研究者詳細 - 黒澤　昌志

講演・口頭発表等 - 黒澤　昌志

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GaAs基板に形成したSbドープGe1-x-ySixSny薄膜の低温熱電物性

椙村樹, 中田壮哉, 柴山茂久, 坂下満男, 中塚理, 片瀬貴義, 黒澤昌志

第71回応用物理学会春季学術講演会

Pドープ/Bドープナノ結晶Si/アモルファスSi複合薄膜の熱電デバイス応用

柴田啓介, 加藤慎也, 黒澤昌志, 後藤和泰, 宮本聡, 伊藤孝至, 宇佐美徳隆, 黒川康良

第71回応用物理学会春季学術講演会

ダブルキャビティ構造を有するSiGe平面型熱電素子

小池壮太, 柳澤亮人, 黒澤昌志, 森孝雄, 野村政宏

第71回応用物理学会春季学術講演会

GeSiSn/GeSn二重障壁構造で観測した負性微分抵抗と動作特性解析

柴山茂久, 石本修斗, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理

第71回応用物理学会春季学術講演会

In-situ Sbドーピングによるn型Ge0.75Sn0.25エピタキシャル層の形成

柴山茂久, 高木孝明, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理

第71回応用物理学会春季学術講演会

真空中加熱によるGe(111)基板上GeH薄膜の層間距離変化

松本一歩, 洗平昌晃, 柴山茂久, 坂下満男, 中塚理, 黒澤昌志

第71回応用物理学会春季学術講演会

高抵抗Si(111)基板上へのCaSi2薄膜形成と低温熱電物性評価

加藤高, 柴山茂久, 坂下満男 , 中塚理, 片瀬貴義, 黒澤昌志

第71回応用物理学会春季学術講演会

GeSn/GeSiSn二重障壁構造における負性微分抵抗の発現

石本修斗, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 柴山茂久

第29回電子デバイス界面テクノロジー研究会

Al/GeSn(111)構造上への熱処理による極薄・高Sn組成GeSn表面偏析

柴山茂久, 松本泰河, 大田晃生, 横川凌, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理

第29回電子デバイス界面テクノロジー研究会

In-situ SbドーピングによるInP上n型Ge0.75Sn0.25エピタキシャル膜の形成

柴山茂久, 高木孝明, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理

第29回電子デバイス界面テクノロジー研究会

A new challenge in group-IV materials: energy harvesting application & 2D crystal synthesizing 国際会議

M. Kurosawa, A. Ohta, M. Araidai, S. Shibayama, M. Sakashita, and O. Nakatsuka

14th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Thermoelectric properties of Sb-doped Ge1-x-ySixSny ternary alloy layers lattice matched to GaAs substrates 国際会議

I. Sugimura, M. Nakata, S. Shibayama, M. Sakashita, O. Nakatsuka, T. Katase, and M. Kurosawa

14th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Electrical activation of implanted phosphorus in GeSn epitaxial layers grown on Si(111) substrate 国際会議

Y. Kato, M. Fukuda, S. Shibayama, M. Sakashita, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

14th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Thermoelectric properties of P-doped and B-doped polycrystalline silicon thin films 国際会議

K. Shibata, S. Kato, M. Kurosawa, K. Gotoh, S. Miyamoto, T. Itoh, N. Usami, and Y. Kurokawa

2023 MRS Fall Meeting & Exhibit

Crystal Growth Technology of GeSn-related Group-IV Heteroepitaxial Layers 国際会議

O. Nakatsuka, S. Shibayama, M. Kurosawa, and M. Sakashita

3rd Nucleation and Growth Research Conference

Ge1-xSnx(111)エピタキシャル層へのPイオン注入と活性化

加藤芳規, 柴山茂久, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理

第10回応用物理学会名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会

Al/GeSn(111)構造からの偏析を用いた極薄・高Sn組成GeSnの形成

松本泰河, 大田晃生, 横川凌, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 柴山茂久

第10回応用物理学会名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会

GeSn/GeSiSn共鳴トンネルダイオードにおける負性微分抵抗の観測

石本修斗, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 柴山茂久

第10回応用物理学会名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会

スパッタリング法によるInP基板上へのエピタキシャルGe0.75Sn0.25形成

壁谷汰知, 柴山茂久, 高木孝明, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理

第10回応用物理学会名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会

粉末シリカンとゲルマナンの電気的特性評価

大西康介, 上田光秀, 山田繁, 伊藤貴司, 黒澤昌志

第10回応用物理学会名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会

First-principles study on two-dimensional materials of silicon/germanium

M. Araidai, M. Itoh, D. Ishihara, M. Kurosawa, A. Ohta, A. Yamakage, and K. Shiraishi

2023年日本表面真空学会学術講演会

Sputtering heteroepitaxy of Ge0.75Sn0.25 layer on InP(001) substrate 国際会議

T. Kabeya, S. Shibayama, K. Takagi, M. Sakashita, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

2023 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices: Science and Technology (2023 IWDTF)

Epitaxial Growth Technique for Si1-xSnx Binary Alloy Thin Films 国際会議

M. Kurosawa, S. Shibayama, M. Sakashita, and O. Nakatsuka

244th ECS Meeting

近接蒸着法により成膜したCaSi2のSiHへの変換

高垣僚太, 有元圭介, 山中淳二, 黒澤昌志, 原康祐

第84回応用物理学会秋季学術講演会

SiGe薄膜におけるナノ構造作製の熱電性能に与える影響

小池壮太, 柳澤亮人, 黒澤昌志, Jha Rajveer, 辻井直人, 森孝雄, 野村政宏

第84回応用物理学会秋季学術講演会

Pドープ/Bドープ poly-Si薄膜の熱電特性評価

柴田啓介, 加藤慎也, 黒澤昌志, 後藤和泰, 宮本聡, 伊藤孝至, 宇佐美徳隆, 黒川康良

第84回応用物理学会秋季学術講演会

PL法及びXPSによる単結晶Si1-xSnxのバンド構造評価

石崎寛規, 横川凌, 伊藤佑太, 大岩樹, 黒澤昌志, 小椋厚志

第84回応用物理学会秋季学術講演会

Si1−xSnx薄膜で観測される巨大熱電能の電子濃度依存性

大岩樹, 柴山茂久, 坂下満男, 中塚理, 片瀬貴義, 黒澤昌志

第84回応用物理学会秋季学術講演会

Ge格子整合系SixGe1-x-ySny三元混晶とその転写

前田辰郎, 石井裕之, 張文馨, 張師宇, 柴山茂久, 黒澤昌志, 中塚理

第84回応用物理学会秋季学術講演会

スパッタリング法によるInP基板上のGe0.75Sn0.25エピタキシャル成長

壁谷汰知, 柴山茂久, 高木孝明, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理

第84回応用物理学会秋季学術講演会

Al/GeSn(111)エピタキシャル層構造からの偏析による極薄GeSn形成

松本泰河, 柴山茂久, 大田晃夫, 横川凌, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理

第84回応用物理学会秋季学術講演会

イオン注入法によるn型無歪Ge1-xSnx(111)エピタキシャル層の形成

加藤芳規, 柴山茂久, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理

第84回応用物理学会秋季学術講演会

Optoelectronic properties of Ge1-xSnx/high-Si-content SiyGe1-y-zSnz double quantum wells formed by low-temperature MBE growth and post deposition annealing 国際会議

S. Shibayama, S. Zhang, M. Sakashita, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

International Conference on Solid State Devices and Materials 2023 (SSDM2023)

Low-temperature thermoelectric power-factor enhancement of n-type Ge-rich Ge1-x-ySixSny layers 国際会議

I. Sugimura, M. Nakata, S. Shibayama, M. Sakashita, O. Nakatsuka, T. Katase, and M. Kurosawa

International Conference on Solid State Devices and Materials 2023 (SSDM2023)

Experimental observation of negative differential resistance in GeSn/GeSiSn double barrier structure toward resonant tunneling diode applications 国際会議

S. Ishimoto, M. Sakashita, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Shibayama

International Conference on Solid State Devices and Materials 2023 (SSDM2023)

Giant thermoelectric power of n-type Si1-xSnx layers grown on FZ-Si(001) substrates 国際会議

T. Oiwa, S. Shibayama, M. Sakashita, O. Nakatsuka, T. Katase, and M. Kurosawa

International Conference on Solid State Devices and Materials 2023 (SSDM2023)

Seed-layer driven solid phase epitaxy of amorphous Ge1-xSnx layers on Si(001) substrates toward in-plane strain control 国際会議

T. Hiraide, M. Kurosawa, S. Shibayama, M. Sakashita, and O. Nakatsuka

International Conference on Solid State Devices and Materials 2023 (SSDM2023)

高濃度n型ドープSi1−xSnx薄膜の低温熱電物性評価

大岩樹, 柴山茂久, 坂下満男, 中塚理, 片瀬貴義, 黒澤昌志

第7回フォノンエンジニアリング研究会

Fabrication and evaluation of a planar-type uni-leg SiGe thermoelectric generator 国際会議

S. Koike, R. Yanagisawa, M. Kurosawa, R. Jha, N. Tsujii, T. Mori, and M. Nomura

The 39th Annual International Conference on Thermoelectrics (ICT 2023)

Low-temperature Thermoelectric Properties of GeSn Alloys Films 国際会議

M. Kurosawa, T. Katase, Y. Imai, M. Nakata, M. Kimura, T. Kamiya, S. Shibayama, M. Sakashita, and O. Nakatsuka

The Joint ISDTM/ICSI conference 2023

The layer transfer of Ge-lattice-matched SiGeSn epitaxial structures 国際会議

T. Maeda, W. H. Chang, H. Ishii, S. Zhang, S. Shibayama, M. Kurosawa, O. Nakatsuka

The Joint ISDTM/ICSI conference 2023

Heteroepitaxial Growth of High Substitutional Sn-content Ge1-xSnx Layer Lattice-matched on InP Substrate 国際会議

O. Nakatsuka, K. Takagi, S. Shibayama, M. Kurosawa, and M. Sakashita

The Joint ISDTM/ICSI conference 2023

Determining the Superiority of Cavity-Free Thermoelectric Generators Composed of GeSn and Si Wires 国際会議

M. M. H. Mahfuz, M. Kurosawa, T. Matsuki, and T. Watanabe

The Joint ISDTM/ICSI conference 2023

Epitaxy and heterostructure of germanium tin-related group-IV alloy semiconductors for future electronic and optoelectronic applications 国際会議

O. Nakatsuka, M. Kurosawa, S. Shibayama, and M. Sakashita

2023 International Conference on Semiconductor Technology for Ultra Large Scale Integrated Circuits and Thin Film Transistors

GeSn/GeSiSn共鳴トンネルダイオードの室温動作に向けた構造設計

石本修斗, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 柴山茂久

第70回応用物理学会春季学術講演会

固相成長法による Si(001)基板上の伸長歪み Ge1-xSnx薄膜の形成

平出達磨, 大岩樹, 柴山茂久, 坂下満男, 中塚理, 黒澤昌志

第70回応用物理学会春季学術講演会

高Sn組成Ge1-xSnx(111)エピタキシャル薄膜の高品質形成

森俊輔, 柴山茂久, 加藤芳規, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理

第70回応用物理学会春季学術講演会

半絶縁性基板上Ge1-xSnx薄膜の低温熱電物性

今井志明, 中田壮哉, 木村公俊, 片瀬貴義, 神谷利夫, 柴山茂久, 坂下満男, 中塚理, 黒澤昌志

第70回応用物理学会春季学術講演会

高濃度n型ドープSi1-xSnx薄膜で観測された巨大熱電能

大岩樹, 柴山茂久, 坂下満男, 中塚理, 片瀬貴義, 黒澤昌志

第70回応用物理学会春季学術講演会

Potential of Silicon-Germanium-Tin Thin Films for Future Thermoelectric Device Applications 国際会議

M. Kurosawa, S. Shibayama, M. Sakashita, and O. Nakatsuka

ISPlasma2023/IC-PLANTS2023

Investigating the superiority of the cavity-free architectural GeSn and Si wires-based thermoelectric generators

M. M. H. Mahfuz, M. Tomita, M. Kurosawa, T. Matsuki, and T. Watanabe

第28回電子デバイス界面テクノロジー研究会

Arising ferroelectric properties in ZrO2 thin films down to 4 nm 国際会議

S. Ikeguchi, J. Nagano, M. Sakashita, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Shibayama

13th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Development of accurate characterization technique of electrical properties in Ge1-xSnx-based group-IV epitaxial layers 国際会議

T. Mori, S. Shibayama, K. Nishizawa, M. Sakashita, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

13th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Crystalline and electrical properties of Ge1-x-ySixSny epitaxial layers - Effect of Si incorporation and H2 irradiation - 国際会議

K. Nishizawa, S. Shibayama, T. Mori, M. Sakashita, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

13th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Heteroepitaxy of Ge1-xSnx with a high Sn content over 25% on InP(001) toward group-IV infrared detector 国際会議

K. Takagi, S. Shibayama, M. Sakashita, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

13th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Challenge and new opportunity of Ge1−x−ySixSny/Ge1−xSnx heterostructures for optoelectronic and electronic device applications 国際会議

S. Shibayama, S. Zhang, M. Sakashita, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

13th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Epitaxial Germanide/Germanium Contact: Its Impact on Schottky Barrier Height 国際会議

O. Nakatsuka, S. Shibayama, M. Sakashita, and M. Kurosawa

13th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

EXAFSによるZrO2薄膜の強誘電性発現機構の理解

池口祥太, 永野丞太郎, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 柴山茂久

11th NUSR Symposium, 名古屋大学シンクロトロン光研究センターシンポジウム(2022)

Ge1-xSnx系IV族半導体混晶エピタキシャル層の電気的欠陥密度の評価

西澤康平, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 柴山茂久

第22回日本表面真空学会中部支部学術講演会

Research and Development of GeSn-related Group-IV Semiconductor Heterostructures for Optoelectronic Applications 国際会議

O. Nakatsuka, S. Shibayama, M. Kurosawa, and M. Sakashita

Symposium on Light emission and Photonics of Group IV semiconductor Nanostructures (LPGN)

Determination superiority of the cavity-free thermoelectric generators consisting of GeSn and Si wires 国際会議

M. M. H. Mahfuz, M. Tomita, M. Kurosawa, T. Matsuki, and T. Watanabe

Integrated Nanocomposites for Thermal and Kinetic Energy Harvesting (INTAKE) Seminar 2022

Synthesis of multilayer two-dimensional group-IV flakes and nanosheets 国際会議

M. Kurosawa, M. Itoh, Y. Ito, K. Okada, A. Ohta, M. Araidai, K. O. Hara, Y. Ando, S. Yamada, S. Shibayama, M. Sakashita, O. Nakatsuka

33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-33)

14 族半導体ナノシートの結晶成⻑とデバイス応用

黒澤昌志

2022年度東海NFRW・若手チャプタージョイントワークショップ

Spin Dependent Photocurrent Generation in Germanene-like Structure 国際会議

T. Nishijima, S. Kawa, Y. Ando, A. Ohta, J. Yuhara, M. Kurosawa, E. Shigematsu, R. Ohshima, and M. Shiraishi

The 67th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials (MMM 2022)

Impact of Strain Structure in Epitaxial HfGe2/n-Ge(001) Contact on Morphology and Schottky Barrier Height 国際会議

O. Nakatsuka, K. Kasahara, S. Shibayama, M. Sakashita, and M. Kurosawa

Advanced Metallization Conference 2022 (ADMETA Plus 2022)

Investigation of Band Structure in Strained Single Crystalline Si1-xSnx 国際会議

K. Sahara, R. Yokogawa, Y. Shibayama, Y. Hibino, M. Kurosawa, and A. Ogura

242nd ECS Meeting

Preparation and thermoelectric characterization of boron-doped silicon nanocrystals/silicon oxide multilayers 国際会議

K. Shibata, S. Kato, M. Kurosawa, K. Gotoh, S. Miyamoto, N. Usami , and Y. Kurokawa

International Conference on Solid State Devices and Materials 2022 (SSDM2022)

Molecular beam epitaxy of Si1−xSnx layers with 10%-Sn content on Si1−yGey buffers 国際会議

K. Fujimoto, S. Shibayama, M. Sakashita, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

International Conference on Solid State Devices and Materials 2022 (SSDM2022)

Study on doping by ion implantation to Si1-xSnx epitaxial layers 国際会議

T. Oiwa, S. Shibayama, M. Sakashita, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

International Conference on Solid State Devices and Materials 2022 (SSDM2022)

Experimental Demonstration of The Cavity-Free GeSn and Si Wire Thermoelectric Generators 国際会議

M. M. H. Mahfuz, K. Katayama, Y. Ito, K. Fujimoto, M. Tomita, M. Kurosawa, T. Matsuki, and T. Watanabe

International Conference on Solid State Devices and Materials 2022 (SSDM2022)

シリコン系マイクロ熱電発電デバイスの開発

渡邉孝信, 富田基裕, ハサンマフス, 黒澤昌志, 松木武雄, シルビアチュン, 王海東

M&M2022 材料力学カンファレンス

InP基板上の超高Sn組成Ge1-xSnxヘテロエピタキシャル層の結晶性改善

高木孝明, 柴山茂久, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理

第83回応用物理学会秋季学術講演会

ボロンドープしたシリコンナノ結晶/シリコン酸化膜積層構造の作製及び熱電特性評価

柴田啓介, 加藤慎也, 黒澤昌志, 後藤和泰, 宮本聡, 宇佐美徳隆, 黒川康良

第83回応用物理学会秋季学術講演会

多結晶SiGe薄膜を用いた平面型熱電素子の作製と評価

小池壮太, 柳澤亮人, 黒澤昌志, Jha Rajveer, 辻井直人, 森孝雄, 野村政宏

第83回応用物理学会秋季学術講演会

高抵抗Si(111)基板上における多層シリカンナノシートの形成

伊藤善常, 柴山茂久, 坂下満男, 中塚理, 黒澤昌志

第83回応用物理学会秋季学術講演会

熱安定性の高いGe1–xSnx量子ドットの自己形成

橋本薫, 柴山茂久, 安坂幸師, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理

第83回応用物理学会秋季学術講演会

単結晶歪Si1-xSnxのバンド構造評価

佐原敬太, 横川凌, 柴山裕貴, 日比野祐介, 黒澤昌志, 小椋厚志

第83回応用物理学会秋季学術講演会

Si(111)上における直接遷移Ge1-xSnxヘテロエピタキシャル層の形成

森俊輔, 柴山茂久, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理

第83回応用物理学会秋季学術講演会

Sn-driven self-formation of Ge1−xSnx nanodots on insulator for multi-layered quantum dots structure 国際会議

K. Hashimoto, S. Shibayama, K. Asaka, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-IX)

Molecular beam epitaxy of CaGe2 layers on Si(111) substrate 国際会議

K. Okada, S. Shibayama, O. Nakatsuka, and M. Kurosawa

9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-IX)

Investigation of electric and spin properties in germanium-based post graphene materials 国際会議

T. Nishijima, S. Kawa, Y. Ando, A. Ohta, J. Yuhara, M. Kurosawa, E. Shigematsu, R. Ohshima, and M. Shiraishi

IUMRS-ICYRAM2022

Substrate engineering for strain-controlled high-Sn-content Ge1−xSnx epitaxy 国際会議

O. Nakatsuka, S. Shibayama, M. Kurosawa, and M. Sakashita

The 6th Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials, 2022 (APAC-Silicide 2022)

Silicon Thermoelectric Energy Harvester Compatible with CMOS Technology 国際会議

T. Watanabe, M. Tomita, M. M. H. Mahfuz, M. Kurosawa, and T. Matsuki

2022 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD)

Comparative Thermoelectric Performance Demonstration Between Cavity-free GeSn and Si Thermoelectric Generators

M. M. H. Mahfuz, K. Katayama, Y. Ito, K. Fujimoto, M. Tomita, M. Kurosawa, T. Matsuki, and T. Watanabe

第69回応用物理学会春季学術講演会

Si1−xGexバッファ上におけるSi1−xSnx薄膜の結晶成長

藤本一彰, 黒澤昌志, 中塚理

第69回応用物理学会春季学術講演会

高抵抗Si(111)基板上におけるCaGe2薄膜の形成

岡田和也, 伊藤麻維, 中塚理, 黒澤昌志

第69回応用物理学会春季学術講演会

固相エピタキシャル成長法によるPドープSi1-xSnx薄膜の形成

大岩樹, 黒澤昌志, 中塚理

第69回応用物理学会春季学術講演会

Formation of calcium disilicide films on Si(111) using molecular beam epitaxy 国際会議

Y. Ito, O. Nakatsuka, and M. Kurosawa

ISPlasma2022/IC-PLANTS2022

Demonstration of Cavity-free GeSn Thermoelectric Generator 国際会議

K. Katayama, M. M. H. Mahfuz, M. Nakata, Y. Ito, K. Fujimoto, M. Tomita, M. Kurosawa, T. Matsuki, and T. Watanabe

2021 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices: Science and Technology (2021 IWDTF)

Design of a planar-type uni-leg SiGe thermoelectric generator 国際会議

S. Koike, R. Yanagisawa, M. Kurosawa, and M. Nomura

International Conference on Materials and Systems for Sustainability 2021 (ICMaSS2021)

超⾼圧下における多結晶PtN2膜の合成と特性評価

丹⽻健, 飯塚友規, ⿊澤昌志, 中村優⽃, 岸⽥英夫, 中塚理, 佐々⽊拓也, G. N. Alexander, ⻑⾕川正

第62回高圧討論会

Thermoelectric properties of tin-incorporated group-IV thin films 国際会議

M. Kurosawa and O. Nakatsuka

240th ECS Meeting

GaAs基板上におけるSi1−xSnx薄膜の結晶成長

藤本一彰, 黒澤昌志, 中塚理

第82回応用物理学会秋季学術講演会

高抵抗基板上におけるCaGe2薄膜の作製

岡田和也, 伊藤麻衣, 中塚理, 黒澤昌志

第82回応用物理学会秋季学術講演会

超高圧下で単結晶サファイア基板上に成長したPtN2膜の性状と物性

丹⽻健, 飯塚友規, ⿊澤昌志, 中村優⽃, 岸⽥英夫, 中塚理, 佐々⽊拓也, G. N. Alexander, ⻑⾕川正

日本金属学会 2021年秋期第169回講演大会

SOI基板上におけるCaシリサイド層の形成

伊藤善常, 中塚理, 黒澤昌志

第82回応用物理学会秋季学術講演会

透過型粉末X線回折による多層ゲルマナンの結晶構造評価

伊藤麻維, 洗平昌晃, 大田晃生, 中塚理, 黒澤昌志

第82回応用物理学会秋季学術講演会

絶縁膜上におけるCaGe2の固相成長

大石遼, 中塚理, 黒澤昌志

第82回応用物理学会秋季学術講演会

Group-IV materials grown on insulator for advanced thin-film thermoelectric applications 国際会議

M. Kurosawa and O. Nakatsuka

International Conference on Solid State Devices and Materials 2021 (SSDM2021)

Solid-phase crystallization of ultra-thin amorphous Ge layers on insulators 国際会議

R. Oishi, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

International Conference on Solid State Devices and Materials 2021 (SSDM2021)

Hydrogen desorption from multilayer germanane flakes under an ultrahigh vacuum environment 国際会議

M. Itoh, M. Araidai, A. Ohta, O. Nakatsuka, and M. Kurosawa

International Conference on Solid State Devices and Materials 2021 (SSDM2021)

Formation and Characterization of Ge1–x–YSixSny/Ge Hetero Junction Structures for Photovoltaic Cell Application 国際会議

O. Nakatsuka, S. Asaba, M. Kurosawa, M. Sakashita, N. Taoka, and S. Zaima

239th ECS Meeting

多結晶SiGe薄膜を用いた平面型ユニレグ熱電デバイスの作製と評価

小池壮太, 柳澤亮人, 黒澤昌志, 野村政宏

第68回応用物理学会春季学術講演会

近接蒸着法によるCaGe2成膜とゲルマナンへの変換

原康祐, 國枝慎, 山中淳二, 有元圭介, 伊藤麻維, 黒澤昌志

第68回応用物理学会春季学術講演会

Si(001)基板上におけるSi1−xSnx薄膜のエピタキシャル成長

黒澤昌志, 丹下龍志, 中塚理

第68回応用物理学会春季学術講演会

SiGe薄膜熱電発電デバイス出力の膜厚依存性

小池壮太, 柳澤亮人, 黒澤昌志, 野村政宏

日本機械学会熱工学コンファレンス2020

Evaluation of Strain-Shift Coefficients for SiSn by Raman Spectroscopy 国際会議

R. Yokogawa, M. Kurosawa, and A. Ogura

PRiME 2020

Heteroepitaxy and Strain Engineering of Germanium-Silicon-Tin Ternary Alloy Semiconductors for Energy Band Design 国際会議

O. Nakatsuka, S. Shibayama, M. Kurosawa, and M. Sakashita

PRiME 2020

Size effect of silicon nanocrystals on Seebeck coefficient of phosphorus-doped Si nanocrystals/silicon oxide multilayers 国際会議

H. Kobayashi, S. Kato, M. Kurosawa, K. Gotoh, N. Usami, and Y. Kurokawa

International Conference on Solid State Devices and Materials 2020 (SSDM2020)

Ge1-xSnx溶融成長時に生じる偏析現象の理解

中尾天哉, 西島泰樹, 清水智, 角田功, 中塚理, 黒澤昌志

第81回応用物理学会秋季学術講演会

多結晶SiGe薄膜を用いた平面型ユニレグ熱電デバイスの設計

小池壮太, 柳澤亮人, 黒澤昌志, 野村政宏

第81回応用物理学会秋季学術講演会

多層ゲルマナンフレークからの水素脱離

伊藤麻維, 洗平昌晃, 大田晃生, 中塚理, 黒澤昌志

第81回応用物理学会秋季学術講演会

GaAs(001)基板上におけるGe1−x−ySixSny 薄膜のエピタキシャル成長

中田壮哉, 詹天卓, 富田基裕, 渡邉孝信, 中塚理, 黒澤昌志

第81回応用物理学会秋季学術講演会

絶縁膜上における極薄Ge薄膜の固相成長

大石遼, 黒澤昌志, 中塚理

第81回応用物理学会秋季学術講演会

UVラマン分光法による単結晶Si1-xSnxの歪換算係数導出

横川凌, 丹下龍志, 黒澤昌志, 小椋厚志

第67回応用物理学会春季学術講演会

絶縁膜上における極薄Ge1−xSnx薄膜の固相成長

大石遼, 中塚理, 黒澤昌志

第67回応用物理学会春季学術講演会

Ge1−xSnx細線の偏析溶融成長：冷却速度の影響

中尾天哉, 西嶋泰樹, 清水智, 角田功, 中塚理, 黒澤昌志

第67回応用物理学会春季学術講演会

SbドープGe1−x−ySixSny三元混晶薄膜の熱電物性制御

中田壮哉, 詹天卓, 富田基裕, 渡邉孝信, 中塚理, 黒澤昌志

第67回応用物理学会春季学術講演会

GaドープSi1-xSnx薄膜で観測した巨大ゼーベック熱電能の理解

佐藤啓, 洗平昌晃, 中塚理, 黒澤昌志

第67回応用物理学会春季学術講演会

近接蒸着法によるCaSi2とCaGe2の成膜

原康祐, 瀧澤周平, 山中淳二, 黒澤昌志, 有元圭介

第67回応用物理学会春季学術講演会

多結晶SiGe薄膜を用いた熱電変換デバイスの設計

小池壮太, 柳澤亮人, 黒澤昌志, 野村政宏

第67回応用物理学会春季学術講演会

多結晶Si1-x-yGexSny三元混晶薄膜の熱電特性制御

中塚理, 彭英, 苗蕾, 高杰, 刘呈燕, 黒澤昌志, 財満鎭明

電子デバイス界面テクノロジー研究会（第25回）

分子線エピタキシー法による Si1-xSnx 薄膜の形成

丹下龍志, 黒澤昌志, 中塚理

電子デバイス界面テクノロジー研究会（第25回）

In-situ Sb Doping into Ge1−xSnx Epitaxial Layer toward Enhancement of Photoluminescence Intensity 国際会議

M. Fukuda, J. Jeon, M. Sakashita, S. Shibayama, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-VIII)

Crystal Growth and Characterization of Group-IV Alloy Semiconductor Heterostructures for Future Electronic Devices 国際会議

O. Nakatsuka, M. Kurosawa, S. Shibayama, M. Sakashita and S. Zaima

8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-VIII)

Improvement of thermoelectric properties of Si1-x-yGexSny thin films by ion implantation and rapid thermal annealing 国際会議

Y. Peng, L. Miao, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

International Conference on Materials and Systems for Sustainability 2019 (ICMaSS2019)

Theoretical Investigation of Self-organization Behavior of Si0.5Sn0.5 Nano-particles 国際会議

Y. Nagae, M. Kurosawa, and O. Nakatsuka

International Conference on Materials and Systems for Sustainability 2019 (ICMaSS2019)

Thermoelectric properties of silicon germanium wires with a composition gradient 国際会議

M. Nakata, O. Nakatsuka, M. Tomita, T. Watanabe, and M. Kurosawa

International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development Satellite (iLIM-s)

Optoelectronic Property of GeSn and GeSiSn Heterostructure 国際会議

M. Fukuda, M. Sakashita, S. Shibayama, M. Kurosawa, S. Zaima, and O. Nakatsuka

International Conference on Materials and Systems for Sustainability 2019 (ICMaSS2019)

Growth of Hetero-epitaxial Al on Ge(111) and Segregation of Ge Crystal by Annealing 国際会議

M. Kobayashi, A. Ohta, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, N. Taoka, T. Shimizu, K. Makihara, and S. Miyazaki

32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2019)

白金二窒化物薄膜の超高圧合成と物性

飯塚友規，丹羽健，黒澤昌志, 佐々木拓也，中塚理，長谷川正

第60回高圧討論会

Preparation of Ge1-xSnx-based Uni-leg Thermoelectric Generator 国際会議

M. Kurosawa, M. Tomita, and T. Watanabe

The 4th International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-4)

Power-conscious Energy Harvester Based on Si-CMOS Technology 国際会議

T. Watanabe, M. Tomita, Z. Tianzhuo, and M. Kurosawa

The 4th International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-4)

Temperature dependence of thermoelectric properties of Ge1−xSnx layers grown by molecular beam epitaxy 国際会議

M. Kurosawa, M. Nakata, K. Ide, T. Katase, and T. Kamiya

The 4th International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-4)

高濃度SbドープによるGe1-xSnxのフォトルミネッセンス発光強度の増大

福田雅大, 全智禧, 坂下満男, 柴山茂久, 黒澤昌志, 中塚理

第80回応用物理学会秋季学術講演会

イオン注入法を用いた面内組成傾斜n型Si1-xGex細線の形成

中田壮哉, 西嶋大樹, 清水智, 角田功, 富田基裕, 渡邊孝信, 中塚理, 黒澤昌志

第80回応用物理学会秋季学術講演会

偏析溶融成長法により形成した絶縁膜上Ge1-xSnx細線の電気特性評価

中尾天哉, 西嶋泰樹, 清水智, 角田功, 中塚理, 黒澤昌志

第80回応用物理学会秋季学術講演会

Evaluation of Anisotropic Stress for Laterally Graded Silicon Germanium Wires by Raman Spectroscopy 国際会議

R. Yokogawa, K. Takahashi, M. Kurosawa, M. Tomita, T. Watanabe, and A. Ogura

18th Conference on Defects-Recognition, Imaging and Physics in Semiconductors (DRIP XVII)

Influence of Dopant on Thermoelectric Properties of Si-rich Poly-Si1-xSnx Layers Grown on Insulators 国際会議

K. Sato, O. Nakatsuka, and M. Kurosawa

International Conference on Solid State Devices and Materials 2019 (SSDM2019)

First-Principles Study on Formation of Freestanding Silicene and Germanene 国際会議

M. Araidai, M. Kurosawa, A. Ohta, and K. Shiraishi

International Conference on Solid State Devices and Materials 2019 (SSDM2019)

Preparation and thermoelectric characterization of phosphorus-doped silicon nanocrystals/silicon oxide multilayers 国際会議

H. Kobayashi, R. Akaishi, S. Kato, M. Kurosawa, N. Usami, and Y. Kurokawa

International Conference on Solid State Devices and Materials 2019 (SSDM2019)

Growth of Ultrathin Segregated-Ge Crystal on Al/Ge(111) Surface 国際会議

M. Kobayashi, A. Ohta, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, N. Taoka, T. Shimizu, K. Makihara, and S. Miyazaki

International Conference on Solid State Devices and Materials 2019 (SSDM2019)

Germanene epitaxial growth by a segregation method on Ag(111) thin films 国際会議

J. Yuhara, H. Shimazu, K. Ito, A. Ohta, M. Araidai, M. Kurosawa, M. Nakatake, and G. Le Lay

From the NanoWorld to StarDust (NW2SD) International Conference

GeSn and GeSiSn Heterostructures for Optoelectronic Applications 国際会議

O. Nakatsuka, M. Fukuda, M. Kurosawa, S. Shibayama, M. Sakashita, and S. Zaima

2019 IEEE Photonics Society Summer Topical Meeting Series

組成傾斜シリコンゲルマニウム細線へのイオン注入ドーピング

中田壮哉, 西嶋大樹, 清水智, 角田功, 富田基裕, 渡邊孝信, 中塚理, 黒澤昌志

第3回応用物理学会フォノンエンジニアリング研究会

熱処理によるAl/Ge(111)上の極薄Ge層形成

小林征登, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 田岡紀之, 池田弥央, 牧原克典, 宮﨑誠一

電子情報通信学会シリコン材料・デバイス(SDM)研究会

Development and challenges of group-IV alloy semiconductors for nanoelectronic applications 国際会議

S. Zaima, O. Nakatsuka, M. Kurosawa, M. Sakashita, and S. Shibayama

11th International Conference on High-Performance Ceramics (CICC-11)

Tin-Incorporation Effect on Thermoelectric Properties of p-type Polycrysalline Si1-xGex layers grown on SiO2 国際会議

Y. Peng, L. Miao, J. Gao, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

11th International Conference on High-Performance Ceramics (CICC-11)

Semi-ballistic thermal phonon transport in Si1-xGex nanowires 国際会議

N. Okamoto, R. Yanagisawa, M. M. Alam, K. Sawano, M. Kurosawa, and M. Nomura

Compound Semiconductor Week 2019

架橋ゲルマネン形成に関する第一原理計算

洗平昌晃, 黒澤昌志, 大田晃生, 白石賢二

日本表面真空学会2019年度関東支部講演大会

急速溶融成長法で作製されたSiGeワイヤの熱電特性

熊田剛大, 中村俊貴, 富田基裕, 中田壮哉, 高橋恒太, 黒澤昌志, 渡邉孝信

第66回応用物理学会春季学術講演会

ヘテロエピタキシャルAl/Ge(111)上に偏析した極薄Geの化学分析

小林征登, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 田岡紀之, 池田弥央, 牧原克典, 宮﨑誠一

第66回応用物理学会春季学術講演会

温度と組成に依存するSi1-xGexナノワイヤ中の準弾道的熱輸送

岡本昂, 柳澤亮人, Md. Mahfuz Alam, 澤野憲太郎, 黒澤昌志, 野村政宏

第66回応用物理学会春季学術講演会

液浸ラマン分光法による組成傾斜SiGeワイヤの異方性二軸応力分布評価

横川凌, 高橋恒太, 富田基裕, 黒澤昌志, 渡邉孝信, 小椋厚志

第66回応用物理学会春季学術講演会

ノンドープ組成傾斜SiGeワイヤの微小ゼーベック係数測定

熊田剛大, 中村俊貴, 富田基裕, 中田壮哉, 高橋恒太, 黒澤昌志, 渡邉孝信

電子デバイス界面テクノロジー研究会（第24回）

GaSb(001)基板上に形成したSi1-xSnx薄膜の結晶構造評価

丹下龍志, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

電子デバイス界面テクノロジー研究会（第24回）

高Si組成Ge1-x-ySixSny/Ge1-xSnx/Ge1-x-ySixSny二重ヘテロ構造のエネルギーバンド構造および光電特性評価

福田雅大, 坂下満男, 柴山茂久, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

電子デバイス界面テクノロジー研究会（第24回）

偏析法によりAg(111)表面上に創製されたゲルマネンの構造評価

志満津宏樹, 柚原淳司, 仲武昌史, 伊藤公一, 大田晃生, 洗平昌晃, 黒澤昌志, Guy Le Lay

第18回日本表面真空学会中部支部学術講演会

Ge 2D Crystal Growth on Hetero-epitaxial Ag/Ge(111) by N2 Annealing 国際会議

A. Ohta, K. Ito, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki

49th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference (SISC)

GeSn-related group-IV semiconductor heterostructures for electronic and optoelectronic applications 国際会議

O. Nakatsuka, M. Fukuda, M. Kurosawa, M. Sakashita, and S. Zaima

12th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

エピタキシャルAl/Ge(111)の形成と真空中熱処理による表面平坦化およびGe析出

小林征登, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 田岡紀之, 池田弥央, 牧原克典, 宮﨑誠一

第6回応用物理学会名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会

GaSb(001)基板上におけるSi1-xSnx薄膜の固相成長

丹下龍志, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第6回応用物理学会名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会

First-Principles Study on Hydrogen Adsorption and Desorption of Silicene and Germanene 国際会議

M. Araidai, M. Kurosawa, A. Ohta, K. Shiraishi

14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures (ACSIN-14) in conjunction with 26th International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM26)

Formation and Optoelectronic Characterization of Strain-relaxed Ge1−x−ySixSny/Ge1−xSnx/Ge1−x−ySixSny Double-heterostructure 国際会議

M. Fukuda, M. Sakashita, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures (ACSIN-14) in conjunction with 26th International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM26)

Thermoelectric Performance of Polycrystalline Si1-x-yGexSny Ternary Alloy Layer Prepared with Ion Implantation 国際会議

Y. Peng, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, J. Gao, L. Miao, and S. Zaima

14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures (ACSIN-14) in conjunction with 26th International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM26)

次世代半導体デバイスに向けたIV族混晶薄膜の形成と物性制御

高橋恒太, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第10回半導体材料・デバイスフォーラム

First-principles study on hydrogen adsorption-desorption property and simulated STM Images of germanene

M. Araidai, M. Kurosawa, A. Ohta, K. Shiraishi

第２回ポストグラフェン材料のデバイス開発研究会

Why chose a diffusion method towards creation of silicene & germanene?

M. Kurosawa, A. Ohta, and M. Araidai

第２回ポストグラフェン材料のデバイス開発研究会

Two dimensional Ge crystal growth by annealing of Metal/Ge stack

A. Ohta, K. Ito, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki

第２回ポストグラフェン材料のデバイス開発研究会

Composition and Strain Engineering of New Group-IV Thermoelectric Materials 国際会議

M. Kurosawa, Y. Imai, T. Iwahashi, K. Takahashi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

AiMES 2018 Meeting

Evaluation of Laterally Graded Silicon Germanium Wires for Thermoelectric Devices fabricated by Rapid Melting Growth 国際会議

R. Yokogawa, S. Hashimoto, K. Takahashi, S. Oba, M. Tomita, M. Kurosawa, T. Watanabe, and A. Ogura

AiMES 2018 Meeting

Formation of laterally graded SixGe1-x stripes for thermoelectric generator 国際会議

M. Nakata, K. Takahashi, T. Nishijima, S. Shimizu, I. Tsunoda, O. Nakatsuka, S. Zaima, T. Watanabe, and M. Kurosawa

The 3rd International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-3)

真空蒸着によるGe(111)上のAlヘテロエピタキシャル成長

小林征登, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 池田弥央, 牧原克典, 宮﨑誠一

第79回応用物理学会秋季学術講演会

スマートウォッチを支える熱電デバイスについて考える

黒澤昌志

第79回応用物理学会秋季学術講演会

溶融成長法によるGe1-xSnx細線の形成と電気特性評価

髙橋恒太, 今井祐太, 西嶋泰樹, 清水智, 黒澤昌志, 角田功, 中塚理, 財満鎭明

第79回応用物理学会秋季学術講演会

熱電特性評価に向けた組成傾斜SixGe1-x細線の形成

中田壮哉, 髙橋恒太, 西嶋泰樹, 清水智, 角田功, 中塚理, 財満鎭明, 渡邉孝信, 黒澤昌志

第79回応用物理学会秋季学術講演会

SiO2上に形成したGe1-xSnx多結晶薄膜の熱電特性評価

今井志明, 髙橋恒太, 中塚理, 財満鎭明, 黒澤昌志

第79回応用物理学会秋季学術講演会

GaSb基板上におけるSi1-xSnx薄膜の結晶成長

丹下龍志, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第79回応用物理学会秋季学術講演会

高Si組成歪緩和Ge1-x-ySixSny/Ge1-xSnx/Ge1-x-ySixSny二重ヘテロ構造の形成および光電特性評価

福田雅大, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第79回応用物理学会秋季学術講演会

Ag(111)表面上に偏析したGe原子が形成する二次元構造

志満津宏樹, 柚原淳司, 仲武昌史, 伊藤公一, 大田晃生, 洗平昌晃, 黒澤昌志

日本物理学会 2018年秋季大会

IV族混晶薄膜の結晶成長と熱電デバイスへの応用

黒澤昌志

第68回フロンティア材料研究所学術講演会「革新的エナジーハーベスティングに向けた創エネルギー材料とデバイスの研究開発」

Thin film growth and characterization of group-IV alloy semiconductors for future nanoelectronic applications 国際会議

O. Nakatsuka, M. Kurosawa, and S. Zaima

9th International Conference on Physics and Its Applications (ICOPIA)

単結晶p型Ge0.95Sn0.05薄膜の熱電特性におけるドメインサイズの効果

今井志明, 髙橋恒太, 内田紀行, 前田辰郎, 中塚理, 財満鎭明, 黒澤昌志

第2回フォノンエンジニアリング研究グループ研究会

多結晶Ge1-xSnx薄膜熱電素子の低温形成

髙橋恒太, 池上浩, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明, 黒澤昌志

第2回フォノンエンジニアリング研究グループ研究会

Engineering optoelectronic properties of high-Sn-content GeSn, GeSiSn, and SiSn thin films 国際会議

O. Nakatsuka, M. Kurosawa, M. Fukuda, M. Sakashita, W. Takeuchi, and S. Zaima

IEEE Photonics Society Summer Topical Meeting Series 2018

GeSn-based thin film thermoelectric generators 国際会議

M. Kurosawa, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials Processing, Fabrication, Properties, Applications (THERMEC'2018)

Engineering electronic properties of GeSn-related group-IV thin films for nanoelectronic applications 国際会議

O. Nakatsuka, M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, and S. Zaima

2018 E-MRS Spring Meeting

Optoelectronic Characterization of Ge1-x-ySixSny/Ge1-xSnx/Ge1-x-ySixSny Double-Heterostructure with High-Si-Content Ge1-x-ySixSny Layer 国際会議

M. Fukuda, D. Rainko, M. Sakashita, M. Kurosawa, D. Buca, O. Nakatsuka, and S. Zaima

1st Joint ISTDM/ICSI 2018 Conference

Ultra-thin GeSn on Insulator structure through the direct bonding technique 国際会議

T. Maeda, W. H. Chang, T. Irisawa, H. Ishii, H. Hattori, M. Kurosawa, Y. Imai, O. Nakatsuka, and N. Uchida

1st Joint ISTDM/ICSI 2018 Conference

革新的多機能センサモジュール実現に向けた新しいIV族混晶熱電物質の創製　〜ド素人が熱電の分野に飛び込んで〜

黒澤昌志

" 日本熱電学会第23回研究会「注目の熱電プロジェクト」

ゲルマネンの水素吸脱着に関する第一原理計算

洗平昌晃, 黒澤昌志, 大田晃生, 白石賢二

日本物理学会　第73回年次大会（2018年）

熱電デバイス用組成傾斜SiGeワイヤの構造評価

横川凌, 橋本修一郎, 高橋恒太, 大場俊輔, 富田基裕, 黒澤昌志, 渡邉孝信, 小椋厚志

第65回応用物理学会春季学術講演会

IV族混晶のマイクロ熱電発電デバイス応用

渡邉孝信, 橋本修一郎, 富田基裕, 黒澤昌志, 池田浩也

第65回応用物理学会春季学術講演会

熱処理によるエピタキシャルAg/Ge(111)構造の表面平坦化とGe析出量制御

伊藤公一, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 池田弥央, 牧原克典, 宮﨑誠一

第65回応用物理学会春季学術講演会

Ge1-x-ySixSny/Ge1-xSnx/Ge1-x-ySixSny二重ヘテロ構造の光電特性評価

福田雅大, Denis Rainko, 坂下満男, 黒澤昌志, Dan Buca, 中塚理, 財満鎭明

第65回応用物理学会春季学術講演会

ドーパント種が水中パルスレーザアニールによるGe1-xSnx薄膜への高濃度ドーピングに及ぼす効果

髙橋恒太, 黒澤昌志, 池上浩, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第65回応用物理学会春季学術講演会

Domain size effects on thermoelectric properties of p-type Ge0.95Sn0.05 layers grown on GaAs and Si substrates 国際会議

Y. Imai, K. Takahashi, N. Uchida, T. Maeda, O. Nakatsuka, S. Zaima, and M. Kurosawa

2018 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM 2018)

Thermoelectric Characteristics of Rapid-Melting-Grown SiGe Wires Measured by Peltier Cooling Experiment 国際会議

S. Hashimoto, K. Takahashi, S. Oba, T. Terada, M. Ogasawara, M. Tomita, M. Kurosawa, and T. Watanabe

2018 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM 2018)

Low thermal budget fabrication of poly-Ge1-xSnx thin film thermoelectric generator 国際会議

K. Takahashi, H. Ikenoue, M. Sakashita, O. Nakatsuka, S. Zaima, and M. Kurosawa

2018 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM 2018)

Heavily p-type doping to Si1-xSnx layers grown on SOI substrates 国際会議

Y. Inaishi, M. Kurosawa, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

ISPlasma2018/IC-PLANTS2018

Crystal growth of GeSn-based materials and its application for thin-film thermoelectric generators 国際会議

M. Kurosawa, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

2017 Global Research Efforts on Energy and Nanomaterials (GREEN 2017)

Ultrathin Ge Growth on Flat Ag Surface in Hetero-Epitaxial Ag/Ge Structure by Annealing 国際会議

K. Ito, A. Ohta, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki

The 30th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2017)

Ultrathin Ge Growth on Ag Surface by Annealing of Hetero-Epitaxial Ag/Ge(111) 国際会議

A. Ohta, K. Ito, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki

8th International Symposium on Surface Science (ISSS-8)

Growth and Applications of Si1-xSnx Thin Films 国際会議

M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

232nd Electrochemical Society Meeting

Characterization of Crystallinity and Energy Band Alignment of Ge1-xSnx/Ge1-x-ySixSny Heterostructure 国際会議

M. Fukuda, M. Sakashita, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Conference on Materials and Systems for Sustainability 2017 (ICMaSS2017)

Crystal Growth of Ultrathin Si and Ge Layers on Ag Surfaces 国際会議

M. Kurosawa, A. Ohta, M. Araidai, and S. Zaima

The 2nd International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-2)

Heavy n- and p-type doping for polycrystalline Ge1-xSnx layers using pulsed laser annealing in water 国際会議

K. Takahashi, M. Kurosawa, H. Ikenoue, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

The 2nd International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-2)

Numerical calculation of energy band offset of Si1–xSnx by density functional calculation 国際会議

Y. Nagae, M. Kurosawa, M. Araidai, O. Nakatsuka, K. Shiraishi, and S. Zaima

The 2nd International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-2)

Fabrication and Thermoelectric Mechanism Study of Flexible Si1-xGex Superlattice Films 国際会議

Y. Peng, L. Miao, C. Li, R. Huang, D. Urushihara, T. Asaka, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Conference on Materials and Systems for Sustainability 2017 (ICMaSS2017)

Growth of 2D Crystal of Group-IV Elements on Epitaxial Ag(111) 国際会議

K. Ito, A. Ohta, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki

International Conference on Solid State Devices and Materials 2017 (SSDM2017)

Dopants behavior in polycrystallization of heavily doped Ge1-xSnx layer using pulsed laser annealing in water 国際会議

K. Takahashi, M. Kurosawa, H. Ikenoue, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2017 (SSDM2017)

Sb-doping effect on thermal and electrical properties of Ge-rich Ge1-xSnx layers 国際会議

T. Iwahashi, M. Kurosawa, N. Uchida, Y. Ohishi, T. Maeda, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2017 (SSDM2017)

新しいIV族混晶熱電材料:Ge1-xSnx

黒澤昌志, 今井志明, 岩橋泰正, 高橋恒太, 中塚理, 財満鎭明

第14回日本熱電学会学術講演会

混晶組成および歪制御によるGe1-xSnx/Ge1-x-ySixSnyヘテロ構造のエネルギーバンド構造制御

福田雅大, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第78回応用物理学会秋季学術講演会

熱電材料応用を目指した新しい IV 族混晶(Ge1-xSnx, Si1-xSnx)の開発

黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第78回応用物理学会秋季学術講演会

低温MBE法により形成したp型単結晶Ge1-xSnx薄膜の熱電特性

今井志明, 髙橋恒太, 中塚理, 財満鎭明, 黒澤昌志

第78回応用物理学会秋季学術講演会

水中パルスレーザアニール法により形成した高濃度ドープp型/n型多結晶Ge1-xSnx薄膜の熱電特性

髙橋恒太, 池上浩, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明, 黒澤昌志

第78回応用物理学会秋季学術講演会

歪SOI基板上に形成したSi1-xSnx薄膜への高濃度p型ドーピング

稲石優, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第78回応用物理学会秋季学術講演会

熱処理によるAg/Ge構造の表面平坦化とGe析出量制御

伊藤公一, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 池田弥央, 牧原克典, 宮崎誠一

第78回応用物理学会秋季学術講演会

層状化合物CaGe2を前駆体に用いたゲルマネン形成の試み

黒澤昌志, 淺枝駿冴, 大田晃生, 洗平昌晃, 財満鎭明

第78回応用物理学会秋季学術講演会

新しいIV族多元混晶薄膜の結晶成長とデバイス応用

黒澤昌志, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

2017年真空・表面科学合同講演会

Synthesis of p- and n-type Ge1-xSnx thin films toward new group-IV thermoelectric materials 国際会議

M. Kurosawa, Y. Imai, T. Iwahashi, A. Ohta, N. Uchida, Y. Ohishi, T. Maeda, O. Nakatsuka, and S. Zaima

2017 Annual International Conference on Thermoelectrics (2017ICT)

エピタキシャルAg(111)上の極薄IV族結晶形成

伊藤公一, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 池田弥央, 牧原克典, 宮崎誠一

電子情報通信学会シリコン材料・デバイス(SDM)研究会

Control of lattice constant of Ge1-x-ySixSny layer for energy band engineering in Ge1-xSnx/Ge1-x-ySixSny heterostructure 国際会議

M. Fukuda, K. Watanabe, M. Sakashita, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

10th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-10)

Solid phase epitaxy of Si1-xSnx layers on various substrates 国際会議

M. Kurosawa, M. Kato, K. Takahashi, O. Nakatsuka, and S. Zaima

10th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-10)

Formation of heavily Sb and Ga doped poly-Ge1-xSnx layers on insulator using pulsed laser annealing in water 国際会議

K. Takahashi, M. Kurosawa, H. Ikenoue, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

10th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-10)

アモルファス絶縁膜上におけるIV族二次元結晶の電子状態

洗平昌晃, 黒澤昌志, 大田晃生, 白石賢二

日本物理学会　第72回年次大会（2017年）

熱電素子応用を目指したn型Ge0.94Sn0.06単結晶薄膜の基礎物性評価

岩橋泰正, 黒澤昌志, 内田紀行, 大石佑治, 前田辰郎, 中塚理, 財満鎭明

第64回応用物理学会春季学術講演会

水中パルスレーザアニールを用いた多結晶Ge1-xSnxへの高濃度ドーピング

高橋恒太, 黒澤昌志, 池上浩, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第64回応用物理学会春季学術講演会

GaドープSi1-xSnx薄膜の結晶成長と電気特性評価

稲石優, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第64回応用物理学会春季学術講演会

Ge上にエピタキシャル成長したAg(111)表面の平坦化および化学構造評価

伊藤公一, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 池田弥央, 牧原克典, 宮崎誠一

第64回応用物理学会春季学術講演会

Geバッファ層導入によるSi(001)基板上への歪緩和Ge1-x-ySixSny層の形成

渡邉千皓, 福田雅大, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第64回応用物理学会春季学術講演会

Impact of Thermal Annealing on Mophology and Chemical Bonding Features at Epitaxial Ag(111) Surface Grown on Ge(111) 国際会議

K. Ito, A. Ohta, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki

ISPlasma2017/IC-PLANTS2017

Chemical Analysis of Epitaxial Ag(111) Surface Formed on Group-IV Semiconductor 国際会議

K. Ito, A. Ohta, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki

10th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"

Solid phase crystallization of Ge0.98Sn0.02 layers on various insulating substrates 国際会議

I. Yoshikawa, M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

10th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"

絶縁膜上にあるIV族二次元結晶の電子状態解析

洗平昌晃, 黒澤昌志, 大田晃生, 白石賢二

科学技術交流財団第３回「次世代デバイス実現に向けた先端二次元物質の物理と化学」研究会

絶縁基板上におけるIV族半導体薄膜の結晶方位制御技術：二次元物質への展開

黒澤昌志, 洗平昌晃, 伊藤公一, 大田晃生, 財満鎭明

科学技術交流財団第３回「次世代デバイス実現に向けた先端二次元物質の物理と化学」研究会

水中パルスレーザアニールを用いた多結晶Ge1-xSnx層中Sbの高活性化

高橋恒太, 黒澤昌志, 池上浩, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

電子デバイス界面テクノロジー研究会（第22回）

GeSiSn/GeSn/GeSiSn積層構造の形成および結晶物性の評価

福田雅大, 山羽隆, 浅野孝典, 藤浪俊介, 志村洋介, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第16回日本表面科学会中部支部学術講演会

First-Principles Study on Germanene and Stanene on α-Alumina 国際会議

M. Araidai, M. Kurosawa, A. Ohta, and K. Shiraishi

24th International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM24)

IV族半導体上に蒸着したAg薄膜の化学構造評価と反応制御

伊藤公一, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 池田弥央, 牧原克典, 宮崎誠一

2016年真空・表面科学合同講演会

Si(001)基板上に形成したn型Ge1-xSnx薄膜の熱電特性評価

岩橋泰正, 黒澤昌志, 財満鎭明

2016年真空・表面科学合同講演会

Si(001)基板上におけるSi1-xSnx薄膜の固相エピタキシャル成長

稲石優, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

2016年真空・表面科学合同講演会

Formation of heavily Sb doped poly-Ge1-xSnx layer using pulsed laser annealing in water 国際会議

K. Takahashi, M. Kurosawa, H. Ikenoue, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

JSPS Meeting 2016 : Workshop on "Atomically Controlled Processing for Ultra-large Scale Integration"

Growth of SiSn heteroepitaxial layers with very high Sn contents on InP(001) 国際会議

M. Kurosawa, M. Kato, O. Nakatsuka, and S. Zaima

JSPS Meeting 2016 : Workshop on "Atomically Controlled Processing for Ultra-large Scale Integration"

Si および SiGe 上に形成した Ag 表面の化学分析

伊藤公一, 大田晃生, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 池田弥央, 牧原克典, 宮崎誠一

第 4 回応用物理学会スチューデントチャプター東海地区学術講演会

GeSiSn/GeSn/GeSiSn二重ヘテロ構造形成およびGeSiSn層の歪が結晶性へ与える影響

福田雅大, 山羽隆, 浅野孝典, 志村洋介, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第 4 回応用物理学会スチューデントチャプター東海地区学術講演会

Low temperature crystallization of SiSn binary alloys 国際会議

M. Kurosawa, M. Kato, O. Nakatsuka, and S. Zaima

The 1st International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-1)

Electronic States of two-dimensional crystals of group IV element on α-Al2O3(0001) surfaces 国際会議

M. Araidai, M. Kurosawa, A. Ohta, and K. Shiraishi

13th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures

Thermoelectric properties of Ge-rich GeSn films grown on insulators 国際会議

M. Kurosawa, K. Liu, M. Izawae, I. Tsunoda, and S. Zaima

PRiME 2016/230th Electrochemical Society (ECS) Meeting

Heavy Sb-doping for poly-GeSn on insulator using pulsed laser annealing in water 国際会議

K. Takahashi, M. Kurosawa, H. Ikenoue, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2016 (SSDM2016)

Investigation of effects of inner stress with Sn incorporation on energy band of Si1–xSnx using density functional theory and photoelectron spectroscopy 国際会議

Y. Nagae, M. Kurosawa, M. Araidai, O. Nakatsuka, K. Shiraishi, and S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2016 (SSDM2016)

Challenges in Engineering Materials Properties for GeSn Nanoelectronics 国際会議

S. Zaima, O. Nakatsuka, M. Kurosawa, W. Takeuchi, and M. Sakashita

E-MRS Fall Meeting

Si1–xSnx価電子帯端オフセットの第一原理計算

長江祐樹, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 中塚理, 白石賢二, 財満鎭明

第77回応用物理学会秋季学術講演会

アルミナ表面上のゲルマネンおよびスタネンの電子状態

洗平昌晃, 黒澤昌志, 大田晃生, 白石賢二

日本物理学会 2016年秋季大会

Operation of inverter and ring oscillator of ultrathin-body poly-Ge CMOS

鎌田善己, 小池正浩, 黒澤悦男, 黒澤昌志, 太田裕之, 中塚理, 財満鎭明, 手塚勉

第77回応用物理学会秋季学術講演会

GeSn系IV族半導体薄膜におけるSn導入の制御と効果

志村洋介, 池進一, Gencarelli Federica, 竹内和歌奈, 坂下満男, 黒澤昌志, Loo Roger, 中塚理, 財満鎭明

第77回応用物理学会秋季学術講演会

絶縁膜上に形成したp型poly-GeSn薄膜の熱電特性評価

黒澤昌志, 劉坤, 井澤桃香, 角田功, 財満鎭明

第77回応用物理学会秋季学術講演会

水中パルスレーザアニールを用いた多結晶GeSnへの高濃度n型ドーピング

高橋恒太, 黒澤昌志, 池上浩, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第77回応用物理学会秋季学術講演会

Orientation Controlled Artificial Nano-crystals for Hybrid-formation of (111), (110), and (100) Ge-on-Insulator Structures 国際会議

M. Miyao, M. Kurosawa, and T. Sadoh

XIII International Conference on Nanostructured Materials (NANO 2016)

Growth and applications of GeSn-related group-IV semiconductor materials 国際会議

S. Zaima, O. Nakatsuka, T. Asano, T. Yamaha, S. Ike, A. Suzuki, K. Takahashi, Y. Nagae, M. Kurosawa, W. Takeuchi, Y. Shimura, and M. Sakashita

2016 IEEE Photonics Society Summer Topicals Meeting Series

Formation and Characterization of GeSiSn/GeSn/GeSiSn Double-Heterostructure with Strain-controlled GeSiSn layer 国際会議

M. Fukuda, T. Yamaha, T. Asano, S. Fujinami, Y. Shimura, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

8th International SiGe Technology and Device Meeting (ISTDM)

Interfacial Energy Controlled Low-Temperature Crystallization of Ge-rich GeSn on Insulating Substrate 国際会議

I. Yoshikawa, M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

8th International SiGe Technology and Device Meeting (ISTDM)

Development of GeSn thin film technology for electronic and optoelectronic applications 国際会議

O. Nakatsuka, M. Kurosawa, W. Takeuchi, Y. Shimura, M. Sakashita, and S. Zaima

2016 EMN Summer Meeting

Sn系IV族半導体混晶薄膜の成長と物性評価

志村洋介, 竹内和歌奈, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

電子情報通信学会シリコン材料・デバイス(SDM)研究会　

Theoretical Studies on Electronic Structures of Silicene Ribbon and Silicene on Insulator 国際会議

K. Shiraishi, A. Hattori, S. Tanaya, M. Araidai, A. Ohta, M. Kurosawa, Y. Hatsugai, M. Sato, and Y. Tanaka

International SYMPOSIUM on Two-Dimensional Layered Materials and Art: Two Worlds Meet

GeSiSn/GeSn/GeSiSn二重ヘテロ構造の結晶性に対するGeSiSn層の歪の影響

福田雅大, 山羽隆, 浅野孝典, 藤浪俊介, 志村洋介, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第63回応用物理学会春季学術講演会

絶縁膜上にあるIV族系二次元結晶の電子状態解析

洗平昌晃, 黒澤昌志, 大田晃生, 白石賢二

日本物理学会第71回年次大会（2016年）

Characterization of Chemical Bonding Features of Ultrathin Ge Layer Grown by Ag-Induced Layer-Exchange Method 国際会議

A. Ohta, M. Kurosawa, M. Araidai, and S. Miyazaki

ISPlasma2016/IC-PLANTS2016

Solid phase crystalization of Si1-x-ySnxCy ternary alloy layers and characteriziation of its crystalline and optical properties 国際会議

S. Yano, T. Yamaha, Y. Shimura, W. Takeuchi, M. Sakashita, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

ISPlasma2016/IC-PLANTS2016

Impact of Atomic Hydrogen Irradiation on Epitaxial Growth of Ge1-xSnx and its Crystalline Property 国際会議

S. Fujinami, T. Asano, T. Koyama, M. Kurosawa, M. Sakashita, O. Nakatsuka, H. Kishida, S. Zaima

ISPlasma2016/IC-PLANTS2016

界面エネルギー制御による絶縁膜上GeSn薄膜の低温結晶成長

吉川勲, 黒澤昌志, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

電子デバイス界面テクノロジー研究会（第21回）

Si1–xSnx半導体のエネルギーバンド構造に関する理論的および実験的分析

長江祐樹, 柴山茂久, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 中塚理, 白石賢二, 財満鎭明

電子デバイス界面テクノロジー研究会（第21回）

Formation of poly-Si1-x-ySnxCy ternary alloy layer and characteriziation of its crystalline and optical properties 国際会議

S. Yano, T. Yamaha, Y. Shimura, W. Takeuchi, M. Sakashita, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

9th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"

Control of Schottky barrier height at metal/Ge interface by insertion of Ge1-xSnx layer 国際会議

A. Suzuki, O. Nakatsuka, S. Shibayama, M. Sakashita, W. Takeuchi, M. Kurosawa, and S. Zaima

9th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"

Phosphorus doping into Ge with low electrical damage by liquid immersion laser doping 国際会議

K. Takahashi, M. Kurosawa, H. Ikenoue, M. Sakashita, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima

9th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"

Crystalline and Electrical Properties of in-situ Sb-Doped Ge1-xSnx Epitaxial Layers 国際会議

J. Jeon, T. Asano, Y. Shimura, W. Takeuchi, M. Kurosawa, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

9th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"

Formation of GeSn layer sandwiched with strain-controlled GeSiSn layers 国際会議

M. Fukuda, T. Yamaha, T. Asano, S. Fujinami, Y. Shimura, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

9th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"

InP(001)基板上における高 Sn 組成 Si1-xSnx 層の固相エピタキシャル成長

加藤元太, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第15回日本表面科学会中部支部学術講演会

First-principles study on two-dimensional crystals of group IV element on insulating film 国際会議

M. Araidai, M. Kurosawa, A. Ohta, and K. Shiraishi

23rd International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM23)

Si and Ge Ultrathin Films by Ag-Induced Layer-Exchange Growth 国際会議

M. Kurosawa, A. Ohta, M. Araidai, and S. Zaima

23rd International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM23)

絶縁膜上のIV族系二次元結晶に関する第一原理計算

洗平昌晃, 黒澤昌志, 大田晃生, 白石賢二

2015年真空・表面科学合同講演会

Ag誘起層交換成長法によるSi極薄膜の形成

黒澤昌志, 大田晃生, 洗平昌晃, 財満鎭明

2015年真空・表面科学合同講演会

Control of Schottky barrier height of metal/Ge interface by SnxGe1-x interlayer 国際会議

A. Suzuki, O. Nakatsuka, S. Shibayama, M. Sakashita, W. Takeuchi, M. Kurosawa, S. Zaima

International Symposium on EcoTopia Science 2015 (ISETS'15)

Calculation of Si1-xSnx Energy Band Structures by using Density Functional Theory Considering Atomic Configuration 国際会議

Y. Nagae, M. Kurosawa, S. Shibayama, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Symposium on EcoTopia Science 2015 (ISETS'15)

Electrical characteristics of Ge pn-junction diodes prepared by using liquid immersion laser doping 国際会議

K. Takahashi, M. Kurosawa, H. Ikenoue, M. Sakashita, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Symposium on EcoTopia Science 2015 (ISETS'15)

X-ray microdiffraction characterization of local strain distribution in GeSn/Ge nanostructures 国際会議

S. Ike, O. Nakatsuka, Y. Moriyama, M. Kurosawa, N. Taoka, Y. Imai, S. Kimura, T. Tezuka, and S. Zaima

International Symposium on EcoTopia Science 2015 (ISETS'15)

Silicon-tin semiconductors for near-infrared optoelectronic device applications 国際会議

M. Kurosawa, M. Kato, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Symposium on EcoTopia Science 2015 (ISETS'15)

固相成長法による Si1-x-ySnxCy 薄膜の形成および結晶・光学物性評価

矢野翔大, 山羽隆, 黒澤昌志, 竹内和歌奈, 志村洋介, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2015

超高 Sn 組成 SnxGe1-x エピタキシャル層の形成および金属/SnxGe1-x/Geコンタクトの電気伝導特性の制御

鈴木陽洋, 中塚理, 柴山茂久, 坂下満男, 竹内和歌奈, 黒澤昌志, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2015

密度汎関数法による Si1–xSnx 価電子帯端準位の理論予測および実験的妥当性

長江祐樹, 柴山茂久, 黒澤昌志, 洗平昌晃, 中塚理, 白石賢二, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2015

In-situ Sb ドープ Ge1-xSnx エピタキシャル層の結晶性および電気的特性

全智禧, 浅野孝典, 志村洋介, 竹内和歌奈, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2015

Crystal growth and energy band engineering of group-IV semiconductor thin films for nanoelectronic applications 国際会議

O. Nakatsuka, M. Kurosawa, W. Takeuchi, Y. Shimura, M. Sakashita, and S. Zaima

International Workshop on Advanced Nanomaterials for Future Electron Devices 2015 (IWAN2015)

Recent Progress of Silicon Tin Alloys for Advanced Semiconductor Devices 国際会議

M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Workshop on Advanced Nanomaterials for Future Electron Devices 2015 (IWAN2015)

Evaluation of energy band structure of Si1-xSnx by density functional theory calculation and photoelectron spectroscopy 国際会議

Y. Nagae, S. Shibayama, M. Kurosawa, M. Araidai, M. Sakashita, O. Nakatsuka, K. Shiraishi, and S. Zaima

2015 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices: Science and Technology (2015 IWDTF)

Ge基板上への超高Sn組成Ge1−xSnxエピタキシャル層の形成およびGe1−xSnx界面層が金属/Geコンタクトのショットキー障壁高さに及ぼす影響

鈴木陽洋, 中塚理, 柴山茂久, 坂下満男, 竹内和歌奈, 黒澤昌志, 財満鎭明

応用物理学会結晶工学分科会主催第4回結晶工学未来塾

Challenges of energy band engineering with new Sn-related group IV semiconductor materials for future integrated circuits 国際会議

S. Zaima, O. Nakatsuka, T. Yamaha, T. Asano, S. Ike, A. Suzuki, M. Kurosawa, W. Takeuchi, and M. Sakashita

228th Electrochemical Society (ECS) Meeting

Impact of ultra-high Sn content SnxGe1−x interlayer on reducing Schottky barrier height at metal/n-Ge interface 国際会議

A. Suzuki, O. Nakatsuka, S. Shibayama, M. Sakashita, W. Takeuchi, M. Kurosawa, and S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2015 (SSDM2015)

Crystal Growth of GeSn-related Group-IV Thin Films for Integrating on Si Nanoelectronics Platform 国際会議

S. Zaima, O. Nakatsuka, T. Asano, T. Yamaha, Shinichi Ike, A. Suzuki, M. Kurosawa, W. Takeuchi, and M. Sakashita

International Conference on Solid State Devices and Materials 2015 (SSDM2015)

Influence of in-situ Sb-Doping on Crystalline and Electrical Characteristics of n-type Ge1-xSnx Epitaxial Layer 国際会議

J. Jeon, T. Asano, W. Takeuchi, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2015 (SSDM2015)

Ge1-xSnxエピタキシャル層の結晶性および電気的特性にin-situ Sbドーピングが及ぼす影響

全智禧, 浅野孝典, 竹内和歌奈, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第76回応用物理学会秋季学術講演会

Si1-xSnx薄膜の固相エピタキシャル成長に与えるSn組成の効果

加藤元太, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第76回応用物理学会秋季学術講演会

GeSn多結晶膜の移動度に与える下地絶縁膜の効果

吉川勲, 黒澤昌志, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第76回応用物理学会秋季学術講演会

Ge1-x-ySixSny/Ge1-xSnx/Ge1-x-ySixSny二重ヘテロ接合の形成および結晶性評価

福田雅大, 山羽隆, 浅野孝典, 藤浪俊介, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第76回応用物理学会秋季学術講演会

Si1-x-ySnxCy三元混晶薄膜のエピタキシャル成長および結晶性評価

山羽隆, 矢野翔太, 髙橋恒太, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第76回応用物理学会秋季学術講演会

固相成長法によるSi1-x-ySnxCy多結晶薄膜の形成および結晶構造評価

矢野翔大, 山羽隆, 黒澤昌志, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第76回応用物理学会秋季学術講演会

Reduction of Schottky barrier height with Sn/Ge contact 国際会議

A. Suzuki, O. Nakatsuka, S. Shibayama, M. Sakashita, W. Takeuchi, M. Kurosawa, and S. Zaima

JSPS International Core-to-Core Program Workshop "Atomically Controlled Processing for Ultra-large Scale Integration"

Development of polycrystalline Sn-related group-IV semiconductor thin films --Aiming for 3D-IC-- 国際会議

M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

2015 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD 2015)

Formation of Ge pn-junction diode by phosphorus doping with liquid immersion laser irradiation 国際会議

K. Takahashi, M. Kurosawa, H. Ikenoue, M. Sakashita, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima

15th International Workshop on Junction Technology (IWJT2015)

Solid Phase Epitaxy of High Sn Content Si1-xSnx layer (x>0.2) on Ge Substrates for Optical Communication Applications 国際会議

M. Kato, Y. Nagae, M. Kurosawa, T. Yamaha, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

9th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-9)

Large Single-Crystal Ge-on-Insulator by Thermally-Assisted Si-Seeded-Pulse-Laser Annealing (≤400oC) 国際会議

T. Sadoh, M. Kurosawa, A. Heya, N. Matsuo, and M. Miyao

9th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-9)

Thermophysical characterizations of Ge1-xSnx epitaxial layers aiming for thermoelectric devices 国際会議

M. Kurosawa, M. Fukuda, K. Takahashi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

9th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-9)

高Sn組成SiSnの形成とバンド構造〜直接遷移構造化を目指して〜

黒澤昌志, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

電子情報通信学会シリコン材料・デバイス(SDM)研究会　

固相成長法による高SnC組成Ge1-x-ySnxCy三元混晶薄膜の形成および結晶構造評価

〇小田裕貴, 山羽隆, 黒澤昌志, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第62回応用物理学会春季学術講演会

GeSn多結晶薄膜の進展〜3D-ICを目指して〜

黒澤昌志, 池上浩, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

第62回応用物理学会春季学術講演会

熱電素子応用を目指したGeSn単結晶薄膜の熱物性評価

黒澤昌志, 福田雅大, 高橋恒太, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第62回応用物理学会春季学術講演会

積層チャネル3D-IC向け極薄Body Poly-Ge p-&n-MISFETsを用いたCMOSインバーターとリング発振器の作製および動作実証

鎌田善己, 小池正浩, 黒澤悦男, 黒澤昌志, 太田裕之, 中塚理, 財満鎭明, 手塚勉

第62回応用物理学会春季学術講演会

リン酸溶液中レーザドーピングにおけるGe基板面方位の効果

高橋恒太, 黒澤昌志, 池上浩, 柴山茂久, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明

第62回応用物理学会春季学術講演会

GGA+U法によるSi1-xSnx材料物性の精密予測

〇長江祐樹, 黒澤昌志, 加藤元太, 柴山茂久, 中塚理, 財満鎭明

第62回応用物理学会春季学術講演会

Sn/Geコンタクトにおけるフェルミレベルピニングの軽減およびショットキー障壁高さの低減

鈴木陽洋, 柴山茂久, 黒澤昌志, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会　薄膜・表面物理分科会・シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会　ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─（第20回記念研究会）

Formation of strain-free Si1-x-yGexSny layers on Ge surfaces by using solid-liquid coexisting annealing 国際会議

M. Kato, M. Kurosawa, T. Yamaha, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

8th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"

Crystal growth of Si1-xSnx alloys with high Sn contents 国際会議

M. Kurosawa, M. Kato, Y. Nagae, T. Yamaha, O. Nakatsuka, and S. Zaima

8th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"

Growth and characterization of Si1-x-ySnxCy ternary alloy thin films for solar cell application 国際会議

T. Yamaha, H. Oda, M. Kurosawa, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima

The 6th World Conference on Photovoltaic Energy Conversion (WCPEC-6)

Growth and Characterization of Ternary Alloy Ge1-x-ySnxCy Layers 国際会議

T. Yamaha, H. Oda, M. Kurosawa, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, S. Zaima

JSPS International Core-to-Core Program Workshop on Atomically Controlled Processing for Ultra-large Scale Integration

Development of metal/Ge contacts for engineering Schottky barriers 国際会議

O. Nakatsuka, Y. Deng, A. Suzuki, S. Shibayama, M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, N. Taoka, and S. Zaima

JSPS International Core-to-Core Program Workshop on Atomically Controlled Processing for Ultra-large Scale Integration

Study of Local Strain Distribution in Ge1−xSnx/Ge Fine Structures by using Synchrotron X-ray Microdiffraction 国際会議

S. Ike, Y. Moriyama, M. Kurosawa, N. Taoka, O. Nakatsuka, Y. Imai, S. Kimura, T. Tezuka, and S. Zaima

JSPS International Core-to-Core Program Workshop on Atomically Controlled Processing for Ultra-large Scale Integration

Sn/Ge界面の結晶構造およびショットキー障壁高さのGe面方位依存性

鈴木陽洋, 鄧云生, 柴山茂久, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2014

リン酸溶液中レーザドーピングにより低温形成したGe pnダイオードの電気的特性

髙橋恒太, 黒澤昌志, 池上浩, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2014

GeSnC 三元混晶薄膜の結晶成長および光学特性評価

山羽隆, 小田裕貴, 黒澤昌志, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2014

固相エピタキシャル成長法を用いた高Sn組成 SiSn層の形成

加藤元太, 黒澤昌志, 山羽隆, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2014

Low Schottky barrier height contacts with Sn electrode for various orientation n-Ge substrates 国際会議

A. Suzuki, D. Yunsheng, S. Shibayama, M. Kurosawa, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

Advanced Metallization Conference 2014 (ADMETA Plus 2014)

Poly & Epitaxial Crystallization of Silicon-Tin Binary Alloys for Future Optoelectronics 国際会議

M. Kurosawa, M. Kato, K. Takahashi, T. Yamaha, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

16th International Conference on Thin Films (ICTF16)

Epitaxial Growth of Gesn Layers on (001), (110), and (111) Si and Ge Substrates 国際会議

O. Nakatsuka, N. Taoka, T. Asano, T. Yamaha, S. Ike, M. Kurosawa, W. Takeuchi, and S. Zaima

2014 ECS (Electrochemical Society) and SMEQ (Sociedad Mexicana de Electroquímica) Joint International Meeting

Sn/Geコンタクトにおけるショットキー障壁高さのGe面方位依存性

鈴木陽洋, 鄧云生, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

第75回応用物理学会秋季学術講演会

Al 誘起層交換成長の物理〜Si の面方位制御を目指して〜

黒澤昌志, 佐道泰造, 宮尾正信

第75回応用物理学会秋季学術講演会

Si1-xSnx薄膜におけるバンドギャップナローウィングの初観測

黒澤昌志, 柴山茂久, 加藤元太, 山羽隆, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明

第75回応用物理学会秋季学術講演会

固相エピタキシャル成長法による高Sn組成(>20%)SiSn薄膜の創製

加藤元太, 黒澤昌志, 山羽隆, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

第75回応用物理学会秋季学術講演会

リン酸溶液中レーザドーピングによるGeダイオードの低温形成

高橋恒太, 黒澤昌志, 池上浩, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明

第75回応用物理学会秋季学術講演会

Operations of CMOS Inverter and Ring Oscillator Composed of Ultra-Thin Body Poly-Ge p- and n-MISFETs for Stacked Channel 3D-IC 国際会議

Y. Kamata, M. Koike, E. Kurosawa, M. Kurosawa, H. Ota, O. Nakatsuka, S. Zaima, and T. Tezuka

International Conference on Solid State Devices and Materials 2014 (SSDM2014)

Sub-300oC fabrication of poly-GeSn junctionless tri-gate p-FETs enabling sequential 3D integration of CMOS circuits 国際会議

M. Kurosawa, Y. Kamata, H. Ikenoue, N. Taoka, O. Nakatsuka, T. Tezuka, and S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2014 (SSDM2014)

Mobility Behavior of Polycrystalline Si1-x-yGexSny Grown on Insulators 国際会議

T. Ohmura, T. Yamaha, M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

15th IUMRS-International Conference in Asia (IUMRS-ICA 2014)

Sn/Geコンタクトにおけるフェルミレベルピニング現象の軽減

鈴木陽洋, 朝羽俊介, 横井淳, 中塚理, 黒澤昌志, 加藤公彦, 坂下満男, 田岡紀之, 財満鎭明

電子情報通信学会シリコン材料・デバイス(SDM)研究会　

絶縁膜上における IV 族半導体の低温形成　〜低融点 Sn の活用〜

黒澤昌志, 田岡紀之, 池上浩, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明

電子情報通信学会シリコン材料・デバイス(SDM)研究会　

Epitaxial Growth and Crystalline Properties of Ge1-x-ySixSny Layers on Ge(001) Substrates 国際会議

T. Asano, T. Terashima, T. Yamaha, M. Kurosawa, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International SiGe Technology and Device Meeting 2014 (ISTDM 2014)　

Ultralow-Temperature Catalyst-Induced-Crystallization of SiGe on Plastic for Flexible Electronics 国際会議

T. Sadoh, J.-H. Park, M. Kurosawa, and M. Miyao

International SiGe Technology and Device Meeting 2014 (ISTDM 2014)　

Low temperature growth of SiSn polycrystals with high Sn contents on insulating layers 国際会議

M. Kurosawa, M. Kato, T. Yamaha, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International SiGe Technology and Device Meeting 2014 (ISTDM 2014)　

Impact of Sn Incorporation on Low Temperature Growth of Polycrystalline-Si1-xGex Layers on Insulators 国際会議

T. Yamaha, T. Ohmura, M. Kurosawa, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International SiGe Technology and Device Meeting 2014 (ISTDM 2014)　

Crystal Growth of Sn-related Group-IV Alloy Thin Films for Advanced Si Nanoelectronics 国際会議

S. Zaima, O. Nakatsuka, N. Taoka, M. Kurosawa, T. Asano, T. Yamaha, and W. Takeuchi

International SiGe Technology and Device Meeting 2014 (ISTDM 2014)　

Growth and Crystalline Properties of Ge1-x-ySnxCy Ternary Alloy Thin Films on Ge(001) Substrate 国際会議

K. Terasawa, T. Yamaha, M. Kurosawa, W. Takeuchi, N. Taoka,O. Nakatsuka, E. Kamiyama, R. Matsutani, R. Suwa, K. Kashima, K. Izunome, K. Sueoka, and S. Zaima

International SiGe Technology and Device Meeting 2014 (ISTDM 2014)　

Formation and Electrical Properties of Metal/Ge1-xSnx Contacts 国際会議

O. Nakatsuka, T. Nishimura, A. Suzuki, K. Kato, D. Yunsheng, M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, N. Taoka, and S. Zaima

14th International Workshop on Junction Technology

水中レーザ結晶化によるpoly-GeSnの大粒径成長とデバイス応用

黒澤昌志, 池上浩, 鎌田善己, 田岡紀之, 中塚理, 手塚勉, 財満鎭明

第61回応用物理学会春季学術講演会

X線マイクロ回折法による埋め込みGe1-xSnx/Ge微細構造内部の局所歪評価

池進一, 守山佳彦, 黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理, 今井康彦, 木村滋 , 手塚勉, 財満鎭明

第61回応用物理学会春季学術講演会

液相SnへのGe優先溶融を利用したSiGeSn薄膜の極低温エピタキシャル成長

加藤元太, 黒澤昌志, 山羽隆, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

第61回応用物理学会春季学術講演会

Si添加によるSnドット化抑制と層交換成長への応用

黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

第61回応用物理学会春季学術講演会

固相エピタキシー法により形成したGe1-x-ySnxCy三元混晶薄膜の結晶構造

小田裕貴, 山羽隆, 寺澤謙吾, 黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

第61回応用物理学会春季学術講演会

高C組成Ge1-x-ySnxCy薄膜の結晶成長および結晶性評価

山羽隆, 寺澤謙吾, 黒澤昌志, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

第61回応用物理学会春季学術講演会

Substrate Orientation Dependence of Crystalline Structures of Epitaxial GeSn Layers 国際会議

T. Asano, M. Kurosawa, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

7th International WorkShop on New Group IVSemiconductor Nanoelectronics

Sn-assisted low temperature crystallization of polycrystalline Ge1-xSnx thin-films on insulating surfaces 国際会議

M. Kurosawa, T. Yamaha, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, H. Ikenoue, and S. Zaima

7th International WorkShop on New Group IVSemiconductor Nanoelectronics

Si(110)上Ge1-xSnxエピタキシャル薄膜の成長機構および転位構造

木戸脇翔平，浅野孝典, 黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理，財満鎭明

第13回日本表面科学会中部支部学術講演会

低温固相成長GeへのSn導入による正孔移動度の向上

竹内和歌奈, 田岡紀之, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明

第13回日本表面科学会中部支部学術講演会

高輝度放射光X線マイクロ回折法によるGe1−xSnx/Ge微細構造内部の局所歪評価

池進一, 守山佳彦, 黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理, 今井康彦, 木村滋, 手塚勉, 財満鎭明

第13回日本表面科学会中部支部学術講演会

Sn-related Group-IV Semiconductor Materials for Electronic and Optoelectronic Applications 国際会議

O. Nakatsuka, N. Taoka, T. Asano, T. Yamaha, M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, and S. Zaima

The 3rd International Conference on Nanoteck & Expo

非晶質SiGe混晶薄膜の結晶化に対するSn導入効果

山羽隆, 黒澤昌志, 荒平貴光, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2013

Ge1-xSnx エピタキシャル層の結晶性が発光特性に及ぼす影響

保崎航也，小山剛史，黒澤昌志，田岡紀之，中塚理，岸田英夫，財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2013

Ge1-x-ySixSny/n-Ge(001)低欠陥ヘテロ接合形成と電気的特性

朝羽俊介, 山羽隆, 寺島辰也, 黒澤昌志, 坂下満男, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2013

Sn/n型Ge接合界面におけるフェルミレベルピニング変調

鈴木陽洋, 朝羽俊介, 横井淳, 加藤公彦, 黒澤昌志, 坂下満男, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2013

Ge1-x-ySnxCy 混晶薄膜のエピタキシャル成長および結晶構造評価

寺澤謙吾, 山羽隆, 小田裕貴, 黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

応用物理学会SC東海地区学術講演会2013

GeSiSn/n-Ge(001)ヘテロ接合型太陽電池の作製および光電特性評価

朝羽俊介, 山羽隆, 寺島辰也, 黒澤昌志, 坂下満男, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

第5回薄膜太陽電池セミナー2013

多接合型太陽電池応用に向けたGe1-x-ySnxCy三元混晶薄膜の結晶成長

寺澤謙吾, 山羽隆, 黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

第5回薄膜太陽電池セミナー2013

Ge1-x-ySnxCy三元混晶薄膜の結晶成長および結晶構造評価

寺澤謙吾, 山羽隆, 小田裕貴, 黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明

2013年応用物理学会結晶工学分科会第2回結晶工学未来塾

Ge(001)基板上に成長した Ge1-xSnx エピタキシャル層の結晶構造および光学特性

保崎航也，小山剛史，黒澤昌志，田岡紀之，中塚理，岸田英夫，財満鎭明

2013年応用物理学会結晶工学分科会第2回結晶工学未来塾

Characterization of Local Strain Structures in Heteroepitaxial Ge1−xSnx/Ge Microstructures by using Microdiffraction Method 国際会議

S. Ike, Y. Moriyama, M. Kurosawa, N. Taoka, O. Nakatsuka, Y. Imai, S. Kimura, T. Tezuka, and S. Zaima

224th Electrochemical Society (ECS) Meeting　

Heteroepitaxial Growth of Sn-Related Group-IV Materials on Si Platform for Microelectronic and Optoelectronic Applications: Challenges and Opportunitiesi 国際会議

O. Nakatsuka, N. Taoka, T. Asano, T. Yamaha, M. Kurosawa, M. Sakashita, and S. Zaima

224th Electrochemical Society (ECS) Meeting　

Low-Temperature Metal-Induced Crystallization of Orientation-Controlled SiGe on Insulator for Flexible Electronics 国際会議

T. Sadoh, J.-H. Park, M. Kurosawa, and M. Miyao

224th Electrochemical Society (ECS) Meeting　

Engineering of Energy Band Structure with Epitaxial Ge1-x- ySixSny/n-Ge Hetero Junctions for Solar Cell Applications 国際会議

S. Asaba, T. Yamaha, M. Kurosawa, M. Sakashita, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2013 (SSDM2013)

Hybrid-Formation of Single- Crystalline Ge(Si, Sn)-on- Insulator Structures by Self- Organized Melting-Growth 国際会議

M. Miyao, R. Matsumura, M. Kurosawa, K. Toko, and T. Sadoh

International Conference on Solid State Devices and Materials 2013 (SSDM2013)

Large grain growth of poly-GeSn on insulator by pulsed laser annealing in water 国際会議

M. Kurosawa, N. Taoka, H. Ikenoue, O. Nakatsuka, and S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2013 (SSDM2013)

Reduction of Schottky Barrier Height for n-type Ge Contact by using Sn Electrode 国際会議

A. Suzuki, S. Asaba, J. Yokoi, O. Nakatsuka, M. Kurosawa, K. Kato, M. Sakashita, N. Taoka, and S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2013 (SSDM2013)

Sn/n型Geコンタクトにおけるショットキー障壁高さの低減

鈴木陽洋，朝羽俊介，横井淳，中塚理，黒澤昌志，坂下満男，田岡紀之，財満鎭明

第74回応用物理学会秋季学術講演会

Sn導入による非晶質SiGe混晶薄膜の低温結晶化

山羽隆，荒平貴光，黒澤昌志，田岡紀之，中塚理，財満鎭明

第74回応用物理学会秋季学術講演会

過飽和状態制御による多結晶Si1-xSnx/絶縁膜の大粒径成長

黒澤昌志，荒平貴光，山羽隆，田岡紀之，中塚理，財満鎭明

第74回応用物理学会秋季学術講演会

高Sn組成Ge1-xSnxエピタキシャル層の光学特性

保崎航也，小山剛史，黒澤昌志，田岡紀之，中塚理，岸田英夫，財満鎭明

第74回応用物理学会秋季学術講演会

GOI基板上に形成したGe1-xSnxエピタキシャル層の電気特性評価

大村拓磨，浅野孝典，黒澤昌志，田岡紀之，坂下満男，中塚理，財満鎭明

第74回応用物理学会秋季学術講演会

Potential of GeSn and GeSiSn for Future Nanoelectronic Device Applications 国際会議

S. Zaima, O. Nakatsuka, N. Taoka, T. Asano, T. Yamaha, M. Kurosawa, and M. Sakashita

JSPS Core-to Core Program Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"

Influence of Ge Substrate Orientation on Crystalline Structures of Ge1−xSnx Epitaxial Layers 国際会議

T. Asano, S. Kidowaki, M. Kurosawa, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8)　

Lateral Growth Enhancement of Poly-Ge1−xSnx on SiO2 using a Eutectic Reaction 国際会議

M. Kurosawa, N. Taoka, M. Sakashita, O. Nakatsuka, M. Miyao, and S. Zaima

8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8)　

3-Dimensionally-Graded SiGe-on-Insulator Stacked Structures by Successive Rapid-Melting Growth 国際会議

Y. Tojo, R. Matsumura, H. Yokoyama, M. Kurosawa, K. Toko,T. Sadoh, and M. Miyao

8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8)　

Formation and Characterization of Locally Strained Ge1−xSnx/Ge Microstructures 国際会議

S. Ike, Y. Moriyama, M. Kurosawa, N. Taoka, O. Nakatsuka, Y. Imai, S. Kimura, T. Tezuka, and S. Zaima

8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8)　

Coherent Lateral-Growth of Ge over Insulating Film by Rapid-Melting-Crystallization 国際会議

T. Sadoh, M. Kurosawa, K. Toko, and M. Miyao

8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8)　

Dynamics Analysis of Rapid-Melting Growth using SiGe on Insulator 国際会議

R. Matsumura, Y. Tojo, M. Kurosawa, T. Sadoh, and M. Miyao

8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8)　

Si1-xGex/絶縁膜(x:0～1)の金属触媒成長 ―成長低温化と結晶方位制御―

佐道泰造, パク・ジョンヒョク, 黒澤昌志, 都甲薫, 宮尾正信

2013年（平成25年）第60回応用物理学会春季学術講演会　

SiGeミキシング誘起溶融成長法における成長速度の解析―電気的特性の横方向分布との相関―

松村亮，東條友樹，黒澤昌志，佐道泰造，宮尾正信

2013年（平成25年）第60回応用物理学会春季学術講演会　

水中レーザーアニール法による多結晶Ge1-xSnx薄膜の低温形成

黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理, 池上浩, 財満鎭明

2013年（平成25年）第60回応用物理学会春季学術講演会　

Ge1-x-ySixSny エピタキシャル層/n-Ge(001)ヘテロ接合の電気的特性

朝羽俊介，山羽隆，黒澤昌志，坂下満男，田岡紀之，中塚理，財満鎭明

2013年（平成25年）第60回応用物理学会春季学術講演会　

Ge1-xSnxヘテロエピタキシャル成長に与える基板面方位効果

黒澤昌志, 木戸脇翔平，浅野孝典, 田岡紀之, 中塚理，財満鎭明

2013年（平成25年）第60回応用物理学会春季学術講演会　

Ge1-xSnxヘテロエピタキシャル成長に与えるSn導入効果

木戸脇翔平，浅野孝典, 黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理，財満鎭明

2013年（平成25年）第60回応用物理学会春季学術講演会　

Ge1−xSnx/Ge微細構造による局所歪構造の形成と評価

池進一, 守山佳彦, 黒澤昌志, 田岡紀之, 中塚理, 今井康彦, 木村滋, 手塚勉, 財満鎭明

2013年（平成25年）第60回応用物理学会春季学術講演会　

圧縮歪Ge1-xSnxエピタキシャル層の電気伝導特性

浅野孝典，黒澤昌志，田岡紀之，坂下満男，中塚理，財満鎭明

2013年（平成25年）第60回応用物理学会春季学術講演会　

Crystalline Properties of Ge1-xSnx Epitaxial Layers on Ge(110) 国際会議

T. Asano, M. Kurosawa, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima

6th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Feasibility of Ge Device Fabrication by Low Temperature Processes on ULSI Circuits 国際会議

N. Taoka, M. Kurosawa, K. Kato, S. Shibayama, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima

6th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Low temperature crystallization of group-IV semiconductors induced by eutectic metals (Al, Sn) 国際会議

M. Kurosawa, N. Taoka, M. Sakashita, O. Nakatsuka, M. Miyao, and S. Zaima

6th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics

Sn誘起横方向成長法によるGe1-xSnx/SiO2構造の低温形成

黒澤昌志，田岡紀之，坂下満男，中塚理，宮尾正信，財満鎭明

第12回日本表面科学会中部支部学術講演会

次世代フレキシブルデバイス実現に向けた絶縁膜上GeSn薄膜の低温結晶成長

黒澤昌志，田岡紀之，坂下満男，中塚理，宮尾正信，財満鎭明

2012年応用物理学会結晶工学分科会第1回結晶工学未来塾

Formation of large-grain Ge(111) films on insulator by gold-induced layer-exchange crystallization at low temperature 国際会議

J.-H. Park, T. Suzuki, M. Kurosawa, M. Miyao, and T. Sadoh

222th Electrochemical Society (ECS) Meeting

Formation of Graded SiGe on Insulator by Segregation-Controlled Rapid-Melting- Growth 国際会議

R. Matsumura, Y. Tojo, H. Yokoyama, M. Kurosawa, T. Sadoh, and M. Miyao

222th Electrochemical Society (ECS) Meeting

Formation of Large Grain SiGe on Insulator by Si Segregation in Seedless-Rapid-Melting Process 国際会議

R. Kato, M. Kurosawa, R. Matsumura, T. Sadoh, and M. Miyao

222th Electrochemical Society (ECS) Meeting

Hybrid-Formation of Ge-on-Insulator Structures on Si Platform by SiGe-Mixing-Triggered Rapid-Melting Growth --- A Road to Artificial Crystal --- 国際会議

M. Miyao, M. Kurosawa, K. Toko, and T. Sadoh

222th Electrochemical Society (ECS) Meeting

Laterally Graded SiGe-on-Insulator with Universal Si Profile by Cooling-Rate-Controlled Rapid-Melting-Growth 国際会議

R. Matsumura, Y. Tojo, H. Yokoyama, M. Kurosawa, T. Sadoh, M. Miyao

International Conference on Solid State Devices and Materials 2012 (SSDM2012)

Temperature dependent Al-induced crystallization of amorphous Ge thin films on glass substrates 国際会議

K. Toko, M. Kurosawa, N. Fukata, N. Saitoh, N. Yoshizawa, N. Usami, M. Miyao, and T. Suemasu

International Conference on Solid State Devices and Materials 2012 (SSDM2012)

High Mobility Poly-GeSn Layer Formed by Low Temperature Solid Phase Crystallization 国際会議

W. Takeuchi,N. Taoka, M. Kurosawa, M. Fukutome, M. Sakashita, O. Nakatsuka, S. Zaima

International Conference on Solid State Devices and Materials 2012 (SSDM2012)

Si Segregation Behavior in Giant SiGe Stripes on Insulator during Rapid-Melting-Growth 国際会議

R. Matsumura, Y. Tojo, H. Yokoyama, M. Kurosawa, T. Sadoh, and M. Miyao

IUMRS Intarnational Conference on Electronic Materials (IUMRS-CEM2012)

Stripe-Length Dependent Laterally Graded SiGe Profiles by Rapid-Melting-Growth 国際会議

R. Matsumura, Y. Tojo, H. Yokoyama, M. Kurosawa, T. Sadoh, and M. Miyao

E-MRS 2012 Fall Meeting

Defect Free Multi-Structures of [SiGe/Insulator]2 on Si (100) platform 国際会議

Y. Tojo, R. Matsumura, H. Yokoyama, M. Kurosawa, K. Toko, T. Sadoh, and M. Miyao

E-MRS 2012 Fall Meeting

Al誘起成長法によるGe薄膜/ガラスの(111)面方位制御

都甲薫，黒澤昌志，深田直樹，齋藤徳之，吉澤徳子，宇佐美徳隆，宮尾正信，末益崇

2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会

Sn触媒を用いた非晶質Ge薄膜/絶縁膜の低温成長

黒澤昌志，田岡紀之，坂下満男，中塚理，宮尾正信，財満鎭明

2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会

低温固相結晶化による高移動度poly-GeSn層の形成

竹内和歌奈，田岡紀之，黒澤昌志，福留誉司，坂下満男，中塚理，財満鎭明

2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会

大粒径SiGe結晶/絶縁膜のシードレス溶融成長

加藤立奨，黒澤昌志，松村亮，東條友樹，佐道泰造，宮尾正信

2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会

SiGe溶融成長によるSGOI構造の濃度制御 -Si濃度分布に与える冷却速度効果-

松村亮，東條友樹，横山裕之，黒澤昌志，佐道泰造，宮尾正信

2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会

(111)-Oriented Large-Grain Ge on Insulator by Gold-Induced Crystallization Combined with Interfacial Layer Insertion 国際会議

J.-H. Park, T. Suzuki, M. Kurosawa, M. Miyao, and T. Sadoh

International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays 2012 (AM-FPD'12)

Multi-Layered SiGe-on-Insulator Structures by Rapid-Melting-Growth 国際会議

Y. Tojo, R. Matsumura, H. Yokoyama, M. Kurosawa, K. Toko, T. Sadoh, and M. Miyao

2012 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD2012)

界面酸化膜挿入型 Au 誘起層交換成長法による大粒径 Ge(111)/絶縁膜の低温成長 -界面酸化膜厚依存性-

鈴木恒晴, パク・ジョンヒョク, 黒澤昌志, 宮尾正信, 佐道泰造

電子情報通信学会シリコン材料・デバイス(SDM)研究会　

絶縁膜上におけるGe(Si)薄膜の溶融成長〜Si偏析効果による大粒径化〜

加藤立奨，黒澤昌志，横山裕之，佐道泰造，宮尾正信

電子情報通信学会シリコン材料・デバイス(SDM)研究会　

Au誘起層交換成長法による大粒径Ge(111)結晶/絶縁膜の形成：界面酸化膜挿入効果

パク・ジョンヒョク，鈴木恒晴，黒澤昌志，宮尾正信，佐道泰造