講演・口頭発表等 - 堤 隆嘉
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パルスプラズマにおける負イオンエネルギー分布の時間 分解測定
都地 一輝, 堤 隆嘉, 蕭 世男, 関根 誠, 堀 勝, 石川 健治
第71回応用物理学会春期学術講演会 2024年3月24日
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カーボンハードマスクの膜特性に対する基板バイアス寄 与度の局所的顕在化
安藤 悠介, 近藤 博基, 堤 隆嘉, 石川 健治, 関根 誠, 堀 勝
第71回応用物理学会春期学術講演会 2024年3月24日
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プラズマ誘起欠陥の発生と修復～RIE-SiO2に伴うSiO2 / Si界面の欠陥評価～
布村 正太, 堤 隆嘉, 深沢 正永, 堀 勝
第71回応用物理学会春期学術講演会 2024年3月24日
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Prediction Model for RF Bias Effect on Etch Resistance of Amorphous Carbon in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議
Y. Ando, H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13 2024年3月4日
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In-situ analysis of chemisorption reactions on SiO2 surface using carbon precursor containing halogen 国際共著 国際会議
L. Hu, T. Tsutsumi, N. Kobayashi, D. C. P. Raj, R. Borude, K. Ishikawa, M. Hori
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13 2024年3月5日
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ALEにおけるプラズマ誘起欠陥とラジカル吸着のin-situ計測 招待有り
堤隆嘉，近藤博基，関根誠，石川健治，堀勝
2024年1月25日
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Control of etching profile by bias supply timing in cyclic process using C4F8/SF6 gas modulated plasma 国際会議
T. Yoshie, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Defect characterization at SiO2/Si interface throughout plasma processing and annealing 国際会議
S.Nunomura, T.Tsutsumi, I. Sakata and M Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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A pseudo-wet cryogenic plasma etching of SiO2 investigated with in-situ surface monitoring 国際会議
S-N Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T.Tsutsumi, and M. Hori Y Iijima, R. Suda, Y. Kihara
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月22日
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Electron-Beam-Assisted Self-limiting fluorination of GaN surface using XeF2 for Atomic Layer Etching 国際会議
Y. Izumi, T. Tsutsumi, H Kondo, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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Compositions of Ions Related with Electrode Materials in Pulsed Plasma for High-Aspect-Ratio Hole Etching 国際会議
K. Toji, T. Tsutsumi, S-N. Hsiao, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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Etch selectivities of SiO2 and SiN against a-C films using CF4/H2 plasma at low temperature 国際会議
Y. Imai, S-N. Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Iwata, M. Tomura, Y. Iijima, K. Matsushima, M. Hori
The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023) 2023年11月21日
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ドライエッチングと原子層エッチングの基礎と応用 招待有り
堤 隆嘉
第34回 プラズマエレクトロニクス講習会 2023年11月17日
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Etching Selectivities of SiO2 and SiN Against a-C Films Using CF4/H2 with a Pseudo-Wet Plasma Etching Mechanism 国際会議
Yusuke Imai, S. Hsiao, M. Sekine, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Iwata, M. Tamura, Y. Iijima, T. Gohira, K. Matsushima, Y. Ohya, M. Hori,
AVS 69th International Symposium and Exhibition (AVS 69) 2023年11月6日
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Transient behavior of cycle process in Ar plasma with alternately injected C4F8 and SF6 国際会議
T. Yoshie, K. Ishikawa, TTN Nguyen, S. Hsiao, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
13th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2023) 2023年11月8日
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Plasma-based pseudo-wet mechanism for cryogenic SiO2 etching using hydrogen-contained fluorocarbon gases with an in-situ surface analysis 国際会議
S. Hsiao, M. Sekine, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Iwata, M. Tomura, Y. Iijima, T. Gohira, K. Matsushima, Y. Ohya, M. Hori
The 76th Annual Gaseous Electronics Conference (GEC76) 2023年10月11日
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Plasma-Enhanced Deposition Mechanism of Hydrogenated Amorphous Carbon Analyzed ByCombining Reactive Species Measurement and Machine Learning 招待有り 国際会議
H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, H. Kousaka, M. Hori
244th ECS Meeting 2023年10月11日
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Selective removal of graphene by irradiation of remote oxygen plasma 国際会議
L. Hu, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, TTN Nguyen, S. Hsiao, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
Global Plasma Forum in Aomori 2023年10月16日
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カーボンハードマスクのプラズマエッチング耐性に対する，成膜過程におけるイオン照射効果
安藤 悠介、近藤 博基、堤 隆嘉、石川 健治、関根 誠、堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月21日
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CF4/H2プラズマによるSiO2,SiN,a-C膜の低温エッチング
今井 祐輔、蕭 世男、関根 誠、飯島 祐樹、須田 隆太郎、大矢 欣伸、木原 嘉英、堤 隆嘉、石川 健治、堀 勝
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月22日