGVs) combined with high-density nonequilibrium atmospheric pressure plasma generation 査読有り

    Yoichiro Sato, Kaede Katsuno, Hidefumi Odaka, Nobuhiko Imajyo, Kenji Ishikawa and Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics   53 巻 ( 43 ) 頁: 1-11   2020年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aba1ad

  31. Atomic nitrogen density measurements by actinometry method in the toroidal device NAGDIS-T 査読有り

    Shin Kajita, Koji Asaoka, Hirohiko Tanaka, Ryosuke Nishio, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori, and Noriyasu Ohno

    Japanese Journal of Applied Physics   59 巻 ( 8 ) 頁: 1-6   2020年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/aba456

  32. Measurements of nitrogen atom density in a microwave-excited plasma jet produced under moderate 査読有り

    Jaeho Kim, Keigo Takeda, Hirotomo Itagaki, Xue-lun Wang, Shingo Hirose, Hisato Ogiso, Tetsuji Shimizu, Naoto Kumagai, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Masaru Hori, Hajime Sakakita

    IEEJ TRANSACTIONS ON ELECTRICAL AND ELECTRONIC ENGINEERING   15 巻 ( 9 )   2020年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/tee.23194

  33. Numerical analysis of coaxial dielectric barrier helium discharges: Three-stage mode transitions and internal bullet propagation 査読有り

    Yosuke Sato, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi and Masaru Hori

    Applied Physics Express   13 巻 ( 8 ) 頁: 1-5   2020年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  34. Adjusted multiple gases in the plasma flow induce differential antitumor potentials of plasma activated solutions 査読有り

    Kae Nakamura Nobuhisa Yoshikawa Masato Yoshihara Yoshiki Ikeda Akihiro Higashida Akihiro Niwa Takahiro Jindo Hiromasa Tanaka Kenji Ishikawa Masaaki Mizuno Shinya Toyokuni Masaru Hori Fumitaka Kikkawa Hiroaki Kajiyama

    Plasma Processes and Polymers   17 巻 ( 10 )   2020年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201900259

  35. In situ surface analysis of an ion-energy-dependent chlorination layer on GaN during cyclic etching using Ar+ ions and Cl radicals 査読有り

    Masaki Hasegawa Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide, Shohei Nakamura, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Journal of Vacuum Science & Technology A   38 巻 ( 4 ) 頁: 1-11   2020年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/6.0000124

  36. Study of the effect of normal load on friction coefficient and wear properties of CNx thin films 査読有り

    Satyananda Kar, Bibhuti Bhusan Sahu, Hiroyuki Kousaka, Jeon Geon Han, and Masaru Hori

    AIP Advances   10 巻 ( 6 ) 頁: 1-8   2020年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0009783

  37. Atomic oxygen radical induced intracellular oxidization of mould spore 査読有り

    Yuta Tanaka, Jun Seok Oh, Hiroshi Hashizume, Takayuki Ohta, Masashi Kato, Masaru Hori, Masafumi Ito

    Plasma Processes and Polymers   17 巻 ( 10 )   2020年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.202000001

  38. Non-thermal plasma-activated lactate solution kills U251SP glioblastoma cells in an innate reductive manner with altered metabolism 査読有り

    Kenji Ishikawa, Yugo Hosoi, Hiromasa Tanaka, Li Jiang, ShinyaToyokuni, Kae Nakamura, Hiroaki Kajiyama, Fumitaka Kikkawa, Masaaki Mizuno, Masaru Hori

    Archives of Biochemistry and Biophysics   688 巻   頁: 1-9   2020年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.abb.2020.108414

  39. In-plane modification of hexagonal boron nitride particles via plasma in solution 査読有り

    Tsuyohito Ito, Taku Goto, Kenichi Inoue, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Masaru Hori, Yoshiki Shimizu, Yukiya Hakuta and Kazuo

    Applied Physics Express   13 巻 ( 6 ) 頁: 1-3   2020年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/ab916c

  40. Electronic properties and primarily dissociation channels of fluoromethane 査読有り

    Toshio Hayashi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru

    Japanese Journal of Applied Physics   59 巻 ( SJ ) 頁: 1-12   2020年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab7e3f

  41. Numerical simulations of stable, high-electron-density atmospheric pressure argon plasma under pin-to-plane electrode geometry: effects of applied voltage polarity 査読有り

    Yosuke Sato, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Akio Ui1, Masato Akita, Shotaro Oka and Masaru

    Journal of Physics D: Applied Physics   53 巻 ( 26 ) 頁: 1-14   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/ab7df0

  42. Synthesis of carbon nanowalls on the surface of nanoporous alumina membranes by RI-PECVD method 査読有り

    Yerassyl Yerlanuly, Dennis Christy, Ngo Van Nong, Hiroki Kondo, Balaussa Alpysbayeva, Renata Nemkayeva, Meruert Kadyr, Tlekkabul Ramazanov, Maratbek Gabdullin, Didar Batryshev, Masaru Hori

    Applied Surface Science   523 巻   頁: 1-6   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.apsusc.2020.146533

  43. Characterization of a microsecond pulsed non-equilibrium atmospheric pressure Ar plasma using laser scattering and optical emission spectroscopy 査読有り

    Fengdong JIA, Yong WU, Qi MIN, Maogen SU, Keigo TAKEDA, Kenji ISHIKAWA, Hiroki KONDO,Makoto SEKINE, Masaru HORI and Zhiping ZHONG

    Plasma Science and Technology   22 巻 ( 6 ) 頁: 1-8   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/2058-6272/ab84e2

  44. Generation and diagnostics of ambient air glow discharge in centimeter-order gaps 査読有り

    Vladislav Gamaleev, Takayoshi Tsutsumi, Mineo Hiramatsu, Masafumi Ito, and Masaru Hori

    IEEE Access   8 巻   頁: 72607 - 72619   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/ACCESS.2020.2988091

  45. Transparent elongation and compressive strain sensors based on aligned carbon nanowalls embedded in polyurethane

    Slobodian Petr, Riha Pavel, Kondo Hiroki, Cvelbar Uros, Olejnik Robert, Matyas Jiri, Sekine Makoto, Hori Masaru

    SENSORS AND ACTUATORS A-PHYSICAL   306 巻   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.sna.2020.111946

    Web of Science

  46. Growth of single crystalline films on lattice-mismatched substrates through 3D to 2D mode transition 査読有り

    Naho Itagaki, Yuta Nakamura, Ryota Narishige, Keigo Takeda, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaru Hori & Masaharu Shiratani

    Scientific Reports   10 巻   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-020-61596-w

  47. Electron and negative ions dynamics in a pulsed 100 MHz capacitive discharge produced in O2 and Ar/O2/C4F8 gas mixture 査読有り

    N Sirse, T Tsutsumi, M Sekine, M Hori and A R Ellingboe

    Plasma Sources Science and Technology   29 巻 ( 3 ) 頁: 1-   2020年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6595/ab7086

  48. N-Graphene Nanowalls via Plasma Nitrogen Incorporation and Substitution: The Experimental Evidence 査読有り

    Neelakandan M. Santhosh, Gregor Filipič, Eva Kovacevic, Andrea Jagodar, Johannes Berndt, Thomas Strunskus, Hiroki Kondo, Masaru Hori, Elena Tatarova & Uroš Cvelbar

    Nano-Micro Letters   12 巻   頁: 1-17   2020年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s40820-020-0395-5

  49. Plasma-activated medium promotes autophagic cell death along with alteration of the mTOR pathway 査読有り

    Nobuhisa Yoshikawa, Wenting Liu, Kae Nakamura, Kosuke Yoshida, Yoshiki Ikeda, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Shinya Toyokuni, Masaru Hori, Fumitaka Kikkawa & Hiroaki Kajiyama

    Scientific Reports   10 巻   頁: 1-8   2020年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-020-58667-3

  50. Oxygen radical based on non-thermal atmospheric pressure plasma alleviates ligninderived phenolic toxicity in 査読有り

    Shou Ito, Kiyota Sakai, Vladislav Gamaleev, Masafumi Ito, Masaru Hori, Masashi Kato, Motoyuki Shimizu

    Biotechnology for Biofuels   13 巻   頁: 1-13   2020年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1186/s13068-020-1655-9

  51. Scalable Treatment of Flowing Organic Liquids Using Ambient-Air Glow Discharge for Agricultural Applications 査読有り

    Vladislav Gamaleev, Naoyuki Iwata, Ginji Ito, Masaru Hori, Mineo Hiramatsu and Masafumi Ito

    Applied Sciences   10 巻 ( 3 ) 頁: 1-17   2020年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/app10030801

  52. Synthesis of isolated carbon nanowalls via high-voltage nanosecond pulses in conjunction with CH4/H2 plasma enhanced chemical vapor deposition 査読有り

    Tomonori Ichikawa, Naohiro Shimizu, Kenji Ishikawa, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori

    Carbon   161 巻   頁: 403-412   2020年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 1016/j.carbon.2020.01.064

  53. Interaction of oxygen with polystyrene and polyethylene polymer films: A mechanistic study 査読有り

    Yusuke Fukunaga, Roberto C. Longo, Peter L. G. Ventzek, Barton Lane, Alok Ranjan, Gyeong S. Hwang, Gregory Hartmann, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Journal of Applied Physics   127 巻 ( 2 )   2020年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5127863

  54. Initial growth analysis of ALD Al2O3 film on hydrogen-terminated Si substrate via in situ XPS 査読有り

    Hiroyuki Fukumizu, Makoto Sekine, Masaru Hori and Paul C. McIntyre

    Japanese Journal of Applied Physics   59 巻 ( 1 ) 頁: 1-6   2020年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab6273

  55. In-liquid plasma synthesis of nanographene with a mixture of methanol and 1-butanol 査読有り

    Atsushi Ando, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Takayuki Ohta, Masafumi Ito, Mineo Hiramatsu, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori

      Volume6 巻 ( Issue4 )   2019年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/cnma.201900676

  56. Gas-phase and film analysis of hydrogenated amorphous carbon films: Effect of ion bombardment energy flux on sp2 carbon structures 査読有り

    Hirotsugu Sugiura, Yasuyuki Ohashi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Toshiaki Kato, Toshiro Kaneko, Keigo Takeda, Takayoshi Tsutsumi, Toshio Hayashi, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Diamond & Related Materials   104 巻   頁: 1-10   2019年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.diamond.2019.107651

  57. Simulation-aided design of very-high-frequency excited nitrogen plasma confinement using a shield plate 査読有り

    Yasuhiro Isobe, Takayuki Sakai, Kyoichi Suguro, Naoto Miyashita, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Amalraj Frank Wilson, Naohiro Shimizu, Osamu Oda, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Journal of Vacuum Science & Technology B   37 巻 ( 6 )   2019年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1116/1.5114831

  58. Exosomal Analysis of ALK Rearrangements by Spin Column with Porous Glass Filter

    Hatta T., Hase T., Ozawa N., Yogo N., Yukawa H., Tanaka H., Onoshima D., Sato M., Hori M., Baba Y., Hasegawa Y.

    JOURNAL OF THORACIC ONCOLOGY   14 巻 ( 10 ) 頁: S676-S676   2019年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

  59. Oxidative stress-dependent and -independent death of glioblastoma cells induced by non-thermal plasma-exposed solutions 査読有り

    Tanaka Hiromasa, Mizuno Masaaki, Katsumata Yuko, Ishikawa Kenji, Kondo Hiroki, Hashizume Hiroshi, Okazaki Yasumasa, Toyokuni Shinya, Nakamura Kae, Yoshikawa Nobuhisa, Kajiyama Hiroaki, Kikkawa Fumitaka, Hori Masaru

    SCIENTIFIC REPORTS   9 巻   2019年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-019-50136-w

    Web of Science

  60. In Situ Monitoring of Surface Reactions during Atomic Layer Etching of Silicon Nitride Using Hydrogen Plasma and Fluorine Radicals 査読有り

    Kazuya Nakane, René H. J. Vervuurt, Takayoshi Tsutsumi, Nobuyoshi Kobayashi, and Masaru Hori

    ACS Applied Materials & Interfaces   11 巻 ( 40 )   2019年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsami.9b11489

  61. Rapid thermal-cyclic atomic-layer etching of titanium nitride in CHF3/O-2 downstream plasma 査読有り

    Kazunori Shinoda, Nobuya Miyoshi, Hiroyuki Kobayashi, Masaru Izawa, Kenji Ishikawa and Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics   52 巻 ( 47 )   2019年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/ab3cf3

  62. Direct Treatment of Liquids Using Low-Current Arc in Ambient Air for Biomedical Applications 査読有り

    Gamaleev Vladislav, Iwata Naoyuki, Hori Masaru, Hiramatsu Mineo, Ito Masafumi

    APPLIED SCIENCES-BASEL   9 巻 ( 17 )   2019年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/app9173505

  63. Self-limiting reactions of ammonium salt in CHF3/O2 downstream plasma for thermal-cyclic atomic layer etching of silicon nitride 査読有り

    Kazunori Shinoda, Nobuya Miyoshi, Hiroyuki Kobayashi, Masaru Izawa, Tomonori Saeki, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori

    Journal of Vacuum Science & Technology A   37 巻 ( 5 )   2019年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.5111663

  64. Atmospheric Pressure Plasma-Treated Carbon Nanowalls' Surface-Assisted Laser Desorption/Ionization Time-of-Flight Mass Spectrometry (CNW-SALDI-MS) 査読有り

    Takayuki Ohta , Hironori Ito , Kenji Ishikawa , Hiroki Kondo , Mineo Hiramatsu and Masaru Hori

    Special Issue "Plasma Processing for Carbon-based Materials   5 巻 ( 3 )   2019年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/c5030040

  65. l-Dehydroascorbic acid recycled by thiols efficiently scavenges non-thermal plasma-induced hydroxyl radicals 査読有り

    Yasumasa Okazaki, Hiromasa Tanaka, Masaru Hori, Shinya Toyokuni

    Archives of Biochemistry and Biophysics   669 巻   頁: 87-95   2019年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.abb.2019.05.019

  66. Review of methods for the mitigation of plasma-induced damage to low-dielectric-constant interlar dielectrics used for semiconductor logic device interconnects 査読有り

    Hideshi Miyajima , Kenji Ishikawa, Makoto Sekine , Masaru Hori

    Plasma Processes and Polymers   16 巻 ( 9 )   2019年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1002/ppap.201900039

  67. Investigation on the long-term bactericidal effect and chemical composition of radical-activated water 査読有り

    Naoyuki Iwata, Vladislav Gamaleev, Jun-Seok Oh, Takayuki Ohta, Masaru Hori, Masafumi Ito

    Plasma Processes and Polymers   16 巻 ( 10 )   2019年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201900055

  68. Gene Expression of Osteoblast-like Cells on Carbon-Nanowall as Scaffolds during Incubation with Electrical Stimulation 査読有り

    Tomonori Ichikawa, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiromasa Tanaka, Makoto Sekine, Masaru Hori

    ACS Applied Bio Materials   2 巻 ( 8 )   2019年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsabm.9b00178

  69. Non-thermal plasma specifically kills oral squamous cell carcinoma cells in a catalytic Fe(II)-dependent manner 査読有り

    Kotaro Sato, Lei Shi, Fumiya Ito, Yuuki Ohara, Yashiro Motooka, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Masaru Hori, Tasuku Hirayama, Hideharu Hibi and Shinya Toyokuni

    Journal of Clinical Biochemistry and Nutrition   65 巻 ( 1 ) 頁: 8-15   2019年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3164/jcbn.18-91

  70. Simultaneous Achievement of Antimicrobial Property and Plant Growth Promotion using Plasma Activated Benzoic Compound Solution 査読有り

    Naoyuki Iwata, Vladislav Gamaleev, Hiroshi Hashizume, Jun-Seok Oh, Takayuki Ohta, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, and Masafumi Ito

    Plasma Processes and Polymers   16 巻 ( 8 )   2019年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201900023

  71. Formation mechanism of sidewall striation in high-aspect-ratio hole etching 査読有り

    Mitsuhiro Omura, Junichi Hashimoto, Takahiro Adachi, Yusuke Kondo, Masao Ishikawa, Junko Abe, Itsuko Sakai, Hisataka Hayashi, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   58 巻 ( SE )   2019年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab163c

  72. Plasma-activated solution alters the morphological dynamics of supported lipid bilayers observed by high-speed atomic force microscopy 査読有り

    Sotaro Yamaoka, Hiroki Kondo, Hiroshi Hashizume, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka and Masaru Hori

    Applied Physics Express   12 巻 ( 6 )   2019年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1882-0786/ab1a58

  73. Electronic properties and primarily dissociation channels of fluoroethane compounds 査読有り

    Toshio Hayashi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   58 巻 ( SE )   2019年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab09ca

  74. プラズマプロセスにおける吸収分光計測の基礎

    竹田圭吾、高島成剛、堀 勝

    プラズマ・核融合学会誌   195 巻 ( 4 ) 頁: 180-186   2019年4月

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    記述言語:日本語  

  75. Facile synthesis of SnO2-graphene composites employing nonthermal plasma and SnO2 nanoparticles-dispersed ethanol

    Borude Ranjit R., Sugiura Hirotsugu, Ishikawa Kenji, Tsutsumi Takayoshi, Kondo Hiroki, Hori Masaru

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   52 巻 ( 17 )   2019年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/ab03c4

    Web of Science

  76. Laser-drilling formation of through-glass-via (TGV) on polymer-laminated glass 査読有り

    Yoichiro Sato, Nobuhiko Imajyo, Kenji Ishikawa, Rao Tummala, Masaru Hori

    Journal of Materials Science: Materials in Electronics   30 巻 ( 11 ) 頁: pp10183-10190   2019年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s10854-019-01354-5

  77. Systematic diagnostics of the electrical, optical, and physicochemical characteristics of low-temperature atmospheric-pressure helium plasma sources

    Takeda Keigo, Yamada Hiromasa, Ishikawa Kenji, Sakakita Hajime, Kim Jaeho, Ueda Masashi, Ikeda Jun-ichiro, Akimoto Yoshihiro, Kataoka Yosky, Yokoyama Naoaki, Ikehara Yuzuru, Hori Masaru

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   52 巻 ( 16 )   2019年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aaff44

    Web of Science

  78. Effects of plasma shield plate design on epitaxial GaN films grown for large-sized wafers in radical-enhanced metalorganic chemical vapor deposition 査読有り

    Yasuhiro Isobe, Takayuki Sakai, Naoharu Sugiyama, Ichiro Mizushima, Kyoichi Suguro, Naoto Miyashita, Yi Lu, Amalraj Frank Wilson, Dhasiyan Arun Kumar, Nobuyuki Ikarashi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Naohiro Shimizu, Osamu Oda, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Journal of Vacuum Science & Technology B   37 巻 ( 3 )   2019年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.5083970

  79. A 65-nm CMOS Fully Integrated Analysis Platform Using an On-Chip Vector Network Analyzer and a Transmission-Line-Based Detection Window for Analyzing Circulating Tumor Cell and Exosome

    Niitsu Kiichi, Nakanishi Taiki, Murakami Shunya, Matsunaga Maya, Kobayashi Atsuki, Karim Nissar Mohammad, Ito Jun, Ozawa Naoya, Hase Tetsunari, Tanaka Hiromasa, Sato Mitsuo, Kondo Hiroki, Ishikawa Kenji, Odaka Hidefumi, Hasegawa Yoshinori, Hori Masaru, Nakazato Kazuo

    IEEE TRANSACTIONS ON BIOMEDICAL CIRCUITS AND SYSTEMS   13 巻 ( 2 ) 頁: 470-479   2019年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TBCAS.2018.2882472

    Web of Science

  80. Effects of 3D structure on electrochemical oxygen reduction characteristics of Pt- nanoparticle-supported carbon nanowalls

    Imai Shun, Naito Kenichi, Kondo Hiroki, Cho Hyung Jun, Ishikawa Kenji, Tsutsumi Takayoshi, Sekine Makoto, Hiramatsu Mineo, Hori Masaru

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   52 巻 ( 10 )   2019年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aaf8e0

    Web of Science

  81. Chemical bonding structure in porous SiOC films (k<2.4) with high plasma-induced damage resistance 査読有り

    Hideshi Miyajima, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Micro and Nano Engineering   3 巻   頁: 1-6   2019年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.mne.2019.02.005

  82. Effects of BCl3 addition to Cl-2 gas on etching characteristics of GaN at high temperature

    Tanide Atsushi, Nakamura Shohei, Horikoshi Akira, Takatsuji Shigeru, Kohno Motohiro, Kinose Kazuo, Nadahara Soichi, Ishikawa Kenji, Sekine Makoto, Hori Masaru

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B   37 巻 ( 2 )   2019年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.5082345

    Web of Science

  83. Atomic layer etching of AlGaN using Cl-2 and Ar gas chemistry and UV damage evaluation

    Fukumizu Hiroyuki, Sekine Makoto, Hori Masaru, Kanomaru Koji, Kikuchi Takuo

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   37 巻 ( 2 )   2019年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.5063795

    Web of Science

  84. Real-time control of a wafer temperature for uniform plasma process

    T. Tsutsumi, Y. Fuknaga, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori

    2018 International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM)     2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/ISSM.2018.8651183

  85. Non-thermal plasma-activated medium modified metabolomic profiles in the glycolysis of U251SP glioblastoma 査読有り

    Naoyuki Kurake, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka, Hiroshi Hashizume, Kae Nakamura, Hiroaki Kajiyama, Shinya Toyokuni, Fumitaka Kikkawa, Masaaki Mizuno, Masaru Hori

    Archives of Biochemistry and Biophysics   662 巻   頁: 83-92   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  86. Remotely floating wire-assisted generation of high-density atmospheric pressure plasma and SF6-added plasma etching of quartz glass

    Thi-Thuy-Nga Nguyen, Sasaki Minoru, Odaka Hidefumi, Tsutsumi Takayoshi, Ishikawa Kenji, Hori Masaru

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   125 巻 ( 6 )   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5081875

    Web of Science

  87. Control of sp2-C cluster incorporation of amorphous carbon films grown by H-radical-injection CH4/H2 plasma-enhanced chemical vapor deposition 査読有り

    Hirotsugu Sugiura, Lingyun Jia, Yasuyuki Ohashi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Toshio Hayashi, Keigo Takeda, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   58 巻 ( 3 )   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/aafd49

  88. Single-Step, Low-Temperature Simultaneous Formations and in Situ Binding of Tin Oxide Nanoparticles to Graphene Nanosheets by In-Liquid Plasma for Potential Applications in Gas Sensing and Lithium-Ion Batteries 査読有り

    Ranjit R. Borude, Hirotsugu Sugiura, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Nobuyuki Ikarashi, and Masaru Hori

    ACS Applied Nano Materials   2 巻 ( 2 ) 頁: 649-654   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  89. Adhesion enhancement and amine reduction using film redeposited at the interface of a stack of plasma-enhanced CVD dielectrics for Cu/low-k interconnects

    Miyajima Hideshi, Watanabe Kei, Ishikawa Kenji, Sekine Makoto, Hori Masaru

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   58 巻 ( 2 )   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/aafb5b

    Web of Science

  90. Narrow free-standing features fabricated by top-down self-limited trimming of organic materials using precisely temperature-controlled plasma etching system

    Fukunaga Yusuke, Tsutsumi Takayoshi, Kondo Hiroki, Ishikawa Kenji, Sekine Makoto, Hori Masaru

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   58 巻 ( 2 )   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/aaf92a

    Web of Science

  91. Hetero-epitaxial growth of a GaN film by the combination of magnetron sputtering with Ar/Cl-2 gas mixtures and a separate supply of nitrogen precursors from a high density radical source

    Tanide Atsushi, Nakamura Shohei, Horikoshi Akira, Takatsuji Shigeru, Kohno Motohiro, Kinose Kazuo, Nadahara Soichi, Nishikawa Masazumi, Ebe Akinori, Ishikawa Kenji, Hori Masaru

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   58 巻 ( SA )   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/aaeb39

    Web of Science

  92. Effects of Ion Bombardment Energy Flux on Chemical Compositions and Structures of Hydrogenated Amorphous Carbon Films Grown by a Radical-Injection Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 査読有り

    Hirotsugu Sugiura , Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa and Masaru Hori

    C-Journal of Carbon Research   5 巻 ( 1 )   2019年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/c5010008

  93. Electrochemical Reaction in Hydrogen Peroxide and Structural Change of Platinum Nanoparticle-Supported Carbon Nanowalls Grown Using Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 査読有り

    Masakazu Tomatsu 1, Mineo Hiramatsu, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Journal of Carbon Research   5 巻 ( 1 )   2019年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/c5010007

  94. Effect of electrical stimulation on proliferation and bone-formation by osteoblast-like cells cultured on carbon nanowalls scaffolds 査読有り

    Tomonori Ichikawa, Suiki Tanaka, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Applied Physics Express   12 巻 ( 2 )   2019年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1882-0786/aaf469

  95. Modifications of surface and bulk properties of magnetron-sputtered carbon films employing a post-treatment of atmospheric pressure plasma 査読有り

    Ranjit R. Borude, Hirotsugu Sugiura, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Jeon Geon Han and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   58 巻 ( SA )   2019年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/aaec87

  96. Polyethylene terephthalate (PET) surface modification by VUV and neutral active species in remote oxygen or hydrogen plasmas 査読有り

    Yan Zhang, Kenji Ishikawa, Miran Mozetič, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo , Makoto Sekine, Masaru Hori

    Plasma Processes and Polymers   16 巻 ( 6 )   2019年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201800175

  97. Batch Fabrication of Nano-Gap Electrode Array Using Photo-Patterning and Resist UV-Curing 査読有り

    Hai Minh Nguyer, Mako Kumeuchi, Shinya Kumagai, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Minoru Sasaki

    IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines   139 巻 ( 1 ) 頁: 27-28   2019年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1541/ieejsmas.139.27

  98. Liquid dynamics in response to an impinging low-temperature plasma jet 査読有り

    Timothy R. Brubaker, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Sean D. Knecht, Sven G. Bilen, and Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics   52 巻 ( 7 )   2018年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aaf460

  99. Pt nanoparticle-supported carbon nanowalls electrode with improved durability for fuel cell applications using C2F6/H2 plasma-enhanced chemical vapor deposition 査読有り

    Shun Imai, Hiroki Kondo, Cho Hyungjun, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu and Masaru Hori

    Applied Physics Express   12 巻 ( 1 )   2018年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1882-0786/aaf0ab

  100. 大気圧プラズマを用いたがん治療へ向けた基礎研究

    田中宏昌、堀勝

    腎とフリーラジカル 第13集     頁: 46-49   2018年11月

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    記述言語:日本語  

  101. Effect of N2/H2 plasma on GaN substrate cleaning for homoepitaxial GaN growth by radical-enhanced metalorganic chemical vapor deposition (REMOCVD) 査読有り

    Frank Wilson Amalraj, Arun Kumar Dhasiyan, Yi Lu1, Naohiro Shimizu, Osamu Oda, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Nobuyuki Ikarashi, and Masaru Hori

    AIP Advances   8 巻 ( 11 )   2018年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5050819

  102. Oriented Carbon Nanostructures by Plasma Processing: Recent Advances and Future Challenges

    Santhosh Neelakandan M., Filipic Gregor, Tatarova Elena, Baranov Oleg, Kondo Hiroki, Sekine Makoto, Hori Masaru, Ostrikov Kostya (Ken), Cvelbar Uros

    MICROMACHINES   9 巻 ( 11 )   2018年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/mi9110565

    Web of Science

  103. Time Evolution Of Reactive Oxygen Nitrogen Species in Plasma-Activated Essential Media and Water

    Brubaker Timothy, Ishikawa Kenji, Takeda Keigo, Hashizume Hiroshi, Tanaka Hiromasa, Kondo Hiroki, Sekine Makoto, Hori Masaru

    2017 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLASMA SCIENCE (ICOPS)     2018年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/PLASMA.2017.8496057

  104. Molecular mechanisms of non-thermal plasma-induced effects in cancer cells 査読有り

    Tanaka, Hiromasa; Mizuno, Masaaki; Ishikawa, Kenji; Toyokuni, Shinya; Kajiyama, Hiroaki; Kikkawa, Fumitaka; Hori, Masaru

    Biological Chemistry     2018年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1515/hsz-2018-0199

  105. 大気圧プラズマ処理による異種材料接合

    近藤博基、堤隆嘉、石川健治、関根 誠、堀 勝 

    化学工学(公益社団法人 化学工学会)   82 巻 ( 9 ) 頁: 487-490   2018年9月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  106. Mechanism of asymmetric etched profiles in trimming process 査読有り

    Nobuyuki Negishi, Masatoshi Miyake, Keigo Takeda, and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   57 巻 ( 10 )   2018年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.106201

  107. Reaction mechanisms between chlorine plasma and a spin-on-type polymer mask for high-temperature plasma etching 査読有り

    Yan Zhang, Masato Imamura, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   57 巻 ( 10 )   2018年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.106502

  108. New hopes for plasma-based cancer treatment 査読有り

    Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Kenji Ishikawa, Shinya Toyokuni, Hiroaki Kajiyama, Fumitaka Kikkawa, Masaru Hori

    Plasma 2018   1 巻   頁: 150-155   2018年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/plasma1010014

  109. Cytotoxic effects of plasma-irradiated fullerenol 査読有り

    Daiki Kanno, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume and Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics   51 巻 ( 37 )   2018年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aad510

  110. Effect of substrate temperature on sidewall erosion in high-aspect-ratio Si hole etching employing HBr/SF6/O2 plasma 査読有り

    Itsuko Sakai, Katsunori Yahashi, Satoshi Shimonishi, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   57 巻 ( 9 )   2018年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.098004

  111. Elevated-temperature etching of gallium nitride (GaN) in dual-frequency capacitively coupled plasma of CH4/H2 at 300-500°C 査読有り

    Takashi Kako, Zecheng Liu, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Osamu Oda, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Vacuum   156 巻   頁: 219-223   2018年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.vacuum.2018.07.040

  112. プラズマ技術概論

    堀 勝

    自動車技術   72 巻   頁: P12-17   2018年6月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  113. Cell Deposition Microchip with Micropipette Control over Liquid Interface Motion 査読有り

    Onoshima Daisuke, Hattori Yuya, Yukawa Hiroshi, Ishikawa Kenji, Hori Masaru, Baba Yoshinobu

    CELL MEDICINE   10 巻   2018年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1177/2155179017733152

    Web of Science

  114. Imaging Differences between Neuromyelitis Optica Spectrum Disorders and Multiple Sclerosis: A Multi-Institutional Study in Japan 査読有り

    Tatekawa H., Sakamoto S., Hori M., Kaichi Y., Kunimatsu A., Akazawa K., Miyasaka T., Oba H., Okubo T., Hasuo K., Yamada K., Taoka T., Doishita S., Shimono T., Miki Y.

    AMERICAN JOURNAL OF NEURORADIOLOGY   39 巻 ( 7 ) 頁: 1239-1247   2018年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3174/ajnr.A5663

    Web of Science

  115. Effects of gas residence time of CH4/H2 on sp2 fraction of amorphous carbon films and dissociated methyl density during radical-injection plasma-enhanced chemical vapor deposition 査読有り

    Hirotsugu Sugiura, Lingyun Jia, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Toshio Hayashi, Keigo Takeda, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   57 巻 ( 6s2 )   2018年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.06JE03

  116. Low-autofluorescence fluoropolymer membrane filters for cell filtration 査読有り

    Naoto Kihara, Daiki Kuboyama, Daisuke Onoshima, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka, Naoya Ozawa, Tetsunari Hase, Ryohei Koguchi, Hiroshi Yukawa, Hidefumi Odaka, Yoshinori Hasegawa, Yoshinobu Baba and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   57 巻 ( 6s2 )   2018年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.06JF03

  117. Temperature dependence on plasma-induced damage and chemical reactions in GaN etching processes using chlorine plasma 査読有り

    Zecheng Liu, Kenji Ishikawa, Masato Imamura, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Osamu Oda, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   57 巻 ( 6s2 )   2018年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.06JD01

  118. Plasma Activated Medium

    Hiromasa Tanaka, and Masaru Hori

    Comprehensive Clinical Plasma Medicine     頁: 431-440   2018年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

    DOI: 10.1007/978-3-319-67627-2_26

  119. Dissociative properties of 1,1,1,2-tetrafluoroethane obtained by computational chemistry 査読有り

    Toshio Hayashi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   57 巻 ( 6s2 )   2018年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.06JC02

  120. Impact of helium pressures in arc plasma synthesis on crystallinity of single-walled carbon nanotubes 査読有り

    Atsushi Ando, Keigo Takeda, Takayuki Ohta, Masafumi Ito, Mineo Hiramatsu, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Tomoko Suzuki, Sakae Inoue, Yoshinori Ando, and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   57 巻 ( 6S2 )   2018年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.06JF01

  121. Isotropic atomic level etching of tungsten using formation and desorption of tungsten fluoride 査読有り

    Shinoda Kazunori, Miyoshi Nobuya, Kobayashi Hiroyuki, Hanaoka Yuko, Kawamura Kohei, Izawa Masaru, Ishikawa Kenji, Hori Masaru

    ADVANCED ETCH TECHNOLOGY FOR NANOPATTERNING VII   10589 巻   2018年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1117/12.2297241

    Web of Science

  122. Nanographene synthesized in triple-phase plasmas as a highly durable support of catalysts for polymer electrolyte fuel cells 査読有り

    Amano Tomoki, Kondo Hiroki, Takeda Keigo, Ishikawa Kenji, Hiramatsu Mineo, Sekine Makoto, Hori Masaru

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 4 )   2018年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.045101

  123. Disruption of the pacemaker activity of interstitial cells of Cajal via nitric oxide contributes to postoperative ileus 査読有り

    Kaji N., Nakayama S., Horiguchi K., Iino S., Ozaki H., Hori M.

    NEUROGASTROENTEROLOGY AND MOTILITY   30 巻 ( 8 )   2018年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1111/nmo.13334

  124. Reduced HeLa cell viability in methionine-containing cell culture medium irradiated with microwave-excited atmospheric-pressure plasma

    Takahashi Yohei, Taki Yusuke, Takeda Keigo, Hashizume Hiroshi, Tanaka Hiromasa, Ishikawa Kenji, Hori Masaru

    PLASMA PROCESSES AND POLYMERS   15 巻 ( 3 )   2018年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201700200

    Web of Science

  125. Glioblastoma Cell Lines Display Different Sensitivities to Plasma-Activated Medium

    Tanaka Hiromasa, Mizuno Masaaki, Ishikawa Kenji, Takeda Keigo, Hashizume Hiroshi, Nakamura Kae, Utsumi Fumi, Kajiyama Hiroaki, Okazaki Yasumasa, Toyokuni Shinya, Akiyama Shinichi, Maruyama Shoichi, Kikkawa Fumitaka, Hori Masaru

    IEEE TRANSACTIONS ON RADIATION AND PLASMA MEDICAL SCIENCES   2 巻 ( 2 ) 頁: 99-102   2018年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TRPMS.2017.2721973

    Web of Science

  126. NHM-SMAP: spatially and temporally high-resolution nonhydrostatic atmospheric model coupled with detailed snow process model for Greenland Ice Sheet 査読有り

    Niwano Masashi, Aoki Teruo, Hashimoto Akihiro, Matoba Sumito, Yamaguchi Satoru, Tanikawa Tomonori, Fujita Koji, Tsushima Akane, Iizuka Yoshinori, Shimada Rigen, Hori Masahiro

    CRYOSPHERE   12 巻 ( 2 ) 頁: 635-655   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.5194/tc-12-635-2018

    Web of Science

  127. Cytotoxicity of cancer HeLa cells sensitivity to normal MCF10A cells in cultivations with cell culture medium treated by microwave-excited atmospheric pressure plasmas 査読有り

    Takahashi Yohei, Taki Yusuke, Takeda Keigo, Hashizume Hiroshi, Tanaka Hiromasa, Ishikawa Kenji, Hori Masaru

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   51 巻 ( 11 )   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aaab09

    Web of Science

  128. Oxygen reduction reaction properties of nitrogen-incorporated nanographenes synthesized using in-liquid plasma from mixture of ethanol and iron phthalocyanine 査読有り

    Amano Tomoki, Kondo Hiroki, Takeda Keigo, Ishikawa Kenji, Hiramatsu Mineo, Sekine Makoto, Hori Masaru

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 4 )   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.040303

    Web of Science

  129. Free radical generation by non-equilibrium atmospheric pressure plasma in alcohol-water mixtures: an EPR-spin trapping study 査読有り

    Uchiyama Hidefumi, Ishikawa Kenji, Zhao Qing-Li, Andocs Gabor, Nojima Nobuyuki, Takeda Keigo, Krishna Murali C., Ishijima Tatsuo, Matsuya Yuji, Hori Masaru, Noguchi Kyo, Kondo Takashi

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   51 巻 ( 9 )   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aaa885

    Web of Science

  130. Intraperitoneal Treatment With Plasma-Activated Liquid Inhibits Peritoneal Metastasis In Ovarian Cancer Mouse Model 査読有り

    Kae Nakamura, Hiroaki Kajiyama, Yang Peng, Fumi Utsumi, Nobuhisa Yoshikawa, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Shinya Toyokuni, Masaru Hori, and Fumitaka Kikkawa

    Clinical Plasma Medicine   9 巻   頁: 47-48   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cpme.2017.12.073

  131. Similarities And Differences In The Cellular Resposnses Between Plasma-Activated Medium-Treated Glioblastomas And Plasma-Activated Ringer's Lactate Solution-Treated Glioblastomas 査読有り

    Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Hiroshi Hashizume, Kae Nakamura, Hiroaki Kajiyama, Yasumasa Okazaki, Shinya Toyokuni, Shinichi Akiyama, Shoichi Maruyama, Fumitaka Kikkawa, and Masaru Hori

    Clinical Plasma Medicine   9 巻   頁: 42-43   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cpme.2017.12.066

  132. Plasma-Activated Medium Inhibites Metastatic Activities Of Ovarian Cancer Cells In Vitro Via Repressing Mapk Pathway 査読有り

    Yang Peng, Hiroaki Kajiyama, Kae Nakamura, Fumi Utsumi, Nobuhisa Yoshikawa, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Shinya Toyokuni, Masaru Hori, and Fumitaka Kikkawa

    Clinical Plasma Medicine   9 巻   頁: 41-42   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cpme.2017.12.065

  133. Current status and future prospects of agricultural applications using atmospheric-pressure plasma technologies

    Ito Masafumi, Oh Jun-Seok, Ohta Takayuki, Shiratani Masaharu, Hori Masaru

    PLASMA PROCESSES AND POLYMERS   15 巻 ( 2 )   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201700073

    Web of Science

  134. Facile fabrication of a poly(ethylene terephthalate) membrane filter with precise arrangement of through-holes 査読有り

    Kihara Naoto, Odaka Hidefumi, Kuboyama Daiki, Onoshima Daisuke, Ishikawa Kenji, Baba Yoshinobu, Hori Masaru

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 3 )   2018年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.037001

    Web of Science

  135. Effect of Plasma-Activated Lactated Ringer's Solution on Pancreatic Cancer Cells In Vitro and In Vivo 査読有り

    Sato Yusuke, Yamada Suguru, Takeda Shigeomi, Hattori Norifumi, Nakamura Kae, Tanaka Hiromasa, Mizuno Masaaki, Hori Masaru, Kodera Yasuhiro

    ANNALS OF SURGICAL ONCOLOGY   25 巻 ( 1 ) 頁: 299-307   2018年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1245/s10434-017-6239-y

    Web of Science

  136. Nanographene synthesis employing in-liquid plasmas with alcohols or hydrocarbons 査読有り

    Atsushi Ando, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Keigo Takeda, Takayuki Ohta, Masafumi Ito, Mineo Hiramatsu, Makoto Sekine and Masaru Hori

    The Japan Society of Applied Physics   57 巻 ( 2 )   2018年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.7567/JJAP.57.026201

  137. Nanographene synthesis employing in-liquid plasmas with alcohols or hydrocarbons 査読有り

    Ando Atsushi, Ishikawa Kenji, Kondo Hiroki, Tsutsumi Takayoshi, Takeda Keigo, Ohta Takayuki, Ito Masafumi, Hiramatsu Mineo, Sekine Makoto, Hori Masaru

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 2 )   2018年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.026201

    Web of Science

  138. Electron impact ionization of perfluoro-methyl-vinyl-ether C3F6O

    Kondo Yusuke, Ishikawa Kenji, Hayashi Toshio, Sekine Makoto, Hori Masaru

    PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY   27 巻 ( 1 )   2018年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6595/aaa22e

    Web of Science

  139. Rapid growth of micron-sized graphene flakes using in-liquid plasma employing iron phthalocyanine-added ethanol 査読有り

    Tomoki Amano, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Keigo Takeda, Mineo Hiramatsu, Makoto Sekine and Masaru Hori

    The Japan Society of Applied Physics   11 巻 ( 1 )   2017年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.11.015102

  140. Plasma-activated medium (PAM) kills human cancer-initiating cells 査読有り

    Ikeda Jun-ichiro, Tanaka Hiromasa, Ishikawa Kenji, Sakakita Hajime, Ikehara Yuzuru, Hori Masaru

    PATHOLOGY INTERNATIONAL   68 巻 ( 1 ) 頁: 23-30   2017年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1111/pin.12617

    Web of Science

  141. Dynamic analysis of reactive oxygen nitrogen species in plasma-activated culture medium by UV absorption spectroscopy 査読有り

    Timothy Ryan Brubaker, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Jun-Seok Oh, Hiroki KONDO, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Sean David Knecht, Sven Bilén, and Masaru Hori

    Journal of Applied Physics   122 巻 ( 21 )   2017年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4999256

  142. Oxygen-radical pretreatment promotes cellulose degradation by cellulolytic enzymes 査読有り

    Kiyota Sakai, Saki Kojiya, Junya Kamijo, Yuta Tanaka, Kenta Tanaka, Masahiro Maebayashi, Jun-Seok Oh, Masafumi Ito, Masaru Hori, Motoyuki Shimizu, and Masashi Kato

    Biotechnology for Biofuels   10 巻   2017年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1186/s13068-017-0979-6

  143. Abstract 18: Therapeutic potential of cold physical plasma in palliative cancer care: Introduction and perspectives 査読有り

    Christian Seebauer, Thomas von Woedtke, Klaus-Dieter Weltmann, Vandana Miller, Masaru Hori and Hans-Robert Metelmann

    CLINICAL CANCER RESEARCH 23(23 supplement) pp. 18 (December, 2017)     2017年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1158/1557-3265.AACRAHNS17-18

  144. Intracellular responses to reactive oxygen and nitrogen species, and lipid peroxidation: Induction of apoptotic death in HeLa cells following cultivation in non-equilibrium (cold) atmospheric pressure plasma-activated medium 査読有り

    Ryo Furuta, Naoyuki Kurake, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiromasa Tanaka, Hiroshi Hashizume, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Plasma Process and Polymers   14 巻 ( 11 )   2017年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201700123

  145. Dependence of absolute photon flux on infrared absorbance alteration and surface roughness on photoresist polymers irradiated with vacuum ultraviolet photons emitted from HBr plasma 査読有り

    Yan Zhang, Takuya Takeuchi, Kenji Ishikawa, Toshio Hayashi, Keigo Takeda, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   56 巻 ( 12 )   2017年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.126503

  146. Selective production of reactive oxygen and nitrogen species in the plasma-treated water by using a nonthermal high-frequency plasma jet 査読有り

    Uchida Giichiro, Takenaka Kosuke, Takeda Keigo, Ishikawa Kenji, Hori Masaru, Setsuhara Yuichi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 1 )   2017年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.0102B4

    Web of Science

  147. Crystallization of calcium oxalate dihydrate in a buffered calcium-containing glucose 査読有り

    Naoyuki Kurake, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Kae Nakamura, Hiroaki Kajiyama,

    Journal of Applied Physics   122 巻 ( 14 )   2017年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5006598

  148. 大気圧プラズマ処理における殺菌・医療・バイオ分野への応用

    橋爪博司、田中宏昌、堀勝、伊藤昌文

    工業材料   Vol.65. 巻 ( No.10 ) 頁: 27-30   2017年10月

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    記述言語:日本語  

  149. Clinical Experience with Cold Plasma in the Treatment of Locally Advanced Head and Neck Cancer 査読有り

    Hans-Robert Metelmann, Christian Seebauer,Vandana Miller, Alexander Fridman, Georg Bauer, David B.Graves, Jean-Michel Pouvesle Rico Rutkowski, Matthias Schuster Sander Bekeschus, Kristian Wende, Kai Masur, Sybille Hasse, Torsten Gerling, Masaru Hori, Hiromasa Tanaka, Eun Ha Choi, Klaus-Dieter Weltmann, and Thomas von Woedtke

    Clinical Plasma Medicine,     2017年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cpme.2017.09.001

  150. Thermal Cyclic Atomic-Level Etching of Nitride Films: A Novel Way for Atomic-Scale Nanofabrication 査読有り

    Kazunori Shinodaa, Nobuya Miyoshia, Hiroyuki Kobayashia, Masaru Kuriharaa, Masaru Izawa, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori

    ECS Transactions     2017年9月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.1149/08003.0003ecst

  151. Cold atmospheric helium plasma causes synergistic enhancement in cell death with hyperthermia and an additive enhancement with radiation 査読有り

    Moniruzzaman Rohan, Qing-Li Zhao, Paras Jawaid, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Kei Tomihara, Noguchi Kyo, Takashi Kondo, and Makoto Noguchi

    Scientific Reports   7 巻   2017年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-017-11877-8

  152. Surface roughening of photoresist after change of the photon/radical and ion treatment sequence 査読有り

    Yan Zhanga, Takuya Takeuchi, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films J.   135 巻 ( 6 )   2017年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.4994218

  153. High-durability catalytic electrode composed of Pt nanoparticle-supported carbon nanowalls synthesized by radical-injection plasma-enhanced chemical vapor deposition 査読有り

    Shun Imai, Hiroki Kondo, Hyungjun Cho, Hiroyuki Kano, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu, Masafumi Ito, Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics,   Vol 50 巻 ( 40 )   2017年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aa8131

  154. Thermally enhanced formation of photon-induced damage on GaN films in Cl2 plasma 査読有り

    Zecheng Liu*, Atsuki Asano, Masato Imamura, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo,

    Japanese Journal of Applied Physics   56 巻   2017年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.096501

  155. Palliative Plasmabehandlung von Kopf-Hals-Tumoren und kurative Konzepte

    Christian Seebauer, Hiromasa Tanaka, Masaru Hori, Hans Robert Metelmann

    Plasmamedizin (in German)     頁: 99-109   2017年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/978-3-662-52645-3_8

  156. The 2017 Plasma Roadmap: Low temperature plasma science and technology

    Adamovich I., Baalrud S. D., Bogaerts A., Bruggeman P. J., Cappelli M., Colombo V., Czarnetzki U., Ebert U., Eden J. G., Favia P., Graves D. B., Hamaguchi S., Hieftje G., Hori M., Kaganovich I. D., Kortshagen U., Kushner M. J., Mason N. J., Mazouffre S., Thagard S. Mededovic, Metelmann H-R, Mizuno A., Moreau E., Murphy A. B., Niemira B. A., Oehrlein G. S., Petrovic Z. Lj, Pitchford L. C., Pu Y-K, Rauf S., Sakai O., Samukawa S., Starikovskaia S., Tennyson J., Terashima K., Turner M. M., van de Sanden M. C. M., Vardelle A.

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   50 巻 ( 32 )   2017年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aa76f5

    Web of Science

  157. Reduction of chlorine radical chemical etching of GaN under simultaneous plasma-emitted photon irradiation 査読有り

    Zecheng Liu, Masato Imamura, Atsuki Asano, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Osamu Oda, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Applied Physics Express   10 巻   2017年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.10.086502

  158. Lipid Droplets Exhaustion with Caspases Activation in HeLa Cells Cultured in Plasma-Activated Medium (PAM) Observed By Multiplex Coherent Anti-Stokes Raman Scattering (CARS) Microscopy 査読有り

    Ryo Furuta, Naoyuki Kurake, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Takayuki Ohta, Masafumi Ito, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Biointerphases   12 巻 ( 3 )   2017年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.4997170

  159. Measurement of F-, O- and CF3- densities in 60 and 100 MHz asymmetric capacitively coupled plasma discharge produced in an Ar/O2/C4F8 gas mixture 査読有り

    N Sirse, T Tsutsumi, M Sekine, M Hori and A R Ellingboe

    Journal of Physics D: Applied Physics   50 巻 ( 33 )   2017年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aa77c4

  160. Novel Intraperitoneal Treatment With Non-Thermal Plasma-Activated Medium Inhibits Metastatic Potential of Ovarian Cancer Cells 査読有り

    Kae Nakamura, Yang Peng, Fumi Utsumi, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Shinya Toyokuni, Masaru Hori, Fumitaka Kikkawa & Hiroaki Kajiyama

    Scientific Reports   7 巻   2017年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-017-05620-6

  161. State of the art in medical applications using non-thermal atmospheric pressure plasma 査読有り

    Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Masaaki Mizuno, Shinya Toyokuni, Hiroaki Kajiyama, Fumitaka Kikkawa, Hans-Robert Metelmann, Masaru Hori

    Plasma Physics, Association of Asia Pacific Physical Societies 2017   1 巻   2017年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s41614-017-0004-3

  162. Non-thermal plasma induces a stress response in mesothelioma cells resulting in increased endocytosis, lysosome biogenesis and autophagy 査読有り

    Lei Shi, Fumiya Ito, Yue Wang, Yasumasa Okazaki, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Masaru Hori, Tasuku Hirayama, Hideko Nagasawa, Des R. Richardson, Shinya Toyokuni

    Free Rad. Biol. Med   108 巻   頁: 904-917   2017年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.freeradbiomed.2017.04.368

  163. Temperature dependence of protection layer formation on organic trench sidewall in H2/N2 plasma etching with control of substrate temperature 査読有り

    Yusuke Fukunaga, Takayoshi Tsutsumi, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   56 巻 ( 21 )   2017年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.076202

  164. Intracellular-Molecular Changes in Plasma-irradiated Budding Yeast Cells Studied Using Multiplex Coherent Anti-Stokes Raman Scattering Microscopy 査読有り

    Ryo Furuta, Naoyuki Kurake, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroshi Hashizume, Hiroki Kondo, Takayuki Ohta, Masafumi Ito, Makoto, Sekine, and Masaru Hori

    Physical Chemistry Chemical Physics   19 巻 ( 21 )   2017年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/C7CP00489C

  165. Hydrogen peroxide sensor based on carbon nanowalls grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition 査読有り

    Masakazu Tomatsu, Mineo Hiramatsu, John S. Foord, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Keigo Takeda and Masaru Hori

    Journal of Applied Physics   56 巻 ( 6S2 )   2017年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.06HF03

  166. Progress and prospects in nanoscale dry processes: How can we control atomic layer reactions? 査読有り

    K. Ishikawa, K. Karahashi, T. Ichiki, J. P. Chang, S. M. George, W. M. M. Kessels, H. J. Lee, S. Tinck, J. H. Um, K. Kinoshita

    Japanese Journal of Applied Physics   56 巻 ( 6S2 )   2017年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.06HA02

  167. Micro-Coordination of Pacemaker Potentials in the Intestine of the Mouse

    Morishita Hirotaka, Iwata Naoko, Takai Chiho, Mochizuki Naoto, Kaji Noriyuki, Hori Masatoshi, Kajioka Shunichi, Nakayama Shinsuke

    GASTROENTEROLOGY   152 巻 ( 8 ) 頁: 1831-+   2017年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1053/j.gastro.2017.04.016

    Web of Science

  168. Electron behaviors in afterglow of synchronized dc-imposed pulsed fluorocarbon-based plasmas 査読有り

    Toshinari Ueyama, Yusuke Fukunaga, Takayoshi Tsutsumi, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Manabu Iwata, Yoshinobu Ohya, Hideo Sugai, and Masaru Hori

    Journal of Applied Physics   56 巻 ( 6S2 )   2017年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.06HC03

  169. Advanced Plasma Etching Processing: Atomic Layer Etching for Nanoscale Devices 査読有り

    Takayoshi Tsutsumi, M. Zaitsu, Akiko Kobayashi, N. Kobayashi, and Masaru Hori

    ECS Transactions   77 巻 ( 3 )   2017年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

    DOI: 10.1149/07703.0025ecst

  170. Growth of InN firms by radical-enhanced metal organic chemical vapor deposition at a low temperature of 200 °C 査読有り

    S. Takai, Y. Lu, O. Oda, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine and M. Hori

    Journal of Applied Physics   56 巻 ( 6S2 )   2017年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.56.06HE08

  171. 電子スピン共鳴法を活用したプラズマバイオ反応プロセスの診断

    石川健治 近藤隆 竹田圭吾 呉準席 橋爪博司 田中宏昌 近藤博基 太田貴之 伊藤昌文 関根誠 堀勝

    プラズマ・核融合学会誌   93 巻 ( 5 ) 頁: 246-252   2017年5月

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    記述言語:日本語  

  172. Selective atomic-level etching using two heating procedures, infrared irradiation and ion bombardment, for next-generation semiconductor device manufacturing

    Shinoda K., Miyoshi N., Kobayashi H., Miura M., Kurihara M., Maeda K., Negishi N., Sonoda Y., Tanaka M., Yasui N., Izawa M., Ishii Y., Okuma K., Saldana T., Manos J., Ishikawa K., Hori M.

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   50 巻 ( 19 )   2017年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aa6874

    Web of Science

  173. Intraperitoneal Administration of Plasma-Activated Medium: Proposal of a Novel Treatment Option for Peritoneal Metastasis From Gastric Cancer 査読有り

    Shigeomi Takeda, Suguru Yamada, Norifumi Hattori, Kae Nakamura, Hiromasa Tanaka, Hiroaki Kajiyama, Mitsuro Kanda, Daisuke Kobayashi, Chie Tanaka, Tsutomu Fujii, Michitaka Fujiwara, Masaaki Mizuno, Masaru Hori, Yasuhiro Kodera

    Annals of Surgical Oncology   24 巻 ( 5 )   2017年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1245/s10434-016-5759-1

  174. Effect of plasma-activated medium on the decrease of tumorigenic population in lymphoma 査読有り

    N. Wada, J. Ikeda, H. Tanaka, H. Sakakita, M. Hori, Y. Ikehara, E. Morii

    Pathology - Researchand Practice   213 巻   2017年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.prp.2017.04.003

  175. Bactericidal pathway of Escherichia coli in buffered saline treated with oxygen radicals 査読有り

    Tsuyoshi Kobayashi, Natsumi Iwata, Jun-Seok Oh, Hiroshi Hashizume, Takayuki Ohta, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, 20Masaru Hori, and Masafumi Ito

    J. Phys. D: Appl. Phys   50 巻 ( 15 )   2017年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aa61d7/

  176. Absolute density of precursor SiH3 radicals and H atoms in H2-diluted SiH4 gas plasma for deposition of microcrystalline silicon films 査読有り

    Yusuke Abe , Kenji Ishikawa , Keigo Takeda , Takayoshi Tsutsumi , Atsushi Fukushima , Hiroki KONDO , Makoto Sekine , Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics   50 巻 ( 19 )   2017年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1088/1361-6463/aa6874

  177. Spatial distributions of O, N, NO, OH and vacuum ultraviolet light along gas flow direction in an AC-excited atmospheric pressure Ar plasma jet generated in open air 査読有り

    Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics   50 巻 ( 19 )   2017年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aa6555

  178. Investigation of the radially resolved oxygen dissociation degree and local mean electron energy in oxygen plasmas in contact with different surface materials 査読有り

    T. Tsutsumi, A. Greb, A. R. Gibson, M. Hori, D. OConnell, T. Gans

    Journal of Physics D: Applied Physics   50 巻 ( 19 )   2017年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aa6555

  179. Bactericidal pathway of Escherichia coli in buffered saline treated with oxygen radicals 査読有り

    Tsuyoshi Kobayashi, Natsumi Iwata, Jun-Seok Oh, Hiroshi Hahizume, Takayuki Ohta, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Masaru Hori and Masafumi Ito

    Journal of Physics D: Applied Physics   50 巻 ( 15 )   2017年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1088/1361-6463/aa61d7

  180. Spatial profiles of interelectrode electron density in direct current superposed dual-frequency capacitively coupled plasmas 査読有り

    Yoshinobu Ohya, Kenji Ishikawa, Tatsuya Komuro, Tsuyoshi Yamaguchi, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics   50 巻 ( 15 )   2017年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1088/1361-6463/aa60f7

  181. Effects of OH and NO radicals in the aqueous phase on H2O2 and NO2-generated in plasma-activated medium 査読有り

    Naoyuki Kurake, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroshi Hashizume, Kae Nakamura, Hiroaki Kajiyama, Takashi Kondo, Fumitaka Kikkawa, Masaaki Mizuno and Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics   50 巻 ( 15 )   2017年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1088/1361-6463/aa5f1

  182. Effects of center dot OH and center dot NO radicals in the aqueous phase on H2O2 and NO2- generated in plasma-activated medium

    Kurake Naoyuki, Tanaka Hiromasa, Ishikawa Kenji, Takeda Keigo, Hashizume Hiroshi, Nakamura Kae, Kajiyama Hiroaki, Kondo Takashi, Kikkawa Fumitaka, Mizuno Masaaki, Hori Masaru

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   50 巻 ( 15 )   2017年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aa5f1d

    Web of Science

  183. Spatial profiles of interelectrode electron density in direct current superposed dual-frequency capacitively coupled plasmas 査読有り

    Ohya Yoshinobu, Ishikawa Kenji, Komuro Tatsuya, Yamaguchi Tsuyoshi, Takeda Keigo, Kondo Hiroki, Sekine Makoto, Hori Masaru

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   50 巻 ( 15 )   2017年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/aa60f7

    Web of Science

  184. Postpartum atypical hemolytic uremic syndrome with complement factor H mutation complicated by reversible cerebrovascular constriction syndrome successfully treated with eculizumab 査読有り

    Yamaguchi Makoto, Hori Mayuko, Hiroshi Nagaya, Maruyama Shoichi

    THROMBOSIS RESEARCH   151 巻   頁: 79-81   2017年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.thromres.2017.01.013

    Web of Science

  185. Behavior of absolute densities of atomic oxygen in the gas phase near an object surface in an AC-excited atmospheric pressure He plasma jet 査読有り

    Keigo Takeda, Takumi Kumakura, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Applied Physics Express   10 巻 ( 3 )   2017年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.7567/APEX.10.036201

  186. Characteristics of optical emissions of arc plasma processing for high-rate synthesis of highly crystalline single-walled carbon nanotubes 査読有り

    A. Ando, K. Takeda, T. Ohta, M. Ito, M. Hiramatsu, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, T. Suzuki, S. Inoue, Y. Ando, M. Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   56 巻 ( 3 )   2017年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.7567/APEX.9.096201

  187. Investigation of effects of ion energies on both plasma-induced damage and surface morphologies and optimization of high-temperature Cl2 plasma etching of GaN 査読有り

    Zecheng Liu, Jialin Pan, Atsuki Asano, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Osamu Oda, Makoto Sekine and Masaru Hori

    "Japanese Journal of Applied   56 巻   2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI:10.7567/JJAP.56.026502

  188. Absolute density of precursor SiH3 radicals and H atoms in H2-diluted SiH4 gas plasma for deposition of microcrystalline silicon films

    Yusuke Abe , Kenji Ishikawa , Keigo Takeda , Takayoshi Tsutsumi , Atsushi Fukushima , Hiroki KONDO , Makoto Sekine , Masaru Hori

    Applied Physics Letters (2017)     2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4974821

  189. Densities and Surface Reaction Probabilities of Oxygen and Nitrogen Atoms During Sputter Deposition of ZnInON on ZnO 査読有り

    Matsushima Koichi, Ide Tomoaki, Takeda Keigo, Hori Masaru, Yamashita Daisuke, Seo Hyunwoong, Koga Kazunori, Shiratani Masaharu, Itagaki Naho

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   45 巻 ( 2 ) 頁: 323-327   2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2016.2632124

    Web of Science

  190. Intraperitoneal Administration of Plasma-Activated Medium: Proposal of a Novel Treatment Option for Peritoneal Metastasis From Gastric Cancer 査読有り

    Shigeomi Takeda, Suguru Yamada, Norifumi Hattori, Kae Nakamura, Hiromasa Tanaka, Hiroaki Kajiyama, Mitsuro Kanda, Daisuke Kobayashi, Chie Tanaka, Tsutomu Fujii, Michitaka Fujiwara, Masaaki Mizuno, Masaru Hori, Yasuhiro Kodera

    Annals of Surgical Oncology   24 巻 ( 5 ) 頁: 1-7   2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1245/s10434-016-5759-1

  191. Annual shell growth pattern of the Stimpson's hard clam Mercenaria stimpsoni as revealed by sclerochronological and oxygen stable isotope measurements

    Kubota Kaoru, Shirai Kotaro, Murakami-Sugihara Naoko, Seike Koji, Hori Masako, Tanabe Kazushige

    PALAEOGEOGRAPHY PALAEOCLIMATOLOGY PALAEOECOLOGY   465 巻   頁: 307-315   2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.palaeo.2016.05.016

    Web of Science

  192. Medical applications of non-thermal atmospheric pressure plasma

    Tanaka Hiromasa, Hori Masaru

    JOURNAL OF CLINICAL BIOCHEMISTRY AND NUTRITION   60 巻 ( 1 ) 頁: 29-32   2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3164/jcbn.16-67

    Web of Science

  193. Advanced Plasma Etching Processing: Atomic Layer Etching for Nanoscale Devices

    Tsutsumi T., Zaitsu M., Kobayashi A., Kobayashi N., Hori M.

    PLASMA NANO SCIENCE AND TECHNOLOGY   77 巻 ( 3 ) 頁: 25-28   2017年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1149/07703.0025ecst

    Web of Science

  194. Thermal Cyclic Atomic-Level Etching of Nitride Films: A Novel Way for Atomic-Scale Nanofabrication

    Shinoda K., Miyoshi N., Kobayashi H., Kurihara M., Izawa M., Ishikawa K., Hori M.

    ATOMIC LAYER DEPOSITION APPLICATIONS 13   80 巻 ( 3 ) 頁: 3-14   2017年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1149/08003.0003ecst

    Web of Science

  195. Plasma-inspired biomaterials 査読有り

    Cvelbar Uros, Canal Cristina, Hori Masaru

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   50 巻 ( 4 )   2016年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1361-6463/50/4/040201

    Web of Science

  196. Medical applications of non-thermal atmospheric pressure plasma

    Hiromasa Tanaka, Masaru Hori

    J. Clin. Biochem. Nutr.   60 巻 ( 1 ) 頁: 29-32   2016年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  197. Future perspective of strategic non-thermal plasma therapy for cancer treatment

    Hiroaki Kajiyama, fumi Utsumi, Kae Nakamura, Hiromasa Tanaka, Shinya Toyokuni, Masaru Hori, Fumitaka Kikkawa

    J. Clin. Biochem. Nutr.   60 巻 ( 1 ) 頁: 33-38   2016年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  198. Atomic layer etching of SiO2 by alternating an O2 plasma with fluorocarbon film deposition

    Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Masaru Hori, Masaru Zaitsu, Akiko Kobayashi, Toshihisa Nozawa, Nobuyoshi Kobayashi

    Journal of Vacuum Science & Technology   35 巻   2016年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.4971171

  199. Non-Thermal atmospheric pressure plasma activated lactate in Ringer's solution for anti-tumor effects

    H.Tanaka, K.Nakamura, M.Mizuno, K.Ishikawa, K.Takeda, h.Kajiyama, F.Utsumi, F.Kikkawa, M.Hori

    Scientific Report   35 巻   2016年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI:10.1038

  200. Effects of assisted magnetic field to an atomospheric-pressure plasma jet on radical generation at the plasma-surface interface and bactericidal function 査読有り

    Chih-Tung Liu, Takumi Kumakura, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Keigo Takeda, Masafumi Ito, Masaru Hori, Jong-Shinn Wu

    Plasam Source Science and Technology   25 巻 ( 6 )   2016年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0963-0252/25/6/065005

  201. Cell survival of glioblastoma grown in medium containing hydrogen peroxide and/or nitrite, or in plasma-activated medium

    Naoyuki Kurake,Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Takashi Kondo, Makoto Sekine, Kae Nakamura, Hiroaki Kajiyama, Fumitaka Kikkawa, Masaaki Mizuno, Masaru Hori

    Archives of Biochemistry and Biophysics   605 巻   頁: 102-108   2016年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI :10.1016/j.abb.2016.01.011

  202. Low-temperature plasma in biology and medicine

    Masaru Hori, Eun Ha Choi, Shinya Toyokuni

    Archives of Biochemistry and Biophysics   605 巻   頁: 1-2   2016年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  203. Red Blood Cell Coagulation Induced by Low-temperature Plasma Treatment

    K. Miyamoto, S. Ikehara, H. Takei, Y. Akimoto, H. Sakakita, K. Ishikawa, M. Ueda, J. Ikeda, M. Yamagishi, J. Kim, T. Yamaguchi, H. Nakanishi, T. Shimizu, N. Shimizu, M. Hori, and Y. Ikehara

    Arch. Biochem. Biophys   605 巻   頁: 95–101   2016年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.abb.2016.03.023

  204. Galectin expression in healing wounded skin treated with low-temperature plasma: Comparison with treatment by electronical coagulation

    Y. Akimoto, S. Ikehara, T. Yamaguchi, J. Kim, H. Kawakami, N. Shimizu, M. Hori, H. Sakakita, and Y. Ikehara

    Arch. Biochem. Biophys.   605 巻   頁: 1-9   2016年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.abb.2016.01.012

  205. Low temperature plasma processing for cell growth inspired carbon thin films fabrication 査読有り

    M. Kumar, J. X. Piao, S. B. Jin, J. H. Lee, S. Tajima, M. Hori, and J. G. Han

    Archives of Biochemistry and Biophysics   605 巻   頁: 41–48   2016年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1016/j.abb.2016.03.026

  206. Feedback Control System of Wafer Temperature for Advanced Plasma Processing and its Application to Organic Film Etching

    T. Tsutsumi, Y. Fukunaga, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, T. Ohta, M. Ito, M. Sekine, M. Hori

    IEEE Trans. Semicond. Manuf. 28 (4)     頁: pp. 515-520   2016年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TSM.2015.2470554

  207. Synthesis of calcium oxalate crystals in culture medium irradiated with non-equilibrium atmospheric-pressure plasma 査読有り

    Naoyuki Kurake, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Kae Nakamura, Hiroaki Kajiyama, Fumitaka Kikkawa, Masaaki Mizuno, Yoko Yamanishi and Masaru Hori

    Applied Physics Express   9 巻 ( 9 )   2016年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.7567/APEX.9.096201

  208. Rapid electron density decay observed by surface-wave probe in afterglow of pulsed fluorocarbon-based plasma

    Y. Ohya, M. Iwata, K. Ishikawa, M.Sekine, M.Hori and H.Sugai

    Japanese Journal of Applied Physics   55 巻 ( 8 ) 頁: 10.7567/JJAP.55.080309   2016年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  209. Non-thermal plasma prevents progression of endometriosis in mice

    Chiharu Ishida, Masahiko Mori, Kae Nakamura, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Masaru Hori, Akira Iwase, Fumitaka Kikkawa and Shinya Toyokuni

        頁: 111   2016年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  210. Possible therapeutic option of aqueous plasma for refractory ovarian cancer

    H. Kajiyama, F. Utsumi, K. Nakamura, H. Tanaka, M. Mizuno, S. Toyokuni, M. Hori, and F. Kikkawa

    Clinical Plasma Medicine   4 巻 ( 1 ) 頁: 14-18   2016年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cpme.2015.12.002

  211. Plasma-Activated Medium Selectively Eliminates Undifferentiated Human Induced Pluripotent Stem Cells

    R. Matsumoto, K. Shimizu, T. Nagashima, H. Tanaka, M. Mizuno, F. Kikkawa, M. Hori, and H. Honda

    Regenerative Therapy   5 巻   頁: 55-63   2016年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.reth.2016.07.001

  212. Microfluidic Transport Through Microsized Holes Treated by Nonequilibrium Atmospheric-Pressure Plasma

    Takumi Ito, Kenji Ishikawa,Daisuke Onoshima, Naoto Kihara,Kentaro Tatsukoshi Hidefumi Odaka, Hiroshi Hashizume,Hiromasa Tanaka,Hiroshi Yukawa, Keigo Takeda Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Yoshinobu Baba, Masaru Hori

    IEEE Transactions on Plasma Science     2016年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2016.2571721

  213. Computational study on SiH4 dissociation channels and H abstraction reactions 査読有り

    Toshio Hayashi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   55 巻 ( 7S2 )   2016年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.7567/JJAP.55.07LD07

  214. Helium-based cold atmospheric plasma-induced reactive oxygen species-mediated apoptotic pathway attenuated by platinum nanoparticles 査読有り

    Jawaid P, Rehman MU, Zhao QL, Takeda K, Ishikawa K, Hori M, Shimizu T, Kondo T.

    J Cell Mol Med     2016年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1111/jcmm.12880

  215. Role of surface-electrical properties on the cell-viability of carbon thin films grown in nanodomain morphology

    Amjed Javid,, Manish Kumar, Seokyoung Yoon, Jung Heon Lee,Satomi Tajima, Masaru Hori and Jeon Geon Han

    J. Phys. D: Appl. Phys.   49 巻 ( 26 )   2016年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/49/26/264001

  216. Biphasic effects of l-ascorbate on the tumoricidal activity of non-thermal plasma against malignant mesothelioma cells

    L. Shi, Y.Wang, F.Ito, Y.Okazaki, H.Tanaka, M.Mizuno, M.Hori, D.R.Richardson, S.Toyokuni

    Archives of Biochemistry and Biophysics   605 巻   頁: 109-116   2016年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  217. Nanopore formation process in artificial cell membrane induced by plasma-generated reactive oxygen species

    R.Tero, R.Yamashita, H.Hashizume, Y.Suda, H.Takikawa, M.Hori, M.Ito

    Archives of Biochemistry and Biophysics   605 巻   頁: 26-33   2016年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI:10.1016/j.abb.2016.05.014

  218. Formation of a SiOF reaction intermixing layer on SiO2 etching using C4F6/O2/Ar plasmas 査読有り

    Y. Ohya, M. Tomura, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori

    Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films   34 巻 ( 4 )   2016年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1116/1.4949570

  219. The role of plasma chemistry on functional silicon nitride film properties deposited at low-temperature by mixing two frequency powers using PECVD

    B. B. Sahu,Y. Y. Yin,T. Tsutsumi, M. Hori, Jeon G. Han

    Phys. Chem. Chem. Phys     2016年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/C6CP00986G

  220. Effects of nitrogen on the apoptosis of and changes in gene expression in human lymphoma U937 cells exposed to argon-based cold atmospheric pressure plasma

    Yoshikawa Tabuchi, Hidefumi Uchiyama, Quing-Li XZhao, Tatsuya Yunoki, Gabor Andocs, Nobuyuki Nojima, Kengo Takeda, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Takashi Kondo

    International Journal of Molecular Medicine   37 巻 ( 6 ) 頁: 1706-1714   2016年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI:10.3892/ijmm.2016.2574

  221. Variable susceptibility of ovarian cancer cells to non-thermal plasma-activated medium 査読有り

    F. Utsumi, H. Kajiyama, K. Nakamura, H. Tanaka, M. Mizuno, S. Toyokuni, M. Hori, and F. Kikkawa

    Oncology Report   35 巻 ( 6 ) 頁: 3169–3177   2016年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.3892/or.2016.4726

  222. Low temperature plasma processing for cell growth inspired carbon thin films fabrication

    M.Kumar, J.X.Piao, S.B.Jin, J.H.Lee, S.Tajima, M.Hori, J.G.Han

    Archives of Biochemistry and Biophysics   605 巻   頁: 41-48   2016年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  223. Red blood cell coagulation induced by low-temperature plasma treatment

    K,Miyamoto, S.Ikehara, H.Takei, Y.Akimoto, H.Sakakita, K. Ishikawa, M.Ueda, J.Ikeda, M.Yamagishi, J.Kim, T. Yamaguchi, H. Nakanishi, T.Shimizu, N.Shimizu, M.Hori, Y.Ikehara

    Archives of Biochemistry and Biophysics   605 巻   頁: 95-101   2016年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  224. Galectin expression in healing wounded skin treated with low-temperature plasma: Comparison with treatment by electronical coagulation

    Y.Akimoto, S.Ikehara, T.Yamaguchi, J.Kim, H. Kawakami, N.Shimizu, M.Hori, H. Sakakita, Y.Ikehara

    Archives of Biochemistry and Biophysics   305 巻   頁: 86-94   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  225. Synthesis of calcium oxalate crystals in culture medium irradiated with non-equilibrium atmospheric-pressure plasma

    M. Hori, N.Kurake, Y.Yamanishi, M.Mizuno, K.Nakamura, K.Ishikawa, H.Tanaka

        頁: 111   2016年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  226. Plasma-Activated Medium Selectively Eliminates Undifferentiated Human Induced Pluripotent Stem Cells

    Ryo Matsumoto, Kazunori Shimizu, Takunori Nagashima, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Fumitaka Kikkawa, Masaru Hori, Hiroyuki Honda

    Regenerative Therapy     頁: 111   2016年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  227. Effects of assisted magnetic field to an atmospheric-pressure plasma jet on radical generation at the plasma-surface interface and bactericidal function

    Liu, Chih-Tung; Kumakura, Takumi; Ishikawa, Kenji; Hashizume, Hiroshi; Takeda, Keigo; Ito, Masafumi; Hori, Masaru; Wu, Jong-Shinn

    Plasma Sources Science and Technology     頁: 111   2016年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  228. Plasma with high electron density and plasma-activated medium for cancer treatment

    H. Tanaka, M. Mizuno, K. Ishikawa, H. Kondo, K. Takeda, H. Hashizume, K. Nakamura, F. Utsumi, H. Kajiyama, H. Kano, Y. Okazaki, S. Toyokuni, S. Akiyama, S. Maruyama, S. Yamada, Y. Kodera, H. Kaneko, H. Terasaki, H. Hara, T. Adachi, M. Iida, I. Yajima, M. Kato, F. Kikkawa, M. Hori

    Clinical Plasma Medicine 3     頁: pp. 72-76   2015年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cpme.2015.09.001

  229. Histological and Nuclear Medical Comparison of Inflammation After Hemostasis with Non-Thermal Plasma and Thermal Coagulation

    Masashi Ueda, Daiki Yamagami, Keiko Watanabe, Asami Mori,Hiroyuki Kimura, Kohei Sano, Hideo Saji, Kenji Ishikawa, Masaru Hori,Hajime Sakakita, Yuzuru Ikehara, Shuichi Enomoto

    Plasma Process and Polymers     2015年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201500099

  230. Plasma and Cancer

    Masashi Ueda, Daiki Yamagami, Keiko watanabe, Asami Mori, Hiroyuki Kimura, Masaru Hori, Mounir Laroussi, Kai Masur, Yuzuru Ikehara ,

    Plasma Processes and Polymers 12,No. 12     頁: p.p. 1329-1469   2015年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201570043

  231. プラズマ医療の可能性と今後の展望

    田中宏昌、堀 勝

    ファルマシア/メカノバイオロジーと薬の融合   51 巻 ( 11 ) 頁: 1053   2015年11月

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    記述言語:日本語  

  232. Effects of deposition rate and ion bombardment on properties of a-C:H films deposited by H-assisted plasma CVD method 査読有り

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 55 (1S)   55 巻 ( 1S ) 頁: 01AA11   2015年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.55.01AA11

  233. Real-time temperature-monitoring of Si substrate during plasma processing and its heat-flux analysis

    T. Tsutsumi, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, T. Ohta, M. Ito, M. Sekine, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 55 (1S)     頁: 01AB04:1-4   2015年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.55.01AB04

  234. Cancer therapy using non-thermal atmospheric pressure plasma with ultra-highelectron density

    H. Tanaka, M. Mizuno, S. Toyokuni, S. Maruyama, Y. Kodera, H. Terasaki, T. Adachi, M. Kato, F. Kikkawa, M. Hori

    Phys Plasmas     頁: 122004   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4933402

  235. Development of Microelectrode Arrays Using Electroless Plating for CMOS-Based Direct Counting of Bacterial and HeLa Cells

    Niitsu K, Ota S, Gamo K, Kondo H, Hori M, Nakazato K

    IEEE TRANSACTIONS ON BIOMEDICAL CIRCUITS AND SYSTEMS, VOL. 9, NO. 5     頁: p.p.607-619   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TBCAS.2015.2479656

  236. Raman Spectroscopy of a-C:H Films Deposited Using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD 査読有り

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 巻 ( 9 ) 頁: GT1.145   2015年10月

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    記述言語:英語  

  237. Measurement of absolute density of N atom in sputtering plasma for epitaxial growth ZnO films via nitrogen mediated crystallization 査読有り

    T. Ide, K. Matsushima, T. Takasaki, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 巻 ( 9 ) 頁: GT1.155   2015年10月

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    記述言語:英語  

  238. Measurements of absolute densities of nitrogen and oxygen atoms in sputtering plasma for fabrication of ZnInON films 査読有り

    K. Matsushima, T. Ide, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 巻 ( 9 ) 頁: GT1.154   2015年10月

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    記述言語:英語  

  239. Measurements of nitrogen atom density in N2/Ar sputtering plasma for fabrication of high-mobility amorphous In2O3:Sn films 査読有り

    T. Takasaki, T. Ide, K. Matsushima, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 巻 ( 9 ) 頁: GT1.150   2015年10月

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    記述言語:英語  

  240. Effectiveness of plasma treatment on pancreatic cancer cells

    N. Hattori, S. Yamada, K. Torii, S. Takeda, K. Nakamura, H. Tanaka, H. Kajiyama, M. Kanda, T. Fujii, G. Nakayama, H. Sugimoto, M. Koike, S. Nomoto, M. Fujiwara, M. Mizuno, M. Hori, Y. Kodera

    International journal of oncology, 47     頁: pp. 1655-1662   2015年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3892/ijo.2015.3149

  241. Growth control of Saccharomyces cerevisiae through dose of oxygen atoms

    Hiroshi Hashizume, Takayuki Ohta, Masaru Hori, and Masafumi Ito

    APPLIED PHYSICS LETTERS     2015年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4929952

  242. EPR-Spin Trapping and Flow Cytometric Studies of Free Radicals Generated Using Cold Atmospheric Argon Plasma and X-Ray Irradiation in Aqueous Solutions and Intracellular Milieu 査読有り

    Hidefumi Uchiyama, Qing-Li Zhao, Mariame Ai Hassan, Gabor Andocs, Nobuyuki Nojima, Keigo Takeda, Kenji ishikawa, Masaru Hori, Takashi Kondo

    PLOS one     2015年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    top 10% most cited PLOS One (2015)

    DOI: 10.1371/journal.pone.0136956

  243. Wavelength dependence for silicon-wafer temperature measurement by autocorrelationtype frequency-domain low-coherence interferometry

    T. Tsutsumi, T. Ohta, K. Takeda, M. Ito, M. Hori

    Appl. Opt. 54 (23)     頁: pp. 7088-7093   2015年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1364/AO.54.007088

  244. Effects of discharge voltage on the characteristics of a-C:H films prepared by H-assisted Plasma CVD method 査読有り

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Trans. Mater. Res. Soc. Jpn.   40 巻 ( 2 ) 頁: 123-128   2015年7月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.14723/tmrsj.40.123

  245. Utility of dual frequency hybrid source for plasma and radical generation

    Kyung Sik Shin, Bibhuti Bhusan Sahu, Jeon Geon Han, and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics     2015年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.076201

  246. Emission spectroscopy of Ar + H-2+ C7H8 plasmas: C7H8 flow rate dependence and pressure dependence 査読有り

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine and M. Hori

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 巻 ( 1 ) 頁: 012010   2015年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012010

  247. Suppression of plasma-induced damage on GaN etched by a Cl2 plasma at high temperatures

    Zecheng Liu, Jialin Pan, Takashi Kako, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo,Osamu Oda, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 54 (6S2)     頁: 06GB04   2015年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.06GB04

  248. Effectiveness of hydrogen dilution for designing amorphous to crystalline Si thin film in inductively coupled plasma assisted magnetron sputtering

    Kyung Sik Shin, Bibhuti Bhusan Sahu, Jeon Geon Han, and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics     2015年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.060303

  249. Electronic properties of HBr, O2 and Cl2 used in Si etching

    Toshio Hayashi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics     2015年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.06GA03

  250. シリコン薄膜形成プロセスにおけるプラズマ中の水素原子の計測とその挙動

    堀勝、阿部祐介、竹田圭吾、石川健治、近藤博基、関根誠、韓銓健

    プラズマ・核融合学会誌   91 巻 ( 5 ) 頁: 317   2015年5月

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    記述言語:日本語  

  251. プラズマ活性溶液:作用機序解明と臨床応用・産業化を目指して

    田中宏昌 、水野正明、豊國伸哉、丸山彰一、小寺泰弘、吉川史隆、堀勝

    福岡医学雑誌   106 巻 ( 4 ) 頁: 71-76   2015年4月

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    記述言語:日本語  

  252. Silicon nitride (SiN) etch performance of CH2F2 plasmas diluted with argon or krypton

    Yusuke Kondo, Kenji Ishikawa, Toshio Hayashi, Yudai Miyawaki, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Japan. J. Appl. Phys. 54 (4)     頁: 40303   2015年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.040303

  253. Plasma diagnostic approach for high rate nanocrystalline Si synthesis in RF/UHF hybrid plasmas using a PECVD process Plasma Sources

    Bibhuti Bhusan Sahu, Jeon G. Han, Kyung-Sik Shin, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, and Yudai Miyawaki

    Plasma Sources Science and Technology 24 (2)     頁: 25019   2015年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0963-0252/24/2/025019

  254. CF3+ fragmentation by electron impact ionization of perfluoro-propyl-vinyl-ethers, C5F10O, in gas phase

    Yusuke Kondo, Kenji Ishikawa, Toshio Hayashi, Yudai Miyawaki, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Japan. J. Appl. Phys. 54 (4)     頁: 40301   2015年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.040301

  255. Deposition of Carbon Films on PMMA Using H-assisted Plasma CVD 査読有り

    X. Dong, R. Torigoe, K. Koga, G. Uchida, M. Shiratani, N. Itagaki, Y. Setsuhara, K. Takenaka, M. Sekine, .M. Hori

    Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1 巻   頁: 015072   2015年3月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015072

  256. New line plasma source excited by 2.45 GHz microwave at atmospheric pressure

    Haruka Suzuki,Suguru Nakano,Hitoshi Itoh,Makoto Sekine,Masaru Hori,and Hirotaka Toyoda

    Applied Physics Express 8     2015年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APX.8.036001

  257. Estimation of activation energies for decomposition reaction of polymer by hydrogen radicals generated using hot-wire catalyzer

    Akihiko Kono, Yu Arai, Yousuke Goto, Masashi Yamamoto, Seiji Takahashi, Tadaaki Yamagishi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, and Hideo Horibe

    Thin Solid Film 575     頁: pp. 17-20   2015年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2014.10.020

  258. Study of the decomposition mechanism of PMMA-type polymers by hydrogen radicals

    Yu Arai, Yusuke Noto, Yousuke Goto, Seiji Takahashi, Masashi Yamamoto, Akihiko Kono, Tatsuo Ishijima, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, and Hideo Horibe

    Thin Solid Film 575     頁: pp. 12-16   2015年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2014.10.020

  259. Plasma-activated medium induces A549 cell injury via a spiral apoptotic cascade involving the mitochondrial-nuclear network

    Tetsuo Adachi, Hiromasa Tanaka, Saho Nonomura, Hirokazu Hara, Shin-ichi Kondo, Masaru Hori

    Free Radical Biology and Medicine 79     頁: p.p. 28-44   2015年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.freeradbiomed.2014.11.014

  260. Experimental evidence of warm electron populations in magnetron sputtering plasmas

    B. B. Sahu, Jeon G. Han, Hye R. Kim, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori

    J. Appl. Phys. 117     頁: 33301   2015年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4905901

  261. Hydrofluorocarbon ion density of argon- or krypton-diluted CH2F2 plasmas: Generation of CH2F+ and CHF2+ by dissociative-ionization in charge exchange collisions

    Yusuke Kondo, Yudai Miyawaki, Kenji Ishikawa, Toshio Hayashi, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    J. Phys. D: Appl. Phys. 48 (4)     頁: 45202   2015年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/48/4/045202

  262. Plasma-activated medium suppresses choroidal neovascularization in mice: a new therapeutic concept for age-related macular degeneration

    F. Ye, H. Kaneko, Y. Nagasaka, R. Ijima, K. Nakamura, M. Nagaya, K. Takayama, H. Kajiyama, T. Senga, H. Tanaka, M. Mizuno, F. Kikkawa, M. Hori, and H. Terasaki

    Sci Rep, vol. 5     頁: 7705   2015年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/srep07705

  263. Langmuir probe and optical emission spectroscopy studies in magnetron sputtering plasmas for Al-doped ZnO film deposition

    B. B. Sahu, Jeon G. Han, Masaru Hori and Keigo Takeda

    J. Appl. Phys. 117     頁: 23301   2015年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4905541

  264. Electrical,Optical and Structural Properties of AZO Thin Film Deposited Using Facing Targets Magnetron Sputtering System with Inductively Coupled Plasma

    Hye R.Kim,Jay B.Kim,Yoon S.Choi,M.Hori,and Jeon G.Han

    American Scientific Publishers 7     頁: p.p. 107-112   2015年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/sam.2015.2088

  265. Carbon nanowall scaffold to control culturing of cervical cancer cells 査読有り

    Hitoshi Watanabe, Hiroki Kondo, Yukihiro Okamoto, Mineo Hiramatsu, Makoto Sekine, Yoshinobu Baba, and Masaru Hori

    Applied Physics Letters   105 巻 ( 24 )   2014年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4902054

  266. Plasma Medical Science for Cancer Therapy: Toward Cancer Therapy Using Nonthermal Atmospheric Pressure Plasma

    Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Kae Nakamura, Fumi Utsumi,Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Kae Nakamura, Fumi Utsumi, Shoichi Maruyama, Fumitaka Kikkawa, and Masaru Hori

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   42 巻 ( 12 ) 頁: 3760-3764   2014年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  267. Plasma-activated medium induces A549 cell injury via a spiral apoptotic cascade involving the mitochondrial-nuclear network. 査読有り

    Adachi T, Tanaka H, Nonomura S, Hara H, Kondo SI, Hori M

    Free Radical Biology & Medicine     2014年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.freeradbiomed.2014.11.014

  268. Quantitative clarification of inactivation mechanism of Penicillium digitatum spores treated with neutral oxygen radicals

    Hiroshi Hashizume,Takayuki Ohta,Keigo Takeda,Kenji Ishikawa,Masaru Hori,and Masafumi Ito

    Japanese Journal of Applied Physics 54,01ag05(2015)     2014年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.01AG05

  269. Robust characteristics of semiconductor-substrate temperature measurement by autocorrelation-type frequency-domain low-coherence interferometry

    T. Tsutsumi, T. Ohta, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori, and M. Ito

    Jpn. J. Appl. Phys.   54 巻 ( 1S )   2014年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.01AB03

  270. アルミニウム合金のプラズマ窒化処理と処理物 査読有り

    高島成剛、浅見悦男、早川雅浩、山川晃司、山本博之、田昭治、和田仁志、堀 勝

    アルトピア   44 巻 ( 10 ) 頁: 18-23   2014年10月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  271. Localized plasma irradiation through a micronozzle for individual cell treatment 査読有り

    Ryutaro Shimane, Shinya Kumagai, Hiroshi Hashizume, Takayuki Ohta, Masafumi Ito, Masaru Hori and Minoru Sasaki

    Japanese Journal of Applied Physics   53 巻 ( 11S )   2014年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.11RB03

  272. Effectiveness of plasma diagnostic in ultra high frequency and radio frequency hybrid plasmas for synthesis of silicon nitride film at low temperature

    B.B. Sahu, Kyung Sik Shin, Su B. Jin, Jeon G.Han, K.Ishikawa, M. Hori

    Journal of Applied Physics   116 巻   2014年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4896833

  273. Recovery of atom density drift caused by change in reactor wall conditions by real-time autonomous control 査読有り

    Toshiya Suzuki, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics   47 巻 ( 42 )   2014年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/47/42/422002

  274. Direct exposure of non-equilibrium atmospheric pressure plasma confers simultaneous oxidative and ultraviolet modifications in biomoleculels 査読有り

    Yasumasa Okazaki, Yue Wang, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Kae Nakamura, Hiroaki Kajiyama, Hiroyuki Kano, Koji Uchida, Fumitaka Kikkawa, Masaru Hori and Shinya Toyokuni

    Journal of Clinical Biochemistry and Nutrition (JCBN)   55 巻 ( 3 ) 頁: 207-215   2014年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3164/jcbn.14-40

  275. Non-thermal atmospheric pressure plasmas as a novel candidate for preventive therapy of melanoma. 査読有り

    Omata Y, Iida M, Yajima I, Takeda K, Ohgami N, Hori M, Kato M

    Environmental health and preventive medicine   19 巻 ( 5 ) 頁: 367-9   2014年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s12199-014-0399-1.

  276. An atmospheric pressure inductively coupled microplasma source of vacuum ultraviolet light

    Ryoto Sato, Daisuke Yasumatsu, Shinya Kumagai, Keigo Takeda, Masaru Hori, Minoru Sasaki

    Sensors and Actuators A: Physical   215 巻   頁: 144-149   2014年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  277. Effectiveness of plasma treatment on gastric cancer cells 査読有り

    Koji Torii, Suguru Yamada, Kae Nakamura, Hiromasa Tanaka, Hiroaki Kajiyama, Kuniaki Tanahashi, Naoki Iwata, Mitsuro Kanda, Daisuke Kobayashi, Chie Tanaka, Tsutomu Fujii, Goro Nakayama, Masahiko Koike, Hiroyuki Sugimoto, Shuji Nomoto, Atsushi Natsume, Michitaka Fujiwara, Masaaki Mizuno, Masaru Hori, Hideyuki Saya, Yasuhiro Kodera

    Gastric Cancer     2014年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s10120-014-0395-6

  278. Perspective of strategic plasma therapy in patients with epithelial ovarian cancer: A short review of plasma in cancer treatment

    Hiroaki Kajiyama, Kae Nakamura, Fumi Utsumi, Hiromasa Tanaka, Masaru Hori and Fumitaka Kikkawa

    Jpn. J. Appl. Phys. 53 (5S1) (Apr 14, ,2014) 05FA05     2014年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.05FA05

  279. Effects of Different Chamber-Wall Conditions on Temporal Changes of H and N Radicals Densities in H2 and N2 Mixture Gas Plasma

    Toshiya Suzuki, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 53 (5) (Apr 7, 2014) 050301     2014年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.050301

  280. Temporal changes in absolute atom densities in H2 and N2 mixture gas plasmas by surface modifications of reactor wall

    Toshiya Suzuki, KeigoTakeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   ( 53 )   2014年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.050301

  281. Epitaxial growth of GaN by radical-enhanced metalorganic chemical vapor deposition (REMOCVD) in the downflow of a very high frequency (VHF) N2/H2 excited plasma-effect of TMG flow rate and VHF power

    Yi Lu, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Osamu Oda, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Hiroshi Amano, and Masaru Hori

    Journal of Crystal Growth 391 (Jan 23; Apr 1, 2014)     頁: 97-103   2014年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2014.01.014

  282. Hierarchical regrowth of flowerlike nanographene sheets on oxygen-plasma-treated carbon nanowalls

    Hironao Shimoeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Mineo Hiramatsu, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Appl. Phys. Express 7 (4) (Mar 25, 2014) 046201     2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.7.046201

  283. Effects of nitrogen plasma post-treatment on electrical conduction of carbon nanowalls

    Hyung Jun Cho, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 53 (4) (Mar 20, 2014) 040307     2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.040307

  284. Nanostructure modification to carbon nanowall surface employing hydrogen peroxide solution

    Hironao Shimoeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Mineo Hiramatsu, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 53 (4) (Mar 7, 2014) 040305     頁: 1-4   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.040305

  285. Spatiotemporal behaviors of absolute density of atomic oxygen in a planar type of Ar/O2 non-equilibrium atmospheric pressure plasma jet

    Fengdong Jia, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroyuki Kano, Jagath Kularatne, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Plasma Source Sci. Technol. 23 (Mar. 3, 2014) 025004     2014年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0963-0252/23/2/025004

  286. Effectiveness of plasma treatment on gastric cancer cells 査読有り

    Koji Torii, Suguru Yamada, Kae Nakamura, Hiromasa Tanaka, Hiroaki Kajiyama, Kuniaki Tanahashi, Naoki Iwata, Mitsuro Kanda, Daisuke Kobayashi, Chie Tanaka, Tsutomu Fujii, Goro Nakayama,Masahiko Koike, Hiroyuki Sugimoto, Shuji Nomoto, Atsushi Natsume, Michitaka Fujiwara,Masaaki Mizuno, Masaru Hori, Hideyuki Saya, Yasuhiro Kodera

    Gastric Cancer     2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s10120-014-0395-6

  287. Density Control of Carbon Nanowalls Grown by CH4/H2 plasma and Their Electrical Properties

    Hyung Jun Cho, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori

    Carbon 68 (Nov 15, 2013; Mar, 2014)     頁: 380-388   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.carbon.2013.11.014

  288. 未来を創るプラズマ ─ ものづくりから医療まで

    堀 勝

    応用物理   83 巻 ( 2 ) 頁: 132-135   2014年

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    記述言語:日本語  

  289. Chemical reactions during plasma-enhanced atomic layer deposition of SiO2 films employing aminosilane and O2/Ar plasma at 50 °C

    Yi Lu, Akiko Kobayashi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 53 (1) (Dec 30, 2013; 2014) 010305     頁: 1-4   2014年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.010305

  290. Chemical reactions during plasma-enhanced atomic layer deposition of SiO2 films employing aminosilane and O2/Ar plasma at 50 °C

    Yi Lu, Akiko Kobayashi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.     2013年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.7567/JJAP.53.010305

  291. Surface morphology on high-temperature plasma-etched gallium nitride

    Ryosuke Kometani, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Trans. Mater. Res. Soc. Jpn.   38 巻 ( 2 ) 頁: 325-328   2013年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.14723/tmrsj.38.325

  292. A Development of Atmospheric Pressure Plasma Equipment and Its Applications for Treatment of Ag Films Formed from Nano-Particle Ink

    H. Itoh, Y. Kubota, Y. Kashiwagi, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M.Sekine, H. Toyoda, and M. Hori

    Journal of Physics: Conference Series   441 巻   2013年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: doi:10.1088/1742-6596/441/1/012019

  293. Effect of Indirect Nonequilibrium Atmospheric Pressure Plasma on Anti-Proliferative Activity against Chronic Chemo-Resistant Ovarian Cancer Cells In Vitro and In Vivo

    Fumi Utsumi, Hiroaki Kajiyama, Kae Nakamura, Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Hiroyuki Kano, Masaru Hori, and Fumitaka Kikkawa

    PLoS ONE 8 (12) (Dec. 18, 2013) e81576     2013年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1371/journal.pone.0081576

  294. Oxidation mechanism of Penicillium digitatum spores through neutral oxygen radicals

    Hiroshi Hashizume, Takayuki Ohta, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Masafumi Ito

    Jpn. J. Appl. Phys. 53 (1) (Dec 16 2013; 2014) 010209     頁: 1-6   2013年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.010209

  295. Investigations on Plasma-Biomolecules Interactions as Fundamental Process for Plasma Medicine

    K. Takenaka, K. Cho, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, and M. Hori

    Journal of Physics: Conference Series   441 巻   2013年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: doi:10.1088/1742-6596/441/1/012001

  296. Scale-up approach for industrial plasma enchanced chemical vapor deposition processes and Siox thin film technology

    Su B. Jin, Joon S Lee, Yoon S. Choi, In S Choi, Jeon G.Han, M. Hori

    Thin Solid Films   547 巻   頁: 193-197   2013年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  297. Perspective of strategic plasma therapy for prognostic improvement of patients with ovarian cancer

    Hiroaki Kajiyama, Fumi Utsumi, Kae Nakamura, Hiromasa Tanaka, Masaru Hori and Fumitaka Kikkawa

    MRS Proc 1598     2013年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/opl.2013.1188

  298. Plasma Interactions with Biological Molecules in Aqueous Solution

    Yuichi Setsuhara, Atsushi Miyazaki, Kosuke Takenaka, and Masaru Hori

    MRS Proc 1598     2013年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/opl.2013.1155

  299. High H Radical Density Produced by 1-m-length Atmospheric Pressure Microwave Plasma System

    Hitoshi Itoh, Yusuke Kubota, Yusaku Kashiwagi, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Hirotaka Toyoda, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 52 (11) (Nov 20, 2013) 11NE01     2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NE01

  300. Study on Effects of Hydrogen Flow Rates on the Properties of ZnO Thin Film Deposited by Facing Targets Sputtering System

    Hye Ran Kim, L. Wen, Su Bong Jin, Yoon Seok Choi, In Sik Choi, M. Hori, and Jeon Geon Han

    Jpn. J. Appl. Phys. 52 (11) (Nov 20, 2013) 11NB01     2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NB01

  301. Field Emissions from Organic Nanorods Armored with Metal Nanoparticles

    Toshiya Suzuki, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 52 (12) (Nov 15, 2013) 120203     頁: 1-4   2013年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.120203

  302. 卵巣癌治療におけるプラズマの応用をめざして

    梶山広明、中村香江、内海史、堀勝、古川史隆

    産婦人科の実際   62 巻 ( 11 ) 頁: 1550-1552   2013年11月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  303. Effect of gas flow on transport of O (3Pj) atoms produced in ac power excited non-equilibrium atmospheric-pressure O2/Ar plasma jet

    Keigo Takeda, Masaki Kato, Fendong Jia, Kenji Ishikawa, Hiroyuki Kano, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    J. Phys. D: Appl. Phys. 46 (Oct 30, 2013) 464006     2013年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/46/46/464006

  304. Inactivation effects of neutral reactive-oxygen species on Penicillium digitatum spores using non-equilibrium atmospheric-pressure oxygen radical source

    Hiroshi Hashizume, Takayuki Ohta, Jia Fengdong, Keigo Takeda,Kenji Ishikawa,Masaru Hori, and Masafumi Ito

    Appl. Phys. Lett. 103 (15) (Oct 11, 2013) 153708-1:4     2013年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4824892

  305. An Atmpospheric pressure inductively coupled microplasma source of vacuum ultraviolet light

    Ryoto Sato, Daisuke Yasumatsu, Shinya Kumagai Keigo Takeda, Masaru Hori, Minoru Sasaki

    Sensors and Actuators   215 巻   頁: 144-149   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.sna.2013.09.018

  306. Formation of Nanoporous Features, Flat Surfaces, or Crystallographically Oriented Etched Profiles by the Si Chemical Dry Etching Using the Reaction of F2 + NO -> F + FNO at an Elevated Temperature

    Satomi Tajima, Toshio Hayashi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    J. Phys. Chem. C 117 (40)     頁: 20810–20818   2013年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/jp4084794

  307. Atomic Oxygen Etching from the Top Edges of Carbon Nanowalls

    Hironao Shimoeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Mineo Hiramatsu, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Appl. Phys. Express 6 (9) (Aug 27, 2013) 095201     2013年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.6.095201

  308. Mass density control of carbon films deposited by H-assisted plasma CVD method

    Surf. Coat Technol. 228 (S1)

    Tatsuya Urakawa, Hidehumi Matsuzaki, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori     頁: S15-S18   2013年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2012.10.002

  309. A novel fast and flexible technique of radical kinetic behaviour investigation based on pallet for plasma evaluation structure and numerical analysis

    Arkadiusz Malinowski, Takuya Takeuchi, Shang Chen, Toshiya Suzuki, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Lidia Lukasiak, and Andrzej Jakubowski

    J. Phys. D: Appl. Phys. 46 (26) (Jul 3, 2013) 265201     2013年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/46/26/265201

  310. Improving the Gas Barrier Properties of a-SiOxCyNz Film at Low Temperature using High Energy and Suitable Nitrogen Flow Rate

    Su B. Jin, Joon S.Lee, Yoon S.Choi, In S.Choi, Jeon G.Han, M.Hori

    Current Applied Physics   13 巻   頁: 885-889   2013年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  311. A Development of Atmospheric Pressure Plasma Equipment and Its Applications for Treatment of Ag Films Formed from Nano-Particle Ink

    H Itoh,Y Kubota, Y Kashiwagi, K Takeda, K Ishikawa, H Kondo, M Sekine, H Toyoda, M Hori

    Journal of Physics: Conference Series   441 巻   2013年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/441/1/012019

  312. Surface morphology on high-temperature plasma-etched gallium nitride 査読有り

    Ryosuke Kometani, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Trans. Mater. Res. Soc. Jpn.   38 巻 ( 2 ) 頁: 325-328   2013年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.14723/tmrsj.38.325

  313. Investigations on Plasma-Biomolecules Interactions as Fundamental Process for Plasma Medicine

    Kosuke Takenaka, Ken Cho, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    J. Phys.: Conf. Ser.   441 巻 ( 1 )   2013年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/441/1/012001

  314. Photoluminescence Study of Plasma-Induced Damage of GaInN Single Quantum Well

    Shouichiro Izumi, Masaki Minami, Michiru Kamada, Tetsuya Tatsumi, Atsushi A. Yamaguchi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, and Shigetaka Tomiya

    Jpn. J. Appl. Phys. 52 (8) (May 31, 2013) 08JL09     頁: 1-4   2013年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.08JL09

  315. Dissociations of C5F8 and C5HF7 in Etching Plasma

    Hayashi Toshio, Ishikawa Kenji, Sekine Makoto, Hori Masaru

    Japanese Journal of Applied Physics   52 巻 ( 5 )   2013年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.05EB02

  316. Wavelength dependence of photon-induced interface defects in hydrogenated silicon nitride/Si structure during plasma etching processes

    Masanaga Fukasawa, Hiroyasu Matsugai, Takayoshi Honda, Yudai Miyawaki, Yusuke Kondo, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Kazunori Nagahata, Fumikatsu Uesawa, Masaru Hori, Tetsuya Tatsumi

    Jpn. J. Appl. Phys. 52 (5) (May 20, 2013) 05ED01     頁: 1-4   2013年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.05ED01

  317. Surface Chemical Modification of Carbon Nanowalls for Wide-Range Control of Surface Wettability

    H. Watanabe, H. Kondo, M. Hiramatsu, M. Sekine, S. Kumar, K. Ostrikov, M. Hori

    Plasma Process. Polym. 10 (7) (May 20, 2013)     頁: 582-592   2013年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201200141

  318. A High-Temperature Nitrogen Plasma Etching for Preserving Smooth and Stoichiometric GaN Surface

    Ryosuke Kometani, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Appl. Phys. Express 6 (5) (April 25, 2013) 056201     頁: 1-4   2013年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.6.056201

  319. Inactivation Process of Penicillium digitatum Spores Treated with Non-equilibrium Atmospheric Pressure Plasma

    H. Hashizume, T. Ohta, T. Mori, S. Iseki, M. Hori, and M. Ito

    Jpn. J. Appl. Phys. 52 (5) (Apr 15, 2013) 056202     頁: 1-4   2013年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.056202

  320. Supercritical Fluid Deposition of High-Density Nanoparticles of Photo-Catalytic TiO2 on Carbon Nanowalls

    Takeyoshi Horibe, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Hiroyuki Kano, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori

    Appl. Phys. Express 6 (4) (2013) 045103     頁: 1-4   2013年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.6.045103

  321. Study on change of electrical properties of ZnO thin films deposited in low temperature facing targets magnetron sputtering (FTS) system with H2 and O2 flow rate changes

    Hye R. Kim, Su B. Jin, Long Wen, Yoon S. Choi, In S. Choi, M. Hori, and Jeon G. Han

    Journal of Ceramic Processing Research   14 巻 ( 2 ) 頁: pp.188-193   2013年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  322. Graphene Nanowalls

    Mineo Hiramatsu, Hiroki Kondo and Masaru Hori

    Chapter 9 in Book "New Progress on Graphene Research"     2013年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.5772/3358

  323. Plasma interactions with aminoacid (l-alanine) as a basis of fundamental processes in plasma medicine

    Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Current Applied Physics   13 巻   頁: S59-S63   2013年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  324. Optical-Fiber-Type Broadband Cavity Ring-Down Spectroscopy Using Wavelength-Tunable Ultrashort Pulsed Light

    T. Hiraoka, T. Ohta, M. Ito, N. Nishizawa, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 52 ) 頁: DOI: 10.7567/JJAP.52.040201   2013年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  325. Room-Temperature Si Etching in NO/F2 Gases and the Investigation of Surface Reaction Mechanisms

    S.Tajima, T. Hayashi , K. Ishikawa , M. Sekine , M. Hori

    J. Phys. Chem. C   ( 117 ) 頁: pp 5118-5125, DOI: 10.1021/jp3119132   2013年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  326. Etching-Enhancement Followed by Nitridation on Low-k SiOCH Film in Ar/C5F10O Plasma

    Y. Miyawaki, E. Shibata, Y. Kondo, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, H. Okamoto, M. Sekine, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 52 ) 頁: P.020204:1-4   2013年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  327. Plasma-activated medium selectively kills glioblastoma brain tumor cells by downregulating a survival signaling molecule, AKT kinase

    H. Tanaka, M. Mizuno, K. Ishikawa, K. Nakamura, H. Kajiyama, H. Kano, F. Kikkawa, M. Hori

    Plasma Medicine   3 巻   頁: 265-277   2013年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  328. Surface roughness development on ArF-photoresist studied by beam-irradiation of CF4 plasma

    T. Takeuchi, K. Ishikawa, Y. Setsuhara, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori

    J. Phys. D: Appl. Phys.   ( 46 ) 頁: P. 102001:1-5.   2013年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  329. Temperature Measurement of Si Substrate Using Optical-Fiber-Type Low-Coherence Interferometry Employing Supercontinuum Light

    Takehiro Hiraoka, Takayuki Ohta, Tetsunori Kageyama, Masafumi Ito, Norihiko Nishizawa, Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 52 ) 頁: 026602-1:6   2013年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  330. Fabrication of Graphene-Based Films Using Microwave-Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

    M. Hiramatsu, M. Naito, H. Kondo, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 52 (1) 01AK04     2013年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.01AK04

  331. Nucleation Control of Carbon Nanowalls Using Inductively Coupled Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

    M. Hiramatsu, Y. Nihashi, H. Kondo, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 52 (1) (Jan 21, 2013) 01AK05     2013年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.01AK05

  332. Impact of hydrogen radical-injection plasma on fabrication of microcrystalline silicon thin film for solar cells

    Yusuke Abe, Sho Kawashima, Atsushi Fukushima, Ya Lu, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    J. Appl. Phys.   113 巻   頁: DOI: 10.1063/1.4778608 P.033304:1-6   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  333. Development of High-Density Nitrogen Radical Source for Low Mosaicity and High Rate Growth of InGaN Films in Molecular Beam Epitaxy

    Shang Chen, Yohjiro Kawai, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroyuki Kano, Makoto Sekine, Hiroshi Amano, Masaru Hori

    Jpn.J.Appl.Phys   ( 52 ) 頁: DOI: 10.7567/JJAP.52.021001   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  334. H2/N2 plasma etching rate of carbon films deposited by H-assisted plasma CVD

    Tatsuya Urakawa, Ryuhei Torigoe, Hidefumi Matsuzaki, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 52 ) 頁: 1,01AB01   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  335. Highly selective etching of SiO2 over Si3N4 and Si in capacitivlly coupled plasma employing C5HF7 gas

    Y. Miyawaki, Y. Kondo, M. Sekine, K. Ishikawa,T. Hayashi, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 52 ) 頁: 016201:1-9   2013年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  336. Development of the sputtering yields of ArF photoresist after the onset of argon ion bombardment

    T. Takeuchi, C. Corbella, S. Grosse-Kreul, A. von Keudell, K. Ishikawa, H. Kondo, K. Takeda, M. Sekine, M. Hori

    J. Appl. Phys.   113 巻   頁: 014306:1-6.   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  337. Surface loss probability of H radicals on silicon thin films in SiH4/H2 plasma

    Y. Abe, A. Fukushima, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, and M.Hori

    J. Appl. Phys.   113 巻 ( 1 )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.4773104 (6 pages)

  338. Rapid measurement of substrate temperatures by frequency-domain low-coherence interferometry

    Takayoshi Tsutsumi, Takayuki Ohta, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori, and Masafumi Ito

    Appl. Phys. Lett. 103 (18) (2013) 182102     2013年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4827426

  339. プラズマ異方性化学気相堆積法による硬質カーボン薄膜の低温製膜

    古閑 一憲、白谷 正治、節原 裕一、関根 誠、堀 勝

    化学工業/化学工業社   63 巻 ( 12 ) 頁: 908-912   2013年

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  340. Study on change of electrical properties of ZnO thin films deposited in low temperature facing targets magnetron sputtering (FTS) system with H2 and O2 flow rate changes

    Hye R. Kim, Su B. Jin, Long Wen, Yoon S. Choi, In S. Choi, M. Hori, and Jeon G. Han

    Journal of Ceramic Processing Research 14 (2)     頁: 188-193   2013年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  341. Highly selective etching of SiO2 over Si3N4 and Si in capacitivlly coupled plasma employing C5HF7 gas

    Y. Miyawaki, Y. Kondo, M. Sekine, K. Ishikawa, T. Hayashi, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 52 ) 頁: 016201:1-9   2012年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  342. プラズマ異方性化学気相堆積法による硬質カーボン薄膜の低温製膜

    古閑 一憲、 白谷 正治、 節原 裕一、 関根 誠、 堀 勝

    月刊 化学工業/化学工業社   63 巻 ( 12 ) 頁: 908-912   2012年12月

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    記述言語:日本語  

  343. 社会イノベーションを実現する低温プラズマ科学技術

    堀 勝

      32 巻   頁: 17   2012年12月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  344. MINIMIZING PLASMA IRRADIATION AREA BY MICRO-NOZZLE DEVICE TOWARDS SINGLE CELL TREATMENT

    Ryutaro Shimane, Shinya Kumagai, Masaru Hori, Minoru Sasaki

    Micro&Nano letters   7 巻   頁: 1210-1212   2012年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1049/mln.2012.0555

  345. Investigation of chemical bonding states at interface of Zn/organic materials for analysis of early stage of inorganic/organic hybrid multi-layer formation

    Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Thin Solid Films   523 巻   頁: 15-19   2012年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  346. Properties of Indium-Zinc-Oxide Films Synthesized by Radio Frequency Magnetron Sputtering Based on Gas Phase Monitoring Using Multi-Micro Hollow Cathode Lamp

    M. Inoue, T. Ohta, N. Takota, S. Tsuchitani, M. Ito, S. Takashima, K. Yamakawa, H. Kano, K. Takeda, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 51 ) 頁: DOI: 10.1143/JJAP.51.116202   2012年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  347. Individual Roles of Atoms and Ions during Hydrogen Plasma Passivivation of Surface Defects on GaN Created by Plasma Etching

    Shang Chen, Kenji Ishikawa, Yi Lu, Ryosuke Kometani, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Yutaka Tokuda, Takashi Egawa, Hiroshi Amano, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Jpn.J.Appl.Phys   51 巻   頁: DOI: 10.1143/JJAP.51.111002   2012年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  348. Critical flux ratio of hydrogen radical to film precursor in microcrystalline silicon deposition for solar cells

    Yusuke Abe, Atsushi Fukushima, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Appl. Phys. Volume 101, 172109     2012年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4764065

  349. As-grown deep-level defects in n-GaN grown by metal-organic chemical vapor deposition on freestanding GaN

    Shang Chen, Unhi Honda, Tatsunari Shibata, Toshiya Matsumura, Yutaka Tokuda, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Hiroyuki Ueda, Tsutomu Uesugi, Tetsu Kachi

    J. Appl. Phys.   112 巻 ( 5 ) 頁: 10.1063/1.4748170   2012年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  350. プラズマナノテクノロジーによる10mmサイズ、超高アスペクト比有機ナノピラーの室温近傍形成とフレキシブルディスプレイへの応用

    堀 勝、鈴木 俊哉、竹田 圭吾、近藤 博基、石川 健治、関根 誠

    名古屋大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリーニュース 研究紹介(1)   17 巻 ( 1 ) 頁: 2012, Summere, No.33   2012年8月

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    記述言語:日本語  

  351. Line-Profiles and Translational Temperatures of Pb Atoms in Multi-Micro Hollow Cathode Lamp Measured by Diode Laser Absorption Spectroscopy

    M. Inoue, T. Ohta, N. Takota, S. Tsuchitani, M. Ito, S. Takashima, K. Yamakawa, H. Kano, K. Takeda, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 51 ) 頁: DOI: 10.1143/JJAP.51.086301   2012年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  352. Real-time in situ electron spin resonance measurements on fungal spores of Penicillium digitatum during exposure of oxygen plasmas

    Kenji Ishikawa, Hiroko Mizuno, Hiromasa Tanaka, Kazuhiro Tamiya, Hiroshi Hashizume, Takayuki Ohta, Masafumi Ito, Sachiko Iseki, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Appl. Phys. Lett.   101 巻 ( 1 )   2012年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10:1063/1.4733387

  353. An Autonomously Controllable Plasma Etching System Based on Radical Monitoring

    Shunji Takahashi, Ryota Kawauchi, Seigo Takashima, Shoji Den, Toshiro Katagiri, Hiroyuki Kano, Takayuki Ohta, Masafumi Ito, Tatsuya Suzuki, Keigo Takeda, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 51 (2012) 076502     2012年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.076502

  354. The 2012 Plasma Roadmap

    Seiji Samukawa, Masaru Hori, Shahid Rauf, Kunihide Tachibana, Peter Bruggeman, Gerrit Kroesen, J Christopher Whitehead, Anthony B Murphy, Alexander F Gutsol, Svetlana Starikovskaia, Uwe Kortshagen, Jean-Pierre Boeuf, Timothy J Sommerer, Mark J Kushner, Uwe Czarnetzki and Nigel Mason

    J. Phys. D: Appl. Phys. 45 253001     2012年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/45/25/253001

  355. Photoluminescence recovery by in-situ exposure of plasma-damaged n-GaN to atomic hydrogen at room temperature

    S. Chen, Y. Lu, R. Kometani, K. Ishikawa, H. Kondo, Y. Tokuda, M. Sekine, and M. Hori

    AIP Advances 2, 022149     2012年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4729448 (2012)

  356. タングステン加熱触媒体により生成した水素ラジカルによるレジスト用ベースポリマーの分解除去

    新井 祐, 渡邉 誠, 河野 昭彦, 山岸 忠明, 石川 健治, 堀 勝, 堀邊 英夫

    高分子論文集Vol. 69 (2012) No. 6     頁: p. 266-273   2012年6月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1295/koron.69.266

  357. トリフルオロメチルトリフルオロビニルエーテル混合ガスを用いた60Hz非平衡大気圧プラズマによるビア底残渣のドライデスミア

    岩田義幸, 坂本一, 竹田圭吾, 堀 勝

    表面技術, Vol.63, No.4,     頁: pp.247-251   2012年4月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  358. Ultrahigh-Speed Synthesis of Nanographene Using Alcohol In-Liquid Plasma

    T. Hagino, H. Kondo, K. Ishikawa, H. Kano, M. Sekine, M. Hori

    Applied Physics Express (2012).   Vol.5 巻   頁: pp. 035101-1:3   2012年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.5.035101

  359. Plasma Agriculture

    Masafumi Ito and Takayuki Ohta, Masaru Hori

    Journal of the Korean Physical Society, Vol. 60, No. 6,     2012年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.3938/jkps.60.937

  360. Nitriding of Polymer by Low Energy Nitrogen Neutral Beam Source

    Yasuhiro Hara, Keigo Takeda, Koji Yamakawa, Shoji Den, Hirotaka Toyoda, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Appl. Phys. Express 5 (2012) 035801     2012年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1143/APEX.5.035801

  361. Quantum Chemical Investigation of Si Chemical Dry Etching by Flowing NF3 into N2 Downflow Plasma

    Toshio Hayashi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Akihiro Kono, and Koukou Suu

    Japanese Journal of Applied Physics 51 (2012) 026505     2012年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1143/JJAP.51.026505

  362. Pressure dependence of carbon film deposition using H-assisted plasma CVD

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas     頁: 5P-PM-S08-P14   2012年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  363. Effects of Irradiation with Ions and Photons in Ultraviolet--Vacuum Ultraviolet Regions on Nano-Surface Properties of Polymers Exposed to Plasmas

    Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 51 ) 頁: 01AJ02-01AJ02-5   2012年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  364. Floating Wire for Enhancing Ignition of Atmospheric Pressure Inductively Coupled Microplasma

    Shinya Kumagai, Hirotaka Asano, Masaru Hori, and Minoru Sasaki

    Jpn. J. Appl. Phys. 51 (2012) 01AA01     2012年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1143/JJAP.51.01AA01

  365. Multiple-Height Microstructure Fabricated by Deep Reactive Ion Etching and Selective Ashing of Resist Layer Combined with Ultraviolet Curing

    Shinya Kumagai, Akiyoshi Hikita, Takuya Iwamoto, Takashi Tomikawa, Masaru Hori, and Minoru Sasaki

    Jpn. J. Appl. Phys. 51 (2012) 01AB04     2012年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1143/JJAP.51.01AB04

  366. Vacuum Ultraviolet and Ultraviolet Radiation-Induced Effect of Hydrogenated Silicon Nitride Etching: Surface Reaction Enhancement and Damage Generation

    Masanaga Fukasawa, Yudai Miyawaki, Yusuke Kondo, Keigo Takeda, Hiroki Kondo,K. Ishikawa, M. Sekine, H. Matsugai, T. Honda, M. Minam, F. Uesawa, M. Hori, and T. Tatsumi

    Jpn. J. Appl. Phys.     2012年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.026201

  367. Control of Super Hydrophobic and Super Hydrophilic Surfaces of Carbon Nanowalls Using Atmospheric Pressure Plasma Treatments

    H. Watanabe, H. Kondo, M. Sekine, M. Hiramatsu ,M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys. 51 (2012) 01AJ07 (4 pages)     2012年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.01AJ07

  368. Feature Profiles on Plasma Etch of Organic Films by a Temporal Control of Radical Densities and Real-Time Monitoring of Substrate Temperature

    H. Yamamoto, H. Kuroda, M. Ito, T. Ohta, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   51 巻   2012年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.016202 (2012)

  369. Direct current superposed dual-frequency capacitively coupled plasmas in selective etching of SiOCH over SiC

    T. Yamaguchi, T. Komuro, C. Koshimizu, S. Takashima, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori

    J. Phys. D: Appl. Phys.   45 巻   2012年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/45/2/025203 (2012).

  370. Chemical bond modification in porous SiOCH films by H2 and H2/N2 plasmas investigated by in situ infrared reflection absorption spectroscopy

    Hiroshi Yamamoto, Kohei Asano, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Hisataka Hayashi, Itsuko Sakai, Tokuhisa Ohiwa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, and Masaru Hori

    Journal of Applied Physics 2011   110 巻 ( 123301 )   2011年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: doi:10.1063/1.3671547

  371. Quantum Chemical Investigation for Chemical Dry Etching of SiO2 by Flowing NF3 into H2 Downflow Plasma

    Toshio Hayashi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Akihiro Kono, and Koukou Suu

    Japanese Journal of Applied Physics (JJAP)     2011年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.016201

  372. Direct current superposed dual-frequency capacitively coupled plasmas in selective etching of SiOCH over SiC

    Tsuyoshi Yamaguchi, Tatsuya Komuro, Chishio Koshimizu, Seigo Takashima, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori

    Journal of Physics D: Applied Physics     2011年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/45/2/025203

  373. Feature Profiles on Plasma Etch of Organic Films by a Temporal Control of Radical Densities and Real-Time Monitoring of Substrate Temperature

    Hiroshi Yamamoto, Hiroki Kuroda, Masafumi Ito1, Takayuki Ohta1, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics (JJAP)     2011年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.016202

  374. Synchrotron x-ray analyses of crystalline and electronic structures of carbon nanowalls

    Hiroki Kondo, Wakana Takeuchi, Masaru Hori, Shigeru Kimura, Yukako Kato, Takayuki Muro, Toyohiko Kinoshita, Osami Sakata, Hiroo Tajiri, and Mineo Hiramatsu

    Appl. Phys. Lett   99 巻   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3659470

  375. フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ-ソフトマテリアル相互作用の解析

    趙研 節原 裕一 竹中 弘祐 白谷 正治 関根 誠 堀 勝

    高温学会誌   Vol.37 巻 ( No.6 ) 頁: pp.289-297   2011年11月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  376. Self-organized carbon Mk formation on the top surface of fine trenches using a low temperature plasma anisotropic CVD for depositing fine organic structure

    K. Koga, T. Urakawa, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Plasma Conf. 2011     頁: 23G03   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  377. Effects of substrate bias voltage on plasma anisotropic CVD of carbon using H-assisted plasma CVD reactor

    T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33 巻   頁: 24P007-O   2011年11月

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    記述言語:英語  

  378. Investigation of plasma interactions with organic semiconductors for fabrication of flexible electronics devices

    K. Cho, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33 巻   頁: 69-70   2011年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  379. Optical emission spectroscopy of Ar+H2+ C7H8 discharges for anisotropic plasma CVD of carbon

    T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33 巻   頁: 123-124   2011年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  380. High-Performance Decomposition and Fixation of Dry Etching ExhaustPerfluoro-Compound Gases and Study of Their Mechanism

    Kei Hattori, Masaaki Osato, Takeshi Maeda, Katsuya Okumura, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys   50 巻   2011年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.50.117301

  381. Inactivation of Penicillium digitatum Spores by a High-Density Ground-State Atomic Oxygen-Radical Source Employing an Atmospheric-Pressure Plasma

    S. Iseki, H. Hashizume, F. Jia, K. Takeda, K. Ishikawa, T. Ohta, M. Ito, and M. Hori

    Appl. Phys. Express   Vol. 4 巻   2011年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.4.116201 (2011)

  382. Analysis of GaN Damage Induced by Cl2/SiCl4/Ar Plasma

    Masaki Minami Shigetaka Tomiya, Kenji Ishikawa, Ryosuke Matsumoto, Shang Chen, Masanaga Fukasawa,Fumikatsu Uesawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, and Tetsuya Tatsumi

    Japanese Journal of Applied Physics   50 巻   頁: 08JE03   2011年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.50.08JE03

  383. Impacts of CF+,CF2+,CF3+,andAr Ion Beam Bombardment with Energies of 100 and 400 eV on Surface Modification of Photoresist

    TakuyaTakeuchi,ShinpeiAmasaki,HirokiKondo,KenjiIshikawa,HirotakaToyoda,MakotoSekine,Song-Yun Kang,IkuoSawada,MasaruHori

    JapaneseJournalOfAppliedPhysics   50 巻 ( 8 )   2011年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.50.08JE05

  384. Novel Atmospheric Pressure Inductively Coupled Micro Plasma Source Using Floating Wire Electrode

    Shinya Kumagai, Hiroki Matsuyama, Yoshihiro Yokoyama, Masaru Hori, and Minoru Sasaki

    Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 08JA02     2011年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: DOI: 10.1143/JJAP.50.08JA02

  385. Reactive Ion Etching of Carbon Nanowalls

    Shingo Kondo, Hiroki Kondo, Yudai Miyawaki, Hajime Sasaki,Hiroyuki Kano,Mineo Hiramatsu,Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   50 巻 ( 7 )   2011年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 075101

  386. Synergistic Formation of Radicals by Irradiation with Both Vacuum Ultraviolet and Atomic Hydrogen :A Real-time In Situ Electron Spin Resonance Study

    Kenji Ishikwa,Naoya Sumi,Akihiko Kono Hideo Horibe,Keigo Takeda,Hiroki Kondo,Makoto Sekine,and Masaru Hori

    Physical Chemistry   2 巻 ( 11 ) 頁: 1278-1281   2011年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  387. Achieving high-growth-rate in GaN homoepitaxy using high-density nitrogen radical source

    Yohjiro Kawai1,*, Shang Chen1, Yoshio Honda1,2, Masahito Yamaguchi1,2, Hiroshi Amano1,2, Hiroki Kondo1, Mineo Hiramatsu3, Hiroyuki Kano4, Koji Yamakawa5, Shoji Den5, Masaru Hori1

    physica status solidi (c)   8 巻 ( 7--8 ) 頁: 2089-2091   2011年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssc.201000969

  388. Spatial Distributions of Electron, CF, and CF2 Radical Densities and Gas Temperature in DC-Superposed Dual-Frequency Capacitively Coupled Plasma Etch Reactor Employing Cyclic-C4F8/N2/Ar Gas

    Tsuyoshi Yamaguchi, Tetsuya Kimura, Chishio Koshimizu, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys   50 巻   頁: 056101-1:6   2011年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  389. H2/N2 plasma damage on porous dielectric SiOCH film evaluated by in situ film characterization and plasma diagnostics

    Hiroshi Yamamoto, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Masafumi Ito, Makoto Sekine, Masaru Hori, Takeshi Kaminatsui, Hisataka Hayashi, Itsuko Sakai, and Tokuhisa Ohiwa

    J. Appl. Phys.   109 巻   頁: pp.084112-1-8   2011年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3562161

  390. O2/N2ガスを用いた60Hz非平衡大気圧プラズマによるソルダーレジストとドライフィルムの表面改質

    岩田義幸,坂本一,乾裕俊,堀勝

    表面技術   62 巻 ( 6 ) 頁: 311-316   2011年4月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  391. Radical-controlled plasma processing for nanofabrication

    Hori Masaru Hori, Hiroki Kondo and Mineo Hiramatsu

    J. Phys. D: Appl. Phys.     頁: 44, 174027   2011年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  392. Spontaneous formation of highly regular superlattice structure in InGaN epilayers grown by molecular beam epitaxy

    Z. H. Wu, Y. Kawai, Y.-Y. Fang, C. Q. Chen, H. Kondo, M. Hori, Y. Honda, M. Yamaguchi, and H. Amano

    Appl. Phys. Lett.     頁: 98, 141905   2011年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  393. Formation and mechanism of ultrahigh density platinum nanoparticles on vertically grown graphene sheets by metal-organic chemical supercritical fluid deposition

    Kota Mase, Hiroki Kondo, Shingo Kondo, Masaru Hori, Mineo Hiramatsu, and Hiroyuki Kano

    APPLIED PHYSICS LETTERSGRAPHENE, CARBON NANOTUBES, C60, AND RELATED STUDIES     頁: 98, 193108   2011年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  394. Dissociation Channels of c-C4F8 to CF2 Radical in Reactive Plasma

    Toshio Hayashi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Akihiro Kono, and Koukou Suu

    Japanese Journal of Applied Physics     頁: 50   2011年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  395. Electron field emission enhancement of carbon nanowalls by plasma surface nitridation

    Wakana Takeuchi, Hiroki Kondo, Tomomi Obayashi, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori

    Appl. Phys. Lett.     頁: 98, 123107   2011年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  396. Hydrophobic treatment of organics against glass employing nonequilibrium atmospheric pressure pulsed plasmas with a mixture of CF4 and N2 gases

    Hirotoshi Inui, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Takuya Yara, Tsuyoshi Uehara, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Journal of Applied Physics   109 巻   頁: 013310   2011年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  397. Behaviors of Absolute Densities of N, H, and NH3 at Remote Region of High-Density Radical Source Employing N2?H2 Mixture Plasmas

    Shang Chen, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Hiroyuki Kano, Shoji Den, and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   50 巻   頁: 01AE03   2011年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  398. Mechanism of plasma-induced damage to low-k SiOCH films during plasma ashing of organic resists

    Keigo Takeda, Yudai Miyawaki, Seigo Takashima, Masanaga Fukasawa, Keiji Oshima, Kazunori Nagahata, Tetsuya Tatsumi, and Masaru Hori

    J. Appl. Phys.   109 巻   頁: 033303   2011年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  399. Laser Scattering Diagnosis of a 60-Hz Non-Equilibrium Atmospheric Pressure Plasma Jet

    Fengdong Jia, Naoya Sumi, Kenji Ishikawa, Hiroyuki Kano, Hirotoshi Inui,Jagath Kularatne, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Akihiro Kono, and Masaru Hori

    Applied Physics   4 巻   頁: 026101   2011年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  400. Controlled Synthesis of Carbon Nanowalls for Carbon Channel Engineering

    Hiroki Kondo, Masaru Hori, Wakana Takeuchi, Mineo Hiramatsu

    Key Engineering Materials   470 巻   頁: 85-91   2011年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  401. プラズマ技術とバイオアプリケーション -非均衡大気圧プラズマのミドリカビ殺菌への応用-

    伊藤昌文、堀勝

    化学工業   61 巻 ( 6 ) 頁: 44-48   2010年6月

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    記述言語:日本語  

  402. 研究開発の効率を飛躍的に高めるコンビ名とリアルプラズマ解析装置

    白谷正治、節原裕一、関根誠、堀勝

    化学工業   60 巻 ( 5 ) 頁: 43-47   2010年5月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  403. 巻頭言・プラズマ誘起表面科学の魅力

    堀勝

    表面科学   31 巻 ( 3 ) 頁: 123   2010年3月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  404. プラズマCVD法を用いたカーボンナノウォールの形成

    平松美根男、堀勝

    表面科学   31 巻 ( 3 ) 頁: 144-149   2010年3月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  405. 自律型プラズマナノエッチング製造装置の創製~装置が自己判断、自己制御、自己修正する究極のプラズマプロセスの実現~

    堀勝、竹田圭吾

      14 巻 ( 2 ) 頁: 4   2010年2月

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    記述言語:日本語  

  406. Contrast Enhancement of Wavelength Selective Detection on Mid-InfraredUsing Localized Atmospheric Plasma Treatment

    K. Masuno, K. Tashiro, M. Hori, S. Kumagai, M. Sasaki

    Jpn J. Appl. Phys   49 巻 ( 4 )   2010年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  407. Measurement of Hydrogen Radical Density and its Impact on Reduction of Copper Oxide in Atmospheric-Pressure Remote Plasma Using H2 and Ar Mixture Gases

    Hirotoshi Inui, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Sekine Makoto, Hiroyuki Kano, Naofumi Yoshida, and Masaru Hori

    Appl. Phys. Express   3 巻   頁: 126101   2010年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  408. Modeling considerations and performance estimation of Single Carbon Nano Wall based Field Effect Transistor by 3D TCAD simulation study

    Malinowski A., Hori M., Sekine M., Takeuchi W., ?ukasiak L., Jakubowski A., Tomaszewski D.

    Journal Transactions of the Materials Research Society of Japan   35 巻 ( 3 ) 頁: 669-674   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  409. Dependence of Surface-Loss Probability of Hydrogen Atom on Pressures in Very High Frequency Parallel-Plate Capacitively Coupled Plasma

    Yusuke Abe, Sho Kawashima, Keigo Takeda, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Applied Physics Express   13 巻 ( 10 ) 頁: 106001   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  410. Surface Loss Probability of Nitrogen Atom on Stainless-Steel in N2 Plasma Afterglow

    S. Takashima, K. Takeda, S. Kato, M. Hiramatsu, and M. Hori

    Jpn J. Appl. Phys.   49 巻   頁: 076101-1 - 4   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  411. Optical Properties of Evolutionary Grown Layers of Carbon Nanowalls Analyzed by Spectroscopic Ellipsometry

    Shinji Kawai, Shingo Kondo, Wakana Takeuchi, Hiroki Kondo, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   49 巻   頁: 060220   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  412. Etching characteristics of organic low-k films interpreted by internal parameters employing a combinatorial plasma process in an inductively coupled H2/N2 plasma

    Moon Chang Sung; Takeda Keigo; Sekine Makoto; Setsuhara Yuichi; Shiratani Masaharu; Hori Masaru

    J. Appl. Phys   107 巻 ( 11 ) 頁: 113310 - 113310-8   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  413. Surface loss probabilities of H and N radicals on different materials in afterglow plasmas employing H2 and N2 mixture gases

    Chang S. Moon, Keigo Takeda, Seigo Takashima, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, and Masaru Hori

    J. Appl. Phys   107 巻 ( 10 ) 頁: 103310   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  414. Rapid inactivation of Penicillium digitatum spores using high-density nonequilibrium atmospheric pressure plasma

    Sachiko Iseki, Takayuki Ohta, Akiyoshi Aomatsu, Masafumi Ito, Hiroyuki Kano, Yasuhiro Higashijima, and Masaru Hori

    Appl. Phys.   96 巻   頁: 153704   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  415. Preparation of Dispersed Platinum Nanoparticles on a Carbon Nanostructured Surface Using Supercritical Fluid Chemical Deposition Materials

    M. Hiramatsu, M. Hori

      3 巻 ( 3 ) 頁: 1559-1572   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  416. “High performance of compact radical monitoring probe in H2/N2 mixture plasma"

    Chang S. Moon, K. Takeda, S. Takashima, M. Sekine, Y. Setsuhara, M. Shiratani, and M. Hori

    J. Vac. Sci. Technol.   B 28 巻 ( L17 )   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  417. Critical Factors for Nucleation and Vertical Growth of Two Dimensional Nano-Graphene Sheets Employing a Novel Ar+ Beam with Hydrogen and Fluorocarbon Radical Injection

    Shingo Kondo, Hiroki Kondo, Mineo Hiramatsu, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Applied Physics Express   3 巻 ( 4 ) 頁: 045102   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  418. Monolithic self-sustaining nanographene sheet grown using plasma-enhanced chemical vapor deposition

    Wakana Takeuchi, Keigo Takeda, Mineo Hiramatsu, Yutaka Tokuda, Hiroyuki Kano, Shigeru Kimura, Osami Sakata, Hiroo Tajiri, and Masaru Hori

    Phys. Status Solidi A 207   1 巻   頁: 139-143   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  419. Preparation of Platinum Nanoparticles on Carbon Nanostructures Using Metal-Organic Chemical Fluid Deposition Employing Supercritical Carbon Dioxide

    M. Hiramatsu, T. Machino, K. Mase, M. Hori, and H. Kano

    J. Nanosci. Nanotechnol   10 巻   頁: 4023-4029   2010年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  420. Initial growth process of carbon nanowalls synthesized by radical injection plasma-enhanced chemical vapor deposition

    S. Kondo, S. Kawai, W. Takeuchi, K. Yamakawa, S. Den, H. Kano, M. Hiramatsu, and M. Hori

    J. Appl. Phys   106 巻   頁: 094302   2009年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  421. A scientific look at plasma technology

    SPOTLIGHT ON NAGOYA     頁: 16   2009年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  422. *Development of atomic monitoring probe and its application to spatial distribution measurements of H and O atomic radical densities in radical-based plasma processing

    S. Takahashi, S.Takashima, K.Yamakawa, S. Den, H.Kano, K. Takeda, and M. Hori

    J. Appl. Phys   106 巻 ( 5 )   2009年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  423. Analysis of dispersion of electrical parameters and characteristics of FinFET devices

    Malinowski A., Sekine M., Hori M., Jakubowski A., Lukasiak L., Tomaszewski D

    Journal of Telecommunications and Information Technology (JTIT)   ( 4 )   2009年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  424. ラジカル制御プラズマとその応用

    堀 勝

      52 巻 ( 9 ) 頁: 491-497   2009年9月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  425. Monolithic self-sustaining nanographene sheet grown using plasma-enhanced chemical vapor deposition

    Wakana Takeuchi, Keigo Takeda, Mineo Hiramatsu, Yutaka Tokuda, Hiroyuki Kano, Shigeru Kimura, Osami Sakata, Hiroo Tajiri, and Masaru Hori

    Phys. Status Solidi A   1-5 巻   2009年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  426. SiH4 /H2 &not;プラズマによる高品質微結晶シリコンの低温形成

    堀 勝

    月間ディスプレイ   15 巻 ( 8 ) 頁: 3-8   2009年8月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  427. Development of measurement technique for carbon atoms employing vacuum ultraviolet absorption spectroscopy with a microdischarge hollow-cathode lamp and its application to diagnostics of nanographene sheet material formation plasmas 査読有り

    W. Takeuchi, H. Sasaki, S. Kato, S. Takashima, M. Hiramatsu, and M. Hori

    J. Appl. Phys   105 巻   頁: 113305 -1- 113305 -6   2009年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  428. 低誘電率(Low-k)材料のドライエッチング

    堀 勝、関根 誠

    プラズマ・核融合学会誌   85 巻 ( 4 ) 頁: 193,194   2009年4月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  429. Synthesis of Platinum Nanoparticles on Two-Dimensional Carbon Nanostructures with an Ultrahigh Aspect Ratio Employing Supercritical Fluid Chemical Vapor Deposition Process 査読有り

    T. Machino, W. Takeuchi, H. Kano, M. Hiramatsu, and M. Hori

    Appl. Phys. Express   2 巻 ( 2 ) 頁: 025001-1-025001-3   2009年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  430. Combinatorial Plasma Etching Process

    Chang Sung Moon, Keigotakeda, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, and Masaru Hori

    Applied Physics Express   2 巻   2009年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  431. DEVELOPMENT OF COMBINATORIAL PLASMA PROCESS ANALYZER FOR ADVANCED R&D OF NEXT GENERATION NANODEVICE FABRICATIONS

    K. Takenaka, K. Cho, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Cramics Transactions   - 巻   2009年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  432. X-Ray Photoelectron Spectroscopy for Analysis of Plasma-Polymer Interactions in Ar Plasmas Sustained via RF Inductive-Coupling with Low-Inductance Antenna Units

    Y. Setsuhara, K. Cho, M. Shiratani, M. Sekine and M. Hori, E. Ikeitaga and S. Zaima

    Thin Solid Films   - 巻   2009年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  433. Low-Damage Surface Modification of Polymethylmethacrylate with Argon-Oxygen Mixture Plasmas Driven by Multiple Low-Inductance Antenna Units

    Y. Setsuhara, K. Cho, K. Takenaka, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori, E. Ikeitaga and S. Zaima

    Thin Solid Films   - 巻   2009年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  434. Plasma Surface Treatment of Polymers with Inductivity Coupled RF Plasmas Driven by Low inductance Antenna Units

    Y. Setsuhara, K. Cho, K. Takenaka, A. Ebe, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori E. Ikeitaga, H. Kondo, O. Nakatsuka and S. Zaima

    Thin Solid Films   518 巻   頁: 1006-1011   2009年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  435. Development of d ensity-inclination plasmas for analysis of plasma nano-processes via combinatorial method

    Y. Setsuhara, K. Nagao, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Thin Solid Films   518 巻   頁: 1020-1023   2009年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  436. Substrate temperature dependence of deposition profile of plasma CVD carbon films in trenches

    Jun Umetsu, Kazuhiko Inoue, Takuya Nomura, Hidefumi Matsuzaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Journal of Plasma and Fusion Research Series   8 巻   頁: 1443-1446   2009年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  437. 半導体特性を持つカーボンナノウォールの合成及びその電気伝導特性の制御に世界で初めて成功

    堀 勝

    科研費NEWS   2 巻   頁: 7   2008年11月

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    記述言語:日本語  

  438. Fabrication of Carbon Nanowalls using Electron Beam Excited Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 査読有り

    T. Mori, M. Hiramatsu, K. Yamakawa, K. Takeda, and M. Hori

    Diamond & Related Materials   17 巻 ( 7-10 ) 頁: 1513-1517   2008年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  439. New Compact Continuous Spectrum Light Source Using Atmospheric Pressure Microplasma with High-Velocity Ar Gas Flow 査読有り

    H. Ito, H. Kano, and M. Hori

    Appl. Phys. Express   1 巻 ( 10 ) 頁: 106001-1-106001-3   2008年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  440. 先進プラズマナノプロセス技術~プラズマナノ科学創成による製造技術の革新~

    堀 勝

    真空ジャーナル   120 巻   頁: 18,25   2008年9月

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    記述言語:日本語  

  441. Novel Silicon Wafer Slicing Technology Using Atmospheric-Pressure Reactive Microplasma 査読有り

    T. Ideno, H. Inui, S. Takashima, H. Kano, M. Kondo, M. Hiramatsu, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   47 巻 ( 7 ) 頁: 5648-5651   2008年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  442. グラファイト(黒鉛)から半導体を創る――カーボンナノウォールの電気伝導制御に成功――

    堀 勝

    名大トピックス   182 巻   頁: 12,13   2008年7月

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    記述言語:日本語  

  443. Surface Reactions during Low-k Etching using N2/H2 Plasma 査読有り

    M. Fukasawa, T. Tatsumi, K. Oshima, K. Nagahata, S. Uchida, S. Takashima, M. Hori, and Y. Kamide

    J. Vac. Sci. Technol   ( A26 ) 頁: 870-874   2008年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  444. Absolute Density and Temperature of O(1D2) in Highly Ar or Kr Diluted O2 Plasma 査読有り

    K. Takeda, S. Takashima, M. Ito, and M. Hori

    Appl. Phys. Lett   93 巻 ( 2 ) 頁: 021501-1-021501-3   2008年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  445. 大気圧プラズマを用いた加工技術 招待有り

    堀 勝

    放電研究   51 巻 ( 2 ) 頁: 27-31   2008年6月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  446. Evaluation of Property Changes due to Radiation, Radicals, and Ions on Organic Low-k Films in H2/N2 Plasma Etching 査読有り

    S. Uchida, S. Takashima, M. Hori, M. Fukasawa, K. Ohshima, K. Nagahata, and T. Tatsumi

    Jpn. J. Appl. Phys.   47 巻 ( 5 ) 頁: 3621-3624   2008年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  447. Surface Modification Process of Contact Lens Using Three-Phase AC Excited Nonequilibrium Atmospheric Pressure Ar Plasma 査読有り

    M. Iwasaki, H. Inui, H. Kano, M. Ito, Y. Suzuki, D. Sutou, K. Nakada, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys   47 巻 ( 5 ) 頁: 3625-3629   2008年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  448. Electrical Conduction Control of Carbon Nanowalls 査読有り

    W. Takeuchi, M. Ura, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, and M. Hori

    Appl. Phys. Lett.   92 巻   頁: 213103-1-213103-3   2008年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  449. Plasma Damage Mechanisms for Low-k Porous SiOCH Films due to Radiation, Radicals, and Ions in the Plasma Etching Process 査読有り

    S. Uchida, S. Takashima, M. Hori, M. Fukasawa, K. Ohshima, K. Nagahata, and T. Tatsumi

    J. Appl. Phys.   103 巻 ( 7 ) 頁: 073303-1-073303-5   2008年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  450. プラズマ中のラジカル制御によるカーボンナノウォールの合成

    堀 勝、平松 美根男

    応用物理   77 巻 ( 4 ) 頁: 406-410   2008年4月

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    記述言語:日本語  

  451. のぞいてみよう!“プラズマの世界”

    堀 勝

    青少年のための科学の祭典・岐阜大会実験解説集     頁: 10   2008年3月

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    記述言語:日本語  

  452. Characteristics of Low Energy Atom and Molecule Beams Generated by the Charge Exchange Reaction 査読有り

    Y. Hara, S. Takashima, K. Yamakawa, S. Den, H. Toyoda, M. Sekine, and M. Hori

    J. Appl. Phys.   103 巻 ( 5 ) 頁: 053301-1-053301-5   2008年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  453. Nonequilibrium Atmospheric Pressure Plasma with Ultrahigh Electron Density and High Performance for Glass Surface Cleaning 査読有り

    M. Iwasaki, H. Inui, Y. Matsudaira, H. Kano, N. Yoshida, M. Ito, and M, Hori

    Appl. Phys. Lett.   92 巻   頁: 081503-1-081503-3   2008年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  454. Octave Spanning High Quality Super Continuum Generation Using 10 nJ and 104 fs High Energy Ultrashort Soliton Pulse 査読有り

    N. Nishizawa and M. Hori

    Appl. Phys. Express 1     頁: 022009-1-022009-2   2008年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  455. プラズマイノベーションによる学と産の世界拠点を目指して!

    堀 勝

      112 巻   頁: 23-25   2008年1月

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    記述言語:日本語  

  456. Roles of Oxidizing Species in a Nnonequilibrium Atmospheric-Pressure Pulsed Remote O2/N2 Plasma Glass Cleaning Process 査読有り

    M. Iwasaki, Y. Matsudaira, K. Takeda, M. Ito, E. Miyamoto, T. Yara, T. Uehara, and M. Hori

    J. Appl. Phys.   103 巻   頁: 023303-1-023303-7   2008年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  457. Highly Reliable Growth Process of Carbon Nanowalls using Radical Injection Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 査読有り

    S. Kondo, K. Yamakawa, S. Den, H. Kano, M. Hiramatsu, and M. Hori

    J. Vac. Sci. Technol   ( B26 ) 頁: 1294   2008年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  458. シミュレーションと計測によるプロセスプラズマの解析:N2 プラズマとH2 プラズマについて 査読有り

      51 巻 ( 12 ) 頁: 807-813   2008年

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  459. Tunable Low-Energy Ar Fast Atom Source with Large Diameter 査読有り

    Y. Hara, S. Takashima, K. Yamakawa, S. Den, H. Toyoda, and M. Hori

    Appl. Phys. Lett.   91 巻 ( 23 ) 頁: 231502-1-231502-3   2007年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  460. カーボンナノウォールの超精密形成と機能デバイスへの応用 招待有り

    堀 勝、平松 美根男

      7 巻 ( 11 ) 頁: 10-16   2007年11月

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    記述言語:日本語  

  461. シリコン表面の窒化初期過程とエネルギーバンドギャップの形成

    近藤 博基、財満 鎮明、堀 勝、酒井 朗、小川 正毅

    真空   50 巻 ( 11 ) 頁: 665- 671   2007年11月

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    記述言語:日本語  

  462. 高密度プラズマとその応用技術の最前線 展望『高密度プラズマプロセッシングの現状と将来展望』 招待有り

    堀 勝

    精密工学学会誌   73 巻 ( 9 ) 頁: 971-974   2007年9月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  463. VBLニュース 研究紹介 「大気圧プラズマによるフレキシブルエレクトロニクスの技術革新」

    堀 勝

    名古屋大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー ニュースNo. 23   12 巻 ( 1 ) 頁: 3   2007年8月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  464. ラジカル制御CVD法によるカーボンナノウォールの成長

    堀 勝、平松 美根男

      23 巻 ( 3 ) 頁: 13-17   2007年7月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  465. Effect of Low Level O2 Addition to N2 on Surface Cleaning by Nonequilibrium Atmospheric-Pressure Pulsed Remote Pmasma

    M .Iwasaki, K. Takeda, M. Ito, T. Yara, T. Uehara, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys., Express Letter   46 巻 ( 23 ) 頁: L540-L542   2007年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  466. *Insights into Sticking of Radicals on Surfaces for Smart Plasma Nano-Processing

    M. Hori and T. Goto

    Applied Surface Science   253 巻 ( 16 ) 頁: 6657-6671   2007年6月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  467. 小特集「材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ――現状と展望―― 9.フルオロカーボンプラズマを用いたナノ構造体の形成」

    平松美根男、堀 勝、

    プラズマ・核融合学会誌   83 巻 ( 4 ) 頁: 356-360   2007年4月

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    記述言語:日本語  

  468. 小特集「材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ――現状と展望―― 1.はじめに」

    堀 勝

    プラズマ・核融合学会誌   83 巻 ( 4 ) 頁: 317-318   2007年4月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  469. 小特集「材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ――現状と展望―― 7.環境調和型ゼロエミッション・リサイクルナノエッチングプロセスの開発」

    高橋俊次、堀 勝

    プラズマ・核融合学会誌   83 巻 ( 4 ) 頁: 346-349   2007年4月

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    記述言語:日本語  

  470. Aligned Growth of Single-Walled and Double-Walled Carbon Nanotube Films by Control of the Catalyst Preparation

    M. Hiramatsu, T. Deguchi, H. Nagao, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   46 巻 ( 13 ) 頁: L303 - L306   2007年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  471. 巻頭言

    堀 勝

    応用物理学会東海支部創立40周年記念リフレッシュ理科教室「たのしい工作大集合!」     2007年1月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  472. Growth and Energy Bandgap Formation of Silicon Nitride Films in Radical Nitridation

    H. Kondo, K. Kawaai, A. Sakai, M. Hori, S. Zaima, and Y. Yasuda

    Jpn. J. Appl. Phys.   46 巻 ( 1 ) 頁: 71-75   2007年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  473. Geometric Characteristics of Silicon Cavities Etched in EDP 査読有り

    H. Ju, T. Ohta, M. Ito, M. Sasaki, K. Hane, and M. Hori

    J. Micromech, & Microeng.   17 巻   頁: 1012-1016   2007年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  474. Diagnostics of Surface Wave Excited Kr/O2 Plasma for Low-Temperature Oxidation Processes

    K. Takeda, Y. Kubota, S. Takashima, M. Hori, A. Serdyuchenko, M. Ito, and Y. Matsumi

    J. Appl. Phys.,   102 巻   頁: 013302-1-013302-6   2007年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  475. The Silicon Mold Fabrication of a Kind of Micro-Optical Resonator and Coupler

    H. Ju, T. Ohta, S. Takao, M. Ito, M. Sasaki, K. Hane, and M. Hori

    Proceedings of SPIE   6462 巻   頁: 64620I   2007年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  476. Area-Selective Growth of Aligned Single-Walled Carbon Nanotube Films using Microwave Plasma-Enhanced CVD

    M. Hiramatsu, T. Deguchi, H. Nagao, and M. Hori

    Diamond and Related Materials   16 巻   頁: 1126-1130   2007年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  477. Simultaneous Monitoring of Multimetallic Atom Densities in Plasma Processes Employing a Multimicrohollow Cathode Lamp

    T. Ohta, M. Ito, Y. Tachibana, S. Taneda, S. Takashima, M. Hori, H. Kano, and S. Den

    Appl. Phys. Lett.   90 巻   頁: 251502.1- 251502.3   2007年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  478. Silicon Oxide Selective Etching Employing Dual Frequency Superimposed Magnetron Sputtering of Carbon Using F2/Ar Gases

    M. Nagai and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   46 巻 ( 2 ) 頁: 799-802   2007年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  479. Initial Stage of Processes and Energy Bandgap Formation in Nitridation of Silicon Surface Using Nitrogen Radicals

    H. Kondo, S. Zaima, M. Hori, A. Sakai, M. Ogawa

    J. Vac. Soc. Jpn   50 巻 ( 11 ) 頁: 665- 671   2007年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  480. Formation of Microcrystalline Diamond Using a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma Assisted by Thermal Decomposition of Di-t-alkyl Peroxide

    H. Ito, K. Teii, M. Ito, and M. Hori

    Diamond and Related Materials   16 巻   頁: 393-396   2007年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  481. Plasma Etching Technology for Low-k Porous SiOCH Films

    M. Hori

    Silicon Nitride, Silicon Dioxide, and Emerging Dielectrics 9   6 巻 ( 3 ) 頁: 485-500   2007年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  482. 精密シリコンスライスでフッ素系ガスプラズマ切断浮上

    堀 勝

    ガスレビュー   614 巻   頁: 25   2006年12月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  483. 研究室紹介

    堀 勝

    応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会会報   45 巻   2006年12月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  484. Ion Attachment Mass Spectrometry of Nonequilibrium Atmospheric-Pressure Pulsed Remote Plasma for SiO2 Etching

    M. Iwasaki, M. Ito, T. Uehara, M. Nakamura, and M. Hori

    J. Appl. Phys.   100 巻   2006年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  485. Nitriding of a Tool Steel with an Electron-beam-excited Plasma

    H. Shoyama, T. Hishida, T. Hara, Y. Dake, T. Mori, H. Nagai, M. Hori, and T. Goto

    J. Vac. Sci. Techno.   A24 巻   頁: 1999-2002   2006年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  486. Carbon Nanowalls Formation by Radical Controlled Plasma Process

    M. Hori and M. Hiramatsu

    Advanced in Science and Technology   48 巻   頁: 119-126   2006年11月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  487. Development of a Low Pressure Microwave Excited Plasma and its Application to the Formation of Microcrystalline Silicon Films

    D. Kikukawa, M. Hori, K. Honma, M. Yamamoto, T. Goto, S. Takahashi, and S. Den

    J. Vac. Sci. Technol.   A24 巻   頁: 2128-2132   2006年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  488. プラズマ化学気相堆積法を用いたカーボンナノウォールの作製

    平松美根男、堀 勝

    真空   49 巻 ( 9 ) 頁: 368-372   2006年9月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  489. Effects of N2 Addition on Density and Temperature of Radicals in 60 MHz Capacitively Coupled C-C4F8 Gas Plasma

    M. Nagai and M. Hori

    J. Vac. Sci. Technol.   A24 巻   頁: 1760-1763   2006年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  490. Low-k SiOCH Film Etching Process and Its Diagnostics Employing Ar/C5F10O/N2 Plasma

    M. Nagai, T. Hayashi, M. Hori, and H. Okamoto

    Jpn. J. Appl. Phys.   45 巻 ( 9A ) 頁: 7100-7104   2006年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  491. Silicon Dioxide Etching Process for Fabrication of Micro-optics Employing Pulse-Modulated Electron-beam-excited Plasma

    K. Takeda, T. Ohta, M. Ito, and M. Hori

    J. Vac. Sci. Technol.   A24 巻   頁: 1725-1729   2006年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  492. Fabrication of Carbon Nanowalls Using Novel Plasma Processing

    M. Hiramatsu and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   45 巻 ( 6B ) 頁: 5522-5527   2006年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  493. Progress of Radical Measurements in Plasmas for Semiconductor Processing

    M. Hori and T. Goto

    Plasma Sources Sci. Technol.   15 巻 ( 2 ) 頁: S74-S83   2006年5月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  494. Atmospheric Pressure Fluorocarbon-Particle Plasma Chemical Vapor Deposition for Hydrophobic Film Coating

    M. Nagai, O. Takai, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   45 巻 ( 17 ) 頁: L460-L462   2006年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  495. 新規エッチングガスを用いた半導体微細加工プロセス

    堀 勝、高橋俊次

    化学工業   57 巻 ( 3 ) 頁: 55-58   2006年3月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  496. プラズマCVDを用いたカーボンナノウォールの成長

    平松美根男、堀 勝

    日本結晶成長学会誌   32 巻 ( 32 ) 頁: 27-32   2005年12月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  497. スマートプラズマプロセス

    堀 勝

    応用物理   74 巻 ( 10 ) 頁: 1328-1335   2005年10月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  498. プラズマで遊ぼう

    堀 勝

    WEC青少年のための科学の祭典 2005年岐阜大会in岐阜メモリアルセンター     頁: 5   2005年10月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  499. RFプラズマCVDによるカーボンナノウォールの配向成長

    平松美根男、堀 勝

    プラズマ・核融合学会誌   81 巻 ( 9 ) 頁: 669-673   2005年9月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  500. 巻頭言

    堀 勝

    応用物理学会東海支部第8回リフレッシュ理科教室「あつい!つめたい!熱の不思議」     2005年7月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  501. 名古屋大学ナノプロセス研究Gr.自立型ナノ製造装置を開発 LTPS向け各種製膜から平面バックライト向けCNWの形成まで

    堀 勝

    EExpress     頁: 24-31   2005年6月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  502. 第52回応用物理学関係連合講演会 講演会報告「シリコンナノエレクトロニクスの新展開――ポストスケーリングテクノロジー――」

    堀 勝、宮崎誠一、田畑仁

    応用物理   74 巻 ( 6 ) 頁: 804-805   2005年6月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  503. 巻頭言

    堀 勝

    応用物理学会シリコンテクノロジー分科会「65nmから45nmノードlow-kエッチングの最前線」特集号   ( 71 ) 頁: 1   2005年6月

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  504. カーボンナノウォールの合成と合成装置の実用化開発

    堀 勝、平松美根男

    放電研究   48 巻 ( 2 ) 頁: 33-38   2005年5月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  505. カーボンナノ構造体製膜装置の開発

    平松美根男、堀 勝

    Display Asia(韓国)     2005年5月

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    記述言語:日本語  

  506. Property of Atmospheric Pressure Plasma with Microwave Excitation of Plasma Processing

    M. Nagai, M. Hori, and T. Goto

    J. Vac. Sci. Technol. A   23 巻 ( 2 ) 頁: 221-225   2005年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  507. マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマを用いたシリコン酸化膜の超高速エッチングおよびカーボンナノチューブの形成

    山川晃司、堀 勝

    真空 Journal of the Vacuum Society of Japan   48 巻 ( 2 ) 頁: 51-56   2005年2月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  508. Vertical Growth of Carbon Nanowalls Using RF Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

    K. Shiji, M. Hiramatsu, A. Enomoto, M. Nakamura, H. Amano and M. Hori

    Diamond & Related Materials   14 巻   頁: 831-834   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  509. Fabrication of Dense Carbon Nanotube Films Using Microwave Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

    M. Hiramatsu, M. Taniguchi, H. Nagao, Y. Ando, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   44 巻 ( 2 ) 頁: 1150-1154   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  510. Preparation of Dense Carbon Nanotube Film Using Microwave Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

    M. Taniguchi, H. Nagao, M. Hiramatsu, Y. Ando, and M. Hori

    Diamond & Related Materials   14 巻   頁: 855-858   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  511. High-Rate Growth of Films of Dense, Aligned Double-Walled Carbon Nanotubes Using Microwave Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

    M. Hiramatsu, H. Nagao, M. Taniguchi, H. Amano, Y. Ando, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   44 巻   頁: L693-L695   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  512. Development of Compact C2F4 Gas Supply Equipment and Its Application to Etching of Dielectrics in an Environmental Benign Process

    S. Takahashi, S. Den, T. Katagiri, K. Yamakawa, H. Kano, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   44 巻 ( 24 ) 頁: L781-L783   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  513. Decomposition and Polymerization of Perfluorinated Compounds in Microwave-Excited Atmospheric Pressure Plasma

    M. Nagai, M. Hori, and T. Goto

    J. Appl. Phys.   97 巻   頁: 123304-1-123304-5   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  514. *Ultra-High-Speed Etching of Organic Films Using Microwave-Excited Nonequilibrium Atmospheric-Pressure Plasma

    K. Yamakawa, M. Hori, T. Goto, S. Den, T. Katagiri, and H. Kano

    J. Appl. Phys.   98 巻   頁: 43311-1-43311-5   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  515. Etching Process of Silicon Dioxide with Nonequilibrium Atmospheric Pressure Plasma

    K. Yamakawa, M. Hori, T. Goto, S. Den, T. Katagiri, and H. Kano

    J. Appl. Phys.   98 巻   頁: 13301-1-13301-6   2005年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  516. マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマを用いた超高速加工技術

    堀 勝、山川晃司

    表面技術   55 巻 ( 12 ) 頁: 38-42   2004年12月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  517. Study on the Absolute Density and Translational Temperature of Si Atoms in Very High Frequency Capacitively Coupled SiH4 Plasma with Ar, N2, and H2 Dilution Gases 査読有り

    T. Ohta, M. Hori, T. Ishida, T. Goto, M. Ito, and S. Kawakami

    Jpn. J. Appl. Phys.   43 巻 ( 9A ) 頁: 6405-6412   2004年9月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  518. A Novel Silicon-Dioxide Etching Process Employing Pulse-Modulated Electron-Beam-Excited Plasma 査読有り

    K. Takeda, Y. Tomekawa, M. Iwasaki, M. Ito, T. Ohta, K. Yamakawa, and M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   43 巻 ( 9A/B ) 頁: L1166-L1168   2004年8月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  519. Ultrahigh-Speed Etching of SiO2 with Ultrahigh Selectivity over Si in Microwave-Excited Non Equilibrium Atmospheric Pressure Plasma 査読有り

    K. Yamakawa, M. Hori, T. Goto, S. Den, T. Katagiri, and H. Kano

    Applied Physics Letters   84 巻 ( 4 ) 頁: 549-551   2004年7月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  520. Fabrication of Vertically Aligned Carbon Nanowalls Using Capacitively Coupled Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Assisted by Hydrogen Radical Injection 査読有り

    M. Hiramatsu, K. Shiji, H. Amano, and M. Hori

    Applied Physics Letters   84 巻 ( 23 ) 頁: 4708-4710   2004年6月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  521. Fabrication of Vertically Aligned Carbon Nanowalls Using Capacitively Coupled Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Assisted by Hydrogen Radical Infection

    M. Hiramatsu, K. Shiji, H. Amano, and M. Hori

    Virtual Journal of Nanoscale Science & Technology   9 巻 ( 21 )   2004年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  522. Diagnostic and analytical study on a low-pressure limit of diamond chemical vapor deposition in inductively coupled CO-CH4-H2 plasmas 査読有り

    K. Teii, M. Hori, and T. Goto

    J. Appl. Phys.   95 巻 ( 8 ) 頁: 4463-4470   2004年4月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  523. Silicon-oxide etching process employing an electron-beam-excited plasma 査読有り

    M. Ito, K. Takeda, T. Shiina, Y. Okamura, H. Nagai, M. Hori, and T. Goto

    J. Vac. Sci. & Technol.   22 巻 ( 2 ) 頁: 543-547   2004年3月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  524. High Performance of Silicon Oxide Selective Etching Using F2 Gas and Graphite Instead of Perfluorinated Compound Gases

    M.Nagai,M.Hori,and T.Goto

    Jpn.P.Appl.Phys.(Express Letter)   43 巻 ( 4A ) 頁: pp.L501-L503   2004年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  525. Effects of Driving Frequency on the Translation Temperature and Absolute Density of Si Atoms In Very High Frequency Capacitively Coupled SiF4 Plasma

    Takayuki Ohta, Masaru Hori, Tetsuro Ishida, Toshio Goto, Masafumi Ito, Satoshi Kawakami, Nobuo Ishii

    Jpn.J.Appl.Phys.   Vol.42 巻 ( No.12B ) 頁: pp L1532-L1534   2003年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  526. MBE-growth, characterization and properties of InN and InGaN 査読有り

    Y. Nanishi, Y. Saito, T. Yamaguchi, M. Hori, F. Matsuda, T. Araki, A. Suzuki, T. Miyajima

    Physica Status Solidi (a)   200 巻 ( 1 ) 頁: 202-208   2003年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssa.200303327

  527. Synthesis of polytetrafluoroethylene-like Film by a Novel Plasma Enhanced Chemical vapor Deposition Employing Solid material Evaporation Technique 査読有り

    K. Fujita, M. Ito, M. Hori and T. Goto

    Jpn. J. Appl. Phys.   42 巻 ( 2A ) 頁: 650-656   2003年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  528. Effects of Driving Frequency on the Translation Temperature and Absolute Density of Si Atoms in Very High Frequency Capacitively Coupled SiF4 Plasma 査読有り

    Takayuki Ohta, Masaru Hori, Tetsuro Ishida, Toshio Goto, Masafumi Ito, Satoshi Kawakami, Nobuo Ishii

    Jpn. J. Appl. Phys.   42 巻 ( 12B ) 頁: L1532-L1534   2003年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  529. Dry Etching 招待有り 査読有り

    Masaru Hori

    Electrochemistry   71 巻 ( 7 ) 頁: 603-604   2003年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  530. Plasma Induced Subsurface Reactions for Anisotropic Etching of Organic Low Dielectric Film Employing N2 and H2 Gas Chemistry 査読有り

    H. Nagai, M. Hiramatsu, M. Hori and T. Goto

    Jpn. J. Appl. Phys.(Express Letter)   42 巻 ( 3A ) 頁: L212-L214   2003年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  531. Environmentally Benign Etching Process of Amorphous Silicon and Tungsten Using Species Evaporated from Polytetrafluoroethylene and Fluorinated Ethylene Propylene 査読有り

    K. Fujita, M. Hori, T. Goto and M. Ito

    J. Vac. Sci.Technol.   B21 巻 ( 1 ) 頁: 302-309   2003年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  532. Measurement of S, SiF, and SiF2 Radicals and SiF4 Molecule Using Very High Frequency Capacitively Coupled Plasma Employing SiF4 査読有り

    T.Ohta, K. Hara, T. Ishida, M. Hori, T. Goto

    J. Appl. Phys.   94 巻 ( 3 ) 頁: 1428-1435   2003年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  533. Etching Organic Low Dielectric Film in Ultrahigh Frequency Plasma Using N2/H2 and N2/NH3 査読有り

    H.Nagai, M. Hiramatsu, M. Hori, T. Goto

    J. Appl. Phys.   94 巻 ( 3 ) 頁: 1362-1367   2003年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  534. Measurement of Oxgen Atom Density Employing Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy with Microdischarge Hollow Cathode Lamp 査読有り

    H. Nagai,M. Hiramatsu, M. Hori, T. Goto

    Review of Scientific Instruiments   74 巻 ( 7 ) 頁: 3453-3459   2003年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  535. Fabrication of Multilayered SiOCH Films with Low Dielectric Constant Employing Layer-by-Layer Process of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition and Oxidation 査読有り

    H. Nagai, M. Hori, T. Goto, T. Fujii, M. Hiramatsu

    Jpn. J. Appl. Phys.   42 巻 ( 5A ) 頁: 2775-2779   2003年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  536. *Fabrication of Vertically Aligned Carbon Nanostructures by Microwave Plasma-enhanced Vapor Deposition 査読有り

    M.Hiramatsu, K.Ito, C.H.Lau, J.S.Food, M.Hori

    Diamond & Related Materials   12 巻 ( 3月7日 ) 頁: 787-790   2003年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  537. Measurement of C2 Radical Density in Microwave Methane/Hydrogen Plasma Used For Nanocrystalline Diamond Film Formation 査読有り

    M.Hiramatsu, K.Kato, C.H.Lau, J.S.Food, M.Hori

    Diamond & Related Materials   12 巻 ( 3月7日 ) 頁: 366-369   2003年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  538. Effect of Oxygen and Nitrogen Atoms on SiOCH Film Etching in Ultrahigh Frequency Plasma 査読有り

    H. Nagai, Y. Maeda, M. Hiramatsu, M. Hori and T. Goto

    Jpn. J. Appl. Phys.   42 巻 ( 3B ) 頁: L326-L328   2003年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  539. Subsurface reaction of silicon nitride in a high selective etching process of silicon oxide over silicon nitride 査読有り

    M. Ito, K. Kamiya, M. Hori and T. Goto

    J. Appl. Phys.   91 巻 ( 3 ) 頁: 3452   2002年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  540. Measurement technique of radicals, their gas phase and surface reactions in reactive plasma prosessing 査読有り

    M. Hori and T. Goto

    Applied Surface Science   192 巻   頁: 135   2002年

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  541. Investigation of Nitrogen Atoms in Low-Pressure Nitrogen Plasmas Using a Compact Electron-Beam-Excited Plasma Source 査読有り

    S.Tada, S. Takashima, M. Ito, M. Hamagaki, M. Hori and T. Goto

    Jpn. J. Appl. Phys.   41 巻 ( 7A ) 頁: 4691   2002年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  542. Effects of Initial Layers on Surface Roughness and Crystallinity of Microcrystalline Silicon Thin Films Formed by Remote Electron Cyclotron Resonance Silane Plasma 査読有り

    K. Murata, D. Kikukawa, M. Hori and T.Goto

    J. Vac. Sci. Technolo.   A20 巻 ( 3 ) 頁: 953   2002年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  543. Behavior of Atomic Radicals and Their Effects on Organic Low Dielectric Constant Film Etching in High Density N2/H2 and N2/NH3 Plasmas 査読有り

    H. Nagai, S. Takashima, M. Hiramatsu, M. Hori and T. Goto

    J. Appl. Phys.   91 巻 ( 5 ) 頁: 2615   2002年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  544. パルス変調プラズマCVDを用いた配向性ポリシリコン薄膜形成 招待有り 査読有り

    堀勝,後藤俊夫

    表面技術   53 巻 ( 12 ) 頁: 860   2002年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語  

  545. Silicon Oxide Contact Hole Etching Employing an Environmentally Benign Process 査読有り

    K. Fujita, M. Hori, T. Goto and M. Ito

    J. Vac. Sci & Technol.   B20 巻 ( 6 ) 頁: 2192   2002年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  546. Cleaning of Glass Disk in Oxygen Plasma by Using Compact Electron-Beam-Excited Plasma Source 査読有り

    S. Tada, M. Ito, M. Hamagaki, M. Hori and T.GOTO

    Jpn. J. Appl. Phys.   41 巻 ( 11A ) 頁: 6553   2002年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  547. Ion-to CH3 Flux Ratio in Diamond Chemical-vapor Deposition 査読有り

    K. Teii, M. Hori and T. Goto

    J. Appl. Phys.   92 巻 ( 7 ) 頁: 4103   2002年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  548. Deposition of diamond-Like Carbon Using Compact Electron-Beam-Excited Plasma Source 査読有り

    S.Tada, M. Ito, m. Hamagaki, m. Hori and T. Goto

    Jpn. J. Appl. Phys.   41 巻 ( 8 ) 頁: 5408   2002年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  549. Growth of Preferentially Oriented Microcrystalline Silicon Film Using Pulse-Modulated Ultrahigh-Frequency Plasma

    Jpn. J. Appl. Phys.(Express Letter)   40 巻 ( 1 ) 頁: L4   2001年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  550. On the Mechanism of Polytetrafluoroethylene Ablation Using a Synchrotron Radiation-Induced Photochemical Process 査読有り

    Hisao Nagai, Muneto Inayoshi, Masaru Hori, Toshio Goto, Mineo Hiramatsu

    Appl. Surf. Sci.   183 巻   頁: 284   2001年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  551. Development of Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy Technique Employing Nitrogen Molecule Microdischarge Hollow Cathode Lamp for Absolute Density Measurements of Nitrogen Atoms in Process Plasmas 査読有り

    J.Vac. Sci. Technol. A   A19 巻 ( 2 ) 頁: 599   2001年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  552. Absolute Cocentration and Loss Kinetics of Hydrogen Atom in Methane and Hydrogen Plasma 査読有り

    Seigou Takashima, Masaru Hori, Akihiro Kono, Toshio Goto, Katsumi Yoneda

    J. Appl. Phys   90 巻 ( 11 ) 頁: 5497   2001年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  553. Spatial distribution of the absolute CF and CF2 radical densities in high-density plasma employing low global warming potential fluorocarbon gases and precursors for film formation 査読有り

    Masayuki Nakamura, Masaru Hori, Toshio Goto, Masafumi Ito, Nobuo Ishii

    J. Vac. Sci. Technol.   A19 巻 ( 5 ) 頁: 2134   2001年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  554. 赤外半導体レーザー吸収分光による半導体プロセスモニタリング 査読有り

    堀 勝、後藤俊夫

    日本赤外線学会誌   11 巻 ( 1 ) 頁: 2   2001年

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    記述言語:日本語  

  555. マイクロプラズマを光源に用いた真空紫外吸収分光法による原子密度計測 査読有り

    高島成剛、堀 勝、後藤俊夫

    真空   44 巻 ( 9 ) 頁: 802   2001年

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  556. Ultrathin Fluorinated Silicon Nitride Gate Dielectric Films Formed by Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Employing NH3 and SiF4 査読有り

    H. Ohta, M. Hori and T.Goto

    J. Appl. Phys.   90 巻 ( 4 ) 頁: 1955   2001年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  557. Measurement of Spatial Distribution of SiF4 and SiF2 Densities in High Density SiF4 Plasma Using Single -Path Infrared Diode Laser Absorption Spectroscopy and laser-Induced Fluorescence Technique 査読有り

    M.Nakamura, M. Hori, T. Goto, M. Ito and N. Ishii

    Jpn. J. Appl. Phys.   40 巻 ( 7 ) 頁: 4730   2001年

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  558. Dual-Electrode Biasing for Controlling Ion-to Adatom Flus ratio during Ion-Assisted Deposition of Diamond 査読有り

    Kungen Teii Masaru Hori Toshio Goto

    J. Appl. Phys.   89 巻 ( 9 ) 頁: 4714   2001年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  559. Behavior of Hydrogen Atoms in Ultrahigh-Frequency Silane Plasmas 査読有り

    Seigou Takashima Masaru Hori Toshio Goto Katsumi Yoneda

    J. Appl. Phys.   89 巻 ( 9 ) 頁: 4727   2001年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  560. Spatial Distribution of the Absolute Densities of CFx Radicals in Fluorocarbon Plasmas Determined from Single-Path Infrared Laser Absorption and Laser-Induced Fluorescence 査読有り

    Masayuki Nakamura Masaru Hori Toshio Goto Masafumi Ito Nobuo Ishii

    J. Appl. Phys.   90 巻 ( 2 ) 頁: 580   2001年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  561. Effect of Ions and Radicals on Formation of Silicon Nitride Gate Dielectric Film Using Plasma Chemical Vapor Deposition 査読有り

    Hiroyuki Ohta Atsushi Nagashima Hiroyuki Ohta Atsushi Nagashima Masaru Hori Toshio Goto

    J. Appl. Phys.   89 巻 ( 9 ) 頁: 5083   2001年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  562. Amorphous Silicon and Tungsten Etching Employing Environmentally Benign Plasma Process

    Jpn. J. Appl. Phys.   40 巻 ( 2A ) 頁: 832   2001年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  563. Negative Bias Dependence of Surfur and Fluorine Incorporation in Diamond Films Etched by an SF6 Plasma

    J. Electrochem. Soc.   148 巻 ( 2 ) 頁: G55   2001年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  564. Codeposition on Diamond Film Surface during Reactive Ion Etching in SF6 and O2 Plasma

    J. Vac. Sci. & Technol.   18 巻 ( 6 ) 頁: 2779   2000年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  565. Formation of Silicon Nitride Gate Dielectric Film at 300℃ Employing Radical Chemical Vapor Deposition

    J. Vac. Sci. & Technol.   B18 巻 ( 5 ) 頁: 2486   2000年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  566. Loss Kinetics of Carbon Atoms in Low-pressure High Density Plasmas

    J. Appl. Phys.   88 巻 ( 8 ) 頁: 4537   2000年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  567. Measurement and Control of Absolute Nitrogen Atom Density in an Electron Beam-Excited Plasma Using Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy

    J. Appl. Phys.   88 巻 ( 33 ) 頁: 1756   2000年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  568. Plasma Diagnostics and Low-Temperature Deposition of Microcrystalline Silicon in Ultrahigh-Frequency Silane Plasma

    J. Appl. Phys.   88 巻 ( 1 ) 頁: 576   2000年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  569. Precursors of Fluorocarbon Film Growth Studied by Mass Spectroscopy

    J. Appl. Phys.   87 巻 ( 10 ) 頁: 7185   2000年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  570. Study on Polymeric Neutral Species in High-Density Fluorocarbon Plasmas

    J. Appl. Phys.   87 巻 ( 9 ) 頁: 4572   2000年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  571. Kinetics and Role of C, O, and OH in Low-Pressure Nanocrystalline Diamond Growth

    J. Appl. Phys.   87 巻 ( 9 ) 頁: 4572   2000年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  572. マイクロ放電光源を用いたプラズマ吸収分光法

    プラズマ・核融合学会誌   76 巻 ( 5 ) 頁: 435   2000年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  573. Formation and Micromachining of Teflon(Fluorocarbon Polymer) Film by a Completely Dry Process Using Synchrotron Radiation

    J. Vac.Sci. Technol.   B17 巻 ( 3 ) 頁: 949   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  574. Diamond Deposition and Behavior of Atomic Carbon Species in a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma

    Jpn. J. Appl. Phys.   38 巻   頁: 4504   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  575. Spatial Distribution Measurement of Absolute Densities of CF and CF2 Radicals i a High Density Plasma Reactor Using a Combination of Single Path Infrared Diode Laser Absorption and Laser-Induced Fluorescence Technique

    Jpn. J. Appl. Phys.   38 巻   頁: L1469   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  576. Silicon Oxide Selective Etching Process Keeping Harmony with Environment by Using Radical Injection Technique

    J. Vac. SCi. Technol.   A17 巻   頁: 3260   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  577. Low Temperature Polycrystalline Silicon Film Formation with and without Charged Species in an Electron Cyclotron Resonance Vapor Deposition

    J.Vac.Sci. Technol.   A17 巻   頁: 2542   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  578. Environmentally Harmonized Etching Process for Cleaning Amorphous Silicon and Tungsten in Chemical Vapor Deposition Chamber

    Material Science in Semiconductor Processing   2 巻   頁: 219   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  579. Ploycrystalline Silicon Film Formation at Low Temperature Using Ultra-High-Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

    Material Letters   41 巻   頁: 16   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  580. Control of Seed Layer for a Low Temperature Formation of Polycrystalline Silicon with High Crystallinity and a Smooth Surface

    J. Vac. Sci. Technol.   B17 巻 ( 3 ) 頁: 1098   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  581. Novel Process for SiO2/Si Selective Etching Using a Novel Gas Source for Preventing Global Warming

    J.Vac. Sci. Technol.   B17 巻 ( 3 ) 頁: 957   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  582. フルオロカーボンラジカル(CFx)の表面反応過程

    プラズマ・核融合学会誌   75 巻 ( 7 ) 頁: 777   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  583. In-situ Observation of Hydrogenated Amorphous Silicon Surface in Electron Cyclotron Resonance Hydrogen Plasma Annealing

    J.Appl. Phys.   85 巻 ( 2 ) 頁: 1172   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  584. 高密度プラズマとエッチング・薄膜形成への応用

    応用物理   68 巻 ( 11 ) 頁: 1251   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  585. Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy Employing a Microdischarge Hollow-Cathode Lamp for Absolute Density Measurement of Hydrogen Atoms in Reactive Plasmas

    Appl. Phys. Lett.   75 巻   頁: 3929   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  586. Control over Size and Density of Sub-5nm Gold Dots by Retarding-Field Single Ion Deposition(RSID)

    Microelectronic Engineering   47 巻   頁: 401   1999年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  587. Surface Reaction of CF2 Radicals for Fluorocarbon Film Formation in SiO2/Si Selective Etching Process(共著)

    J. Vac. Sci. Technol. A   16 巻 ( 1 ) 頁: 233   1998年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  588. A Study on the Time Evolution of SiH3 Surface Loss Probability on Hydrogenated Amorphous Silicon Films in SiH4 RF Discharges Using Infrared Diode-Laser Absorption Spectroscopy(共著)

    J. Phys. D : Appl. Phys.   31 巻   頁: 776   1998年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  589. Sub-5nm Gold Dot Formation Using Retarding-Field Single. Ion Deposition(共著)

    Appl. Phys. Lett.   73 巻 ( 22 ) 頁: 3223   1998年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  590. Synchrotron Radiation Induced SiC Formation on Si Substrate Employing Methonol and H Radical(共著)

    J. Vac. Sci. Technol. A.   16 巻 ( 4 ) 頁: 2252   1998年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  591. 赤外半導体レーザー吸収分光法を用いたプラズマプロセスの計測

    オプトロニクス   11 巻 ( 90 ) 頁: 145   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  592. Low Dielectric Constant Film Formation by Oxygen-Radical Polymerization of Laser-Evapotated Siloxane

    J. Vac. Sci. Technol.   B15 巻 ( 3 ) 頁: 746   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  593. Development and Characterization of a New Compact Microwave Radical Beam Source

    Jpn. J. Appl. Phys.   36 巻 ( 7B ) 頁: 4588   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  594. Measurement of Carbon Atom Density in High Density Plasma Process

    Jpn. J. Appl. Phys.   36 巻 ( 7A ) 頁: L880   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  595. Effects of H, OH and CH3 Radicals on Diamond Film Formation in Parallel-Plate Radio Frequency Plasma Reactor

    J. Appl. Phys.   82 巻 ( 8 ) 頁: 4055   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  596. Kinetics of Radicals in CF4 and C4F8 Electron Cyclotron Resonance Plasmas

    Jpm. J. Appl. Phys   36 巻 ( 8 ) 頁: 5340   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  597. Influence on Selective SiO2/Si Etching of Carbon Atoms Produced by CH4 Addition to a C4F8 Permanent Magnet Electron Cyclotron Resonance

    J. Vac. Sci. Techual   A15 巻 ( 6 ) 頁: 2880   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  598. Rols of SiH3 and SiH2 Radicals in Particle Growth in RF Silame Plasma

    Jpn. J. Appl. Phys.   36 巻 ( 7B ) 頁: 4985   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  599. Absolute Density Measurement of Cynogen Fluoride in CHF3/N2 Electron Cyclotron Resonance Plasma Using Infrared Diode Laser Absorption

    J. Appl. Phys   82 巻 ( 10 ) 頁: 4777   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  600. CFx(X=1-3)Radical Densities during Si, SiO2 and Si3N4 Etching Employing Electron Cyclotron Resonance CHF3 Plasma

    J. Vac. Sci. Technol.   A15 巻 ( 3 ) 頁: 568   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  601. Substrate Bias Effect on Low Temperature Polycrystalline Silicon Formation Using Electron Cyclotron Resonance SiH4/H2 Plasma

    J. Appl. Phys.   81 巻 ( 12 ) 頁: 8035   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  602. Scanning Tunneling Microscopic and Spectroscopic Characterinzation of Diamond film Prepared by capacitively Compled Radio Frequency CH3OH Plasma with OH Radical Injection

    Appl. Phys. Lett.   70 巻 ( 16 ) 頁: 2141   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  603. Measuement of Einstein's A Coefficient of the 296.7nm Tramition Live of the Carbon Atom

    Jpn. J. Appl. Phys.   36 巻 ( 12A ) 頁: L1616   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  604. Effects of Dilution Gases on Si Atoms and SiHx+(X=O-3)Ions in Electron Cyclotron Resonance SiH4 Plasmas

    Jpn. J. Appl. Phys.   36 巻 ( 7B ) 頁: 4664   1997年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  605. ドライエッチング中の反応種計測

    堀勝

    ウルトラクリーンテクノロジー   8 巻 ( 4 ) 頁: 265   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  606. プラズマプロセスにおけるラジカルの気体ー固体相互作用

    堀勝

    放電研究   151 巻   頁: 3   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  607. Hydrogen Radical Assisted Radio-Frequency Plasma Enhonced Chemical Vapon Deposition System for Diamond Formation

    Rev. Sci. Instrum.   67 巻 ( 6 ) 頁: 2360   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  608. Effects of Ions on Surface Morphology and Structure of Polycrystalline Silicon Films Prepared by Electron Rosonance Silane/Hydrogen Plasmas

    Plasma Processing XI   96 巻 ( 12 ) 頁: 662   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  609. Evaluation of CF2 Radical as a Precursar for Fluorocarbon Film Formation in Highly Selectine SiO2 Etching Process Using Radical Injection Technigene

    Jpn. J. Appl. Phys.   35 巻 ( 6A ) 頁: 3635   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  610. Formation of PTFE Thin Films by Using CO2 Laser Evaporation and Xecl Laser Ablation

    J. Vac. Sci & Technal. A   14 巻 ( 4 ) 頁: 1981   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  611. CFx Radical Generation by Plasma Interaction with Fluorocarbon Films on the Reactor Wall

    J. Vac. Sci & Technal. A   14 巻 ( 4 ) 頁: 2083   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  612. Radical Beharvior in Fluorocarbon Palsma and Control of Silicon Oxide Etching by Injection of Radicals

    Jpn. J. Appl. Phys.   35 巻 ( 12B ) 頁: 6521   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  613. Diamond Film Formation by OH Radical Injection from Microwave H2/H2O Plasma into Pardlel-plate RF Methnol Plasma

    Jpn. J. Appl. Phys.   35 巻 ( 9 ) 頁: 4826   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  614. Preparation of Polysiloxane Thin Films Using CO2 Laser Evaporation Assisted by Remate Radical Sowce

    J. Vac. Sci & Technol. A   14 巻 ( 5 ) 頁: 2849   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  615. Infrared Diode Laser Absorption Spectroscopy Measurement of CFx(X=1-3) Radical Densities in Electron Cyctrotron Resonance Plasma Emplaying C4F8, C2F6, CF4 and CHF3 Gases

    J. Vac. Sci. & Technal. A   14 巻 ( 4 ) 頁: 2343   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  616. Behavior of Si Atom in a Silane Electron Cyctroton Resonance Plasma at High Dissociations

    J. Vac. Sci & Technol. A   14 巻 ( 4 ) 頁: 1999   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  617. Fluorocarbon Radicals and Surface Reactions in Fluorocarbon High Density Plasma I. O2 Addition to Electron Cyclotron Resonamce Plasma

    J. Vac. Sci & Technal. A   14 巻 ( 4 ) 頁: 2004   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  618. Fluorocarbon Radicals and Surface Reactions in Fluorocarbon High Demsity Plasma II. H2 Addition to Electron Cyclotron Resonance Plasma

    J. Vac. Sci. & Technol. A   14 巻 ( 4 ) 頁: 2011   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  619. Diagnastics of Fluorocarbon Radicals in a Large-area Permanent Magnet Electron Cyclotron Etching Plasma

    Jpn. J. Appl. Phys.   35 巻 ( 12B ) 頁: 6521   1996年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  620. Plasma CVD Assisted by Selective Radical Source and Its Application to Synthesis of Diamond

    Rarefield Gas Dynamics 19   1 巻   頁: 671-677   1995年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  621. High-Rate Anisotropic Ablation and Deposition of Polytetrafluoroethylene Using Synchrotron Radiation Process

    Jpn. J. Appl. Phys.   34 巻 ( 12B ) 頁: L1675-1677   1995年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  622. CH3 Radical Density in Electron Cyclotron Resonance CH3OH and CH3OH/H2 Plasma

    Jpn. J. Appl. Phys.   34 巻 ( 6A ) 頁: 3273-3277   1995年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  623. Synthesis of Diamond Using RF Magnetion Plasma Chemical Vapour Deposition Assisted by Hydrogen Radical Injection

    Jpn. J. Appl. Phys.   34 巻   頁: 2484   1995年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  624. CFX(X=1-3) Radical Measurements in ECR Etching prasma Employing C4H8 Gas by Infrared Diode Laser Absorption Spectroscopy

    Jpn. J. Appl. Phys.   34 巻 ( 4A ) 頁: L444-L447   1995年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  625. Residue-Free Etching of the Al-Si-Cu Alloy Employing Magnetron Reactive Ion Etching

    J. Electrochem. Soc.   141 巻 ( 10 ) 頁: 2825-2828   1994年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  626. Characteristics of Fluorocarbon Radicals and CHF3 Molecule in CHF3 Electron Cyclotron Resonance Downstream Plasma

    Jpn. J. Appl. Phys.   33 巻   頁: 4745-4751   1994年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  627. Measurement of Absolute Densities of Si, SiH and SiH3 in SiH4/H2 Election Cyclation Resonance Plasma

    Jpn. J. Appl. Phys.   33 巻   頁: 4320   1994年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  628. CFX(X=1-3) Radicals Controlled by On-Off Modulated Electron Cyclotron Resonance Plasma and Their Effects on Polymer Film Deposition

    Jpn. J. Appl. Phys.   33 巻   頁: 4181   1994年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  629. Measurement of the CF, CF2 and CF3 Radicals in a CHF3 Electron Cyclotron Resonance Plasma

    Jpn. J. Appl. Phys.   32 巻 ( 5A ) 頁: L694   1993年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  630. Control of Fluorocarbon Radicals by On-Off Modulated Electron Cyclotron Resonance Plasma

    Jpn. J. Appl. Phys.   32 巻 ( 5A ) 頁: L694   1993年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  631. The Origin of Stress in Sputter-Deposited Tungsten Film for X-ray Masks

    J. Vac. SCi. & Technol.   B9 巻 ( 1 ) 頁: 149   1991年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  632. A study of Radiation Damage in SiN and SiC Mask Membranes

    J. Vac. Sci. & Technol.   B9 巻 ( 6 ) 頁: 3262   1991年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  633. An Ultra-Low Stress Tungsten Absorber for X-Ray Masks

    J. Vac. Sci. & Technol.   B9 巻 ( 1 ) 頁: 165   1991年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  634. Oxygen Plasma Etching Resistance of Plasma Polymerized Organometallic Film

    J. Vac. Sci.& Technol.   B7 巻 ( 2 ) 頁: 175   1989年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語  

  635. Self Development of Polymethylmethacrylate by Synchrotoron Radiation Exposure

    J. Electron Soc.   135 巻 ( 4 ) 頁: 966   1988年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  636. Gold Particles Containing Plasma-Polymerized Styrene as an X-Ray Absorber

    Plasma Chemistry and Plasma Processing   7 巻 ( 2 ) 頁: 155   1987年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  637. Plasma-Polymerized Electron Beam Resists Prepared from Methyl Methacrylate Using Various Carrier Gases

    Thin Solid Films   149 巻 ( 3 ) 頁: 341   1987年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  638. Plasma-Polymerized Dry Developable Resist for Synchrotron Radiation Lithography

    J. Electrochem. Soc.   134 巻 ( 3 ) 頁: 707   1987年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  639. Effect of Sn in Plasma Copolymerized Methylmethacrylate and Tetramethyltin(MMA-TMT) Resist on Plasma Development for X-Ray Absorber

    J.Vac.Sci. & Technol.   B4 巻 ( 2 ) 頁: 500   1986年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語  

  640. H2 Plasma Development of X-Ray Imaged Patterns on Plasma-Polymerized Resists

    Plasma Chemistry and Plasma Processing   4 巻 ( 2 ) 頁: 119   1984年

     詳細を見る

    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  641. プラズマ重合メタクリル酸メチルの分子構造とレジスト構造評価

    日本化学会誌   10 巻   頁: 1670   1984年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  642. Low-Temperature Redistribution of As in Si during Ni Silicide Formation

    J. Appl. Phys.   56 巻 ( 10 ) 頁: 2725   1984年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  643. Molecular Structure of Plasma-Polymerized Methy Methacrylate and Evaluation as a Resist

    M.Hori,S.Hattori,S.Morita,and S.Ishibashi

      ( 10 ) 頁: pp 1670-1676   1984年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  644. Reduction of Contact Resistivity by As Redistribution during Pd2Si Formation

    J. Appl. Phys.   54 巻 ( 8 ) 頁: 4679   1983年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  645. Electron Paramagnetic Resonance Study on the Annealing Behavior of Vacuum Deposited Amorphous Silicon on Crystalline Silicon

    J. Appl. Phys.   52 巻 ( 11 ) 頁: 6617   1981年

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

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書籍等出版物 41

  1. Plasma-Activated Solutions in Cancer Treatment 査読有り

    Hiromasa Tanaka, Mounir Laroussi, Sander Bekeschus, Dayun Yan, Masaru Hori, and Michael ( 担当: 共著)

    Springer  2020年8月 

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    記述言語:英語 著書種別:教科書・概説・概論

  2. PLASMA MEDICAL SCIENCE

    Masao Ichinose, Masaharu Shiratani, and Masaru Hori( 担当: 共著 ,  範囲: 8. Future outlooks in plasma medical science)

    Academic Press  2018年7月 

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    総ページ数:438   記述言語:英語

  3. PLASMA MEDICAL SCIENCE

    Masaru Hori( 担当: 単著 ,  範囲: 1. General introduction)

    ACADEMIC PRESS   2018年7月 

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    総ページ数:438   記述言語:英語 著書種別:学術書

  4. PLASMA MEDICAL SCIENCE

    Kenji Ishikawa, and Masaru Hori( 担当: 共著 ,  範囲: 2.1 Physical and chemical basis of nonthermal plasma, Introduction)

    ACADEMIC PRESS   2018年7月 

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    総ページ数:438   記述言語:英語 著書種別:学術書

  5. PLASMA MEDICAL SCIENCE

    Hiromasa Tanaka, Masaaki Mizuno, and Masaru Hori( 担当: 共著 ,  範囲: 5.7 Plasma medicine innovations in cancer therapy: Glioblastoma)

    5.7 Plasma medicine innovations in cancer therapy: Glioblastoma  2018年7月 

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    総ページ数:438   記述言語:英語 著書種別:学術書

  6. PLASMA MEDICAL SCIENCE

    Machiko Iida, Yasuhiro Omata, Ichiro Yajima, Awoi Sato, Takehito Kajiwara, Ryoko Tasaka, Masaru Hori, and Masashi Kato( 担当: 共著 ,  範囲: 5.8 Plasma medical innovations in cancer therapy: Melanoma)

    Academic Press  2018年7月 

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    総ページ数:438   記述言語:英語

  7. PLASMA MEDICAL SCIENCE

    PLASMA MEDICAL SCIENCE( 担当: 共著)

    Academic Press  2018年7月 

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    総ページ数:438   記述言語:英語 著書種別:学術書

  8. PLASMA MEDICAL SCIENCE

    Kenji Miyamoto, Yuzuru Ikehara, Sanae Ikehara, Yoshihiro Akimoto, Hajime Sakakita, Kenji Ishikawa, Masashi Ueda, Jun-ichiro Ikeda, Hayao Nakanishi, Nobuyuki Shimizu, Tetsuji Shimizu, and Masaru Hori( 担当: 共著 ,  範囲: 6.2 Cutting edge technologies of bleeding control using nonthermal plasma - Mechanism of blood coagulation and wound healing)

    Academic Press  2018年7月 

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    総ページ数:438   記述言語:英語 著書種別:学術書

  9. PLASMA MEDICAL SCIENCE

    Yoshihiro Akimoto, Sanae Ikehara, Takashi Yamaguchi, Jaeho Kim, Hayato Kawakami, Nobuyuki Shimizu, Masaru Hori, Hajime Sakakita, ( 担当: 共著 ,  範囲: 6.4 Molecular morphological analysis of the effect of plasma irradiation on cells, tissue)

    Academic Press  2018年7月 

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    総ページ数:438   記述言語:英語

  10. PLASMA MEDICAL SCIENCE

    Masashi Ueda, Daiki Yamagami, Takashi Temma, Kazuhiro Koshino, Osamu Goto, Jun-ichiro Ikeda, Hajime Sakakita, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, ( 担当: 共著 ,  範囲: 6.5 Evaluating the invasiveness of nonthermal plasma treatment using molecular imaging technique)

    Academic Press  2018年7月 

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    総ページ数:438   記述言語:英語 著書種別:学術書

  11. PLASMA MEDICAL SCIENCE

    Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori( 担当: 単著 ,  範囲: 2.4 Optical diagnostics of atmospheric pressure plasma)

    ACADEMIC PRESS   2018年7月 

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    総ページ数:438   記述言語:英語

  12. プラズマプロセス技術 ナノ材料作製・加工のためのアトムテクノロジー

    プラズマ・核融合学会( 担当: 単著)

    森北出版株式会社  2017年1月  ( ISBN:978-4-627-77561-9

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    記述言語:日本語

  13. ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用

    表面技術協会( 担当: 単著)

    コロナ社  2016年12月  ( ISBN:978-4-339-04650-2

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    記述言語:日本語

  14. Nanotechnology and Nanomaterials New Progress on Graphene Research "Graphene Nanowalls"

    Mineo Hiramatsu, Hiroki Kondo and Masaru Hori( 担当: 共著)

    InTech  2014年3月 

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    記述言語:英語

  15. 精密加工と微細構造の形成技術-材料・プロセスの最適化、トラブル対策- 第2章第2節[2] ArFフォトレジストのプラズマエッチング技術

    堀勝,石川健治( 担当: 共著)

    技術情報協会  2013年7月 

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    記述言語:日本語

  16. ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎 

    堀 勝、石川 健治( 担当: 共著)

    コロナ社  2013年5月  ( ISBN::978-4-339-04631-1

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    記述言語:日本語

  17. New Progress on Graphene Research

    Mineo Hiramatsu, Hiroki Kondo and Masaru Hori( 担当: 共著)

    InTech  2013年3月  ( ISBN:978-953-51-1091-0

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    記述言語:英語

  18. ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術~成膜技術と膜・界面の物性科学

    堀勝、石川健治 他( 担当: 共著)

    エヌティエス出版  2012年7月  ( ISBN:978-4-86469-039-3

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    記述言語:日本語

    第5編 絶縁膜形成とエッチング 第5章 層間絶縁膜の成膜とエッチング

  19. レジストプロセスの最適化テクニック

    堀勝、石川健治 他( 担当: 共著)

    情報機構  2011年9月  ( ISBN:978-4-904080-90-0

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    記述言語:日本語

    第6章 エッチング工程の手法およびレジスト・レジストパターンへの影響

  20. Nucleation and Vertical Growth of Nano-Graphene Sheets

    Hiroki Kondo, Masaru Hori and Mineo Hiramatsu ( 担当: 共著)

    Intech  2011年9月  ( ISBN:978-953-307-292-0

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    記述言語:英語

  21. Aligned Growth of Single-Walled and Double-Walled Carbon Nanotube Films by Control of Catalyst Preparation

    Mineo Hiramatsu and Masaru Hori ( 担当: 共著)

    Intech  2011年7月 

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    記述言語:英語

  22. Generation and Applications of Atmospheric Pressure Plasmas

    Kogoma Masuhiro, Kusano Masako, Kusano Yukihiro( 担当: 共著)

    Nova Science  2011年4月  ( ISBN:1612097170

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    記述言語:英語

  23. プラズマ/プロセスの原理 

    Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg 著 佐藤 久明訳 堀 勝監修 ( 担当: 監修)

    丸善出版(株)  2010年1月  ( ISBN:978-4-621-08223-2

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    記述言語:日本語

  24. Introduction to Diamond-Like Carbons

    M. Hori( 担当: 単著)

    WILEY-VCH  2010年 

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    記述言語:英語

  25. Field Emission from Carbon Nanowalls

    M. Hori, M. Hiramatsu( 担当: 共著)

    WILEY-VCH  2010年 

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    記述言語:英語

  26. Carbon Nanowalls:Synthesis and Emerging

    M.Hori,M.Hiramatsu( 担当: 共著)

    Springer Wien New York,Springer-Verlag  2010年 

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    記述言語:日本語

  27. 大気圧プラズマ―基礎と応用―4.1, 4.6章

    堀 勝( 担当: 単著)

    オーム社  2009年 

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    記述言語:日本語

  28. 大気圧プラズマー基礎と応用ー4.4.3,4.5.6項

    竹田圭吾、堀勝( 担当: 共著)

    オーム社  2009年 

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    記述言語:日本語

  29. 大気圧プラズマー基礎と応用ー6.7.4項

    高島成剛、堀勝( 担当: 共著)

    オーム社  2009年 

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    記述言語:日本語

  30. 薄膜ハンドブック 第1編基礎編 1.5.6エッチング技術〔1〕-〔6〕、1.7.6エッチングの終点検出

    堀 勝( 担当: 共著)

    オーム社  2008年3月 

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    記述言語:日本語

  31. ナノカーボンハンドブック 4編6章カーボンナノウォールの開発と応用技術

    堀 勝、平松 美根男( 担当: 共著)

    (株)エヌ・ティー・エス  2007年7月 

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    記述言語:日本語

  32. マイクロ・ナノプラズマ技術とその産業応用

    堀勝(分担)( 担当: 共著)

    シーエムシー出版  2006年7月 

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    記述言語:日本語

  33. カーボンナノウォールの作製と応用技術 先端技術要覧

    平松美根男、堀勝( 担当: 共著)

    OHM編集部編  2006年5月 

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    記述言語:日本語

  34. マイクロ・ナノプラズマ技術とその産業応用 第10章 プラズマナノプロセス用マイクロプラズマ分光診断

    堀 勝( 担当: 共著)

    シーエムシー出版  2006年 

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    記述言語:日本語

  35. 大気圧プラズマの生成制御と応用技術 第12節 SiO2エッチング

    堀 勝( 担当: 共著)

    サイエンス&テクノロジー社  2006年 

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    記述言語:日本語

  36. 先端科学技術要覧 -OHM HEADLINE REVIEW 2006- 「カーボンナノウォールの作成と応用技術」

    堀 勝( 担当: 共著)

    OHM編集部  2006年 

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    記述言語:日本語

  37. プラズマ診断の基礎と応用 「8.1低誘電率薄膜のエッチングにおけるラジカル計測」

    平松美根男、堀 勝( 担当: 共著)

    コロナ社  2005年 

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    記述言語:日本語

  38. 初歩から学ぶマイクロ波応用技術

    堀 勝( 担当: 共著)

    工業調査会  2004年 

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    記述言語:日本語

  39. 半導体大事典

    工業調査会  1999年 

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    記述言語:日本語

  40. 光センシング技術の最新資料集

    オプトエレクトニクス社  1999年 

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    記述言語:日本語

  41. 最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御

    リアライズ社  1997年 

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    記述言語:日本語

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講演・口頭発表等 3020

  1. Indirect plasma application 招待有り 国際会議

    Hiromasa Tanaka and Masaru Hori

    7th International Workshop on Plasma for Cancer Treatment (IWPCT-2021)   2021年6月28日 

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    開催年月日: 2021年6月

    記述言語:英語   会議種別:公開講演,セミナー,チュートリアル,講習,講義等  

    開催地:online  

  2. Numerical analysis of effects of applying voltage polarity on atmospheric pressure argon streamer discharge under pin-to-plane electrode geometry 国際会議

    Y. Sato, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, A. Ui, M. Akita, S. Oka and M. Hori

    47th Conference on Plasma Physics  2021年6月22日 

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    開催年月日: 2021年6月

    記述言語:英語  

    開催地:online  

  3. Graphene-Based Materials: Synthesis, Functionalization, and Applications 招待有り 国際会議

    Mineo Hiramatsu, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Masaru Hori

    Thermec'2021  2021年6月3日 

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    開催年月日: 2021年5月 - 2021年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(基調)  

    開催地:online  

  4. In-liquid plasma synthesis of functional carbon nanosheets 招待有り 国際会議

    Hiroki Kondo, Masaru Hori, Mineo Hiramatsu

    Thermec'2021  2021年6月3日 

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    開催年月日: 2021年5月 - 2021年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:online  

  5. Current status and future prospects of plasma medicine 招待有り

    Masaru Hori

    The Vacuum Society of the Philippines, inc. (VSP) Plasma and Society  2021年4月16日 

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    開催年月日: 2021年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:online  

  6. 幸田町・豊根村-名古屋大学 内閣府地方創生交付金事業 成果報告 招待有り

    堀 勝

    低温プラズマ技術深化事業講演会  2021年3月26日  幸田町、豊根村、名古屋大学

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:オンライン  

  7. 低温プラズマバイオサイエンスの未来 招待有り

    堀 勝

    2021年春季学術講演会シンポジウム プラズマエレクトロニクス分科会 30周年記念シンポジウム ニューノーマル時代の躍進に質するプラズマエレクトロニクス  2021年春季学術講演会シンポジウム プラズマエレクトロニクス分科会 30周年記念シンポジウム ニューノーマル時代の躍進に質するプラズマエレクトロニクス

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語  

    開催地:オンライン  

  8. プラズマ誘起超バイオ機能の発現機構の解明

    堀 勝

    プラズマバイオコンソーシアム研究報告会  プラズマバイオコンソーシアム研究報告会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  9. 液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における活性種の効果[II]

    近藤 博基、濱地 遼、堤 隆嘉、石川 健治、関根 誠、堀 勝

    2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会  2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  10. 低温プラズマバイオサイエンスの未来

    堀 勝

    2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会  2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  11. 扁形動物を用いた低温プラズマによる再生・分化の制御とその機構解明

    田中 宏昌、水野 正明、 堀 勝、梅園 良彦、阿形 清和

    プラズマバイオコンソーシアム研究報告会  プラズマバイオコンソーシアム研究報告会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  12. 気相反応制御によるプラズマ活性溶液の反応と抗腫瘍効果の究明

    伊藤 大貴、石川 健治、橋爪 博司、田中 宏昌、堀 勝

    2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会  2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  13. 塩素吸着を用いた窒化ガリウムの原子層エッチングプロセス特性のArイオンエネルギー依存性 招待有り

    堤 隆嘉、長谷川 将希、中村 昭平、谷出 敦、近藤 博基、関根 誠、石川 健治、堀 勝

    2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会  2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:オンライン  

  14. リモート酸素ラジカルによるグラフェンのエッチング反応の分析

    胡 留剛、堤 隆嘉、蕭 世男、近藤 博基、石川 健治、関根 誠、堀 勝

    2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会  2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  15. マイクロ放電ホローカソードプラズマを用いた真空紫外吸収分光用自己吸収光源の分光診断

    竹田 圭吾、堤 隆嘉、平松 美根男、堀 勝

    2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会  2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  16. Ar/C4F8/SF6を用いたガス変調サイクルプロセスにおける活性種の挙動

    吉江 泰斗、三好 康史、堤 隆嘉、釘宮 克尚、石川 健治、堀 勝

    2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会  2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  17. 酸素ラジカル処理肥料溶液を用いた殺菌でのピロール化合物の重要性

    岩田 直幸、石川 健治、橋爪 博司、田中 宏昌、伊藤 昌文、堀 勝

    2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会  2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  18. プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ~少数キャリアライフタイムによる定量評価~

    布村 正太、坂田 功、堤 隆嘉、堀 勝

    2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会  2021年第68回応⽤物理学会春季学術講演会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン  

  19. Design of removal process of SnO2 on glass by H2/Ar plasma at atmospheric pressure and medium pressure 国際会議

    Thi-Thuy-Nga Nguyen, Minoru Sasaki, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Virtual Conference  

  20. Oxygen Radical based on NTAP Converts Vanillin to its Derivatives, Resulting in Reduced Inhibition of Bioethanol Fermentation 国際会議

    Hiroyuki Kato, Shou Ito, Kiyota Sakai, Vladislav Gamaleev, Masafumi Ito, Masaru Hori, Motoyuki Shimizu and Masashi Kato

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  21. Comparison of Effects of Radical-Activated L-Phenylalanine Solution and Radical Activated Deionized Water on Plant-Growth Promotion 国際会議

    Ginji Ito, Naoyuki Iwata, Hiroshi Hashizume, Masaru Hori and Masafumi Ito

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  22. Bactericidal Effect of Hydroponic Harmful Bacteria Using Radical-Activated Aromatic Amino Acid Solution 国際会議

    Takahiro Deguchi, Naoyuki Iwata, Hiroshi Hashizume, Motoyuki Shimizu, Masashi Kato, Masaru Hori and Masafumi Ito

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  23. Effect of Oxygen-Radical-Treated L-Tryptophan Solutions on Intramembrane Fluidity of Supported Lipid Bilayers 国際会議

    Takashi Namizaki, Nozomi Iio, Naoyuki Iwata, Ryugo Tero, Masaru Hori and Masafumi Ito

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  24. Effect of Oxygen Radical-Treated L-Tryptophan on the Fluidity of Supporting Lipid Bilayer 国際会議

    Nozomi Iio, Naoyuki Iwata, Ryugo Tero, Masaru Hori and Masafumi Ito

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  25. Analysis of Oxygen-Radical-Treated L-Tryptophan Solution Using High Performance Liquid Chromatography 国際会議

    Shoma Ito, Naoyuki Iwata, Yasuhiro Nishikawa, Masaru Hori and Masafumi Ito

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  26. Dependence of Nitrogen Concentrations on Cytotoxicity of Air-Free Ar-N2 Mixed Atmospheric Pressure Plasma-activeted Lactated Solutions 国際会議

    Daiki Ito, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  27. Apoptosis-inducing Activity through Caspase-9 of Radical-Activated Lactate Ringers Solution for Melanoma Cells 国際会議

    Yuki Hori, Tomiyasu Murata, Hiromasa Tanaka, Masaru Hori and Masafumi Ito

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  28. Proliferation-Promotion of Fibroblast Cells as a Function of Exposure Distance Using Nitric-Oxide-Radical Source 国際会議

    Taiga Nishida, Ryota Tsuge, Yuki Hori, Tomiyasu Murata, Masaru Hori and Masafumi Ito

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  29. Fablication of Pt-Supported Carbon Nanowalls for Polymer Electrolyte Fuel Cell 国際会議

    Takayuki Ohta, Hiroaki Iwata, Mineo Hiramatsu, Hiroki Kondo and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  30. Atomic Layer Etching of GaN Using Cl2/Ar Plasma at 400℃ 国際会議

    Shohei Nakamura, Atsushi Tanide, Takahiro Kimura, Soichi Nadahara, Kenji Ishikawa and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  31. Comparison of Nitrogen Atom Densities Measured with VUVAS and Actinometry in Spiral Shape Plasma 国際会議

    Ryosuke Nishio, Noriyasu Ohno, Shin Kajita, Hirohiko Tanaka, Koji Asaoka, Takayoshi Tsutsumi and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  32. IR Spectra of Monosaccharide Treated with Atomospheric Pressure Plasma Using Sum Frequency Generation Spectroscopy 国際会議

    Yuta Yoshida, Takayuki Ohta, Kenji Ishikawa and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  33. Low Temperature Plasma Sciences Create a New Normal Transformation 招待有り 国際会議

    Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Virtual Conference  

  34. Dependency of Bactericidal Effect in Oxygen-Radical Exposed E. Coli Suspension Containing L-Tryptophan on its Concentration 国際会議

    Naoyuki Iwata, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, Jun-Seok Oh, Masafumi Ito and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Virtual Conference  

  35. Microwave Nitrogen Plasma Jets under the Moderate Gas Pressure Region 招待有り 国際会議

    Jaeho Kim, Keigo Takeda, Hirotomo Itagaki, Xue-lun Wang, Shingo Hirose, Hisato Ogiso, Tetsuji Shimizu, Naoto Kumagai, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Masaru Hori and Hajime Sakakita

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Virtual Conference  

  36. Crystalline structures and local electrical conductivity at crossing points of carbon nanowalls 国際会議

    Atsushi Ozaki, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Virtual Conference  

  37. Selective killing effects of organics in plasma-activated Ringer’s solutions 国際会議

    Yuki Suda, Kenji Ishikawa, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Virtual Conference  

  38. Ion-attachment mass spectrometric analysis of odorous gas decomposition by atmospheric pressure plasma 国際会議

    Tatsuyuki Moriyama, Yosuke Sato, Akio Ui, Shotaro Oka,Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  39. Enhancement of alcohol production of budding yeast by direct irradiation of nonequilibrium atmospheric pressure plasma 国際会議

    Shogo Matsumura, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka, Hiroshi Hashizume, Masafumi Ito and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:Virtual Conference  

  40. Effect of wall-to-wall distance of carbon nanowalls on survival yield in surfaceassisted laser desorption/ionization mass spectrometry 国際会議

    Ryusei Sakai, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayuki Ohta, Mineo Hiramatsu, Naohiro Shimizu, and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Virtual Conference  

  41. Effects of non-equilibrium atmospheric pressure plasma on aquaculture feed 国際会議

    Takumi Yamauchi, Kenji Ishikawa, Hiromasa Tanaka, Shin'ichi Akiyama, Hiroshi Hashizume and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  42. Efficacy of plasma treatment in a paddy field for yield and grain quality of rice 国際会議

    Kaoru Sanda, Hiroshi Hashizume, Hidemi Kitano, Hiroko Mizuno, Akiko Abe, Genki Yuasa, Satoe Tohno, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Shogo Matsumoto, Hitoshi Sakakibara, Susumu Nikawa, Masayoshi Maeshima, Masaaki Mizuno, and Masaru Hori.

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  43. Initial growth kinetics of hydrogenated amorphous carbon films observed by real-time ellipsometry 国際会議

    Jumpei Kurokawa, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi,Makoto Sekine and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  44. Quantitative analyses of graphene layer etching using oxygen radicals generated in remote plasma for realization of atomic layer etching 国際会議

    Liugang Hu, Takayoshi Tsutsumi, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Shih-Nan Hsiao, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  45. Reversible change in surface morphology of lipid bilayer induced by indirect plasma irradiation 国際会議

    Hiroki Kondo, Takuya Tonami, Sotaro Yamaoka, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masafumi Ito and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Virtual Conference  

  46. Quality increase of fruits with plasma treatment on strawberry cultivation 国際会議

    Hiroshi Hashizume, Shogo Matsumoto, Kenki Tsubota, Kaoru Sanda, Hiroko Mizuno, Akiko Abe, Genki Yuasa, Satoe Tohno, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Masafumi Ito, Hidemi Kitano, Hitoshi Sakakibara, Susumu Nikawa, Takayuki Okuma, Masayoshi Maeshima,Masaaki Mizuno, and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Virtual Conference  

  47. Pressure and flow rate dependence of active species in gas modulation cycle process using Ar/C4F8/SF6 国際会議

    Taito Yoshie, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Virtual Conference  

  48. Measurements of negative ion density and plasma parameters in Ar/O2/C4F8 etching plasmas by Langmuir probe-assisted laser photodetachment 国際会議

    B. B. Sahu, S.Hattori, T. Tsutsumi, N. Britun, M. Sekine, K. Ishikawa, H. Tanaka,T. Gohira, Y. Ohya, N. Ohno and M. Hori

    13th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2021/IC-PLANTS2021) 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

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  49. Study of etching process using gas condensed layer at cryogenic temperature 2. Evaluation of cycle etching using gas condensed layer 国際会議

    M. Hazumi, S. Selvaraj, S. N. Hsiao, C. Abe, T. Sasaki, H. Hayashi, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine and M. Hori

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