2024/12/06 更新

写真a

トヨダ　ヒロタカ
豊田　浩孝
TOYODA, Hirotaka
所属
大学院工学研究科 電子工学専攻 未来エレクトロニクス創造 教授
大学院担当
大学院工学研究科
学部担当
工学部 電気電子情報工学科
職名
教授
連絡先
メールアドレス
ホームページ
http://www.nuee.nagoya-u.ac.jp/labs/toyodalab/

学位 1

  1. 工学博士 （ 1988年3月   名古屋大学 ） 

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研究キーワード 1

  1. プラズマ理工学

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研究分野 2

  1. その他 / その他  / プラズマ科学

  2. その他 / その他  / 原子・分子・量子エレクトロニクス・プラズマ

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現在の研究課題とSDGs 6

  1. 長尺大気圧マイクロ波プラズマを用いた大面積高速処理

  2. エッチングプラズマにおける高アスペクト比ホール底電荷蓄積過程の解析

  3. マイクロ波プラズマ流体処理装置を用いた水浄化と新材料生成

  4. エッチングプラズマにおける高エネルギー粒子角度分布解析

  5. 誘導結合および容量結合型プラズマにおけるプラズマ挙動

  6. 高温液体スズの水素プラズマとの表面相互作用解析

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経歴 6

  1. 自然科学研究機構　核融合科学研究所   特任教授

    2020年4月 - 現在

  2. 名古屋大学教授（工学研究科）   教授

    2007年4月 - 現在

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    国名：日本国

  3. 名古屋大学助教授（工学研究科プラズマナノ工学研究センター）   助教授

    2006年10月 - 2007年3月

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    国名：日本国

  4. 名古屋大学助教授（工学研究科）   助教授

    2000年4月 - 2006年9月

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    国名：日本国

  5. 名古屋大学講師（工学部）   講師

    1992年4月 - 2000年3月

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    国名：日本国

  6. 名古屋大学助手（工学部）   助手

    1988年4月 - 1992年3月

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    国名：日本国

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学歴 2

  1. 名古屋大学   工学研究科   電気工学専攻

    - 1988年

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    国名： 日本国

  2. 名古屋大学   工学部   電気工学電気工学第二および電子工学科

    - 1983年

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    国名： 日本国

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所属学協会 3

  1. プラズマ・核融合学会

  2. 電気学会

  3. 応用物理学会

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委員歴 17

  1. International Organizing Committee  

    2022年1月 - 2022年12月   

  2. International Symposium on Dry Process   Chair of Publication Committee  

    2022年1月 - 2022年12月   

  3. International Symposium on Dry Process   International Program Committee  

    2022年1月 - 2022年12月   

  4. 名古屋大学プラズマ研究60年記念シンポジウム   オーガナイザー  

    2021年7月 - 2021年9月   

  5. 応用物理学会東海支部   幹事  

    2021年4月 - 2022年3月   

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    団体区分：学協会

  6. International　Symposium　on　Advanced　Plasma　Science　and　its　Application　to　Nitorides　and　Nanomaterials   International Organizing Committee  

    2021年3月 - 2022年3月   

  7. International　Symposium　on　Advanced　Plasma　Science　and　its　Application　to　Nitrides　and　Nanomaterials   Chair of Executive Committee  

    2021年3月 - 2022年3月   

  8. International Program Committee  

    2021年3月 - 2022年3月   

  9. International Symposium on Dry Process   International Organizing Committee  

    2021年1月 - 2021年12月   

  10. International Symposium on Dry Process   Vice Chair of Publication Committee  

    2021年1月 - 2021年12月   

  11. International Symposium on Advanced Plasma Science and its application to nitride and nanomaterials   International Organizing Committee  

    2020年4月 - 2021年3月   

  12. International Symposium on Dry Process   Organizing Committee  

    2020年3月 - 2020年11月   

  13. 応用物理学会東海支部   企画幹事  

    2019年4月 - 2020年4月   

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    団体区分：学協会

  14. プラズマ・核融合学会   副会長  

    2018年6月 - 2020年5月   

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    団体区分：学協会

  15. 電気学会   理事・東海支部支部長  

    2018年6月 - 2020年5月   

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    団体区分：学協会

  16. Microwave Discharge Workshop   International Organizing Committee  

    2018年3月 - 現在   

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    団体区分：学協会

  17. プラズマ・核融合学会   理事  

    2014年6月 - 2018年5月   

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    団体区分：学協会

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受賞 14

  1. 応用物理学会優秀論文賞

    2024年3月   応用物理学会  

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    受賞区分：国内外の国際的学術賞  受賞国：日本国

    3D-NAND に代表されるメモリ作製技術では，反応性イオンエッチングプロセスの理解が重要であるものの，プラズマ中からバイアスされた基板へのイオンや中性粒子の輸送に関する実験的検証はその測定の困難さから現在までに検討された例は少ない．本論文では，プラズマからバイアス基板へ輸送されるイオンと中性粒子の角度分布をドリフトチューブを用いた洗練された計測法により詳細に明らかにしたものである．この中で，イオンと中性粒子の角度分布は，1 度以下の鋭いピークを持つことなどを明らかにした．得られた知見は，反応性イオンエッチングの理解を深める，半導体デバイスプロセスの深化に貢献するものであるため，本論文は応用物理学会優秀論文賞にふさわしい．

  2. 応用物理学会フェロー表彰

    2020年9月   公益社団法人　応用物理学会   プロセスプラズマの気相・表面解析と新規プロセスプラズマ源創出

    豊田浩孝

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    受賞国：日本国

  3. 第21回プラズマエレクトロニクス賞

    2023年3月   応用物理学会　プラズマエレクトロニクス分科会  

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    受賞区分：国内外の国際的学術賞  受賞国：日本国

  4. 第25回プラズマ材料科学賞基礎部門賞

    2024年1月   名古屋大学低温プラズマ科学研究センター  

    豊田浩孝

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    受賞区分：国内外の国際的学術賞  受賞国：日本国

    スパッタプロセスにおけるプラズマからシースを通過して基板に入射する負イオンのエネルギー分布や高アスペクト比孔における高速粒子の入射角度分布の計測，マイクロ波を用いた独自の大気圧・水中プラズマ源の開発に関する顕著な業績は、プラズマ材料科学分野の進歩・向上に多大な貢献をした

  5. 平成22年度第4回貢献賞

    2010年11月   （社）プラズマ・核融合学会  

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    受賞国：日本国

    「平成22年度作成のプラズママップに対して」

  6. 第5回プラズマエレクトロニクス賞

    2007年3月   応用物理学会　プラズマエレクトロニクス分科会  

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    受賞国：日本国

  7. 講演奨励賞

    2022年10月   応用物理学会   二周波重畳容量結合型プラズマから 電極へ入射する高速粒子の イメージング法を用いた角度分布計測

    市川景太,　鈴木陽香,　飯野大輝, 福水裕之, 栗原一彰, 豊田浩孝

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    受賞区分：国内学会・会議・シンポジウム等の賞  受賞国：日本国

  8. キオクシア優秀研究賞　

    2022年8月   キオクシア（株）  

    豊田浩孝

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    キオクシア奨励研究2021年度プロセス部門

  9. Best Poster Presentation Award

    2022年3月   ISPlasma2022/IC-PLANTS2022   Radical measurements of Ar/C4F8 dual frequency capacitively-coupled plasma

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    受賞区分：国際学会・会議・シンポジウム等の賞 

  10. 電気学会優秀論文発表賞

    2022年1月   令和3年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会   イメージング法による容量結合型プラズマから電極へ入射する高速粒子の角度分布計測

    市川景太，鈴木陽香，豊田浩孝

  11. APEX/JJAP編集貢献賞

    2016年4月   応用物理学会  

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    受賞国：日本国

  12. Best Poster Presentation Award (Poster)

    2014年3月   ISPlasma2014 Organizing Committee  

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    受賞国：日本国

  13. 応用物理学会講演奨励賞

    2000年  

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    受賞国：日本国

  14. 応用物理学会講演奨励賞

    1998年  

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    受賞国：日本国

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論文 153

  1. *Fine Structure of O Kinetic Energy Distribution in RF Plasma and Its Formation Mechanism 査読有り

    H.Toyoda, K. Goto, T. Ishijima, T. Morita, N. Ohshima, K. Kinoshita

    Applied Physics Express   2 巻 ( 12 ) 頁： 126001-(1-3)   2009年11月

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    担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  2. Design of Large-Area Surface Wave Plasma Excited by Slotted Waveguide Antennas with Novel Power Divider 査読有り

    Tatsuo Ishijima, Hirotaka Toyoda, Yudai Takanishi, and Hideo Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   50 巻   頁： 036002   2011年3月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  3. *Generation processes of super-high-energy atoms and ions in magnetron sputtering plasma 査読有り

    Y. Takagi, Y. Sakashita, H. Toyoda, and H. Sugai

    Vacuum   80 巻 ( 6 ) 頁： 581-587   2006年3月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  4. *Evidence of Radical-free Etching of SiO2 by Fluorocarbon Molecules under Ion Bombardment 査読有り

    N. Takada, H. Toyoda and H. Sugai

    Transacitons of the Materials Research Society of Japan   30 巻 ( 1 ) 頁： 319-322   2005年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  5. *Suppression of Oxygen Impurity Incorporation into Silicon Films Prepared from Surface-Wave Excited H2/SiH4 Plasma 査読有り

    S. Somiya, H. Toyoda, Y. Hotta and H. Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   43 巻 ( 11A ) 頁： 7696-7700   2004年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  6. Dry Process 2023

    Koga K., Takeda K., Toyoda H., Ishikawa K., Ichiki T., Nunomura S., Kurihara K., Kuboi N., Ohta T., Takenaka K.

    Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers   63 巻 ( 8 )   2024年8月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers  

    DOI： 10.35848/1347-4065/ad5d78

    Scopus

  7. Evaluation of the spatial structure of multiline emission in a capacitively coupled plasma using tomographic reconstruction 査読有り

    Kyuzo, M; Harada, K; Izumi, R; Suzuki, H; Toyoda, H

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   63 巻 ( 5 )   2024年5月

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    担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Japanese Journal of Applied Physics  

    By imaging a capacitively coupled plasma from multiple directions using telecentric lens cameras and optical bandpass filters, the spatial structure of emission at specific wavelengths was reconstructed using the Tikhonov-Phillips regularization method. Camera parameters, crucial for relating three-dimensional structures to two-dimensional images, were evaluated experimentally to avoid a complex analytical approach. Assuming an axisymmetric emission profile, 750.4 nm Ar and 585.2 nm Ne emissions from Ar/Ne mixture plasma were reconstructed. The pressure dependence of the reconstructed Ar profile showed a similar trend to that of the two-dimensional emission images. The spatial structure of the emission intensity ratio of Ne to Ar from the reconstructed Ar and Ne profiles agreed well with a spatial distribution of electron temperatures measured with a Langmuir probe.

    DOI： 10.35848/1347-4065/ad46b0

    Web of Science

    Scopus

  8. Time-varying mechanism of ion composition in a pulse-modulated Ar/C<sub>4</sub>F<sub>8</sub>/O<sub>2</sub> dual-frequency capacitively coupled plasma

    Kuboi, S; Kato, H; Akatsuka, Y; Suzuki, H; Toyoda, H

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   63 巻 ( 1 )   2024年1月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Japanese Journal of Applied Physics  

    The time-varying mechanism of the positive-ion composition in a pulse-modulated Ar/C4F8/O2 dual-frequency capacitively coupled plasma was investigated in detail using a quadrupole mass spectrometer equipped with an electrostatic energy analyzer. Time-resolved measurements of the ion composition with respect to the pulse-off period ( T off ) revealed that the electron temperature ( T e ) just after turning on the pulse is an important factor in determining the ratio of the ionization rates of the Ar+ and Cx Fy + ions. The time-varying phenomenon of the ion composition was also investigated through a numerical analysis based on the particle balance model, considering the production and loss rates of ions, ion-ion recombination processes, and ion-molecule reactions. When the VHF power ( P VHF ) was increased, a decrease in the ambipolar diffusion loss time constants of the ions ( τ loss i ) was observed, and the change in electronegativity was pointed out as the cause of this phenomenon.

    DOI： 10.35848/1347-4065/ad121f

    Web of Science

    Scopus

  9. Mass spectroscopic measurement of time-varying ion composition in a pulse-modulated Ar/C<sub>4</sub>F<sub>8</sub>/O<sub>2</sub> dual-frequency capacitively coupled plasma 国際誌

    Kuboi, S; Kato, H; Seki, Y; Suzuki, H; Toyoda, H

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 巻 ( SI ) 頁： SI1003   2023年7月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.35848/1347-4065/acb6a1

    DOI： 10.35848/1347-4065/acb6a1

    Web of Science

  10. Polyvinyl alcohol-potassium iodide gel probe to monitor the distribution of reactive species generation around atmospheric-pressure plasma jet

    Tran, TN; Hu, M; Ogasawara, T; Iwata, Y; Suzuki, H; Sakamoto, J; Akiyoshi, M; Toyoda, H; Matsuura, H

    PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY   25 巻 ( 3 )   2023年3月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Plasma Science and Technology  

    This study proposes polyvinyl alcohol-potassium iodide (PVA-KI) as a novel gel chemical probe. The probe uses the reactions among PVA, KI, water, borax, and oxidative species to visualize the distribution of reactive species. This method provides information regarding the distribution of reactive species by coloration on the gel surface. The effects of the surrounding gas phase on the distribution and diffusion of the reactive species are also investigated using the PVA-KI gel probe. Further, the relationship between the irradiation distance and reactive species diffusion is determined on the surface of the PVA-KI probe with and without plastic shielding. Adjusting the irradiation distance appropriately leads to an increase in the modified area as detected by the PVA-KI gel probe analysis. The relative concentration distributions of the reactive species are also obtained from visualized color distributions measured using a colorimeter. Furthermore, reactive species generation by long-scale line plasma is confirmed by the color reaction on the PVA-KI gel surface, with a greater area being covered by an atmospheric-pressure pulsed microwave line plasma source.

    DOI： 10.1088/2058-6272/ac9891

    Web of Science

    Scopus

  11. Influence of small ground surface on plasma property in an inductively-coupled plasma with floating liner 国際誌

    Kyuzo, M; Chiba, Y; Suzuki, H; Toyoda, H

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 巻 ( SA ) 頁： SA1008-1 - SA1008-7   2023年1月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Japanese Journal of Applied Physics  

    Currently, the components of semiconductor processing chamber are coated with oxides to avoid metal contamination. As a result, electrical ground is hidden from the plasma. In this study, we experimentally investigate the effect of small ground surfaces in an inductively-coupled plasma (ICP) generated in an electrically floating liner. Peak-to-peak and DC voltages at a biasing stage and a floating liner are measured as a function of stage peak-to-peak voltage for various ICP powers and the ground surface areas. The results show that the stage and liner voltages vary with changing ground surface area due to a change in sheath thickness. The analytical plasma potentials, calculated from the experimental values are compared with the simulation results, show good agreement. It is suggested that under low biased voltage and high ICP power conditions, such as in the atomic layer etching process, the small ground surface affects the potential structure in the chamber.

    DOI： 10.35848/1347-4065/ac7e19

    DOI： 10.35848/1347-4065/ac7e19

    Web of Science

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    その他リンク： https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ac7e19

  12. Experimental study on boron distribution and transport at plasma-facing components during impurity powder dropping in the Large Helical Device 査読有り

    NUCLEAR FUSION   62 巻 ( 12 )   2022年12月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1088/1741-4326/ac9ac6

    Web of Science

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  13. Bubbling phenomenon of liquidized Sn-Bi-Li-Er alloy under hydrogen plasma exposure 査読有り

    Tamura Kota, Miyazawa Junichi, Masuzaki Suguru, Tokitani Masayuki, Hamaji Yukinori, Toyoda Hirotaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   61 巻 ( 10 ) 頁： 106005   2022年10月

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    担当区分：最終著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.35848/1347-4065/ac92b1

    Web of Science

    Scopus

  14. Dry Process

    Japanese Journal of Applied Physics   61 巻 ( SI )   2022年7月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.35848/1347-4065/ac6726

    Scopus

  15. High-speed hydrophilic and ashing treatments of polyimide using Ar/O-2 atmospheric-pressure microwave line plasma 査読有り

    Japanese Journal of Applied Physics   61 巻 ( SI ) 頁： 1008-1 - 1008-5   2022年7月

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    担当区分：最終著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.35848/1347-4065/ac64e2

    Web of Science

  16. Enhancement of the ion flux to the substrate through high-voltage biasing in an electron cyclotron resonance plasma and its application to high-speed deposition of conductive carbon film 査読有り

    Bae Hansin, Hamaguchi Ikumi, Sasai Kensuke, Suzuki Haruka, Toyoda Hirotaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   60 巻 ( 12 )   2021年12月

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    担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Japanese Journal of Applied Physics  

    A method for enhancing ion flux to the substrate via high-voltage pulse biasing is investigated in an electron cyclotron resonance plasma. When high-voltage pulse biases above 500 V are applied to the stage, an increase in the stage current is observed, especially in the case of diverging magnetic field configurations in front of the bias stage. The growth and decay time constants of the plasma density and emission intensity are evaluated using a time-resolved Langmuir probe and emission spectroscopy while the pulse is on, and the enhancement of the ionization rate during the bias application is estimated using the zero-dimensional global model. The estimated density enhancement from the model is in good agreement with the measured one. From the numerical simulation of secondary electron trajectory, it is concluded that the electron confinement from the magnetic field is the key factor in plasma density enhancement during stage biasing. Using the high-density plasma produced by the bias voltage, conductive carbon is deposited at a high deposition rate of ∼4 nm s-1.

    DOI： 10.35848/1347-4065/ac32b6

    Web of Science

    Scopus

  17. Angular distribution measurement of high-energy argon neutral and ion in a 13.56 MHz capacitively-coupled plasma 査読有り

    Keita Ichikawa, Manh Hung CHU, Makoto Moriyama, Naoya Nakahara, Haruka Suzuki, Daiki Iino, Hiroyuki Fukumizu, Kazuaki KURIHARA and Hirotaka TOYODA

    Applied Physics Express   14 巻 ( 126001 ) 頁： 126001-1 - 126001-5   2021年11月

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    担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： https://doi.org/10.35848/1882-0786/ac33c4

  18. High-speed deposition of graphite-like carbon film by Ar/C6H6 surface-wave plasma with high-voltage pulse biasing 査読有り

    Bae Hansin, Sasai Kensuke, Suzuki Haruka, Toyoda Hirotaka

    VACUUM   192 巻   頁： 110429-1 - 110429-8   2021年10月

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    担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Vacuum  

    A method for graphite-like carbon (GLC) deposition using Ar/C6H6 surface-wave plasma (SWP) is proposed. Characteristic of the SWP, i.e., high plasma density with wide spatial uniformity realized uniform carbon film deposition at high deposition rates. To increase sp2 ratio in carbon films, a pulsed negative bias voltage up to ~2 kV is applied to a substrate. Conductive carbon films of low sheet resistances below ~102 Ω/sq is achieved at high deposition rates up to ~6 nm/s with good spatial uniformity (±5%) in an area of ~18×3 cm2. Film structure is evaluated by Raman spectroscopy, Fourier-transform infra-red spectroscopy, X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy, scanning transmission electron microscopy and electron energy loss spectroscopy. At high negative bias voltages, sp2-rich with reduced hydrogen content of the film is observed.

    DOI： 10.1016/j.vacuum.2021.110429

    Web of Science

    Scopus

  19. Quantitative evaluation of hydrogen retention of solid tin after exposure to hydrogen plasma 査読有り

    Kota Tamura,Haruka Suzuki, Junichi Miyazawa,Suguru Masuzaki,Hirotaka Toyoda

    Fusion Engineering and Design   170 巻 ( September 112532 ) 頁： 112532-1 - 112532-6   2021年9月

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    担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1016/j.fusengdes.2021.112532

    Scopus

  20. Spatial Uniformity Evaluation of Atmospheric-Pressure Microwave Line Plasma for Wide-Area Surface Treatment 査読有り

    Suzuki Haruka, Koma Hirotsugu, Ogasawara Tomohiro, Koike Yosuke, Toyoda Hirotaka

    Plasma and Fusion Research   16 巻 ( 0 ) 頁： 1406046 - 1406046   2021年4月

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    担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：一般社団法人 プラズマ・核融合学会  

    <p>Spatial uniformity of an atmospheric-pressure microwave line plasma is evaluated from surface hydrophilicity treatment of polyethylene terephthalate film as well as observation of optical emission from the plasma. Prior to the experiments, the structure of the waveguide-based plasma source is optimized using a three-dimensional electromagnetic simulation to suppress standing-wave generation for the uniformity of plasma production. The spatial distribution in the longitudinal direction of the Argon (Ar) plasma is investigated by operating the microscope parallel to the slot and by irradiating film with the plasma to improve surface wettability of the film. Uniform profile of water contact angle is obtained in 40cm with very high-speed processing.</p>

    DOI： 10.1585/pfr.16.1406046

    Web of Science

  21. Time-dependent measurement of charge density on the bottom of high aspect capillary hole in pulse-modulated VHF capacitively coupled Ar plasma 査読有り

    Makoto Moriyama, Naoya Nakahara, Kazuaki Kurihara, Daiki Iino, Hiroyuki Fukumizu, Haruka Suzuki, and Hirotaka Toyoda

    Japanese Journal of Applied Physics   60 巻 ( 016001 ) 頁： 016001-1 - 016001-5   2021年1月

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    担当区分：最終著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    harging and discharging behavior of high aspect-ratio (AR) hole capillary plate (CP) exposed to a pulse-modulated very high frequency (VHF) capacitively-coupled plasma is investigated. From an equivalent circuit model, time-dependent charge density on the bottom of the CP is quantitatively evaluated. AR of the CP plays very important role for the charging current, although the discharge current is dominated by the leakage current of the CP. Importance of electron current flowing into the CP bottom during the VHF pulse-on phase is suggested at higher self-bias voltages.

    DOI： 10.35848/1347-4065/abd0ca

  22. 長尺大気圧マイクロ波プラズマの生成と表面処理への応用

    豊田　浩孝、鈴木　陽香

    表面技術   71 巻 ( 10 ) 頁： 624-628   2020年10月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語  

  23. Evaluation of absolute charge density at the bottom of high aspect capillary holes exposed to a pulsed very high frequency plasma

    Makoto Moriyama1*, Naoya Nakahara1, Akihiro Mitsuya1, Haruka Suzuki1 , Kazuaki Kurihara2, Daiki Iino2, Hiroyuki Fukumizu2, and Hirotaka Toyoda1,3

    Japanese Journal of Applied Physics   59 巻   頁： SJJB03   2020年4月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  24. Atmospheric-pressure microwave line plasma with an asymmetric cross-section waveguide for long-scale N2 plasma production

    Haruka Suzuki1, Yuto Tamura1, Manh Hung Chu2 and Hirotaka Toyoda1

    Japanese Journal of Applied Physics   59 巻 ( 016002 ) 頁： 016002-1-016002-6   2020年1月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  25. Microwave plasma

    Toyoda H.

    RF Power Semiconductor Generator Application in Heating and Energy Utilization     頁： 181 - 194   2020年1月

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    掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：RF Power Semiconductor Generator Application in Heating and Energy Utilization  

    DOI： 10.1007/978-981-15-3548-2_8

    Scopus

  26. 高密度表面波励起プラズマによるフッ素樹脂の表面改質

    豊田浩孝

    機能材料   ( 12月 ) 頁： PP   2019年12月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語  

    DOI： PP01

  27. Rapid resist ashing by slot-excited atmospheric pressure microwave O2 plasma

    Hirotaka Toyoda1, Shota Ishikawa1, Haruka Suzuki1 and Takeshi Honda2

    Japanese Journal of Applied Physics   58 巻 ( 12 ) 頁： 126001-1-4   2019年11月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  28. 大気圧マイクロ波放電による高密度長尺ラインプラズマ 査読有り

    豊田浩孝、鈴木陽香

    応用物理   88 巻 ( 2 ) 頁： 101-104   2019年2月

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    記述言語：英語  

  29. Atmospheric pressure water-vapor plasma in an air-shielded environment by water flow 査読有り

    Hikaru Senba, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    Japanese Journal of Applied Physics   58 巻 ( SA ) 頁： pp.SAAC05-1～SAAC05-5   2018年12月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  30. Production of atmospheric pressure microwave plasma with dielectric half-mirror resonator and its application to polymer surface treatment

    Sasai Kensuke, Keyamura Kazuki, Suzuki Haruka, Toyoda Hirotaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 巻 ( 6 )   2018年6月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.7567/JJAP.57.066201

    Web of Science

  31. 液体処理用マイクロ波励起プラズマの生成

    豊田　浩孝

    表面と真空   61 巻 ( 3 ) 頁： 113-118   2018年3月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語  

  32. Effectiveness of plasma and radical control for the low temperature synthesis and properties of a-SiNx:H films using RF-near microwave PECVD

    Sahu Bibhuti Bhusan, Toyoda Hirotaka, Han Jeon Geon

    PHYSICS OF PLASMAS   25 巻 ( 2 ) 頁： 023511-1-14(2018)   2018年2月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1063/1.5016618

    Web of Science

  33. Development and plasma characterization of an 850 MHz surface-wave plasma source 査読有り

    B. B. Sahu, S. Koga, H. Toyoda, and Jeon G. Han

    AIP Advances   7 巻   頁： 105213-1-17(2017)   2017年10月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1063/1.4995442

  34. Quantitative evaluation of high-energy O- ion particle flux in a DC magnetron sputter plasma with an indium-tin-oxide target

    Suyama Taku, Bae Hansin, Setaka Kenta, Ogawa Hayato, Fukuoka Yushi, Suzuki Haruka, Toyoda Hirotaka

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   50 巻 ( 44 )   2017年10月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1088/1361-6463/aa87a1

    Web of Science

  35. An approach to line-shaped nitrogen plasma production at atmospheric pressure by slot-excited microwave discharge

    Suzuki Haruka, Toyoda Hirotaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 巻 ( 11 )   2017年9月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.7567/JJAP.56.116001

    Web of Science

  36. 液体処理用マイクロ波励起プラズマの生成 査読有り

    豊田浩孝

    表面と真空   61 巻 ( 3 ) 頁： 113-118   2017年2月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語  

  37. Enhancement of Liquid Treatment Efficiency by Microwave Plasma under Flow-Induced Reduced Pressure 査読有り

    Michiko Ito, Tomohiro Takahashi, Sho Takitou, Seigo Takashima, Norio Nomura, Tominori Kitagawa, Hirotaka Toyoda

    Japanese Journal of Applied Physics   56 巻   頁： 026201-1-6   2017年1月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  38. Magnet-free uniform sputtering of dielectric film by RF and microwave power superposition 査読有り

    K. Sasai, T. Hagihara, T. Noda, H. Suzuki, H. Toyoda

    Jpn. J. Appl. Phys.,   55 巻   頁： 086202 -1-5(2016)   2016年7月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  39. Desorption behavior of zinc atoms from zinc-sulfate solution irradiated with pulsed DC plasma 査読有り

    Takafumi Takaba, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    Journal of Physics D: Applied Physics, Volume 49, Number 29   49 巻 ( 29 ) 頁： 295202   2016年6月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  40. Characteristics of an atmospheric-pressure line plasma excited by 2.45 GHz microwave travelling wave 査読有り

    Haruka Suzuki, Suguru Nakano, Hitoshi Itoh, Makoto Sekine, Masaru Hori, Hirotaka Toyoda

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 55 ) 頁： Article ID: 01AH09-1-6(2016)   2015年12月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  41. Low pressure sustainment of surface-wave microwave plasma with modified microwave coupler 査読有り

    Kensuke Sasai, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

    Jpn. J. Appl. Phys.   ( 55 ) 頁： Article ID: 016203-1-5(2016)   2015年12月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  42. New line plasma source excited by 2.45 GHz microwave at atmospheric pressure 査読有り

    Haruka Suzuki, Suguru Nakano, Hitoshi Itoh, Makoto Sekine, Masaru Hori and Hirotaka Toyoda

      8 巻 ( 3 ) 頁： 036001   2015年2月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  43. Synergistic effect of microwave plasma and ultrasonic wave on decomposition of organic compounds in water 査読有り

    Tomohiro Takahashi, Noriharu Takada, and Hirotaka Toyoda

    Japanese Journal of Applied Physics   53 巻 ( 7S ) 頁： 07KE01   2014年6月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  44. 酸化物ターゲットを用いたRFマグネトロンプラズマにおける高エネルギー粒子の挙動 招待有り 査読有り

    豊田浩孝

    Journal of the Vacuum Society of Japan   57 巻 ( 3 ) 頁： 80-83   2014年3月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語  

  45. Influence of Si Substrate Temperature and Bias Voltage on Surface Reaction of Br Radical in HBr Inductively Coupled Plasma

    D. Iino, Y. Fujii, T. Oike, H. Toyoda

    JPS Conf. Proc.   1 巻   頁： 015070-1-4 (2014)   2014年3月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  46. Influence of Oxygen Addition and Wafer Bias Voltage on Bromine Atom Surface Reaction in a HBr/Ar Inductively Coupled Plasma 査読有り

    Daiki Iino , Yasuhiro Nojiri, Keiji Suzuki, Takumi Oike, Yoshitaka Fujii, and Hirotaka Toyoda

    Japanese Journal of Applied Physics   52 巻 ( 11 ) 頁： 11NC01-1-6   2013年11月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  47. High H Radical Density Produced by 1-m-Long Atmospheric Pressure Microwave Plasma System 査読有り

    Hitoshi Itoh, Yusuke Kubota, Yusaku Kashiwagi, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Hirotaka Toyoda and Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 巻   頁： 11NE01   2013年11月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  48. A Development of Atmospheric Pressure Plasma Equipment and Its Applications for Treatment of Ag Films Formed from Nano-Particle Ink

    H. Itoh, Y. Kubota, Y. Kashiwagi, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, H. Toyoda and M. Hori

    Journal ofPhysics:ConferenceSeries   441 巻   頁： 012019   2013年6月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  49. Rapid Plasma Treatment of Polyimide for Adhesive and Durable Copper Film Deposition

    K. Usami, T. Ishijima, H. Toyoda

    Thin Solid Films   521 巻   頁： 22-26   2012年10月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  50. High performance of carbon nanowall supported Pt catalyst for methanol electro-oxidation

    Chengxu Zhang , Jue Hu , Xiangke Wang , Xiaodong Zhang , Hirotaka Toyoda , Masaaki Nagatsu , Yuedong Meng

    CARBON   50 巻   頁： 3731–3738   2012年4月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  51. Nitriding of Polymer by Low Energy Nitrogen Neutral Beam Source 査読有り

    Yasuhiro Hara , Keigo Takeda, Koji Yamakawa, Shoji Den, Hirotaka Toyoda, Makoto Sekine, and Masaru Hori

    Applied Physics Express   5 巻   頁： 035801   2012年2月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  52. Characterization of a steam plasma jet at atmospheric pressure

    Guohua Ni, Peng Zhao, Cheng Cheng, Ye Song, Hirotaka Toyoda and Yuedong Meng

    Plasma Sources Sci. Technol.   21 巻   頁： 015009 (12pp)   2012年1月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  53. Microphase separated hydroxide exchange membrane synthesis by a novel plasma copolymerization approach

    Chengxu Zhang, Jue Hua, Xiangke Wang, Hirotaka Toyoda, Masaaki Nagatsu, Xiaodong Zhang, Yuedong Meng

    Journal of Power Sources   198 巻   頁： 112– 116   2011年10月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  54. Spatial Profile Measurement of SiH3 Radical Flux in SiH4/H2 Microwave Plasma by Modified Appearance Mass Spectrometry 査読有り

    Toshiyuki Kuroda, Masahira Ikeda, Tatsuo Ishijima, and Hirotaka Toyoda

    Jpn. J. Appl. Phys.   50 巻   頁： 08JB05   2011年8月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  55. High-Performance Plasma-Polymerized Alkaline Anion-Exchange Membranes for Potential Application in Direct Alcohol Fuel Cells

    Chengxu Zhang, Jue Hu, Masaaki Nagatsu, Yuedong Meng, Wei Shen, Hirotaka Toyoda, Xingsheng Shu

    Plasma Process. Polym.   8 巻   頁： 1024–1032   2011年8月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  56. Preparation of high-performance hydroxide exchange membrane by a novel ablation restriction plasma polymerization approach

    Chengxu Zhang, Jue Hu, Yuedong Meng, Masaaki Nagatsu and Hirotaka Toyoda

    Chem. Commun.   47 巻   頁： 10230–10232   2011年5月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  57. Magnetron sputtering of platinum nanoparticles onto vertically aligned carbon nanofibers for electrocatalytic oxidation of methanol

    Chengxu Zhang, Jue Hu, Masaaki Nagatsu, Xingsheng Shu, Hirotaka Toyoda, Shidong Fang, Yuedong Meng

    Electrochimica Acta   56 巻   頁： 6033– 6040   2011年5月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  58. Refractory Organic Solute Decomposition in Water using Microwave Plasma 査読有り

    Tatsuo Ishijima, Ryota Saito, Hiroyasu Sugihara, and Hirotaka Toyoda

    Transactions of the Materials Research Society of Japan   36 巻 ( 3 ) 頁： 475-478   2011年3月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  59. Influence of temperature and pressure on solute decomposition efficiency by microwave-excited plasma 査読有り

    R. Saito , H. Sugiura , T. Ishijima, H. Toyoda

    Current Applied Physics   11 巻 ( 5 ) 頁： S195-S198   2011年3月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  60. Pulsed plasma-polymerized alkaline anion-exchange membranes for potential application in direct alcohol fuel cells

    Chengxu Zhang, Jue Hu, Jie Cong, Yanping Zhao, Wei Shen, Hirotaka Toyoda, Masaaki Nagatsuc, Yuedong Menga

    Journal of Power Sources   196 巻   頁： 5386–5393   2011年2月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  61. Effect of O Ion Beam Irradiation during RF-Magnetron Sputtering on Characteristics of CoFeB-MgO Magnetic Tunnel Junctions 査読有り

    Kazunaga Ono, Norikazu Ohshima, Kazuya Goto, Hiroki Yamamoto, Tadashi Morita, Keizo Kinoshita, Tatsuo Ishijima, and Hirotaka Toyoda

    Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 023001   50 巻   頁： 023001   2011年2月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  62. Plasma-grafted alkaline anion-exchange membranes based on polyvinyl chloride for potential application in direct alcohol fuel cell

    Jue Hu, Chengxu Zhang, Jie Cong, Hirotaka Toyoda, Masaaki Nagatsu, Yuedong Meng

      196 巻   頁： 4483–4490   2011年1月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  63. Novel Antenna Coupler Design for Production of Meter-ScaleHigh-Density Planar Surface Wave Plasma 査読有り

    Tatsuo Ishijima, Yasunori Nojiri, Hirotaka Toyoda, Hideo Sugai

      49 巻   頁： 086002   2010年8月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  64. Efficient production of microwave bubble plasma in water for plasma processing in liquid 査読有り

    T. Ishijima, H. Sugiura, R. Saito, H. Toyoda, H. Sugai

    Plasma Sources Sci. Technol. 015010   19 巻   頁： 015010   2010年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  65. Spatial Variation of Negative Oxygen Ion Energy Distribution in RF Magnetron Plasma with Oxide Target 査読有り

    T. Ishijima, K. Goto, N. Ohshima, K. Kinoshita, and H. Toyoda

    Jpn. J. Appl. Phys.   48 巻   頁： 116004   2009年11月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  66. メタルスパッタリングプラズマの高度化とその最新動向

    豊田浩孝（分担執筆）

    電気学会技術報告書   1162 巻   頁： pp.11~14   2009年7月

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    記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  67. Rapid treatment of polyimide film surfaces using high-density microwave plasma for enhancement of Cu layer adhesion 査読有り

    Y. Takagi , Y. Gunjo , H. Toyoda , H. Sugai

    Vacuum,   83 巻   頁： 501–505   2008年10月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  68. Effect of Sputtering Deposition Process on Magnetic Properties on Magnetic Multilayers 査読有り

    Y. Maeda, Y. Suzuki, Y. Sakashita, S. Iwata, T. Kato, S. Tsunashima, H. Toyoda and H. Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   47 巻 ( 10 ) 頁： 7879-7885   2008年10月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  69. Surface Modification of Fluorocarbon Polymer Film by High Density Microwave Plasma 査読有り

    K. Ishikawa, T. ishijima, K. Sasai, H. Toyoda and H. Sugai

    Transactions of the Materials Research Society of Japan   33 巻 ( 3 ) 頁： 683-686   2008年9月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  70. Characteristics of Low-energy Atom and Molecule Beams Generated by the Charge Exchange Reaction 査読有り

    Y. Hara, S. Takashima, K. Yamakawa, S. Den, H. Toyoda, M. Sekine, M. Hori

    J. Appl. Phys.   103 巻 ( 5 ) 頁： 053301 1-5   2008年5月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  71. Deposition of polycrystalline SiGe by surface wave excited plasma 査読有り

    Y. Takanishi, T. Okayasu, H. Toyoda, H. Sugai

    Thin Solid Films Vol., pp.   516 巻   頁： 3554-3557   2008年4月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  72. スパッタプラズマ中の高エネルギー粒子計測と制御 査読有り

    豊田浩孝

    真空   51 巻 ( 4 ) 頁： 258-263   2008年4月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語  

  73. Suppression of Super High-Energy Species by VHF-DC Superimposed Magnetron Sputter Plasma 査読有り

    Y. Sakashita, Y. Takagi, T. Kato, H. Toyoda, S. Iwata, S. Tsunashima and H. Sugai

    Transaction of Materials Research Society of Japan   32 巻 ( 2 ) 頁： 481-484   2007年12月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  74. Suppression of High-Energy Backscattered Particles in Magnetron Plasma 査読有り

    Yusuke Takagi, Hirotaka Toyoda, and Hideo Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   46 巻 ( 12 ) 頁： 7865-7869   2007年12月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  75. Tunable Low-energy Ar Fast Atom Source with Large Diameter 査読有り

    Y. Hara, S. Takashima, K. Yamakawa, S. Den, H. Toyoda, M. Hori

    Appl. Phys.Lett.   91 巻 ( 23 ) 頁： 23502 1-3   2007年12月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  76. High-Speed μc-Si Films Deposition and Large-Grain Poly-Si Films Deposition by Surface Wave Discharge 査読有り

    Y. Hotta, H. Toyoda and H. Sugai

    Thin Solid Films   515 巻   頁： 4983-4987   2007年4月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  77. Role of atomic nitrogen during GaN growth by plasma-assisted molecular beam epitaxy revealed by appearance mass spectrometry 査読有り

    J. Osaka, M. Senthil Kumar, H. Toyoda, T. Ishijima, H. Sugai and T. Mizutani

    APPLIED PHYSICS LETTERS   90 巻   頁： 172114 1-3   2007年4月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  78. Investigation of the ion dese non-uniformity caused by sheath-lens focusing effect on silicon wafers 査読有り

    N. Holtzer , E. Stamate, H. toyoda and H. Sugai

    Thin Solid Films   515 巻   頁： 4887-4891   2007年4月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  79. Dependence of Giant Magnetoresitance in Cn/Cu Multilayers on Sputtering Condition 査読有り

    Changchuan Chen, Y. Suzuki, T. Kato. S. Iwata, S. Tsunashima, H. Toyoda, H. Sugai

    Japanese Juenal of Applied Physics   45 巻 ( 10B ) 頁： 8466-8468   2006年10月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  80. Generation processes of super-high-energy atoms and ions in magnetron sputtering plasma 査読有り

    Y. Takagi, Y. Sakashita, H. Toyoda, and H. Sugai

    Vacuum   80 巻 ( 6 ) 頁： 581-587   2006年3月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  81. バイアス光プローブによる反応性プラズマのEEDF測定 査読有り

    豊田浩孝

    プラズマ・核融合学会誌   81 巻 ( 7 ) 頁： 496-501   2005年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語  

  82. High-energy ions and atoms sputtered and reflected from magnetron source for deposition of magnetic thin films 査読有り

    H. Matsui, H. Toyoda and H. Sugai

    J. Vac. Sci. Technol. A   23 巻 ( 4 ) 頁： 671-675   2005年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  83. Evidence of Direct SiO2 Etching by Fluorocarbon Molecules under Ion Bombardment 査読有り

    N. Takada, H. Toyoda, I. Murakami and H. Sugai

    Journal of Applied Physics   97 巻 ( 1 ) 頁： 013534 1-5   2005年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  84. Evidence of Radical-free Etching of SiO2 by Fluorocarbon Molecules under Ion Bombardment 査読有り

    N. Takada, H. Toyoda and H. Sugai

    Transacitons of the Materials Research Society of Japan   30 巻 ( 1 ) 頁： 319-322   2005年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  85. Beam Study of the Si and SiO2 Etching Processes by Energetic Fluorocarbon Ions 査読有り

    H. Toyoda, H. Morishima, R. Fukute, Y. Hori, I .Murakami and H. Sugai

    J. Appl. Phys.   95 巻   頁： 5172-5179   2004年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  86. Dramatic Reduction of Chemical Sputtering of Graphite under Intercalation of Lithium 査読有り

    H. Yagi, H. Toyoda, H. Sugai

    J. Nucl. Mater.   313-316 巻   頁： 284-287   2003年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  87. Wall Heating Effect on Crystallization of Low-Temperature Deposited Silicon Films from an Inductively-Coupled Plasma 査読有り

    T. Kojima, A. Ohishi, H. Toyoda, M. Goto, M. Nishitani and H. Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   40 巻 ( 1 ) 頁： 322-325   2001年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  88. Rapid Diffusion of Lithium into Bulk Graphite in Lithium Conditioning 査読有り

    N. Itou, H. Toyoda, K. Morita and H. Sugai

    J. Nucl. Mater.   290-293 巻   頁： 381-385   2001年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  89. Radial Density Profile of Microwave Plasma for Wall Conditioning in a Purely Toroidal Magnetic Field 査読有り

    H. Sugai, H. Toyoda, J. Ihde and J. Winter

    J. Plasma and Fusion Research   77 巻 ( 2 ) 頁： 130-136   2001年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  90. Electron Energy Distribution Function and the Influence on Fluorocarbon Plasma Chemistry 査読有り

    H. Sugai, I. Ghanashev, M. Hosokawa, K. Mizuno, K. Nakamura, H. Toyoda and K. Yamauchi

    Plasma Sources Sci. Technol   10 巻   頁： 378-385   2001年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  91. Measurement of Electron-Impact-Dissociation Cross Section for Neutral Products 査読有り

    H. Sugai, H. Toyoda

    AIP Conf. Proc.   500 巻   頁： 349-358   2000年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  92. Laboratory Experiment on Lithium Chemistry and its Application to Effective Wall Conditioning 査読有り

    S. Kato, M. Watanabe, H. Toyoda, H. Sugai

    J. Nucl. Mater.   266-269 巻   頁： 406-411   1999年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  93. オプティカルマルチチャンネルアナライザによる高感度吸収分光計測 査読有り

    豊田浩孝

    応用物理   68 巻 ( 5 ) 頁： 551-552   1999年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  94. リチウムコンディショニングによる炭素不純物の抑制機構 査読有り

    豊田浩孝、加藤伸一、菅井秀郎

    プラズマ・核融合学会誌   75 巻 ( 4 ) 頁： 459-466   1999年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  95. 気相および表面におけるラジカル生成のビーム実験 査読有り

    豊田浩孝、菅井秀郎

    プラズマ・核融合学会誌   75 巻 ( 7 ) 頁： 779-784   1999年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  96. 壁コンディショニングの機能と将来の展望

    豊田浩孝

    プラズマ・核融合学会誌   75 巻 ( 4 ) 頁： 403-408   1999年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  97. Lower Temperature Deposition of Poly-Crystalline Silicon Films from a Modified Inductively-Coupled Silane Plasma

    K. Goshima, H. Toyoda, T. Kojima, M. Nishitani, M. Kitagawa, H. Yamazoe, H. Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   38 巻 ( 6A ) 頁： 3655-3659   1999年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  98. 代替エッチングガスC3HF7Oの電子衝突解離断面積 査読有り

    Jpn.J.Appl.Phys.   37 巻 ( 9A ) 頁： 5053-5059   1998年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  99. プラズマプロセスに関連した低エネルギー多原子イオンの表面解離の観察

    J.Vac.Sci.Technol.   16 巻 ( 1 ) 頁： 290-293   1998年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  100. 電子サイクロトロン共鳴放電によるその場磁化ボロナイゼーションの基礎研究 査読有り

    J.Nucl.Mater.   241-243 巻   頁： 1217-1221   1997年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  101. Diagnostics for Advanced Plasma Control of Materials Processing 査読有り

    H. Sugai, T.H. Ahn, I. Ghanashev, M. Goto, H. Toyoda, N. Nagatsu, K. Nakamura, K. Suzuki

    Plasma Phys. Control. Fusion   39 巻   頁： A445-458   1997年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  102. 改良型誘導結合プラズマによるアモルファスおよび多結晶シリコン膜の低温形成 査読有り

    応用物理学会欧文誌   36 巻 ( 6A ) 頁： 3714-3720   1997年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  103. C4F8の電子衝突解離による中性およびイオン化ラジカル種の生成断面積 査読有り

    応用物理学会欧文誌   36 巻 ( 6A ) 頁： 3730-3735   1997年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  104. リチウム堆積環境下における水素および不純物挙動の実験室実験

      241-243 巻   頁： 1031-1035   1997年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  105. 熱料および不純物制御のためのリチウム壁コンディショニング 査読有り

    真室   47 巻 ( 6-9 ) 頁： 981-984   1996年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  106. 誘導結合シランプラズマを用いた水素化アモルファスシリコン膜の低温形成

    応用物理学会欧文誌   35 巻 ( 8A ) 頁： L1009-1011   1996年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  107. 低エネルギーフロロカーボンイオンを照射された金属表面からの解離イオンイールド 査読有り

      34 巻 ( 11A ) 頁： L1486-1489   1995年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  108. ポロニゼーションにおける水蒸量と同位体置換 査読有り

      220-222 巻   頁： 743-747   1995年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  109. 低エネルギ炭化水素イオンを照射された金属表面からのイオン散乱の観測 査読有り

      34 巻 ( 4B ) 頁： L516-519   1995年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  110. リチウム蒸着による壁のコンディショニング 査読有り

      220-222 巻   頁： 254   1995年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  111. 紫外透過分光法を用いたシランプラズマ中におけるSiH3ラジカルと微粒子の簡便直接測定 査読有り

      34 巻 ( 4A ) 頁： L448-451   1995年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  112. プラズマ中の電子エネルギー分布測定の為のバイアス光プローブ法

      4 巻   頁： 366372   1995年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  113. LHDへの応用をめざしたボロニゼーション研究

      220-222 巻   頁： 623-626   1995年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  114. SF6のSFX(X=1-3)ラジカルへの電子衝突解離の相対断面積測定 査読有り

      35 巻 ( 4-5 ) 頁： 405-413   1995年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  115. 電子衝突によるCF4およびCHF3のCFX(X=1-3)ラジカルへの解離断面積の絶対測定 査読有り

      35 巻 ( 4-5 ) 頁： 415-420   1995年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  116. ダイアモンド成長DC放電中におけるCH3およびCHラジカル密度 査読有り

      35 巻 ( 4-5 ) 頁： 359-373   1995年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  117. Measurement of CH3 and CH Densities in a Diamond Growth d. c. Discharge 査読有り

    M.A. Childs, K.L. Menningen, H. Toyoda, L.W. Anderson, J.E. Lawler

    Europhys. Lett.   25 巻 ( 9 ) 頁： 729-734   1994年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  118. Cross Section Measurements for Electron-Impact Dissociation of CHF3 into Neutral and Ionic Radicals, 査読有り

    M. Goto, K. Nakamura, H. Toyoda, H. Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.,   33 巻 ( 6A ) 頁： 3602-3607   1994年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  119. Measurement of Absolute Hydrogen Dissociation in a Diamond Deposition System 査読有り

    M.A. Childs, K.L. Menningen, H. Toyoda, Y. Ueda, L.W. Anderson, J.E. Lawler

    Phys. Lett. A   194 巻   頁： 119123   1994年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  120. Ultraviolet Spectroscopy of Gaseous Spacies in a Hot Filament Diamond Deposition System When C2H2 and H2 are the Input Gases. 査読有り

    H. Toyoda, M.A. Childs, K.L. Menningen, L.W. Anderson, J.E. Lawler

    J. Appl. Phys.   75 巻 ( 6 ) 頁： 3142-3150   1994年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  121. Absolute Radical Density Measurements in a CH4-H2 d.c. Discharge 査読有り

    K.L. Menningen, M.A. Childs, H. Toyoda, Y. Ueda, L.W. Anderson, J.E. Lawler

    Diamond and Related Mater   3 巻   頁： 422-425   1994年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  122. Evaluation of a Substrate Pretreatment for Hot Filament CVD 査読有り

    K.L. Menningen, M.A. Childs, H. Toyoda, L.W. Anderson, J.E. Lawler

    J. Mater. Res.   9 巻 ( 4 ) 頁： 915-920   1994年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  123. プラズマによる表面改質とラジカル計測 査読有り

      200 巻   頁： 403-411   1993年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  124. Methyl Radical Production in a Hot Filament CVD System 査読有り

    K.L. Menningen, M.A. Childs, P. Chevako, H. Toyoda, L.W. Anderson, J.E. Lawler

    Chem. Phys. Lett   204 巻 ( 5-6 ) 頁： 573-577   1993年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  125. CF4エッチングプラズマにおけるCF3 CF2ラジカルの空間分布と表面損失 査読有り

      32 巻 ( 3A ) 頁： L353-L356   1993年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  126. CF4エッチングプラズマへの水素添加によるCF2,CF3のふるまいの劇的変化 査読有り

      32 巻 ( 5A ) 頁： L690-L693   1993年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  127. Appearance Mass Spectrometry of Neutral Radicals in Radio Frequency Plasmas 査読有り

    H. Sugai, H. Toyoda

    Journal of Vacuum Science and Technology   A10 巻 ( 4 ) 頁： 1193-12004   1992年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  128. In-situ Boron Nitride Coating and Comparison with Existing Boronization 査読有り

    M. Yamage, T. Ejima, H. Toyoda, H. Sugai

    J. Nucl. Mater.   196-198 巻   頁： 618-621   1992年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  129. プラズマ界面における異常発光とフラグメンテーション 査読有り

    片寄恭一, 豊田浩孝, 菅井秀郎

    核融合研究   67 巻 ( 1 ) 頁： 51-61   1992年

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    記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  130. High Speed Cleaning of Boronized Wall with a CF4 Containing Plasma 査読有り

    H. Toyoda, A. Hanami, M. Yamage, H. Sugai

    Japanese Journal of Applied Physics   30 巻 ( 3B ) 頁： L514-517   1991年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  131. Electron Impact Dissociation of Methane into CH3 and CH2 Radicals, II. Absolute Cross Sections 査読有り

    T. Nakano, H. Toyoda, H. Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   30 巻 ( 11A ) 頁： 2912-2915   1991年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  132. Electron Impact Dissociation of Methane into CH3 and CH2 Radicals, I. Relative Cross Sections 査読有り

    T. Nakano, H. Toyoda, H. Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   30 巻 ( 11A ) 頁： 2908-2911   1991年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  133. Interactions of Bulk-Boronized Graphites with Deuterium Plasmas in the PISCES-B Facility 査読有り

    Y. Hirooka, R.W. Conn, H. Toyoda, H. Sugai et al.

    Fusion Technol   19 巻   頁： 2059-2069   1991年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  134. Spatial Distribution of CH2 and CH2 Radicals in a Methane RF Discharge 査読有り

    H. Sugai, H. Kojima, A. Ishida, H. Toyoda

    Applied Physics Letters   56 巻 ( 26 ) 頁： 2616-2618   1990年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  135. Rapid Cleaning of Boronized Walls with a Chlorine/Hydrogen Glow Discharge 査読有り

    H. Toyoda, A. Hanami, H. Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   29 巻 ( 7 ) 頁： 1322-1323   1990年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  136. RF Plasma Production at Ultralow Pressure with Surface Magnetic Confinement 査読有り

    T. Shirakawa, H. Toyoda, H. Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   29 巻 ( 6 ) 頁： L1015-1018   1990年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  137. Ion-Induced Radical Production on Surfaces during Deposition of Hydrogenated Amorphous Carbon 査読有り

    Y. Yamashita, K. Katayose, H. Toyoda, H. Sugai

    Journal of Applied Physics   68 巻 ( 7 ) 頁： 3735-3737   1990年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  138. Effects of Carbon Wall on the Bahaviour of Heliotron-E Plasmas 査読有り

    N. Noda, T. Mizuuchi, H. Toyoda, S. Yoshida, H. Sugai et al.

    J. Nucl. Mater.   162-164 巻   頁： 769-775   1989年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  139. Hydrogen Release and Retention Dynamics of Amorphous Carbon Layers Exposed to a Hydrogen/Helium Plasma 査読有り

    S. Yoshida, H. Sugai, H. Toyoda

    Jpn. J. Appl. Phys   28 巻 ( 6 ) 頁： 1101-1108   1989年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  140. Genaration of a Large Electron Beam for Plasma Processing, 査読有り

    H. Sugai, N. Yabuoshi, H. Toyoda

    Jpn. J. Appl. Phys.   28 巻 ( 5 ) 頁： L868-870   1989年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  141. Hydrogen Recycling Control by Helium Ion Bombardment onto Carbonized Surfaces 査読有り

    H. Sugai, H. Toyoda, S. Ohshita, S. Yoshida, A. Sagara

    J. Nucl. Meter.   162-164 巻   頁： 1035-1039   1989年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  142. Carbonization Experiment by ECR Discharge in JIPPT-IIU 査読有り

    Y.Sakamoto, H. Amemiya, H. Toyoda, H. Sugai et al.

    J. Nucl. Mater.   162-164 巻   頁： 783-786   1989年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  143. Mass Spectroscopic Investigation of the CH3 Radicals in a Methane RF Discharge 査読有り

    H. Toyoda, H. Kojima, H. Sugai

    Applied Physics Letters   54 巻 ( 16 ) 頁： 1507-1509   1989年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  144. Hydrogen Retention and Release Dynamics of Amorphous Carbon Filsm Exposed to a Hydrogen Plasma 査読有り

    H. Sugai, S. Yoshida, H. Toyoda

    Applied Physics Letters   54 巻 ( 15 ) 頁： 1412-1414   1989年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  145. In situ Boron Coating and its Removal by Glow Discharge Processes 査読有り

    H. Toyoda, T. Isozumi, H. Sugai, T. Okuda

    Journal of Nuclear Materials   162-164 巻   頁： 732-736   1989年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  146. Observation of CH2 Radical and Comparison with CH3 Radical in a RF Methane Discharge 査読有り

    H. Kojima, H. Toyoda, H. Sugai

    Applied Physics Letters   55 巻 ( 13 ) 頁： 1292-1294   1989年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  147. Formation of CH Radical by Surface Bombardment in a Methane/Argon DC Discharge 査読有り

    Y. Yamashita, H. Toyoda, H. Sugai

    Jpn. J. Appl. Phys.   28 巻 ( 9 ) 頁： L1647-1650   1989年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  148. Control of Hydrogen Content of Boron Films Produced by a DC Toroidal Discharge 査読有り

    H. Toyoda, H. Sugai, T. Isozumi, T. Okuda

    Applied Physics Letters   51 巻 ( 11 ) 頁： 798-800   1987年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  149. イオン束を制御した水素化アモルファスシリコンの生成と成膜過程 査読有り

    豊田浩孝, 菅井秀郎, 吉田　明, 奥田孝美

    応用物理   55 巻 ( 7 ) 頁： 718-726   1986年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  150. Hydrogenated Amorphous Silicon Formation by Flux Control and Hydrogen Effects on the Growth Mechanism 査読有り

    H. Toyoda, H. Sugai, K. Kato, A. Yoshida, T. Okuda

    Appl. Phys. Lett.   48 巻 ( 24 ) 頁： 1648-1650   1986年

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  151. Ion and Radical Contributions to a Si : H Film Formation in a DC Toroidal Discharge 査読有り

    H. Sugai, H. Toyoda, A. Yoshida, T. Okuda

    Applied Physics Letters   46 巻 ( 11 ) 頁： 1048-1050   1985年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  152. プラズマイオン分析器の開発 査読有り

    菅井秀郎, 小島啓明, 森　直生, 豊田浩孝, 奥田孝美

    核融合研究   51 巻 ( 3 ) 頁： 221-240   1984年

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    記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  153. A Mass Spectrometer for Boundary Plasma Diagnostics 査読有り

    H. Kojima, H. Sugai, T. Mori, H. Toyoda, T. Okuda

    J. Nucl. Mater   128-129 巻   頁： 965-968   1984年

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

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書籍等出版物 4

  1. RF Power Semiconductor Generator Application in Heating and Energy Utilization

    Hirotaka Toyoda（ 担当： 共著）

    2020年  （ ISBN:978-981-15-3547-5 ）

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    記述言語：英語 著書種別：学術書

  2. メタルスパッタリングプラズマの高度化とその最新動向

    （ 担当： 共著）

    電気学会技術報告書　第1162号2009年7月　pp.11~14  2009年7月 

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    記述言語：日本語

  3. スパッタ実務（Q&A集）

    （ 担当： 共著）

    ㈱技術情報協会  2009年1月 

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    記述言語：日本語

  4. 最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御

    豊田浩孝（ 担当： 共著）

    リアライズ社  1997年 

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    記述言語：日本語

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講演・口頭発表等 865

  1. Large volume liquid treatment with high-density microwave plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    Plasma Thin Film International Meeting (PLATHINUM2021)  2021年9月13日 

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    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（基調）  

    開催地：Virtual Meeting（France）  

  2. High-energy Negative Ions in Sputtering Plasma - Energy Distribution and Its Spatial Variation - 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    3rd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics 

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    開催年月日： 2019年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（基調）  

    国名：中華人民共和国  

  3. 多視点画像を用いたプラズマの３次元構造解析

    泉　涼太,　鈴木　陽香,　藤井　俊彰,　豊田　浩孝

    第41回プラズマ核融合学会年会  2024年11月17日  プラズマ核融合学会

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    開催年月日： 2024年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：タワーホール船堀   国名：日本国  

  4. Energy-resolved measurement of ion angular distribution in dual-frequency capacitively-coupled Ar plasma incident on an RF electrode

    S. Kawamura, M. Naito, D. Kim, H. Suzuki, D. Iino, H. Fukumizu, K. Kurihara and H. Toyoda

    45th International Symposium on Dry Process  2024年11月15日 

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    開催年月日： 2024年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Chitose Civic Culture Center, Chitose, Japan   国名：日本国  

  5. Influence of Ion Incident Energy on Charge Accumulation at the Bottom of High Aspect Ratio Holes in Dual-Frequency Capacitively-Coupled Plasma

    Y. Akatsuka, H. Suzuki, M. Moriyama, K. Tamura, S. Kuboi, D. Iino, H. Fukumizu, K. Kurihara, and H. Toyoda

    45th International Symposium on Dry Process  2024年11月15日 

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    開催年月日： 2024年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Chitose Civic Culture Center, Chitose, Japan   国名：日本国  

  6. プラズマの魅力 招待有り

    豊田浩孝

    あいちサイエンスフェスタ  2024年9月28日 

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    開催年月日： 2024年9月

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  7. 多方向視野像を用いた不均一プラズマ発光の再構築

    鈴木 陽香, 泉 涼太, 久蔵 学, 豊田 浩孝

    応用物理学会秋季学術講演会  2024年9月20日  応用物理学会

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    開催年月日： 2024年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：新潟　朱鷺メッセ   国名：日本国  

  8. 磁場閉じ込めプラズマにおける水素化ホウ素分子の形成・放射過程 招待有り 国際共著

    川手朋子, 芦川直子, 後藤基志, 大石鉄太郎, 川本靖子,豊田浩孝, 庄司主, 河村学思, 増崎貴, F. Nespoli, E.P.Gilson, R. Lunsford, 鈴木千尋, A. Nagy，D. Gates, 村上泉

    日本物理学会第79次年次大会  2024年9月16日  日本物理学会

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    開催年月日： 2024年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：北海道大学   国名：日本国  

  9. 表面波プラズマ照射による金属ナノ粒子の合成

    髙辻　乃輔，鈴木　陽香, 笹井 建典, 豊田　浩孝

    電気関係学会東海支部連合講演会  2024年8月29日 

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    開催年月日： 2024年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：岐阜大学   国名：日本国  

  10. 電荷重畳法によるトレンチ内のチャージングシミュレーション

    菊池　拓哉，鈴木　陽香，豊田　浩孝

    電気関係学会東海支部連合講演会  2024年8月29日 

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    開催年月日： 2024年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：岐阜大学   国名：日本国  

  11. 多視点画像を基にした不均一プラズマ分布の再構築

    泉　涼太, 久蔵　学, 鈴木　陽香, 豊田　浩孝

    電気関係学会東海支部連合講演会  2024年8月29日 

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    開催年月日： 2024年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：岐阜大学   国名：日本国  

  12. 入射エネルギー及び入射角度可変プラズマ引き出し型イオンビーム源の開発

    渡邉　隆斗，鈴木　陽香，豊田　浩孝

    電気関係学会東海支部連合講演会  2024年8月29日 

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    開催年月日： 2024年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：岐阜大学   国名：日本国  

  13. 高密度マイクロ波プラズマを用いた液体処理とナノ粒子合成への応用 招待有り

    豊田浩孝

    第73回　プラズマが拓くものづくり研究会  2024年6月25日  名古屋産業振興公社

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    開催年月日： 2024年6月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：名古屋市工業研究所   国名：日本国  

  14. プラズマ生成と半導体微細加工の基礎 招待有り

    豊田浩孝

    講習会  2024年5月21日 

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    開催年月日： 2024年5月

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

  15. Plasma processing: Key technology for the next-generation semiconductor device fabrication 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    The 1ST Global Forum and International Workshop on Industrial Plasma Plasma Processes and Diagnostics 2024  2024年5月9日 

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    開催年月日： 2024年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（基調）  

    開催地：Indian Institute of Technology Delhi   国名：インド  

  16. Angular distribution measurement of high-energy argon neutrals and ions incident on RF electrode of a capacitively-coupled plasma 招待有り 国際会議

    H. Toyoda, S. Kawamura, D.H. Kim, H. Suzuki, M. Moriyama, K. Tamura, S. Kuboi, D. Iino, H. Fukumizu, K. Kurihara

    Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics  2024年5月1日 

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    開催年月日： 2024年4月 - 2024年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Castle Hotel Liblice near Prague   国名：チェコ共和国  

  17. 二周波重畳容量結合型プラズマにおけるRF電極入射高エネルギー粒子の角度分布評価 招待有り

    市川景太,Manh Hung Chu,森山誠,鈴木陽香, 飯野大輝,福水裕之,栗原一彰,豊田浩孝

    第71回応用物理学会春季講演会  2024年3月  応用物理学会

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    開催年月日： 2024年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：東京 東京都市大学   国名：日本国  

  18. On-Off及びHigh-Low変調VHFプラズマ照射下のキャピラリープレート底部の電荷蓄積におけるデューティー比の影響

    赤塚 勇大，鈴木 陽香，森山 誠，飯野 大輝， 福水 裕之，栗原 一彰，豊田 浩孝

    第71回応用物理学会春季講演会  2024年3月  応用物理学会

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    開催年月日： 2024年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京 東京都市大学   国名：日本国  

  19. 二周波重畳容量結合型プラズマにおけるイオン角度分布のエネルギー分解計測

    川村 隼也，Kim Dohan, 鈴木 陽香，飯野 大輝，福水 裕之，栗原 一彰，豊田 浩孝

    第71回応用物理学会春季講演会  2024年3月  応用物理学会

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    開催年月日： 2024年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京 東京都市大学   国名：日本国  

  20. Plasma Science: achievements and future impact on semiconductor technologies 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    Nano Fabrication Technologies for Semiconductor Industry and Quantum Computing  2024年3月15日  Japan Alumni and Researcher Assembly

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    開催年月日： 2024年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Lyngby, Denmark   国名：デンマーク王国  

  21. Interaction of liquid tin with hydrogen plasma 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Kota Tamura, Haruka Suzuki, Junichi Miyazawa, Suguru Masuzaki, Masayuki Tokitani, Yukinori Hamaji

    US-Japan and International Workshop on Power and Particle Control in DEMO Fusion Reactor by Liquid Metal Plasma-Facing Components  2024年3月7日  National Institute for Fusion Science

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    開催年月日： 2024年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Toki, Gifu   国名：日本国  

  22. テレセントリックレンズを用いて撮影された画像からのプラズマ発光強度3次元空間分布の評価

    鈴木陽香，原田健汰，久蔵学，泉涼太，豊田浩孝

    第41回プラズマプロセシング研究会  2024年1月  応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

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    開催年月日： 2024年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京工業大学   国名：日本国  

  23. プラズマ材料科学賞基礎部門賞受賞講演 招待有り

    豊田浩孝

    第41回プラズマプロセシング研究会  2024年1月  応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

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    開催年月日： 2024年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：東京工業大学   国名：日本国  

  24. 二周波重畳容量性結合型Arプラズマにおけるイオン角度分布のエネルギー分解計測

    川村隼也，金度漢，鈴木陽香，飯野大輝，福水裕之，栗原一彰，豊田浩孝

    第41回プラズマプロセシング研究会  2024年1月  応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

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    開催年月日： 2024年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京工業大学   国名：日本国  

  25. On-OffおよびHigh-Low変調VHFプラズマにおけるキャピラリープレート底部の電荷蓄積挙動比較

    赤塚勇大，鈴木陽香，森山誠，飯野大輝，福水裕之，栗原一彰，豊田浩孝

    第41回プラズマプロセシング研究会  2024年1月  応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

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    開催年月日： 2024年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京工業大学   国名：日本国  

  26. 高アスペクト比エッチングプラズマにおけるイオン挙動 招待有り

    豊田浩孝

    サタデーモーニング講座  2023年12月9日  名古屋大学低温プラズマ科学研究センター

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    開催年月日： 2023年12月

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：名古屋   国名：日本国  

  27. 気体流による減圧形成を応⽤した放電易化におけるノズル電極の構造検討

    小川泰那, 中林賢二, 鈴木陽香, 豊田浩孝

    第40回　プラズマ・核融合学会　年会  2023年11月29日  プラズマ・核融合学会

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    開催年月日： 2023年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：盛岡市　岩手県民情報交流センター   国名：日本国  

  28. 多⽅向画像からの3次元プラズマ空間構造の評価

    鈴木陽香, 原田健太, 久蔵学, 豊田浩孝

    第40回　プラズマ・核融合学会　年会  2023年11月30日  プラズマ・核融合学会

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    開催年月日： 2023年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：盛岡市　岩手県民情報交流センター   国名：日本国  

  29. Effect of collisions in a sheath on angular distributions of high-speed particles incident on an RF electrode from a dual-frequency capacitively-coupled plasma 国際会議

    S. Kawamura, H. Suzuki, D. Iino, H. Fukumizu, K. Kurihara and H. Toyoda

    44th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2023年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Wink-Aichi, Nagoya   国名：日本国  

  30. Influence of Ion Composition on High Aspect Ratio Etching in Pulse-operated Ar/C4F8/O2 DF-CCP 国際会議

    S. Kuboi, Y. Akatsuka, H. Kato, H. Suzuki and H. Toyoda

    44th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2023年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Wink-Aichi, Nagoya   国名：日本国  

  31. Quantitative evaluation of ion composition in Ar/C4F8/O2 pulsed capacitively-coupled plasma based on electron impact ionization rates 国際会議

    H. Kato, Y. Akatuka, S. Kuboi, H. Suzuki and H. Toyoda

    44th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2023年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Wink-Aichi, Nagoya   国名：日本国  

  32. Production and Application of High-density Microwave Plasma in Contact with Flowing Liquid 招待有り 国際会議

    Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

    13th Asia European International Conference on Plasma Surface Engineering  2023年11月 

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    開催年月日： 2023年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Pusan Korea   国名：大韓民国  

  33. 高周波電極へ入射する高エネルギー粒子角度分布のイメージング計測

    豊田浩孝，市川景太，Manh Hung Chu，森山誠， 鈴木陽香，飯野大輝，福水裕之，栗原一彰

    2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会　プラズマエレクトロニクス賞受賞講演  2023年9月20日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：熊本城ホール   国名：日本国  

  34. 複数視野像をもとにしたプラズマ3次元構造評価の試み

    原田健汰, 久蔵学, 大舘暁, 鈴木陽香、豊田浩孝

    2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会  2023年9月21日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：熊本城ホール   国名：日本国  

  35. 流動液体プラズマ処理装置を用いたAgナノ粒子合成における生成性能評価

    柚木健吾, 鈴木陽香, 豊田浩孝

    2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会  2023年9月19日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：熊本城ホール   国名：日本国  

  36. Ar/C4F8/O2容量結合型パルスプラズマにおける 放電開始直後の電離レートをもとにしたイオン組成の定量的評価

    加藤閣人, 赤塚勇大, 久保井宗一, 鈴木陽香, 豊田浩孝

    2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会  2023年9月22日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：熊本城ホール   国名：日本国  

  37. 高速ガス流を用いた弱減圧マイクロ波プラズマ生成にむけた減圧形成シミュレーション

    中林　賢二，小川　泰那，鈴木　陽香, 豊田　浩孝

    令和5年度電気・電子情報関係学会東海支部連合講演会  2023年8月29日 

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    開催年月日： 2023年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：豊橋技術科学大学   国名：日本国  

  38. 二周波容量結合型Ar/C4F8/O2パルスプラズマの電子密度時分解計測

    赤塚　勇大，加藤　閣人，久保井　宗一, 鈴木　陽香, 豊田　浩孝

    令和5年度電気・電子情報関係学会東海支部連合講演会  2023年8月29日 

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    開催年月日： 2023年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：豊橋技術科学大学   国名：日本国  

  39. トリチウムプラズマ照射による固体・液体スズ中水素分布の高精度評価

    豊田浩孝

    核融合科学研究所-富山大学研究推進機構水素同位体科学研究センター 双方向型共同研究　研究会  2023年7月17日 

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    開催年月日： 2023年7月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：富山大学　   国名：日本国  

  40. Time-dependent measurement of ion composition in a capacitively-coupled Ar/C4F8/O2 power-modulated VHF plasma 国際会議

    H. Toyoda, H. Kato, Y. Seki, S. Kuboi, Y. Akatsuka, and H. Suzuki

    International Conference on Phenomena of Ionized Gases  2023年7月10日 

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    開催年月日： 2023年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Egmond aan Zee, The Netherlands   国名：オランダ王国  

  41. Influence of Pulse-off Time on Time-varying Ion Composition in a Pulse-operated Ar/C4F8/O2 Dual-frequency Capacitively Coupled Plasma 国際会議

    Shuichi Kuboi, Haruhito Kato, Yuto Seki, Yudai Akatsuka, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    International Symposium on Plasma Chemistry  2023年5月22日 

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    開催年月日： 2023年5月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Miyako-Messe, Kyoto   国名：日本国  

  42. 高アスペクト比加工におけるチャージング現象 招待有り

    豊田浩孝

    グリーンDXプラズマコンソーシアム２０２３年度第1回講習会  2023年4月21日  名古屋大学低温プラズマ科学研究センター

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    開催年月日： 2023年4月

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  43. 二周波重畳容量結合型プラズマにおけるシース内衝突がRF電極入射粒子の角度分布に及ぼす影響

    川村 隼也，市川 景太，鈴木 陽香,　飯野大輝，福水裕之，栗原一彰，豊田浩孝

    第70回応用物理学会春季講演会  2023年3月17日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京   国名：日本国  

  44. 旋回流による流動液体プラズマ処理装置の放電部の電極保護

    柚木 健吾，鈴木 陽香，笹井 建典，増崎 貴，林 浩 己，村瀬 尊則，中川 翔，柳原 悠人，豊田 浩孝

    第70回応用物理学会春季講演会  2023年3月18日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京   国名：日本国  

  45. 発光イメージをもとにしたプラズマ構造の評価

    原田健汰, 久蔵学, 大館暁, 豊田浩孝

    第70回応用物理学会春季講演会  2023年3月16日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京   国名：日本国  

  46. 二周波容量結合型Ar/C4F8/O2プラズマにおける電力変調方式がイオン組成に与える影響

    加藤閣人，関悠斗，久保井宗一，鈴木陽香, 豊田浩孝

    第70回応用物理学会春季講演会  2023年3月17日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京   国名：日本国  

  47. 高速ガス流を用いた減圧形成によるマイクロ波放電の易化

    小川泰那，岩田悠輝，鈴木陽香，豊田浩孝

    第70回応用物理学会春季講演会  2023年3月15日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東京   国名：日本国  

  48. 大気圧プラズマによるラジカル生成に及ぼす酸素ガス混合の効果

    松浦寛人、トラントラングエン、岡本陽太、胡敏、仲野匠、岩田悠輝、鈴木陽香、豊田浩孝

    第70回応用物理学会春季講演会  2023年3月15日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京   国名：日本国  

  49. C2F4の電子物性とPTFEの生成機構

    林俊雄、石川健治、関根誠、堀勝、兒玉直人，豊田浩孝

    第70回応用物理学会春季講演会  2023年3月17日  応用物理学会

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京   国名：日本国  

  50. Time dependent nanoparticle density measurement in a liquid-flow plasma process 国際会議

    Kengo Yunoki, Haruka Suzuki, Kensuke Sasai and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2023/IC-PLANTS2023  2023年3月6日 

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gifu, Japan   国名：日本国  

  51. Microwave plasma production under air-flow-induced reduced pressure 国際会議

    Taina Ogawa, Yuki Iwata, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2023/IC-PLANTS2023  2023年3月6日 

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gifu, Japan   国名：日本国  

  52. Time Variation of Ion Composition in Dual-frequency Capacitively-Coupled Ar/C4F8/O2 Pulsed Plasma 国際会議

    Haruhito Kato, Yuto Seki, Shuichi Kuboi, Haruka Suzuki, and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2023/IC-PLANTS2023  2023年3月6日 

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gifu, Japan   国名：日本国  

  53. Power absorption of high negative pulse power to an electron cyclotron plasma 国際会議

    Ikumi Hamaguchi, Kensuke Sasai, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2023/IC-PLANTS2023  2023年3月6日 

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gifu, Japan   国名：日本国  

  54. Development of a tomography calculation code for three-dimensional emission profile reconstruction 国際会議

    Kenta Harada, Manabu Kyuzo, Satoshi Ohdachi, Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2023/IC-PLANTS2023  2023年3月6日 

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gifu, Japan   国名：日本国  

  55. Atomic composition of droplet ejected from liquidized Sn-Bi-Li-Er alloy under hydrogen plasma exposure 国際会議

    Kota Tamura, Junichi Miyazawa, Suguru Masuzaki, Masayuki Tokitani, Yukinori Hamaji, Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2023/IC-PLANTS2023  2023年3月6日 

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    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gifu, Japan   国名：日本国  

  56. Hydrogen bubble formation on liquidized Sn-Bi-Li-Er Alloy under H2 Plasma Exposure 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    US-Japan and International Workshop on Power and Particle Control in DEMO Fusion Reactor by Liquid Metal Plasma-Facing Components  2023年3月1日 

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    開催年月日： 2023年2月 - 2023年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Princeton Plasma Physics Lab., NJ, USA   国名：アメリカ合衆国  

  57. 未来社会を担うクリーンエネルギー生成研究の最先端 招待有り

    豊田浩孝

    グリーンDXプラズマコンソーシアム第4回講習会  2023年2月24日  名古屋大学低温プラズマ科学研究センター

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    開催年月日： 2023年2月

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  58. Sn-Bi-Li-Er液体合金への水素プラズマ照射における気泡中への水素吸蔵量定量評価

    豊田浩孝

    2023年2月17日 

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    開催年月日： 2023年2月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：土岐市   国名：日本国  

  59. パルス変調Ar/C4F8/O2二周波容量結合型プラズマにおけるイオン組成時間変化のメカニズム 招待有り

    久保井宗一，加藤閣人，関悠斗， 鈴木陽香, 豊田浩孝

    第242回シリコンテクノロジー分科会研究集会  2023年2月17日  応用物理学会シリコンテクノロジー分科会

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    開催年月日： 2023年2月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：東京大学本郷キャンパス   国名：日本国  

  60. Quantitative Evaluation of Hydrogen Accumulation into Bubble Occurred in Liquidized Sn-Bi-Li-Er under H2 Plasma Exposure 国際会議

    Kota Tamura

    The 7th INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON LIQUID METALS APPLICATIONS FOR FUSION 

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    開催年月日： 2022年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Kasugai, Japan   国名：日本国  

  61. Imaging measurement of angular distribution of high-speed particles from a dual-frequency capacitively-coupled plasma incident on an RF electrode 国際会議

    K. Ichikawa, H. Suzuki, D. Iino, H. Fukumizu, K. Kurihara and H. Toyoda

    43rd International Symposium on Dry Process  2022年11月24日  Japan Society of Applied Physics

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    開催年月日： 2022年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Osaka International Convention Center   国名：日本国  

  62. Time-resolved measurement of Ionic composition change in Pulse-modulated Ar/C4F8/O2 DF-CCP 国際会議

    Shuichi Kuboi, Haruhito Kato, Yuto Seki, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

    43rd International Symposium on Dry Process  2022年11月24日  Japan Society of Applied Physics

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    開催年月日： 2022年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Osaka International Convention Center   国名：日本国  

  63. マイクロ波プラズマ技術による大気圧プラズマ生成と液体処理 招待有り

    豊田浩孝

    第16回日本電磁波エネルギー応用学会  2022年10月14日  日本電磁波エネルギー応用学会

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    開催年月日： 2022年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：オンライン   国名：日本国  

  64. Microwave plasma source development and applications from low pressure to atmospheric pressure 招待有り 国際会議

    2022年10月13日  Association of Asia Pacific Physical Societies, Division of Plasma Physics

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    開催年月日： 2022年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（基調）  

    開催地：Remote  

  65. Continuous liquid treatment by high-density microwave plasma in flowing liquid 招待有り 国際会議

    Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

    11th International Conference on Reactive Plasmas/75th Annual Gaseous Electronics Conference  2022年10月6日  Japan Society of Applied Physics

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    開催年月日： 2022年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Sendai International Ceneter, Sendai   国名：日本国  

  66. 二周波容量結合型Ar/C4F8/O2プラズマのパルス運転がイオン組成に及ぼす影響

    関 悠斗、加藤 閣人、久保井 宗一，鈴木 陽香,　豊田浩孝

    2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年9月22日  応用物理学会

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    開催年月日： 2022年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東北大学川内北キャンパス   国名：日本国  

  67. 二周波重畳容量結合型プラズマからRF電極へ入射する高速粒子入射角度分布のイメージング計測 招待有り

    市川 景太，鈴木 陽香,　飯野大輝， 福水裕之，栗原一彰，豊田浩孝

    2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年9月22日  応用物理学会

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    開催年月日： 2022年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：東北大学川内北キャンパス   国名：日本国  

  68. 化学プローブを用いた長尺大気圧プラズマ生成活性ラジカルの可視化

    松浦寛人、トラントラングエン、胡敏、仲野匠、岩田悠揮、鈴木陽香、豊田浩孝

    2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年9月20日  応用物理学会

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    開催年月日： 2022年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東北大学川内北キャンパス   国名：日本国  

  69. Angular distribution of high-energy species on RF-biased electrode of a capacitively-coupled plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    cLPS Global Plasma Forum  2022年9月8日  Center for Low-temperature Plasma Sciences

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    開催年月日： 2022年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Nagoya University   国名：日本国  

  70. 二周波容量結合型Ar/C4F8/O2パルスプラズマ中のイオン時分解計測

    加藤　閣人, 関　悠斗，久保井　宗一, 鈴木　陽香, 豊田　浩孝

    令和４年度電気・電子情報関係学会東海支部連合講演会  2022年8月29日 

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    開催年月日： 2022年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学　（オンライン）   国名：日本国  

  71. Experimental Study on boron distribution and transport at plasma-facing components during impurity powder dropping 国際共著 国際会議

    T. Kawate, N. Ashikawa, M. Goto, T. Oishi, Y. Kawamoto, H. Toyoda, M. Shoji, G. Kawamura, S. Masuzaki, F. Nespoli, E.P. Gilson, R. Lunsford, C. Suzuki, A. Nagy, D. Gates

    15th Asia Pacific Physics Conference  Association of Asia Pacific Physical Societies

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    開催年月日： 2022年8月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：On-line  

  72. 二周波重畳容量結合型プラズマから電極へ入射する高速粒子のイメージング法を用いた角度分布計測

    市川景太, 鈴木陽香, 豊田浩孝

    第69回応用物理学会春期学術講演会   2022年3月25日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

  73. Ar/O2 大気圧マイクロ波プラズマにより処理した ポリイミドフィルムの表面分析

    岩田 悠揮，小笠原 知裕，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    第69回応用物理学会春期学術講演会   2022年3月26日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

  74. 水シールド環境下でのマイクロ波励起水蒸気プラズマの生成と応用 招待有り

    鈴木陽香、豊田浩孝

    第69回応用物理学会春期学術講演会   2022年3月23日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：日本語   会議種別：シンポジウム・ワークショップ パネル（指名）  

  75. 質量分析法を用いた二周波容量結合型 Ar/C4F8/O2 パルスプラズマ中イオンの時分解計測

    関悠斗、加藤閣人、久保井宗一、鈴木陽香、豊田浩孝

    第69回応用物理学会春期学術講演会   2022年3月25日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

  76. 電子サイクロトロン共鳴プラズマ中の基板ステージへの負パルスバイアス電圧印加によるプラズマ密度増加

    濱口育未，ベハンシン, 笹井建典, 鈴木陽香，豊田浩孝

    第69回応用物理学会春期学術講演会   2022年3月22日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

  77. 高周波容量結合型プラズマにおける高アスペクト比キャピラリーホール底部のチャージアップ現象 招待有り

    豊田 浩孝

    応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第234回研究集会  2022年3月15日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

  78. Bubbling Phenomenon on Liquidized Sn-Bi-Li-Er Alloy Surface under H-Plasma Exposure 国際会議

    Kota Tamura, Hirotaka Toyoda

    The 2nd US-Japan Workshop on Power and Particle Control in a Steady State Magnetic Fusion DEMO Reactor by Liquid Metal PFCs  2022年3月11日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

  79. Angular distribution of high-energy Ar ion and neutral in a 13.56 MHz capacitively-coupled plasma 国際会議

    Keita Ichikawa, Haruka suzuki, Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2022/IC-PLANTS2022　09aC05O  2022年3月9日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  80. RF Voltage Division of in RF-biased High-density Plasma with Floating Liner 国際会議

    Yukinori Chiba, Manabu Kyuzo, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2022/IC-PLANTS2022　07P-14  2022年3月7日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  81. Radical measurements of Ar/C4F8 dual frequency capacitively-coupled plasma 国際会議

    Yuto Seki, Haruhito Kato, Schuichi Kuboi, Haruka Suzuki, and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2022/IC-PLANTS2022　08P-14  2022年3月8日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  82. Bubbling Phenomenon of Sn-Bi-Li-Er Alloy under H2 Plasma Exposure 国際会議

    Kota Tamura, H. Suzuki, J. Miyazawa, S. Masuzaki, M. Tokitani, H. Toyoda

    ISPlasma2022/IC-PLANTS2022　08P-21  2022年3月8日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  83. O Radical Measurement of Ar/O2 Microwave Plasma in Atmospheric Pressure 国際会議

    Yuki Iwata, Tomohiro Ogasawara, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2022/IC-PLANTS2022　07pC09O  2022年3月7日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  84. Plasma density increase of electron cyclotron resonance plasma by high voltage pulse power application 国際会議

    Ikumi Hamaguchi, Hansin Bae, Kensuke Sasai, Haruka Suzuki, and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2022/IC-PLANTS2022　07pC08O  2022年3月7日 

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    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  85. 高電圧バイアス印加Ar/C6H6ECRプラズマを用いた導電性炭素膜堆積における磁場構造の影響

    濱口育未，ベハンシン, 笹井建典, 鈴木陽香，豊田浩孝

    第39回プラズマプロセッシングシンポジウム 

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    開催年月日： 2022年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  86. 水素プラズマ照射下におけるスズ-ビスマス-リチウム-エルビウム 溶融合金の発泡現象

    田村晃汰，鈴木陽香，宮澤順一，増崎貴，時谷政行，豊田浩孝

    第39回プラズマプロセッシングシンポジウム  2022年1月25日 

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    開催年月日： 2022年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  87. 容量結合型プラズマにおける電極入射高速粒子角度分布のイメージング計測

    市川景太，チュマンフン、森山誠、中原尚哉、鈴木陽香，豊田浩孝

    第39回プラズマプロセッシングシンポジウム  2022年1月25日 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2022年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  88. 超高周波容量結合型Ar/C4F8/O2プラズマにおける イオンおよび中性ラジカル種の測定

    関悠斗，加藤閣人、久保井宗一、鈴木陽香，豊田浩孝

    第39回プラズマプロセッシングシンポジウム  2022年1月24日 

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    開催年月日： 2022年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  89. 液体スズ合金の水素プラズマ照射における発泡現象

    田村晃汰、豊田浩孝

    「ダイバータの学理と応用」研究会  2022年1月21日 

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    開催年月日： 2022年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

  90. 大気圧長尺マイクロ波プラズマの連続・離散構造変化

    豊田浩孝、鈴木陽香

    「原子分子過程研究の最先端と先進的プラズマ分光計測」 「原子分子データ応用フォーラムセミナー」合同研究会  2021年12月24日 

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    開催年月日： 2021年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：オンライン   国名：日本国  

  91. High-performance Ag nanoparticle production by novel liquid-flow plasma treatment device 国際会議

    Kazuya Yamaguchi, Kensuke Sasai, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

    Materials Research Meeting2021(MRM2021)  2021年12月14日 

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    開催年月日： 2021年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  92. Conductive carbon film deposition by microwave plasma with high voltage biasing 国際会議

    Ikumi Hamaguchi, Hansin Bae, Kensuke Sasai, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

    Materials Research Meeting2021(MRM2021)  2021年12月16日 

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    開催年月日： 2021年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

  93. Spatial distribution measurement of atomic oxygen from atmospheric-pressure microwave line plasma by atomic absorption spectroscopy 国際会議

    Tomohiro Ogasawara, Yuki Iwata, Haruka Suzuki, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori, Hirotaka Toyoda

    The 12th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology(APSPT-12)  2021年12月10日 

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    開催年月日： 2021年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：（Taipei On-line）   国名：台湾  

  94. Influence of metal exposure on the plasma potential in RF-biased high-density plasma with floating liner 国際会議

    Yukinori Chiba, Manabu Kyuzo, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    The 12th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology(APSPT-12)  2021年12月9日 

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    開催年月日： 2021年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：（Taipei On-line）   国名：台湾  

  95. パルスマイクロ波励起大気圧長尺酸素添加アルゴンプラズマ源の性能評価

    小笠原知裕、岩田悠揮、鈴木陽香、豊田浩孝

    第38回 プラズマ・核融合学会 年会  2021年11月22日 

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    開催年月日： 2021年11月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：オンライン   国名：日本国  

  96. 水素プラズマ照射下でのスズおよびスズ合金からのスパッタリング計測

    田村晃汰，鈴木陽香，宮澤順一，増崎貴，時谷政行，豊田浩孝

    第38回 プラズマ・核融合学会 年会  2021年11月22日 

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    開催年月日： 2021年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：オンライン   国名：日本国  

  97. 高密度表面波プラズマを用いた銀ナノ粒子の溶融

    疋田　和也，笹井　健典，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    第38回 プラズマ・核融合学会 年会  2021年11月22日 

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    開催年月日： 2021年11月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：オンライン   国名：日本国  

  98. Influence of small grounded surface on plasma property in an inductively-coupled plasma with floating liner 国際会議

    Haruka Suzuki, Makoto Moriyama, Naoya Nakahara, Keita Ichikawa, and Hirotaka Toyoda

    DPS2021 ONLINE SYMPOSIUM 42nd International Symposium on DryProcess 

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    開催年月日： 2021年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

  99. Investigation of Ar/O2 atmospheric-pressure microwave line plasma and its application to Polyimide film ashing 国際会議

    H. Suzuki, T. Ogasawara1, Y. Iwata and H. Toyoda

    DPS2021 ONLINE SYMPOSIUM 42nd International Symposium on DryProcess 

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    開催年月日： 2021年11月

    記述言語：英語  

  100. High Speed sp2-rich Carbon Film Deposition with Surface-wave Microwave Plasma 国際会議

    H. Bae, H. Suzuki, K. Sasai and H. Toyoda

    DPS2021 ONLINE SYMPOSIUM 42nd International Symposium on DryProcess 

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    開催年月日： 2021年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

  101. Conductive carbon deposition by surface wave plasma with high voltage pulse biasing 国際会議

    Ikumi Hamaguchi, Hansin Bae, Haruka Suzuki,Kensuke Sasai and Hirotaka Toyoda

    Workshop Japan-RUB 2021Bridging the Pandemic: Reigniting Cooperation on Plasma Research(Germany, Online)  2021年11月25日 

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    開催年月日： 2021年10月 - 2021年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  102. Microwave application to liquid process in reduced pressure environment 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Kazuya Yamaguchi, Kengo Yunoki, Haruka Suzuki, Kensuke Sasai

    Workshop Japan-RUB 2021,Bridging the Pandemic: Reigniting Cooperation on Plasma Research  2021年10月29日 

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    開催年月日： 2021年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：(Germany, Online)   国名：ドイツ連邦共和国  

  103. Oxygen radical measurement in Ar/O2 atmospheric pressure microwave line plasma 国際会議

    Yuki Iwata, Tomohiro Ogasawara, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    Workshop Japan-RUB 2021,Bridging the Pandemic: Reigniting Cooperation on Plasma Research  2021年11月25日 

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    開催年月日： 2021年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：(Germany, Online)   国名：ドイツ連邦共和国  

  104. Conductive carbon deposition by surface wave plasma with high voltage pulse biasing 国際会議

    Ikumi Hamaguchi, Hansin Bae, Haruka Suzuki,Kensuke Sasai and Hirotaka Toyoda

    Workshop Japan-RUB 2021,Bridging the Pandemic: Reigniting Cooperation on Plasma Research  2021年11月25日 

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    開催年月日： 2021年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：(Germany, Online)   国名：ドイツ連邦共和国  

  105. Evaluation of charge density at hole bottom of capillary plates in a pulsed dual-frequency capacitively coupled plasma 国際会議

    Haruka Suzuki,Makoto Moriyama,Naoya Nakahara,Hirotaka Toyoda

    74th Annual Gaseous Electronics Conference  2021年10月7日 

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    開催年月日： 2021年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

  106. Highly conductive carbon film deposition by DC and microwave power superposition 国際会議

    Hansin Bae,Kensuke Sasai, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

    74th Annual Gaseous Electronics Conference  2021年10月5日 

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    開催年月日： 2021年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  107. Fast and massive synthesis of silver nanoparticle by a liquid-flow plasma source using AgNO3 solution* 国際会議

    Haruka Suzuki,Kazuya Yamaguchi,Kensuke Sasai,Hirotaka Toyoda

    74th Annual Gaseous Electronics Conference  2021年10月5日 

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    開催年月日： 2021年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  108. Time-resolved Measurement of Charge Density at the Bottom of High-aspect-ratio Holes in a Pulsed Capacitively Coupled Plasma 招待有り 国際会議

    Haruka Suzuki, Makoto Moriyama, Naoya Nakahara, Keita Ichikawa, and Hirotaka Toyoda

    5th Asia-Pacific Conference on Plasma Physics, 26 Sept-1Oct, 2021, Remote e-conference(AAPPS-DPP2021)  2021年9月28日 

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    開催年月日： 2021年9月 - 2021年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

  109. Large A rea Ashing Treatment of Polyimide Film by Atmospheric pressure Pulsed Microwave Line Plasma with Ar/O 2 国際会議

    T.Ogasawara, Y.Iwata, H.Suzuki and H.Toyoda

    5th Asia-Pacific Conference on Plasma Physics, 26 Sept-1Oct, 2021, Remote e-conference(AAPPS-DPP2021) 

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    開催年月日： 2021年9月 - 2021年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  110. 流動液体プラズマ処理装置を用いたAgナノ粒子の長時間安定合成

    〇山口 和也1、鈴木 陽香1、笹井 建典1、豊田 浩孝1,2 (1.名大工、2.核融合研)

    第82回応用物理学会秋季学術講演会、22a-P08-2  2021年9月22日  応用物理学会

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    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：オンライン開催  

  111. ECRプラズマを用いた高伝導性カーボン薄膜成膜

    ベ ハンシン,濱 口 育未,鈴木 陽香,笹井 建典,豊田 浩孝

    第82回応用物理学会秋季学術講演会、12p-N102-13  2021年9月12日  応用物理学会

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    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：オンライン開催  

  112. イメージング法による容量結合型プラズマから電極へ入射する高速粒子の角度分布計測

    ○市川景太，鈴木陽香（名大），豊田浩孝（名大/ 核融合研）

    令和3年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会、A1-7  2021年9月7日 

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    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：オンライン開催  

  113. 二周波容量結合型フルオロカーボンプラズマ中のラジカル計測

    ○関悠斗，久保井宗一，鈴木陽香（名大）， 豊田浩孝（名大/ 核融合研）

    令和3年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会、A1-6  2021年9月7日 

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    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：オンライン開催  

  114. 表面波プラズマを用いた高導電性炭素膜の高速堆積

    ○濱口育未，BaeHansin，笹井建典，鈴木陽香（名大）， 豊田浩孝（名大/ 核融合研）

    令和3年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会、A1-5  2021年9月7日 

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    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：オンライン開催  

  115. 大気圧長尺マイクロ波ラインプラズマによる広幅高速アッシング処理

    ○岩田悠揮，小笠原知裕，鈴木陽香（名大）， 豊田浩孝（名大/ 核融合研）

    令和3年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会、A1-4  2021年9月7日 

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    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：オンライン開催  

  116. BH and BD molecular spectroscopy during the Impurity Powder Dropper experiments 国際会議

    T. KAWATE, N. Ashikawa, M. Goto, T. Oishi, Y. Kawamoto, and H. Toyoda

    15th International Workshop on Hydrogen Isotopes in Fusion Reactor Materials（HWS2020） 

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    開催年月日： 2021年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：zoom  

  117. ＬＨＤにおけるボロンを使った水素リサイクリング抑制実験

    芦川直子（核融合研、総研大）、川手朋子（核融合研、総研大）、豊田浩孝（名古屋大学）、Zhen SUN（ASIPP、PPPL）

    日本原子力学会　春の年会（2021）オンライン（早稲田大学）  2021年3月17日 

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    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：オンライン開催   国名：日本国  

  118. 表面波プラズマによるグラファイトライクカーボン膜の高速成膜

    BAE Hansin,疋田 和也,鈴木 陽香,笹井 建典,豊田 浩孝

    第68回応用物理学会春季学術講演会、19a-P02-4  2021年3月18日  応用物理学会

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    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：オンライン開催  

  119. プラズマエレクトロニクス分科会の国際展開 　-GECとの連携- 招待有り

    豊田　浩孝

    第68回応用物理学会春季学術講演会17p-Z03-3  2021年3月17日  応用物理学会

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    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：オンライン開催  

  120. 液温制御による流動液体プラズマ処理装置の長時間安定運転と Ag ナノ粒子合成

    山口 和也,鈴木 丈,鈴木 陽香,笹井 建典,豊田 浩孝

    第68回応用物理学会春季学術講演会、19a-P02-6  2021年3月19日 

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    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

  121. パルスマイクロ波励起大気圧酸素添加アルゴンプラズマによる広幅アッシング処理

    小笠原 知裕 ，岩田 悠揮 ，鈴木 陽香 ，豊田 浩孝

    第68回応用物理学会春季学術講演会、18p-Z17-11  2021年3月19日  応用物理学会

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    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：オンライン開催  

  122. 絶縁ライナー付誘導結合型プラズマへの微小接地電極挿入におけるプラズマ変動

    千葉 行徳,久蔵 学,鈴木 陽香,豊田 浩孝

    第68回応用物理学会春季学術講演会、19a-P02-4  2021年3月19日  応用物理学会

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    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：オンライン開催  

  123. Wide-area and High-speed Deposition of Graphitic Film by Microwave Surface Wave Plasma with High Power Pulse 国際会議

    Hansin Bae, Haruka Suzuki, Kensuke Sasai and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2021/IC-PLANTS2021　09aB05O  2021年3月9日 

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    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  124. Effect of grounded electrode on plasma propety in ICP with floating liner 国際会議

    Manabu Kyuzo*, Yukinori Chiba, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    2021年3月8日 

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    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  125. Deuterium Depth Profile of Plasma-Exposed Solid/Liquid Tin 国際会議

    Kota Tamura,Haruka Suzuki, Suguru Masuzaki,Masayuki Tokitani, Junichi Miyazawa, Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2021/IC-PLANTS2021　08P-38  2021年3月8日 

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    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  126. Time-dependent Measurement of Charge Density at Bottom of High-aspect Hole in a Capacitively-coupled Plasma 国際会議

    Makoto Moriyama, Naoya Nakahara, Keita Ichikawa,Manh Hung Chu,Haruka Suzuki* and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2021/IC-PLANTS2021　08pB14O  2021年3月8日 

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    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

  127. Ashing Treatment of Polyimide Film by Atmospheric-pressure Microwave Line Plasma with Ar/O2 国際会議

    2Haruka Suzuki*, Tomohiro Ogasawara, Yuki Iwata, and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2021/IC-PLANTS2021　08pB07O  2021年3月8日 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

  128. 表面波プラズマを用いたグラファイト様炭素膜の大面積高速堆積

    ベ ハンシン，鈴木陽香，笹井建典，豊田浩孝

    第58回プラズマプロセッシングシンポジウム 

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    開催年月日： 2021年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  129. パルス変調容量結合プラズマにおける高アスペクト比ホール中蓄積電荷の時間変化

    森山誠，中原尚哉，市川景太，Chu Manh Hung，鈴木陽香，豊田浩孝

    第58回プラズマプロセッシングシンポジウム 

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    開催年月日： 2021年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  130. グロー放電水素プラズマを用いたスズ-水素プラズマ相互作用の基礎研究

    田村　晃汰

    ダイバータの学理と応用 NIFS 

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    開催年月日： 2020年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  131. 重水素プラズマ照射スズ中における重水素の深さ分布測定

    田村晃汰1)，鈴木陽香1)，増崎貴2)，時谷政行2)，宮澤順一2)，豊田浩孝1,2) (1)名大，2)核融合研

    プラズマ・核融合学会　第37回年会 

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    開催年月日： 2020年12月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

    DOI： 02P99

  132. パルスマイクロ波励起大気圧酸素添加アルゴンプラズマによる樹脂材料表面処理

    小笠原知裕 1)、鈴木陽香 1)、豊田浩孝 1,2)　(1)名大、2)核融合科学研究所)

    プラズマ・核融合学会　第37回年会 

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    開催年月日： 2020年12月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

    DOI： 02P31

  133. High speed and wide area conductive carbon film deposition by surface-wave plasma.

    H.Bae 1), K.Hikita 1), H.Suzuki 1) 2), K.Sasai 2), H.Toyoda 1) 2) 3) (1) Department of electronics, Nagoya univ., (2) Center for Low-temperature Plasma Sciences(cLPS), Nagoya univ., (3) National Institute for Fusion Science(NIFS)

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    開催年月日： 2020年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

    DOI： 03Ba06

  134. パルス変調二周波重畳容量結合型プラズマにおけるキャピラリープレート下部の電荷密度評価 国際会議

    中原尚哉1)、森山誠1)、鈴木陽香1,2)、豊田浩孝1,2,3) (1)名大、2)名大低温プラズマ、3)核融合研)

    プラズマ・核融合学会　第37回年会,中継本部愛媛大学 

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    開催年月日： 2020年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  135. 大気圧マイクロ波プラズマの大面積かつ高速表面処理への応用

    鈴木 陽香1,2, 小笠原知裕1, Chu Manh Hung1, 岩田 悠揮1, 豊田 浩孝1,2,3

    プラズマ・核融合学会　第37回年会,中継本部愛媛大学  2020年12月3日 

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    開催年月日： 2020年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  136. Quantitative Evaluation of Hydrogen Retention of Solid and Liquid Tin by Thermal Desorption Spectroscopy 国際会議

    Kota TAMURA1, Haruka SUZUKI1, Junichi MIYAZAWA2, Suguru MASUZAKI2, Hirotaka TOYODA1;2 1. Nagoya University

    The 29th International Toki Conference on Plasma and Fusion Research 

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    開催年月日： 2020年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：zoom   国名：日本国  

  137. Evaluation of absolute charge density at the bottom of hole pattern using high aspect ratio capillary plate 国際会議

    MAKOTO MORIYAMA, NAOYA NAKAHARA, HARUKA SUZUKI,HIROTAKA TOYODA

    GEC20 Meeting of The American Physical Society、RW3.4 

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    開催年月日： 2020年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  138. Film Surface Treatment with O2/Ar Line Plasma under Atmospheric Pressure 国際会議

    Haruka Suzuki, Hirotsugu Koma, Tomohiro Ogasawara, Manh Hung Chu, Hirotaka Toyoda

    GEC20 Meeting of The American Physical Society、LT3.00007  2020年10月6日 

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    開催年月日： 2020年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  139. パルス変調容量結合型プラズマにおけるキャピラリープレート下部の電荷密度変化

    中原 尚哉 ,森山 誠 ,鈴木 陽香 ,豊田 浩孝

    第81回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2020年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

    DOI： 11p-Z0310

  140. パルス変調容量結合型プラズマにおけるキャピラリープレート下部の電荷密度の時分解計測

    中原 尚哉 ,森山 誠 ,鈴木 陽香 ,豊田 浩孝

    令和2年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2020年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

    DOI： 02Ba07

  141. 誘導型結合プラズマ中の銀粒子挙動

    疋田　和也*, べ　ハンシン, 鈴木　陽香, 笹井　建典（名古屋大学）, 豊田　浩孝 (名古屋大学, 核融合科学研究所)

    令和2年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

    DOI： B5-4

  142. 大気圧長尺マイクロ波ラインプラズマによる表面親水化処理

    小笠原 知裕，小間 浩嗣，鈴木 陽香 (名古屋大学)，本田 剛（株式会社ニッシン） 豊田 浩孝 (名古屋大学, 核融合科学研究所)

    令和2年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2020年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

    DOI： B5-6

  143. Heat flux evaluation of the atmospheric pressure microwave line plasma from spatio-temporal temperature measurement of the slot-plate

    (M2) Manh Hung Chu1, Haruka Suzuki1, Hirotaka Toyoda1

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    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  144. アルカリ剤を用いたプラズマ 合成 Agナノ粒子の再溶解抑制

    鈴木 丈 鈴木 陽香，豊田 浩孝

    第67回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：上智大学　四谷キャンパス   国名：日本国  

  145. パルス変調容量結合プラズマにおけるキャピラリープレート近傍のャージ量絶対評価

    (D)森山 誠，中原 尚哉，三矢 晶洋，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    第67回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：上智大学　四谷キャンパス   国名：日本国  

  146. 容量結合型 プラズマ中におけるキャピラリープレート上部電位の推定

    M1 中原 尚哉 森山 誠 三矢 晶洋 鈴木 陽香 ，豊田 浩孝

    第67回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：上智大学　四谷キャンパス   国名：日本国  

  147. Temperature measurement of slot-plate in an atmospheric-pressure microwave linear plasma 国際会議

    ISPlasma/IC-PLANTS2020 

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    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Nagoya University   国名：日本国  

  148. Electromagnetic Analysis in a Long-scale Slot Plasma Excited by Microwave Travelling Wave 国際会議

    Hirotsugu Koma, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma/IC-PLANTS2020 

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    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University   国名：日本国  

  149. Synthesis of silver nanoparticles by in line liquid process using microwave plasma source 国際会議

    Jyo Suzuki, Haruka Suzuki, Kensuke Sasai and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma/IC-PLANTS2020 

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    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  150. Quantitative Evaluation of Hydrogen Retention in Metal Tin using Thermal Desorption Spectroscopy 国際会議

    ISPlasma/IC-PLANTS2020 

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    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University   国名：日本国  

  151. Spatial characteristics analysis of atmospheric pressure microwave plasma with FEM simulation 国際会議

    Yoshiki Baba*, Makoto Moriyama, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma/IC-PLANTS2020 

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    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University   国名：日本国  

  152. 容量結合プラズマ中に設置されたエッチングホール模擬用キャピラリープレートの電位構造解析

    森⼭ 誠、中原 尚哉、三⽮ 晶洋、鈴⽊ 陽⾹、豊⽥ 浩孝

    プラズマ・核融合学会　第36回年会 

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    開催年月日： 2019年11月 - 2019年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学　春日井キャンパス   国名：日本国  

  153. 核融合炉ダイバー応用へ向けたスズの水素吸蔵量定量評価

    田村晃汰，鈴木陽香，宮澤順一，豊田浩孝

    プラズマ・核融合学会　第36回年会 

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    開催年月日： 2019年11月 - 2019年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学　春日井キャンパス   国名：日本国  

  154. potential structure of high-aspect-ratio capillary hole in a pulsed-VHF capactive coupled plasma 国際会議

    M. Moriyama, A. Mitsuya, N. Nakahara, H. Suzuki, H. Toyoda

    2019 International Symposium on DryProcess 

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    開催年月日： 2019年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：JMS Aster Plaza,Hiroshima,Japan   国名：日本国  

  155. Microscopic observation of an atmospheric-pressure microwave plasma produced in a meter-scale slot with sub-millimeter gap 国際会議

    HIROTAKA TOYODA, HIROTSUGU KOMA, YOSHIKI BABA, MANH HUNG CHU, HANSIN BAE, HARUKA SUZUKI

    GEC19 Meeting of The American Physical Society 

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    開催年月日： 2019年10月 - 2019年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Texas A&M University Campus in College Station   国名：アメリカ合衆国  

  156. Space-resolved oxygen radical measurement of atmo- spheric pressure microwave line plasma using vacuum ul- traviolet absorption spectroscopy 国際会議

    HANSIN BAE, HIROTSUGU KOMA, HARUKA SUZUKI, HIROTAKA TOYODA

    GEC19 Meeting of The American Physical Society 

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    開催年月日： 2019年10月 - 2019年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Texas A&M University Campus in College Station   国名：アメリカ合衆国  

  157. パルスマイクロ波励起大気圧長尺スロットプラズマの時分解計測

    チュー マン フン，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    第80回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：北海道大学　札幌キャンパス   国名：日本国  

  158. 表面波プラズマ生成アンテナへのDCパルス電圧印加時における 絶縁表面電位の時間変化

    福田 奨, 鈴木 陽香, 村田祐也, 山本兼司,豊田 浩孝

    第80回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：北海道大学　札幌キャンパス   国名：日本国  

  159. 二周波重畳容量結合型プラズマ装置におけるファラデーカップを用いたイオンエネルギー分布の計測

    三矢晶洋、森山誠、中原尚哉、鈴木陽香、豊田浩孝

    第80回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：北海道大学　札幌キャンパス   国名：日本国  

  160. 電磁界シミュレーションによる 進行波を用いた長尺スロットプラズマ内における電磁界分布の検討

    小間 浩嗣, 鈴木 陽香 ，豊田 浩孝

    第80回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：北海道大学　札幌キャンパス   国名：日本国  

  161. ⼆周波重畳容量結合型プラズマにおけるキャピラリープレート内の電位構造解析

    森⼭ 誠、三⽮ 晶洋、中原 尚哉、鈴⽊ 陽⾹、豊⽥ 浩孝

    第80回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：北海道大学　札幌キャンパス   国名：日本国  

  162. 大気圧下におけるスロット励起マイクロ波O2/Arプラズマの断面空間構造の空間分解観測

    馬場 賀己、鈴木 陽 香、豊田 浩孝

    第80回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：北海道大学　札幌キャンパス   国名：日本国  

  163. 二周波重畳容量結合型プラズマにおける キャピラリープレート内の電位構造解析

    中原 尚哉*, 森山 誠，三矢 晶洋，鈴木 陽香，豊田 浩孝 (名大工) 栗原 一彰，飯野 大輝，福水 裕之，林 久貴，鈴木 啓之 (東芝メモリ)

    令和元年度 電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：大同大学   国名：日本国  

  164. 昇温脱離法を用いた固体スズ中の水素吸蔵量評価

    田村晃汰，鈴木陽香，宮澤順一，豊田浩孝

    令和元年度 電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：大同大学   国名：日本国  

  165. 大気圧マイクロ波プラズマにおけるギャップ内ガス温度の空間分解計測　

    馬場 賀己＊，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    令和元年度 電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：大同大学   国名：日本国  

  166. "二周波重畳容量結合型プラズマ装置における ファラデーカップを用いたイオンエネルギー分布の測定"

    三矢 晶洋*，森山 誠，中原 尚哉、鈴木 陽香、豊田 浩孝

    令和元年度 電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：大同大学   国名：日本国  

  167. 表面波プラズマ生成アンテナへのDCパルス電圧印可時における絶縁膜表面電位の考察

    福田 奨＊，鈴木 陽香(名古屋大学)，村田 祐也，山本 兼司(神戸製鋼)，豊田 浩孝(名古屋大学)

    令和元年度 電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：大同大学   国名：日本国  

  168. High Speed Synthesis of Nanoparticles in Liquid Environment by In-Line Type Plasma Device

    Shaofei Yang, Jyo Suzuki, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  169. High Speed Synthesis of Nanoparticles in Liquid Environment by In-Line Type Plasma Device

    Shaofei Yang, Jyo Suzuki, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  170. Oxygen Radical Flux Measurement of Atmospheric Pressure Microwave Line Plasma 国際会議

    H. Bae, Y. Koike, H. Koma, H. Suzuki and H. Toyoda

    AEPSE2019 

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    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：大韓民国  

  171. Potential Control of Surface Wave Excited Plasma by Pulsed DC Voltage Applied to Plasma-Immersed Waveguide 国際会議

    S. Fukuda, K. Udagawa, H. Suzuki, Y. Tauchi, H. Toyoda

    XXXIV ICPIG & ICRP-10 

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    開催年月日： 2019年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地： Sapporo, Hokkaido, Japan   国名：日本国  

  172. Measurement of ion energy in dual-frequency capacitive coupled plasma 国際会議

    M. Moriyama, A. Mitsuya, N. Nakahara, H. Suzuki, H. Toyoda

    XXXIV ICPIG & ICRP-10 

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    開催年月日： 2019年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地： Sapporo, Hokkaido, Japan   国名：日本国  

  173. Development of Microwave Remote Plasma Source for New Surface Functionalization 国際会議

    T. Okimoto, Yoshiyuki Isomura, Y. Ikari, Y. Tauchi, K. Nishiyama, Kobe Steel, Ltd., Japan H. Toyoda, H. Suzuki, Nagoya University, Japan

    International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films(ICMCTF 2019) 

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    開催年月日： 2019年5月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：San Diego, CA,USA   国名：アメリカ合衆国  

  174. Large-area surface treatment using microwave plasma excited in meter-length slot with sub-millimeter gap 国際会議

    Haruka Suzuki, Hirotsugu Koma, Manh Hung Chu, Hansin Bae, Yoshiki Baba, and Hirotaka Toyoda

    The 10th of International Workshop on Microplasmas (IWM-10) 

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    開催年月日： 2019年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  175. Time-resolved microscopic measurement of slot excited atmospheric pressure microwave plasma 国際会議

    Yoshiki Baba, Haruka Suzuki, and Hirotaka Toyoda

    The 10th of International Workshop on Microplasmas (IWM-10) 

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    開催年月日： 2019年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  176. 革新的プラズマ源開発とエネルギー科学応用 招待有り 国際会議

    豊田浩孝

    第82回マテリアルズテーラリング研究会 

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    開催年月日： 2019年4月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：横浜　慶応大学日吉キャンパス   国名：日本国  

  177. 長尺大気圧マイクロ波プラズマ生成と表面処理の応用 招待有り

    豊田浩孝

    表面技術協会　第139回講演大会 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：神奈川大学　横浜キャンパス   国名：日本国  

  178. Optimized waveguide structure for atmospheric pressure microwave plasma 国際会議

    Manh Hung Chu,Haruka Suzuki ,Hirotaka Toyoda

    ISPlasma/IC-PLANTS2019(11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/12th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science) 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Nagoya Institute of Technology   国名：日本国  

  179. Time-resolved Measurement of Cross-Sectional Structure of a Narrow Gap Plasma Produced by an Atmospheric Pressure Microwave Discharge 国際会議

    Yoshiki Baba, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma/IC-PLANTS2019(11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/12th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science) 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya Institute of Technology   国名：日本国  

  180. Potential Control of Surface Wave Plasma by Applying DC Pulse Voltage to a Slot type Microwave Antenna 国際会議

    Sho Fukuda, Kou Udagawa, Haruka Suzuki, Yuki Yauchi, Hirotaka Toyoda

    ISPlasma/IC-PLANTS2019(11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/12th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science) 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya Institute of Technology   国名：日本国  

  181. Microscopic Measurement of Long Microwave Plasma at Atmospheric Pressure 国際会議

    Hirotsugu Koma, Yosuke Koike, Haruka Suzuki,Hirotaka Toyoda

    ISPlasma/IC-PLANTS2019(11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/12th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science) 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya Institute of Technology   国名：日本国  

  182. Oxygen radical measurement of atmospheric pressure microwave plasma employing vacuum ultraviolet absorption spectroscopy 国際会議

    Hansin Bae, Koike Yosuke, Hirotsugu Koma, Haruka Suzuki Hirotaka Toyoda

    ISPlasma/IC-PLANTS2019(11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/12th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science) 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya Institute of Technology   国名：日本国  

  183. Hydrogen Recycling Properties of Tin wall in DC Glow Hydrogen Plasma 国際会議

    Kota Tamura*, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda and Junichi Miyazawa

    ISPlasma/IC-PLANTS2019(11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/12th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science) 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya Institute of Technology   国名：日本国  

  184. 大気圧長尺マイクロ波プラズマによる大面積高速表面処理

    小間 浩嗣 ，杉山 敦士 ，鈴木 陽香，本田 剛 ，豊田 浩

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東工大　大岡山キャンパス   国名：日本国  

  185. マイクロ波アンテナへのDCパルス電圧印加による絶縁表面へのイオン衝撃

    福田 奨,宇田川 洸, 鈴木 陽香, 田内 裕基, 豊田 浩孝

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東工大　大岡山キャンパス   国名：日本国  

  186. 液体流形マイクロ波プラズマによるナノ粒子の高速合成

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東工大　大岡山キャンパス   国名：日本国  

  187. Oxygen Radical Measurement of Atmospheric Pressure Microwavw Line Plasma by Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  188. 二周波重畳容量結合プラズマ基本特性の実験的評価 の実験的評価 の実験的評価

    三矢 晶洋， 森山 誠，鈴木 ，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東工大　大岡山キャンパス   国名：日本国  

  189. シミュレーションによる二周波重畳容量結合プラズマの基本特性解析

    森山 誠，三矢 晶洋，中原 尚哉，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東工大　大岡山キャンパス   国名：日本国  

  190. スロット型大気圧マイクロ波プラズマの時空間分解計測

    馬場 賀己，鈴木陽香，豊田 浩孝

    第66回応用物理学会春季学術講演会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東工大　大岡山キャンパス   国名：日本国  

  191. スロット励起大気圧マイクロ波プラズマの断面構造の時分解顕微観測

    Yoshiki Baba, Haruka Suzuki, Hirotaka Toyoda,馬場賀己, 鈴木陽香, 豊田浩孝

    第36回プラズマプロセシング研究会と第31回プラズマ材料科学シンポジウムC3-119-007 

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    開催年月日： 2019年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：高知城ホール   国名：日本国  

  192. シミュレーションを援用した大気圧マイクロ波プラズマ源の非対称断面導波管内電磁界分布の解析

    チュー　マン・フン、鈴木　陽香、豊田　浩孝

    第36回プラズマプロセシング研究会と第31回プラズマ材料科学シンポジウム 

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    開催年月日： 2019年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：高知城ホール   国名：日本国  

  193. メートル級長尺スロット型プラズマ源における 大気圧マイクロ波プラズマの顕微計測

    小間　浩嗣、小池　洋右、鈴木　陽香、豊田　浩孝、

    第36回プラズマプロセシング研究会と第31回プラズマ材料科学シンポジウム 

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    開催年月日： 2019年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：高知城ホール   国名：日本国  

  194. スロット励起マイクロ波プラズマを用いた水蒸気プラズマ処理プロセス 招待有り

    鈴木陽香、豊田浩孝

    第28回 日本MRS年次大会 

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    開催年月日： 2018年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：北九州/小倉   国名：日本国  

  195. 大気圧マイクロ波O2/CF4プラズマを用いた有機物除去処理

    石川翔太、鈴木陽香、本田剛、豊田浩孝

    第28回 日本MRS年次大会 

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    開催年月日： 2018年12月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：北九州/小倉   国名：日本国  

  196. 新規大気圧マイクロ波プラズマ源の開発と応用 招待有り

    鈴木陽香、豊田浩孝

    高機能トライボ表面プロセス部会 第12回例会 

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    開催年月日： 2018年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：岐阜大学サテライトキャンパス   国名：日本国  

  197. 直流放電プラズマを用いた金属スズの水素リサイクリング評価

    田村晃汰，鈴木陽香，豊田浩孝，宮澤順一

    プラズマ核融合学会 第35回年会 

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    開催年月日： 2018年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：大阪大学   国名：日本国  

  198. 二周波重畳容量結合プラズマの基本特性評価

    森山誠，三矢晶洋，中原尚哉，鈴木陽香，豊田浩孝

    プラズマ核融合学会 第35回年会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年12月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：大阪大学   国名：日本国  

  199. 大気圧マイクロ波ラインプラズマにおける酸素原子の紫外吸収分光計測

    BAE Hansin，小池洋右，小間浩嗣，鈴木陽香，豊田浩孝

    プラズマ核融合学会 第35回年会 

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    開催年月日： 2018年12月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：大阪大学   国名：日本国  

  200. 大気圧下でのメートル級マイクロ波プラズマの生成と応用 招待有り

    鈴木陽香、豊田浩孝

    プラズマ核融合学会 第35回年会 

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    開催年月日： 2018年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：大阪大学   国名：日本国  

  201. Influence of magnetic field on high-energy negative ion behavior in magnetron plasma with oxide targets 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Ko Udagawa, Akihiro Mitsuya, Hansin Bae, Haruka Suzuki

    2nd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics 

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    開催年月日： 2018年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：The Kanazawa Chamber of Commerce and Industry Hall &Ishikawa Prefectural Bunkyo Hall   国名：日本国  

  202. High speed photoresist removal using slot-excited atmospheric-pressure microwave O2/CF4 plasma 国際会議

    Shota Ishikaw1, Haruka Suzuki, Tsuyoshi Honda and Hirotaka Toyoda

    The 40th International Symposium on Dry Process(2018) 

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    開催年月日： 2018年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  203. Ring-shaped microwave plasma production in liquid flow environment for nanoparticle synthesis 招待有り 国際会議

    S. Fujimura, S. Yang, K. Sasai, H. Suzuki and H. Toyoda

    The 40th International Symposium on Dry Process(2018) 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  204. Observation of cross sectional plasma structure in a gap of an atmospheric pressure microwave discharge 国際会議

    Hirotaka Toyoda Yoshiki Baba Haruka Suzuki

    71st Annual Gaseous Electronics Conference  

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    開催年月日： 2018年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地： Portland, Oregon   国名：アメリカ合衆国  

  205. Scaling of Microwave Absorption in Atmospheric Pressure Microwave Line Plasma 国際会議

    Ivan Ganachev,Haruka Suzuki, and Hirotaka Toyoda

    The Eighteenth Biennial IEEE Conference on Electromagnetic Field Computation (CEFC2018) 

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    開催年月日： 2018年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：中華人民共和国  

  206. Diagnostics of energetic particles in magnetron plasma using oxide target 招待有り 国際会議

    Ivan Ganachev, Haruka Suzuki, and Hirotaka Toyoda

    International Symposium on Sputtering & Plasma Processes Pre session (ISSP2018) 

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    開催年月日： 2018年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  207. 流動液体マイクロ波プラズマによるナノ粒子生成

    藤村 昇平、楊 少菲、鈴木 陽香、豊田 浩孝

    応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋国際会議場   国名：日本国  

  208. 大気圧マイクロ波励起O2/CF4プラズマによるフォトレジスト除去処理

    (M2)石川 翔太1、鈴木 陽香1、本田 剛2、豊田 浩孝1 (1.名大工、2.ニッシン)

    応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋国際会議場   国名：日本国  

  209. メートル級長尺大気圧マイクロ波プラズマの顕微計測 招待有り

    鈴木 陽香、小池 洋右、小間 浩嗣、馬場 賀己、豊田 浩孝

    応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋国際会議場   国名：日本国  

  210. 電磁界シミュレーションを用いた大気圧長尺マイクロ波プラズマにおける定在波抑制

    (M2)小池 洋右、小間 浩嗣、鈴木 陽香、豊田 浩孝

    応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋国際会議場   国名：日本国  

  211. マイクロ波アンテナへのDCパルス電圧印加による表面波プラズマの電位制御

    Ltd.)宇田川 洸1, 福田 奨1, 鈴木 陽香1, 田内 裕基2, 豊田 浩孝1

    応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋国際会議場   国名：日本国  

  212. Meter-scale atmospheric pressure microwave line plasma and its applications. 招待有り 国際会議

    H. Toyoda

    Xth INTERNATIONAL WORKSHOP on MICROWAVE DISCHARGES: Fundamentals and Applications 

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    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Zvenigorod, Russia   国名：ロシア連邦  

  213. 表面波プラズマアンテナへのDC パルス電圧印加によるプラズマ電位制御

    福田奨、宇田川洸、鈴木陽香、豊田浩孝（名古屋大学）、田内裕基（神戸製鋼所）

    平成30年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会講演論文集 

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    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名城大学   国名：日本国  

  214. 酸化物ターゲットを用いたマグネトロンスパッタにおける酸素負イオンフラックスの空間分布の数値解析

    三矢　晶洋、宇田川　洸、鈴木　陽香、豊田　浩孝

    平成30年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会講演論文集 

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    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名城大学   国名：日本国  

  215. 大気圧メートル級長尺マイクロ波ラインプラズマの顕微計測

    小間　浩嗣、小池　洋右、鈴木　陽香、豊田　浩孝

    平成30年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会講演論文集 

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    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名城大学   国名：日本国  

  216. スロット励起大気圧マイクロ波プラズマにおけるスロット断面構造の顕微観測

    馬場賀己,　鈴木陽香,豊田浩孝

    平成30年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会講演論文集 

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    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名城大学   国名：日本国  

  217. Surface Roughness Control of ITO Films by VHF Superposed DC Magnetron Plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Haruka Suzuki

    THERMEC2018 

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    開催年月日： 2018年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Paris - FRANCE   国名：フランス共和国  

  218. Long-scale atmospheric-pressure microwave plasma 招待有り 国際会議

    H. Toyoda, H. Suzuki Y. Koike, H. Koma, Y. Baba, J.H. Qiu, M.H. Chu, A. Sugiyama

    JAPAN-RUB Workshop on Plasma Science 

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    開催年月日： 2018年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Bochum /Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  219. Meter-scale atmospheric-pressure microwave plasma for molecular gas processes 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    19th International Congress on Plasma Physics 

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    開催年月日： 2018年6月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Vancouver   国名：カナダ  

  220. 大気圧長尺マイクロ波プラズマにおける電力吸収の空間分布

    小池 洋右，田村 宥人，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    第65回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：早稲田大学   国名：日本国  

  221. 同軸導波管の外部導体ギャップ間におけるマイクロ波プラズマ生成

    藤村 昇平, 鈴木 陽香, 笹井 建典, 豊田 浩孝

    第65回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：早稲田大学   国名：日本国  

  222. マグネトロンスパッタリングにおける負イオンの数値解析による評価

    宇田川　洸，三矢　晶洋，鈴木　陽香，豊田　浩孝

    第65回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：早稲田大学   国名：日本国  

  223. Water-vapor Atmospheric Pressure Microwave Plasma in an Air-Shielded Environment by Water Flow 国際会議

    Haruka Suzuki, Hikaru Senba and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2018 / IC-PLANTS2018 

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    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  224. Space-Resolved Measurement of Microwave Power along Waveguide in Atmospheric Pressure Microwave Line Plasma 国際会議

    Yosuke Koike, Haruka Suzuki, Yuto Tamura, Yoshiki Baba and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2018 / IC-PLANTS2018 

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    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  225. Oxygen Negative Ion Behavior in a VHF-superposed DC Magnetron Sputtering 国際会議

    Kou Udagawa, Akihiro Mitsuya, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2018 / IC-PLANTS2018 

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    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  226. A coaxial-waveguide microwave plasma source for in-line treatment of large volume liquid 国際会議

    Shohei Fujimura, Haruka Suzuki, Kensuke Sasai and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2018 / IC-PLANTS2018 

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    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  227. Power Absorption Mechanism of Atmospheric-Pressure Microwave Line Plasma 国際会議

    Haruka Suzuki, Yosuke Koike, Yuto Tamura, Yoshiki Baba and Hirotaka Toyoda

    ISPlasma2018 / IC-PLANTS2018 

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    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  228. 質量分析を用いた粒子計測の基礎 — 計測原理から分析応用までー 国際会議

    豊田 浩孝

    第30回専門講習会「プロセスプラズマ診断の基礎」 

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    開催年月日： 2018年1月

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  229. Development of Microwave Plasma Sources and its Application to Materials Processing 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    27th Annual Meeting of MRS-Japan 2017 

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    開催年月日： 2017年12月

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  230. 大気圧マイクロ波プラズマCVDによるSiO2膜形成及び膜評価

    石川 翔太、鈴木 陽香、豊田 浩孝

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    開催年月日： 2017年11月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：姫路商工会議所   国名：日本国  

  231. 直流およびVHF重畳直流マグネトロンプラズマにおける高エネルギー酸素負イオンに起因する指向性熱フラックスの測定

    宇田川 洸、鈴木 陽香、豊田 浩孝

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    開催年月日： 2017年11月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：姫路商工会議所   国名：日本国  

  232. 電磁界シミュレーションを用いた大気圧マイクロ波ラインプラズマの均一性向上の検討

    小池 洋右、田村 宥人、鈴木 陽香、豊田 浩孝

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    開催年月日： 2017年11月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：姫路商工会議所   国名：日本国  

  233. ギャップ型マイクロ波プラズマ源の改良による液体処理能力向上

    藤村 昇平、堤 和紀、鈴木 陽香、豊田 浩孝

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    開催年月日： 2017年11月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：姫路商工会議所   国名：日本国  

  234. 水流遮蔽水蒸気マイクロ波プラズマの生成とその応用

    鈴木 陽香、仙波 輝、豊田 浩孝

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    開催年月日： 2017年11月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：姫路商工会議所   国名：日本国  

  235. Power Absorption Mechanism of Atmospheric Microwave Line Plasma 国際会議

    H. Suzuki, Y. Koike, Y. Tamura, Y. Baba, and H. Toyoda

    DPS2017 

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    開催年月日： 2017年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Tokyo Institute of Technology, Tokyo   国名：日本国  

  236. Power absorption of atmospheric-pressure microwave-line-plasma 国際会議

    HIROTAKA TOYODA, HARUKA SUZUKI, YUTO TAMURA, YOSUKE KOIKE, YOSHIKI BABA

    GEC2017 

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    開催年月日： 2017年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：DoubleTree by Hilton, Pittsburgh, Green Tree, Pennsylvania ,USA   国名：アメリカ合衆国  

  237. Production of long-scale atmospheric pressure microwave plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    AAPPS-DPP2017(the 1st Asia-Pacific Conference on Plasma Physics) 

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    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Jinniu Hotel, Chengdu, China   国名：中華人民共和国  

  238. Oxygen Negative Ion Flux Evaluation in DC and DC-VHF Magnetron Plasmas through Directional Heat Flux Measurement 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Kou Udagawa, Haruka Suzuki, Taku Suyama and Hansin Bae

    AEPSE2017 

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    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Jeju International Convention Center, Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  239. VHF-DC重畳マグネトロンプラズマにおける高エネルギーO-イオンに由来する熱フラックスの評価

    宇田川 洸，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    平成29年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  240. 空間分解型吸収分光装置を用いたプラズマによる有機溶質分解過程の調査

    藤村 昇平, 堤 和紀, 鈴木 陽香, 豊田 浩孝

    平成29年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  241. スロット励起大気圧マイクロ波プラズマにおける消費電力シミュレーション

    小池 洋右，田村 宥人，馬場 賀己，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    平成29年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  242. スロット励起大気圧マイクロ波プラズマCVDによるSiO2薄膜形成

    石川 翔太，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    平成29年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  243. スロット励起大気圧マイクロ波プラズの電力消費に関する電磁界シミュレーョン

    鈴木 陽香 ，小池 洋右 , 田村 宥人 , 馬場 賀己 , 豊田 浩孝

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    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス   国名：日本国  

  244. 大気圧マイクロ波ラインプラズマにおける電力吸収機構

    田村 宥人， 小池 洋右 , 鈴木 陽香 , 豊田 浩孝

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    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス   国名：日本国  

  245. マイクロ波インライン液体処理における反応領域のその場計測

    堤 和紀 ，藤村 昇平, 鈴木 陽香，豊田 浩孝

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    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス   国名：日本国  

  246. 水流により遮蔽された空間での水蒸気マイクロ波プラズ生成

    仙波 輝, 小池 洋右 , 鈴木 陽香 , 豊田 浩孝

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    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス   国名：日本国  

  247. Meter -scale microwave plasma production with various discharge gases for large-area surface treatment under atmospheric pressure 招待有り 国際会議

    H. Suzuki, Y. Tamura, Y. Inomata, and H. Toyoda

    IUMRS-ICAM 2017(The 15th International Conference on Advanced Materials) 

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    開催年月日： 2017年8月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Yoshida Campus, Kyoto University,   国名：日本国  

  248. Improvement of SiO2 film properties synthesized by plasma-enhanced chemical vapor deposition using slot-type microwave plasma with O 2/TEOS 招待有り 国際会議

    S. Ishikawa , M. Yamamoto, H. Suzuki, and H. Toyoda

    IUMRS-ICAM 2017(The 15th International Conference on Advanced Materials) 

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    開催年月日： 2017年8月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Yoshida Campus, Kyoto University,   国名：日本国  

  249. Optical measurement of meter-scale microwave line plasma under atmospheric pressure 国際会議

    H. Suzuki, Y. Tamura, Y. Inomata, and H. Toyoda

    ICPIG 2017 

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    開催年月日： 2017年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Estoril Congress Center, Estoril/Lisbon, Portugal   国名：ポルトガル共和国  

  250. Quantitative Evaluation of High-Energy Oxygen Negative Ion Flux in DC Magnetron Sputtering of Indium-Tin-Oxide 国際会議

    H. Toyoda, H. Bae, T. Suyama, K. Setaka, H. Suzuki

    ICPIG 2017 

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    開催年月日： 2017年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Estoril Congress Center, Estoril/Lisbon, Portugal   国名：ポルトガル共和国  

  251. Microwave plasma production inside the micro-gap with metergap with meter -scale length 招待有り 国際会議

    H. Suzuki and H. Toyoda

    IWM 2017(The 9th International Workshop on Microplasmas) 

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    開催年月日： 2017年6月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Riessersee Hotel, Garmisch-Partenkirchen, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  252. Development of atmospheric pressure microwave plasma source for large-area surface treatment 国際会議

    H. Suzuki and H. Toyoda

    The 22th KJ workshop 

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    開催年月日： 2017年4月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Sungkyunkwan University, Suwon, Republic of Korea   国名：大韓民国  

  253. マイクロ波励起メートル級大気圧プラズマの生成とその特性

    鈴木陽香 ，田村宥人 ，猪俣弥雄起 ，関根誠 ，堀勝 ，豊田浩孝

    第64回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：パシフィコ横浜 （神奈川県横浜市）   国名：日本国  

  254. マイクロ波インライン液体処理における反応領域の空間分布計測

    堤和紀，滝藤奨，藤村昇平, 鈴木陽香，豊田浩孝

    第64回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：パシフィコ横浜 （神奈川県横浜市）   国名：日本国  

  255. 水流により遮蔽された空間での大気圧プラズマジェット生成

    仙波 輝 , 小池 洋右 , 鈴木 陽香 , 豊田 浩孝

    第64回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：パシフィコ横浜 （神奈川県横浜市）   国名：日本国  

  256. マイクロ波励起長尺大気圧プラズマにおけるプラズマ維持機構の検討

    田村 宥人 ，猪俣 弥雄起 , 鈴木 陽香 , 豊田 浩孝

    第64回応用物理学会春季学術講演会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：パシフィコ横浜 （神奈川県横浜市）   国名：日本国  

  257. Measurement of directional heat flux component in VHF-magnetron sputtering 国際会議

    Hansin Bae, Taku Suyama, Kenta Setaka, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    9th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/10th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：CHUBU UNIVERSITY, Aichi, Japan   国名：日本国  

  258. Film quality improvement in slot-type microwave plasma CVD of SiO2 国際会議

    Masaki Yamamoto, Shota Ishikawa, Haruka Suzuki, and Hirotaka Toyoda

    9th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/10th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：CHUBU UNIVERSITY, Aichi, Japan   国名：日本国  

  259. Long-scale N2 line plasma production under atmospheric pressure 国際会議

    Haruka Suzuki, Yuto Tamura, Yaoki Inomata, Hitoshi Itoh, Makoto Sekine, Masaru Hori, and Hirotaka Toyoda

    9th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/10th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：CHUBU UNIVERSITY, Aichi, Japan   国名：日本国  

  260. Shielding of plasma jets from ambient air by water flow certain 国際会議

    Hikaru Senba, Yosuke Koike, Haruka Suzuki and Hirotaka Toyoda

    9th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/10th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：CHUBU UNIVERSITY, Aichi, Japan   国名：日本国  

  261. Introduction to Plasma Production - from Breakdown to Plasma Sustainment - 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    9th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/10th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：CHUBU UNIVERSITY, Aichi, Japan   国名：日本国  

  262. スパッタの基礎とプラズマ解析

    豊田 浩孝

    第29回専門講習会「スパッタ技術の現状と展望」 

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    開催年月日： 2017年2月

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  263. ITOターゲットを用いたVHF重畳DCマグネトロンプラズマにおける熱フラックスの空間分布

    Bae Hansin, 巣山 拓, 鈴木 陽香, 豊田 浩孝

    第34回プラズマプロセシング研究会／第29回プラズマ材料科学シンポジウム（合同会議） 

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    開催年月日： 2017年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：北海道大学   国名：日本国  

  264. 改良導波管および連続発振マイクロ波電力によるメートル級長尺大気圧ラインプラズマの効率的生成

    鈴木 陽香，田村 宥人，猪俣 弥雄起, 伊藤 仁，関根 誠，堀 勝，豊田 浩孝

    第34回プラズマプロセシング研究会／第29回プラズマ材料科学シンポジウム（合同会議） 

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    開催年月日： 2017年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：北海道大学   国名：日本国  

  265. 長尺ラインプラズマ生成のための改良型導波管の電磁界シミュレーション

    田村 宥人，鈴木 陽香，猪俣 弥雄起, 伊藤 仁，関根 誠，堀 勝，豊田 浩孝

    第34回プラズマプロセシング研究会／第29回プラズマ材料科学シンポジウム（合同会議） 

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    開催年月日： 2017年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：北海道大学   国名：日本国  

  266. インラインマイクロ波プラズマ処理の高流速化による有機物分解効率の向上

    堤和紀，滝藤奨，藤村昇平, 伊藤美智子，高島成剛，鈴木陽香，豊田浩孝

    第34回プラズマプロセシング研究会／第29回プラズマ材料科学シンポジウム（合同会議） 

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    開催年月日： 2017年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：北海道大学   国名：日本国  

  267. 酸化物ターゲットを用いたスパッタリングにおける酸素負イオン挙動 招待有り

    豊田 浩孝

    負イオン研究会2016 

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    開催年月日： 2016年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：核融合科学研究所（岐阜県土岐市）   国名：日本国  

  268. マグネトロンプラズマ中の高エネルギー負イオンフラックス評価

    豊田浩孝,巣山拓, Bae Hansin, 鈴木陽香

    プラズマ・核融合学第33回会年会 

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    開催年月日： 2016年12月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東北大学（宮城県仙台市）   国名：日本国  

  269. 大気圧高密度マイクロ波プラズマの生成とその応用 招待有り

    豊田 浩孝

    2016年真空・表面科学合同講演会 

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    開催年月日： 2016年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：名古屋国際会議場   国名：日本国  

  270. Plasma -enhanced chemical vapor deposition of SiO2 films by slot type microwave plasma with O 2/TEOS 国際会議

    Haruka Suzuki, Masaki Yamamoto, and Hirotaka Toyoda

    DPS2016 

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    開催年月日： 2016年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Conference Hall, Hokkaido University, Sapporo, Hokkaido, in Japan   国名：日本国  

  271. Evaluation of O- Ion Flux in a VHFVHF -DC Magnetron Plasma under ITO Sputtering Process 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Taku Suyama, Hansin Bae and Haruka Suzuki

    DPS2016 

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    開催年月日： 2016年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Conference Hall, Hokkaido University, Sapporo, Hokkaido, in Japan   国名：日本国  

  272. 100% N2 atmospheric-pressure microwave-line-plasma production with a modi ed waveguide structure 国際会議

    HARUKA SUZUKI, YUTO TAMURA, HITOSHI ITOH, MAKOTO SEKINE, MASARU HORI, HI- ROTAKA TOYODA

    69th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2016年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Ruhr-Universität Bochum, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  273. High speed deposition of SiO2 lm by slot-type microwave CVD system 国際会議

    HIROTAKA TOYODA, MASAKI YAMAMOTO, HARUKA SUZUKI

    69th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2016年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Ruhr-Universität Bochum, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  274. Development of microwave plasma sources and its applications 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    The 6th International Conference on Microelectronics and Plasma Technology (ICMAP2016) 

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    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Dream Center, Gyeongju, in Korea   国名：大韓民国  

  275. Improvement of Liquid Treatment Efficiency using Microwave In-Line Plasma System with Narrow Flow Path 国際会議

    Haruka Suzuki, Sho Takitou, Hirotaka Toyoda

    The 6th International Conference on Microelectronics and Plasma Technology (ICMAP2016) 

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    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Dream Center, Gyeongju, in Korea   国名：大韓民国  

  276. ITO マグネトロンスパッタにおける酸素負イオンフラックス評価

    巣山 拓, Bae Hansin, 瀬高 健太, 笹井 建典, 鈴木 陽香, 豊田 浩孝

    第77回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：朱鷺メッセ（新潟県新潟市）   国名：日本国  

  277. O2/TEOS スロット型マイクロ波プラズマCVD によるSiO2 膜形成

    山本 匡毅、鈴木 陽香、豊田 浩孝

    第77回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：朱鷺メッセ（新潟県新潟市）   国名：日本国  

  278. インラインマイクロ波プラズマの流路狭小化による液体処理性能向上

    滝藤 奨、伊藤 美智子 、高島 成剛、野村 記生、北川 富則、豊田 浩孝

    第77回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：朱鷺メッセ（新潟県新潟市）   国名：日本国  

  279. 改良型導波管構造によるマイクロ波励起純窒素大気圧ラインプラズマの生成

    鈴木陽香 ，田村宥人 ，伊藤仁 ，関根誠 ，堀勝 ，豊田浩孝

    第77回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：朱鷺メッセ（新潟県新潟市）   国名：日本国  

  280. 窒素ガスを用いたマイクロ波大気圧ラインプラズマの生成

    田村 宥人，鈴木 陽香，伊藤 仁，関根 誠，堀 勝，豊田 浩孝

    平成28年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：豊田工業高等専門学校   国名：日本国  

  281. Evaluation of O- Ion Flux in VHF-DC Magnetron Sputtering

    Hansin Bae, Taku Suyama, Kenta Setaka, Kensuke Sasai, Haruka Suzuki, and Hirotaka Toyoda

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    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  282. プラズマスパッタ　―スパッタの物理とマグネトロンプラズマ―

    豊田 浩孝

    第10回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール 

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    開催年月日： 2016年8月

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：国立中央青少年交流の家   国名：日本国  

  283. High-speed -camera observation of plasma behavior in atmospheric-pressure microwave line plasma 国際会議

    H. Suzuki, H. Ito, M. Sekine, M. Hori, H. Toyoda

    7th International Workshop on Plasma Spectroscopy (IPS2016) 

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    開催年月日： 2016年6月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meitetsu Inuyama Hotel, Inuyama, Japan   国名：日本国  

  284. Two-Dimensional Atomic Absorption Spectroscopy of Plasma-Stimulated Zn Atom Desorption from ZnSO4 Solution 国際会議

    H. Toyoda, T. Takaba, H. Suzuki

    7th International Workshop on Plasma Spectroscopy (IPS2016) 

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    開催年月日： 2016年6月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meitetsu Inuyama Hotel, Inuyama, Japan   国名：日本国  

  285. VHF-DC重畳マグネトロンスパッタによる平坦性向上機構の検討

    巣山 拓，福井 崇史, 瀬高 健太, 笹井建典, 豊田 浩孝

    第63回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2016年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東京工業大学　大岡山キャンパス （東京都目黒区）   国名：日本国  

  286. マイクロ波プラズマ液体処理におけるエネルギー効率向上

    滝藤 奨、伊藤 美智子 、高島 成剛、野村 記生、北川 富則、豊田 浩孝

    第63回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2016年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東京工業大学　大岡山キャンパス （東京都目黒区）   国名：日本国  

  287. スロット内生成マイクロ波プラズマを用いた高速プラズマCVD

    山本 匡毅、鈴木 陽香、豊田 浩孝

    第63回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2016年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東京工業大学　大岡山キャンパス （東京都目黒区）   国名：日本国  

  288. Low Pressure Sustainment of Surface-Wave Microwave Plasma with Modified Microwave Coupler (MMC-SWP) 国際会議

    KENSUKE SASAI, HARUKA SUZUKI AND HIROTAKA TOYODA

    8th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/9th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2016年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  289. マイクロ波プラズを用いた高圧無電極紫外ランプの試作とその長尺化の検討

    西川 拓、豊田 浩孝

    第3回光源物性とその応用研究会 

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    開催年月日： 2015年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：北とぴあ（東京都北区）   国名：日本国  

  290. 大気圧マイクロ波放電による長尺ラインプラズマの生成と基礎特性

    鈴木陽香, 中野優, 伊藤仁, 関根誠, 堀勝, 豊田浩孝

    第32回プラズマ・核融合学会 年会 

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    開催年月日： 2015年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  291. Experimental Verification of the Importance of Slot Position in Microwave Plasma Production with Slot Antenna Array 国際会議

    S. Koga and H. Toyoda

    DPS2015 

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    開催年月日： 2015年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Awaji Yumebutai International Conference Center, Awaji Island, Japan   国名：日本国  

  292. Surface Roughness Control of DC Sputter Film Deposition by Superposition of VHF Power 国際会議

    Takashi Fukui, Taku Suyama, Yushi Fukuoka, Kensuke Sasai, Hirotaka Toyoda

    ICRP-9/GEC-68/SPP-33 

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    開催年月日： 2015年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii   国名：アメリカ合衆国  

  293. Development of High-Throughput Liquid Treatment System Using Slot Antenna Excited Microwave Plasma 国際会議

    SHO TAKITOU, MICHIKO ITO, SEIGOU TAKASHIMA, NORIO NOMURA, TOMINORI KITAGAWA, HIROTAKA TOYODA

    ICRP-9/GEC-68/SPP-33 

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    開催年月日： 2015年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii   国名：アメリカ合衆国  

  294. Application of Atmospheric-Pressure Microwave Line Plasma for Low Temperature Process 国際会議

    HARUKA SUZUKI, SUGURU NAKANO, HITOSHI ITOH, MAKOTO SEKINE, MASARU HORI, HIROTAKA TOYODA

    ICRP-9/GEC-68/SPP-33 

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    開催年月日： 2015年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii   国名：アメリカ合衆国  

  295. Origin of Substrate Heating During Oxide Film Deposition by DC Magnetron Discharge and Superposition of VHF Power 国際会議

    KENTA SETAKA, TAKASHI FUKUI, KENSUKE SASAI, HIROTAKA TOYODA

    ICRP-9/GEC-68/SPP-33 

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    開催年月日： 2015年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii   国名：アメリカ合衆国  

  296. Organic Decomposition Performance of In-line Liquid Treatment System Using Microwave Plasma 国際会議

    MICHIKO ITO, SEIGO TAKASHIMA, NORIO NOMURA, TOMINORI NOMURA, HIROTAKA TOYODA

    ICRP-9/GEC-68/SPP-33 

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    開催年月日： 2015年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii   国名：アメリカ合衆国  

  297. Ultraviolet Light Source Using Electrodeless Microwave Discharge 国際会議

    Taku Nishikawa, Hirotaka Toyoda

    ICRP-9/GEC-68/SPP-33 

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    開催年月日： 2015年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii   国名：アメリカ合衆国  

  298. Evaluation of Heat Flux to Film Surface in DC-VHF Superposed Magnetron Plasma 国際会議

    K. Setaka, T. Fukui, T. Suyama, K. Sasai, and H. Toyoda

    the 21th KJ workshop 

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    開催年月日： 2015年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Osaek Greenyard hotel, Yangyang, Gangwon - do, Korea   国名：大韓民国  

  299. ベンチュリ効果を用いたマイクロ波プラズマ液体処理装置の性能向上

    滝藤 奨，伊藤 美智子, 高島 成剛, 野村 記生, 北川 富則, 豊田 浩孝

    平成27年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋工業大学   国名：日本国  

  300. VHF-DC重畳マグネトロンスパッタにおける膜特性の評価

    巣山 拓，福井 崇史，福岡 侑士，笹井 建典，豊田 浩孝

    平成27年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋工業大学   国名：日本国  

  301. スロット内生成マイクロ波プラズマの基礎的検討

    山本 匡毅，鈴木 陽香，豊田 浩孝

    平成27年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋工業大学   国名：日本国  

  302. Desorption of Alkaline Metals from Electrolyte Liquid Contacting with a DC Pulsed-Plasma 国際会議

    Haruka Suzuki, Takafumi Takaba, Noriharu Takada and Hirotaka Toyoda

    AEPSE2015 

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    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Ramada Plaza Hotel, Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  303. Toward Real Uniform Sputtering – Spatial Uniformity of Thickness and Quality - 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    AEPSE2015 

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    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Ramada Plaza Hotel, Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  304. Optimization of In-line Plasma Treatment Performance 国際会議

    Michiko Ito, Seigo Takashima, Norio Nomura, Tominori Kitagawa and Hirotaka Toyoda

    AEPSE2015 

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    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Ramada Plaza Hotel, Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  305. 吸収分光法によるVHF-DC 重畳マグネトロンプラズマのガス温度測定

    第76回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋国際会議場   国名：日本国  

  306. Low Temperature Treatment using Atmospheric-Pressure Microwave Line Plasma

    Haruka Suzuki, Suguru Nakano, Hitoshi Itoh, Makoto Sekine, Masaru Hori and Hirotaka Toyoda

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    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  307. VHF -DC 重畳 マグネトロンスパッタにおける膜表面粗さの制御

    第76回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋国際会議場   国名：日本国  

  308. マイクロ波プラズマを用いた無電極紫外ランプの温度分布

    第76回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋国際会議場   国名：日本国  

  309. Influence of Solution Temperature on Processing Performance by In-line Plasma Treatment Device 国際会議

    MICHIKO ITO, SEIGO TAKASHIMA, NORIO NOMURA, TOMINORI KITAGAWA AND

    7th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/8th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地： Nagoya University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  310. Gas Temperature Measurement in Atmospheric-Pressure Microwave Line Plasmas 国際会議

    HARUKA SUZUKI, SUGURU NAKANO, HITOSHI ITOH, MAKOTO SEKINE, MASARU HORI

    7th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/8th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地： Nagoya University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  311. 吸収分光法によるArパルスマイクロ波プラズマのガス温度時分解測定

    瀬高 健太、豊田　浩孝

    第62回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東海大学　湘南キャンパス （神奈川県平塚市）   国名：日本国  

  312. マイクロ波プラズマを用いた無電極紫外ランプの開発

    西川 拓、豊田 浩孝

    第62回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東海大学　湘南キャンパス （神奈川県平塚市）   国名：日本国  

  313. VHF-DC 重畳マグネトロンスパッタにおける成膜速度評価

    福井 崇史, 福岡 侑士, 高田 昇治, 笹井建典, 豊田 浩孝

    第62回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東海大学　湘南キャンパス （神奈川県平塚市）   国名：日本国  

  314. 大気圧マイクロ波ラインプラズマにおけるプラズマ挙動シミュレーション

    鈴木 陽香，中野 優，伊藤 仁，関根誠，堀 勝，豊田 浩孝

    第62回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東海大学　湘南キャンパス （神奈川県平塚市）   国名：日本国  

  315. パルスマイクロ波プラズを用いた イン ラ溶液処理装置 における処理性能の Duty 比依存性

    伊藤美智子, 高島成剛, 野村記生, 北川富則, 豊田浩孝

    第62回応用物理学会春季学術講演会 

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    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東海大学　湘南キャンパス （神奈川県平塚市）   国名：日本国  

  316. 表面波プラズマ支援RFスパッタによるMgO薄膜の堆積 国際会議

    萩原敏哉, 豊田浩孝

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    開催年月日： 2014年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  317. 狭ギャップスロットアンテナを用いた大気圧ラインプラズマ生成 国際会議

    中野優, 鈴木陽香, 伊藤仁, 関根誠, 堀勝, 豊田浩孝

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    開催年月日： 2014年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  318. 電解質溶液を電極としたパルスDCプラズマにおける液相由来金属原子の吸収分光計測 国際会議

    鷹羽貴史, 鈴木陽香, 高田昇治, 豊田浩孝

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    開催年月日： 2014年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  319. インラインのプラズマ処理装置により生成される水溶液中のOHラジカル評価 国際会議

    伊藤美智子，高島成剛，野村記生，北川富則，豊田浩孝

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    開催年月日： 2014年11月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  320. Plasma Science for Future Nanotechnology 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    The GRDC Symposium 2014 

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    開催年月日： 2014年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Konkuk University, Seoul, Korea   国名：大韓民国  

  321. Pseudo-continuous meter-scale microwave plasma production under atmospheric pressure 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Haruka Suzuki, Suguru Nakano, Hitoshi Itoh, Makoto Sekine and Masaru Hori

    67th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2014年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地： North Carolina Marriott City Center and Raleigh Convention Center   国名：アメリカ合衆国  

  322. Discharge Characteristic of VHF-DC Superimposed Magnetron Sputtering System 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Yushi Fukuoka, Takashi Fukui, Noriharu Takada, Kensuke Sasai

    67th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2014年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地： North Carolina Marriott City Center and Raleigh Convention Center   国名：アメリカ合衆国  

  323. プラズマ技術とその産業応用 招待有り

    豊田　浩孝

    プラズマ技術講演会 

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    開催年月日： 2014年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：ポートメッセなごや 名古屋国際展示場『TECH　Biz EXPO 2014』   国名：日本国  

  324. Plasma movement mechanism in pseudo-continuous meter-scale atmospheric-pressure line plasma

    Haruka Suzuki, Suguru Nakano, Hitoshi Itoh, Makoto Sekine, Masaru Hori and Hirotaka Toyoda

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    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  325. VHF-DC 重畳マグネトロンスパッタ装置の特性評価

    福岡 侑士，福井 崇史, 高田 昇治, 笹井建典，豊田 浩孝

    第75回応用物理学会秋季学術講演会 

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    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：北海道大学札幌キャンパス   国名：日本国  

  326. ポータブルUHF プラズマ装置の開発

    古賀 翔太，豊田浩孝

    平成26年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：中京大学　名古屋キャンパス   国名：日本国  

  327. 吸収分光法によるAr プラズマの中性粒子温度測定

    瀬高 健太，豊田 浩孝

    平成26年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：中京大学　名古屋キャンパス   国名：日本国  

  328. VHF-DC 重畳マグネトロンプラズマ装置の特性評価

    福井 崇史，福岡 侑士，高田 昇治, 笹井 建典, 豊田 浩孝

    平成26年度電気・電子・情報関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中京大学　名古屋キャンパス   国名：日本国  

  329. Novel sputtering system for uniform dielectric film deposition 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Toshiya Hagihara

    International conference on microelectronics and plasma technology 2014 

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    開催年月日： 2014年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gunsan Saemangeum Convention Center, Gunsan, Korea   国名：大韓民国  

  330. Development of compact UHF plasma source 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda and Shota Koga

    The International Symposium on Plasma-Nano Materials and Processes 

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    開催年月日： 2014年4月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：The Riverside Hotel, Seoul South Korea   国名：大韓民国  

  331. パルスDC マグネトロンプラズマ中の酸素負イオン計測

    福岡 侑士，小川 勇人, 高田 昇治, 豊田 浩孝

    第61回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：青山学院大学相模原キャンパス   国名：日本国  

  332. 電解質溶液電極を用いたパルスDCプラズマにおける電解質由来金属原子の二次元吸収分光計測

    鷹羽 貴史，鈴木 陽香，高田 昇治，豊田 浩孝

    第61回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：青山学院大学相模原キャンパス   国名：日本国  

  333. 誘導結合型 誘導結合型 HBr プラズマにおける Br ラジカル表面損失確率の評価

    藤井 良隆 ，飯野 大輝 ,豊田 浩孝

    第61回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：青山学院大学相模原キャンパス   国名：日本国  

  334. 表面波プラズマ支援RF スパッタにおける絶縁性ターゲットの表面電位評価

    萩原 敏哉，野田 智紀，豊田 浩孝

    第61回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：青山学院大学相模原キャンパス   国名：日本国  

  335. 液流路式マイクロ波プラズマの溶液処理性能評価

    伊藤 美智子, 高橋 朋大, 高島 成剛, 野村 記生, 北川 富則, 豊田 浩孝

    第61回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：青山学院大学相模原キャンパス   国名：日本国  

  336. メートル級マイクロ波大気圧ラインプズマの均一性評価

    中野 優 ，鈴木 陽香 ，伊藤 仁 ，関根 誠 ，堀 勝 ，豊田 浩孝

    第61回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：青山学院大学相模原キャンパス   国名：日本国  

  337. パルスマイクロ波励起大気圧ラインプラズマの空間分解計測

    鈴木 陽香 、中野 優 、伊藤 仁 、関根誠 、堀 勝 、豊田 浩孝

    第61回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：青山学院大学相模原キャンパス   国名：日本国  

  338. Evaluation the reaction of Br radical at silicon surface in an Inductively Coupled HBr plasma 国際会議

    YOSHITAKA FUJII, DAIKI IINO, AND HIROTAKA TOYODA

    6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/7th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  339. Magnet-Free Sputtering System Using Surface Wave Plasma 国際会議

    Toshiya Hagihara, Tomonori Noda and Hirotaka Toyoda

    6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/7th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  340. O- Energy Distribution in a VHF-Superimposed DC Magnetron Plasma 国際会議

    YUSHI FUKUOKA, HAYATO OGAWA, KENSUKE SASAI, NORIHARU TAKADA AND HIROTAKA TOYODA

    6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/7th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  341. Spatiotemporal Resolved Investigations of Atmospheric Pressure Line Plasma 国際会議

    SUGURU NAKANO, HARUKA SUZUKI, HITOSHI ITOH, MAKOTO SEKINE, MASARU HORI AND HIROTAKA TOYODA

    6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/7th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  342. Spatio-temporal Behavior of Alkaline Metals in a DC Pulsed-Plasma with Liquid Electrode 国際会議

    TAKAFUMI TAKABA, HARUKA SUZUKI, NORIHARU TAKADA, AND HIROTAKA TOYODA

    6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/7th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  343. Decomposition of Phenol by Pulsed Microwave Plasma Generated in the Vicinity of a Fluid Flow Path 国際会議

    MICHIKO ITO, TOMOHIRO TAKAHASHI, SEIGO TAKASHIMA, NORIO NOMURA, TOMINORI KITAGAWA AND HIROTAKA TOYODA

    6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/7th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  344. Design of Meter-Scale Compact Microwave Antenna Structure by Electromagnetic Simulation 国際会議

    SHOGO KONDO, KENSUKE SASAI, NORIHARU TAKADA AND HIROTAKA TOYODA

    6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/7th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  345. Influence of Discharge-off Duration on the Plasma Density in an Atmospheric-pressure Pulsed Microwave Discharge 国際会議

    KAZUKI EGASHIRA, HIROTAKA TOYODA

    6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/7th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  346. Production of High-Uniform Microwave Line Plasma at Atmospheric Pressure 国際会議

    HARUKA SUZUKI, SUGURU NAKANO,HITOSHI ITOH, MAKOTO SEKINE, MASARU HORI AND HIROTAKA TOYODA

    6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/7th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Meijo University, Nagoya, Japan   国名：日本国  

  347. Advanced microwave plasma technology for liquid treatment 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda, T. Takahashi, N. Takada

    46th Annual Winter Conference following a special symposium 

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    開催年月日： 2014年2月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：BO Phoenix Park (Pyeongchang, Gangwon-do), Korea   国名：大韓民国  

  348. Release Behavior of Metal Atom from Solution Surface Contacting to Plasma 国際会議

    Haruka Suzuki, Takafumi Takaba, Hirotaka Toyoda

    The 18th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2014年2月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Fukuoka, Japan   国名：日本国  

  349. Time- and space-resolved measurement of electron density in an atmospheric pressure microwave plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Kazuki Egashira

    The 18th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2014年2月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Fukuoka, Japan   国名：日本国  

  350. Meter -Scale Production of Atmospheric Pressure Microwave Plasma by Travelling Wave 国際会議

    Haruka Suzuki, Suguru Nakano, Hitoshi Itoh, Makoto Sekine, Masaru Hori, Hirotaka Toyoda

    ICRP-8/SPP-3 

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    開催年月日： 2014年2月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Fukuoka, Japan   国名：日本国  

  351. Production of high-density meter-length plasma with metal-covered slot antenna 国際会議

    N. Takada, S. Kondo, S. Nakano, K. Sasai and H. Toyoda

    ICRP-8/SPP-3 

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    開催年月日： 2014年2月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Fukuoka, Japan   国名：日本国  

  352. Dependence of Electron density on Pulse-OFF Time in an Atmospheric Pulse Microwave Discharge 国際会議

    Kazuki Egashira1, Hirotaka Toyoda

    ICRP-8/SPP-3 

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    開催年月日： 2014年2月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Fukuoka, Japan   国名：日本国  

  353. Development of Magnet-Free Uniform Sputtering System by RF and Microwave Power Superposition 国際会議

    Toshiya Hagihara, Tomonori Noda, Hirotaka Toyoda

    ICRP-8/SPP-3 

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    開催年月日： 2014年2月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Fukuoka, Japan   国名：日本国  

  354. Nano-scale film surface control by advanced sputtering system 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    THERMEC' 2013 

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    開催年月日： 2013年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Las Vegas, USA   国名：アメリカ合衆国  

  355. マイクロ波プラズマを用いた無磁場酸化物薄膜スパッタ装置の基礎的検討

    萩原敏哉,野田智紀,豊田浩孝

    電気学会プラズマ研究会 

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    開催年月日： 2013年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名城大学名駅サテライト   国名：日本国  

  356. Effect of superposing ultrasonic wave on microwave plasma under water

    Tomohiro Takahashi, Noriharu Takada, and Hirotaka Toyoda

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    開催年月日： 2013年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  357. Water Treatment by High-Density Microwave Plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Tomohiro Takahashi, Takafumi Takaba, Haruka Suzuki, Noriharu Takada

    ICSE 2013(International Conference on Surface Engineering) 

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    開催年月日： 2013年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Haeundae Grand Hotel, Busan, Korea   国名：日本国  

  358. 大気圧パルスプラズマのプラズマ密度時分解計測とプラズマ挙動解析 招待有り

    豊田 浩孝

    第29回 九州・山口プラズマ研究会 

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    開催年月日： 2013年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  359. Development of Magnet-Free Sputtering System for Dielectric Film Deposition with Surface-Wave Excited Plasma 国際会議

    T. Noda,T. Hagihara, H. Toyoda

    66th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2013年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Princeton, New Jersey   国名：アメリカ合衆国  

  360. Meter-Scale Atmospheric-Pressure Microwave Plasma Using Sub-Millimeter-Gap Slot 招待有り 国際会議

    HIROTAKA TOYODA

    66th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2013年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Princeton, New Jersey   国名：アメリカ合衆国  

  361. Electromagnetic Simulation of Long-Slotted Waveguide Antenna for Production of Meter-Scale Plasma under Atmospheric Pressure 国際会議

    H. Suzuki, S. Nakano, H. Itoh, M. Sekine, M. Hori, H. Toyoda

    66th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2013年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Princeton, New Jersey   国名：アメリカ合衆国  

  362. 表面波プラズマを用いた無磁場スパッタ装置の検討

    萩原 敏哉，野田 智紀，豊田 浩孝

    平成25年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：静岡大学   国名：日本国  

  363. 電解質溶液電極を用いた大気圧パルスDCプラズマにおける放出金属原子の時分解吸収分光計測

    鷹羽貴史，鈴木陽香, 高田昇治, 豊田浩孝

    平成25年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：静岡大学   国名：日本国  

  364. VHF-DC重畳マグネトロンプラズマの生成及び特性評価

    福岡 侑士，小川 勇人，豊田 浩孝

    平成25年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：静岡大学   国名：日本国  

  365. 誘導結合型HBrプラズマにおけるBrラジカルの表面損失確率評価

    藤井 良隆，豊田 浩孝

    平成25年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：静岡大学   国名：日本国  

  366. 進行波重畳によるメートル級マイクロ大気圧ランプズの生成

    中野 優，鈴木 陽香 ，関根 誠，堀 勝，豊田 浩孝，伊藤　仁

    平成25年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：静岡大学   国名：日本国  

  367. 新規アンテナ構造を用いたメートル級マイクロ波大気圧ラインプラズマの生成

    鈴木 陽香 ，中野 優 ，伊藤 仁 ，関根誠 ，堀 勝 ，豊田 浩孝

    第74回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：同志社大学京田辺キャンパス   国名：日本国  

  368. マイクロ波励起プラズマによる流体連続処理

    高橋 朋大，高田 昇治，豊田 浩孝

    第74回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：同志社大学京田辺キャンパス   国名：日本国  

  369. 多目的マイクロ波アンテナの大面積化と高密度プラズマ生成

    近藤将吾，中野優、高田昇治,豊田浩孝

    第74回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：同志社大学京田辺キャンパス   国名：日本国  

  370. 大気圧マイクロ波放電 におけるパルス停止時間のプラズマへの影響

    江頭一輝 ，豊田浩孝

    第74回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：同志社大学京田辺キャンパス   国名：日本国  

  371. マイクロ波プラズマを用いた無磁場酸化物薄膜スパッタ装置の開発

    野田　智紀，萩原　敏哉，豊田　浩孝

    第74回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：同志社大学京田辺キャンパス   国名：日本国  

  372. VHF-DC重畳マグネトロンプラズマの生成とプラズマ計測

    小川勇人，福岡 侑士，豊田浩孝

    第74回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：同志社大学京田辺キャンパス   国名：日本国  

  373. Cross section measurement of the neutral dissociation of CH2F2 by electron impact 国際会議

    H. Ogawa and H. Toyoda

    DPS2013 (35th International Symposium on Dry Process) 

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    開催年月日： 2013年8月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Ramada Plaza Jeju Hotel in Korea   国名：大韓民国  

  374. Plasma Characteristics of Multipurpose Microwave Antenna and Its Application to Silicon Thin Film Deposition 国際会議

    S. Kondo, S. Nakano and H. Toyoda

    DPS2013 (35th International Symposium on Dry Process) 

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    開催年月日： 2013年8月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Ramada Plaza Jeju Hotel in Korea   国名：大韓民国  

  375. Superposition of Ultrasonic Power on Microwave Plasma and Its Effect on Solution Treatment Efficiency 国際会議

    T. Takahashi, N. Takada, and H. Toyoda

    DPS2013 (35th International Symposium on Dry Process) 

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    開催年月日： 2013年8月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Ramada Plaza Jeju Hotel in Korea   国名：大韓民国  

  376. Development of Magnet-Free Uniform Sputtering System for Dielectric Film Deposition 国際会議

    Tomonori Noda, and Hirotaka Toyoda

    DPS2013 (35th International Symposium on Dry Process) 

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    開催年月日： 2013年8月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Ramada Plaza Jeju Hotel in Korea   国名：大韓民国  

  377. Surface Treatment of Three-Dimensional Product by Flexible Twin Microwave Plasma Source 国際会議

    K. Sasai, K. Ishikawa, H. Toyoda and H. Sugai

    DPS2013 (35th International Symposium on Dry Process) 

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    開催年月日： 2013年8月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Ramada Plaza Jeju Hotel in Korea   国名：大韓民国  

  378. Influence of gas addition and substrate bias voltage on Br radical behavior in HBr inductively coupled plasma 国際会議

    D. Iino, Y. Nojiri, K. Suzuki, T. Oike, Y. Fujii, and H. Toyoda

    DPS2013 (35th International Symposium on Dry Process) 

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    開催年月日： 2013年8月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Ramada Plaza Jeju Hotel in Korea   国名：大韓民国  

  379. High density plasma production by a Multipurpose Microwave Antenna 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Shogo Kondo, Suguru Nakano, Noriharu Takada

    The 9th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2013) 

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    開催年月日： 2013年8月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  380. Influence of Si Substrate Temperature and Bias Voltage on Surface reaction of Br Radical in HBr Inductively Coupled Plasma 国際会議

    D. Iino, Y. Fujii, T. Oike, H. Toyoda

    The 12th Asia Pacific Physics Conference 

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    開催年月日： 2013年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Chiba, Japan   国名：日本国  

  381. Absorption Spectroscopy of Atomic Metal in Atmospheric-pressure Plasma with Electrolyte Solution Electrode 国際会議

    H. Suzuki, T. Takaba, N. Takada and H. Toyoda

    Korea - Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials 

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    開催年月日： 2013年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Sungkyunkwan University, Korea   国名：大韓民国  

  382. Influence of Ultrasonic Power Superposition to Microwave Plasma Produced under Water 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    Korea - Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials 

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    開催年月日： 2013年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Sungkyunkwan University, Korea   国名：大韓民国  

  383. 超音波重畳マイクロ波液中プラズマによる液中有機物処理

    高橋 朋大，高田 昇治，豊田 浩孝

    第60回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：神奈川工科大学   国名：日本国  

  384. 低圧環境下における無磁場マイクロ波プラズマ生成と応用

    野田 智紀，中坊 将人，豊田 浩孝

    第60回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：神奈川工科大学   国名：日本国  

  385. 多目的マイクロ波アンテナを用いたプラズマ生成とSi薄膜形成への応用

    近藤将吾，中野優，豊田浩孝

    第60回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：神奈川工科大学   国名：日本国  

  386. 電解質溶液電極を用いた大気圧パルスプラズマにおける金属原子吸収分光計測

    鈴木 陽香，鷹羽 貴史，高田 昇治，豊田 浩孝

    第60回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：神奈川工科大学   国名：日本国  

  387. CH2F2への電子衝突によるラジカル生成断面積の評価

    小川勇人，豊田浩孝

    第60回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：神奈川工科大学   国名：日本国  

  388. 誘導結合型HBr プラズマ中のBr ラジカル挙動

    飯野大輝，野尻康弘，鈴木啓之，大池　匠，藤井良隆，豊田浩孝

    第60回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：神奈川工科大学   国名：日本国  

  389. 大気圧パルスマイクロ波プラズマにおける放電開始後のプラズマ挙動

    江頭一輝 ，村瀬卓也 ，豊田浩孝

    第60回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：神奈川工科大学   国名：日本国  

  390. スパッタリングにおける高エネルギー粒子の発生とその制御 招待有り

    豊田　浩孝

    プラズマ材料科学第１５３委員会第108回研究会 

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    開催年月日： 2013年2月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：弘済会館   国名：日本国  

  391. Temporal and Spatial Variations of Atomic Metals in Atmospheric-Pressure Pulsed-Plasmas with Liquid Electrode 国際会議

    H.Suzuki, T. Takaba, N. Takada and H. Toyoda

    The 6th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2013年2月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gero Japan   国名：日本国  

  392. Microwave Plasma Production - From Micro- to Meter-scale - 招待有り 国際会議

    H. Toyoda

    The 6th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2013年2月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Gero Japan   国名：日本国  

  393. Absolute Dissociation Cross Section of CH2F2 into CH2F for Electron-Impact 国際会議

    H.Ogawa and H.Toyoda

    The 6th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2013年2月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gero Japan   国名：日本国  

  394. Deposition of Microcrystalline Silicon Thin Film by Compact Antenna Structure 国際会議

    S.Kondo, S.Nakano and H. Toyoda

    The 6th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2013年2月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gero Japan   国名：日本国  

  395. Synergistic Effect of Ultrasonic Wave on Microwave Excited Plasma Production under Water 国際会議

    T. Takahashi, N. Takada and H. Toyoda

    The 6th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2013年2月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gero Japan   国名：日本国  

  396. Surface-Wave Excited Plasma Produced in Low Pressures 国際会議

    T. Noda, M. Nakabo and H. Toyoda

    The 6th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2013年2月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Gero Japan   国名：日本国  

  397. Measurement of Br Atom Density in an Inductively-Coupled HBr Plasma by Appearance Mass Spectrometry 国際会議

    Y.Fujii, T. Oike, D. Iino, K. Suzuki and H. Toyoda

    5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Aichi, Japan   国名：日本国  

  398. Development of Compact Microwave Plasma Source and Its Application to Si Film Deposition 国際会議

    S. Kondo, S. Nakano and H. Toyoda

    5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Aichi, Japan   国名：日本国  

  399. Production of Surface-Wave Excited Plasma in Low Pressures 国際会議

    T.Noda, M. Nakabo and H. Toyoda

    5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Aichi, Japan   国名：日本国  

  400. Effect of Superposition of Ultrasonic Power on Microwave Plasma under Water 国際会議

    T. Takahashi, N. Takada, H. Toyoda

    5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Aichi, Japan   国名：日本国  

  401. Absolute Cross Section Measurement for Electron-Impact Dissociation of CH2F2 into CH2F 国際会議

    H. Ogawa and H. Toyoda

    5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Aichi, Japan   国名：日本国  

  402. Time-Resolved Measurement of Electric Field in Ar and N2 Atmospheric-Pressure Microwave Plasmas 国際会議

    K. Egashira, T. Murase AND H. Toyoda

    5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Aichi, Japan   国名：日本国  

  403. Temporal Variation of Alkaline Metals in an Atmospheric-Pressure Pulsed-Plasma with Liquid Electrode 国際会議

    H. Suzuki, T. Takaba, N. Takada, H. Toyoda

    5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Aichi, Japan   国名：日本国  

  404. Measurement of Electron-Impact Cross Section for Dissociation of CH2F2 into CH2F 国際会議

    H. Ogawa and H. Toyoda

    The 16th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  405. コンパクトマイクロ波アンテナを用いた微結晶シリコン薄膜の生成

    近藤将吾，中野優，豊田浩孝

    第３０回プラズマプロセシング研究会 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：アクトシティー浜松   国名：日本国  

  406. 二電子ビーム法を用いたCH2F2への電子衝突によるCH2Fラジカル生成断面積測定

    小川勇人，豊田浩孝

    第３０回プラズマプロセシング研究会 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：アクトシティー浜松   国名：日本国  

  407. シュタルク分光を用いたAr及びN2添加大気圧マイクロ波プラズマの時分解計測

    江頭 一輝，村瀬 卓也，豊田 浩孝

    第３０回プラズマプロセシング研究会 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：アクトシティー浜松   国名：日本国  

  408. マイクロ波液中プラズマ生成における超音波波動の影響

    高橋朋大，高田昇治，豊田浩孝

    第３０回プラズマプロセシング研究会 

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    開催年月日： 2013年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：アクトシティー浜松   国名：日本国  

  409. Diagnostics and Control of High Energy Species in Magnetron Sputter Plasmas 招待有り 国際会議

    Hirotaka TOYODA

    The International Symposium on Visualization in Joining & Welding Science through Advanced Measurements and Simulation 

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    開催年月日： 2012年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Hotel Hankyu Expo Park, Osaka, Japan   国名：日本国  

  410. 液体電極を用いた大気圧マイクロ波プラズマの光学的時分解計測 国際会議

    鈴木陽香, 鷹羽貴史, 高田昇治, 豊田浩孝

    第5回プラズマ技術産業応用センター＆プラズマが拓くものづくり研究会国際シンポジウム 

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    開催年月日： 2012年10月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：サイエンス交流プラザ大会議室（守山）   国名：日本国  

  411. Plasma ignition dynamics in atmospheric-pressure pulsed-microwave plasma 国際会議

    H. Toyoda, T. Murase, K. Egashira

    GEC2012(65th Annual Gaseous Electronics Conference) 

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    開催年月日： 2012年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Austin, Tevas, USA   国名：アメリカ合衆国  

  412. A Development of Atmospheric Pressure Plasma Equipment and Its Applications for Treatment of Ag Films Formed from Nano-Particle Ink 国際会議

    Hitoshi Itoh, Yusuke Kubota, Yusaku Kashiwagi, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Hirotaka Toyoda and Masaru Hori

    11th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology)and 25th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials) 

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    開催年月日： 2012年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Kyoto University, Kyoto, Japan   国名：日本国  

  413. Preparation of Direct Alcohol Fuel Cells by Plasma Technology 国際会議

    Y. D. Meng, C. X. Zhang, J. Hu, M. Nagatsu and H. Toyoda

    11th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology)and 25th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials) 

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    開催年月日： 2012年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Kyoto University, Kyoto, Japan   国名：日本国  

  414. Temporal Variation of Ar/H2 and N2/H2 Atmospheric Pressure Microwave Plasma 国際会議

    Takuya Murase, Kazuki Egashira, Hirotaka Toyoda

    11th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology)and 25th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials) 

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    開催年月日： 2012年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Kyoto University, Kyoto, Japan   国名：日本国  

  415. 希ガス及び分子ガスを用いた大気圧パルスマイクロ波放電におけるプラズマの時間発展

    江頭 一輝，村瀬 卓也，豊田 浩孝

    平成24年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2012年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：豊橋技術科学大学   国名：日本国  

  416. CH2F2 への電子衝突によるCH2F ラジカル生成絶対断面積

    小川 勇人，豊田 浩孝

    平成24年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2012年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：豊橋技術科学大学   国名：日本国  

  417. スロットアンテナ励起マイクロ波プラズマによる微結晶シリコン薄膜の生成

    近藤 将吾,豊田 浩孝

    平成24年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2012年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：豊橋技術科学大学   国名：日本国  

  418. マイクロ波液中プラズマ生成における超音波重畳効果

    高橋 朋大，高田 昇治, 豊田 浩孝

    平成24年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2012年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：豊橋技術科学大学   国名：日本国  

  419. 低圧環境下における高密度マイクロ波プラズマの生成

    野田 智紀，中坊 将人，豊田 浩孝

    平成24年度電気関係学会東海支部連合大会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：豊橋技術科学大学   国名：日本国  

  420. 液体を電極としたマイクロ波励起大気圧プラズマの発光分光計測

    鈴木 陽香，鷹羽 貴史，高田 昇治，豊田 浩孝

    第73回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2012年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：愛媛大学・松山大学   国名：日本国  

  421. RFマグネトロンプラズマにおける高エネルギーO-イオン挙動のシミュレーション

    中坊 将人，豊田 浩孝

    第73回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2012年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：愛媛大学・松山大学   国名：日本国  

  422. 誘導結合HBrプラズマ中Br原子の出現質量分析

    大池 匠，藤井 良隆，豊田 浩孝

    第73回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2012年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：愛媛大学・松山大学   国名：日本国  

  423. 大気圧パルスマイクロ波プラズマにおける放電開始後のプラズマの時間発展

    村瀬卓也，江頭一輝，豊田浩孝

    第73回応用物理学会学術講演会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：愛媛大学・松山大学   国名：日本国  

  424. Microwave Plasma Production - From Low- to Atmospheric-pressure. From Micro- to Meter-scale - 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    The 15th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2012年6月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Sungkyunkwan University, Korea   国名：大韓民国  

  425. Time-resolved Evaluation of Ar/H2 Microwave Plasma in Atmospheric Pressure Using Optical Emission Spectroscopy 国際会議

    T. Murase, K. Egashira, and H. Toyoda

    The 15th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2012年6月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Sungkyunkwan University, Korea   国名：大韓民国  

  426. 誘導結合HBrプラズマにおける高エネルギー電子の空間分布評価

    大池 匠，石島 達夫，豊田 浩孝

    第59回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：早稲田大学   国名：日本国  

  427. シュタルク分光を用いた大気圧パルスマイクロ波プラズマの時空間分解計測

    村瀬卓也，石島達夫，豊田浩孝

    第59回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：早稲田大学   国名：日本国  

  428. 液中気泡内における水蒸気とマイクロ波プラズマの相互作用

    鈴木 陽香，石島 達夫，豊田 浩孝

    第59回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：早稲田大学   国名：日本国  

  429. Temporal-Spatial Measurement of Electric Field Using Stark Spectroscopy in Atmospheric-pressure Pulsed Slot-antenna Microwave Plasma 国際会議

    T. Murase, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 5th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Inuyama, Japan   国名：日本国  

  430. Temporal Variation of Water Vapor Pressure inside a Bubble under Water Induced by Microwave Plasma 国際会議

    H. Suzuki, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 5th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Inuyama, Japan   国名：日本国  

  431. Spatial Profile Measurement of High Energy Electrons in an Inductively Coupled Plasma with Electronegative Gas 国際会議

    Takumi Oike, Tatsuo Ishijima and Hirotaka Toyoda

    The 5th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Inuyama, Japan   国名：日本国  

  432. Simulation of Spatial- and Energy-Distributions of High-Energy O- Ions in a RF Magnetron Plasma 国際会議

    MASATO NAKABO, KAZUNAGA ONO, TADASHI MORITA, NORIKAZU OHSHIMA, TATSUO ISHIJIMA AND HIROTAKA TOYODA

    4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  433. Evaluation of High Energy Electrons in an Inductively Coupled Plasma Using Optical Emission Spectroscopy 国際会議

    TAKUMI OIKE ,TATSUO ISHIJIMA AND HIROTAKA TOYODA

    4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  434. Temporal Variation of Water Vapor Pressure inside a Bubble under Water Induced by Atmospheric Pressure Microwave Plasma 国際会議

    HARUKA SUZUKI, TATSUO ISHIJIMA AND HIROTAKA TOYODA

    4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  435. Spatio-temporal Variation of Microwave Electric Field in an Atmospheric Pressure Slot-antenna Microwave Plasma 国際会議

    TAKUYA MURASE, TATSUO ISHIJIMA AND HIROTAKA TOYODA

    4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  436. Bubble Plasma Production under Water using Microwave -Basic Study in Multiphase Structure and Application- 招待有り 国際会議

    T. Ishijima, H. Suzuki, K. Kanetake, H. Toyoda

    12th International Symposium on Biomimetic Materials Processing(BWWMP-12) 

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    開催年月日： 2012年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  437. Evaluation of High Energy Electrons in an Inductively- Coupled Plasma with Electronegative Gas 国際会議

    T. Oike and H. Toyoda, T. Ishijima

    The 14th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  438. Microwave Plasma Production under Water - Basic Research and Organic Decomposition - 招待有り 国際会議

    H. Toyoda, K. Kanetake, H. Suzuki and T. Ishijima

    The 14th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2012年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  439. Evaluation of Deposited Film Suppression on the Dielectric Window Using Gas Flow

    K. Keyamura, T. Ishijima and H. Toyoda

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    開催年月日： 2011年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  440. Improvement of Silicon Thin Film Quality by Modified Microwave Antenna under High Pressure SiH4/H2 Plasma

    Y. Ito, S.Kondo, T. Ishijima and H. Toyoda

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    開催年月日： 2011年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  441. マイクロ波励起プラズマを用いた減圧流水中有機物の分解処理における効率向上 国際会議

    金武浩司、石島達夫、豊田浩孝

    第4回プラズマ技術産業応用センター＆プラズマが拓くものづくり研究会国際シンポジウム  

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    開催年月日： 2011年12月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：なごやサイエンスパーク、サイエンス交流プラザ   国名：日本国  

  442. RFマグネトロンプラズマ中の酸素負イオン軌道解析 国際会議

    中坊 将人, 小野 一修，森田 正，大嶋 則和，石島 達夫，豊田 浩孝

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    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  443. 発光分光法を用いたICPアンテナ近傍の高エネルギー電子空間分布計測 国際会議

    大池匠, 石島達夫,豊田浩孝

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  444. Microwave Plasma CVD for High-Rate and Large-Area Si Deposition - Plasma Control and Plasma Chemistry- 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    Topical Workshop on Green Plasma-Nano Technology- Green Energy and Flexible New Materials - 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Sungkyunkwan University, Korea   国名：日本国  

  445. マイクロ波励起液中気泡内プラズマの時分解発光分光計測 国際会議

    鈴木陽香, 石島達夫，豊田浩孝

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  446. 時空間発光分光によるスロットアンテナ励起大気圧マイクロ波プラズマの診断 国際会議

    村瀬卓也, 石島達夫，豊田浩孝

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  447. Time-resolved OES measurement of microwave plasma produced inside controlled bubbles under water 国際会議

    T. Ishijima, H. Suzuki and H. Toyoda

    GEC2011(64th Annual Gaseous Electronics Conference) 

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    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Salt Lake City,Utah, USA   国名：アメリカ合衆国  

  448. Suppression of film deposition in a plasma CVD system using gas flow 国際会議

    H. Toyoda, K. Keyamura and T. Ishijima

    GEC2011(64th Annual Gaseous Electronics Conference) 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Salt Lake City,Utah, USA   国名：アメリカ合衆国  

  449. Influence of microwave electric field on Hb broadening in atmospheric pressure microwave plasma 国際会議

    H. Toyoda, T. Murase and T. Ishijima

    GEC2011(64th Annual Gaseous Electronics Conference) 

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    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Salt Lake City,Utah, USA   国名：アメリカ合衆国  

  450. Spatial Profile of SiH4 and SiH3 Fluxes under High Speed Gas Flow Environ 国際会議

    M. Ikeda, T. Ishijima and H. Toyoda

    DPS2011(33rd International Symposium on Dry Process) 

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    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Kyoto Garden Palace Hotel,Kyoto, Japan   国名：日本国  

  451. Trajectory Simulation of High-Energy O- Ions in RF Magnetron Plasma 国際会議

    M. Nakabo, K. Ono, T. Morita, N. Ohshima, K. Kinoshita, T. Ishijima and H. Toyoda

    DPS2011(33rd International Symposium on Dry Process) 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Kyoto Garden Palace Hotel,Kyoto, Japan   国名：日本国  

  452. 誘導結合型プラズマにおける高エネルギー電子空間分布評価

    大池 匠，石島 達夫，豊田 浩孝

    応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会２０周年（研究会創設２５周年）記念 特別シンポジウム 

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    開催年月日： 2011年10月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  453. パルスマイクロ波液中気泡内プラズマの時分解発光分光計測

    鈴木　陽香，石島　達夫，豊田　浩孝

    応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会２０周年（研究会創設２５周年）記念 特別シンポジウム 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  454. 大気圧パルスマイクロ波プラズマの時空間発光分光計測

    村瀬　卓，石島　達夫，豊田　浩孝

    応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会２０周年（研究会創設２５周年）記念 特別シンポジウム 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年10月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  455. 数値シミュレーションを用いたRFマグネトロンプラズマにおける酸素負イオンの軌道解析

    中坊　将人, 森田　正, 小野　一修,大嶋　則和, 石島　達夫, 豊田　浩孝

    応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会２０周年（研究会創設２５周年）記念 特別シンポジウム 

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    開催年月日： 2011年10月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  456. 時空間発光分光計測を用いた大気圧パルスマイクロ波プラズマ生成過程の観察

    村瀬　卓也*，石島　達夫，豊田　浩孝

    平成23年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：三重大学   国名：日本国  

  457. パルスマイクロ波液中プラズマの時分解発光分光計測

    鈴木　陽香，石島　達夫，豊田　浩孝

    平成23年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：三重大学   国名：日本国  

  458. 分光的手法を用いた誘導結合プラズマ中高エネルギー電子の空間分布評価

    大池 匠，石島 達夫，豊田 浩孝

    平成23年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：三重大学   国名：日本国  

  459. 数値シミュレーションを用いたマグネトロンプラズマ中の高エネルギー負イオン挙動の解析

    中坊 将人，森田 正，小野 一修，大嶋 則和，木下 啓藏，石島 達夫，豊田 浩孝

    平成23年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：三重大学   国名：日本国  

  460. 質量分析法を用いた大気圧マイクロ波プラズマの気相診断

    澤口　陽介，石島　達夫，豊田　浩孝

    平成23年度電気関係学会東海支部連合大会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：三重大学   国名：日本国  

  461. Silicon Film Deposition by Microwave-Excited SiH4/H2 Plasma 招待有り 国際会議

    H. Toyoda, Y. Ito, S. Kondo, T. Ishijima

    The 8th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering(AEPSE2011) 

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    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Dalianm, China   国名：中華人民共和国  

  462. Particle Diagnostics of Reactive Species in Processing Plasmas 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    The 8th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering(AEPSE2011) 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Dalianm, China   国名：中華人民共和国  

  463. ガス流を用いた誘電体窓への膜堆積抑制の検討

    毛家村　一樹，石島 達夫，豊田 浩孝

    第72回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：山型大学   国名：日本国  

  464. Behavior of High-Energy Oxygen Negative Ions in a RF Magnetron Plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    The XXX International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG) 

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    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Belfast, Northern Ireland   国名：グレートブリテン・北アイルランド連合王国(英国)  

  465. Influence of Microwave Electric Field on Spatial and Time-Variation of Hb Spectra in Pulsed-Microwave Atmospheric Pressure Plasma 国際会議

    T. Murase, A. Kamata, T. Ishijima, H. Toyoda

    The XXX International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG) 

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    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Belfast, Northern Ireland   国名：グレートブリテン・北アイルランド連合王国(英国)  

  466. 高圧力SiH4/H2マイクロ波プラズマによるシリコン製膜

    伊藤裕紀，近藤将吾，石島達夫，豊田浩孝

    第72回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：山型大学   国名：日本国  

  467. ガス流環境下におけるH2/SiH4プラズマの気相診断

    池田昌平,石島 達夫,豊田 浩孝

    第72回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2011年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：山型大学   国名：日本国  

  468. マイクロ波励起プラズマを用いた有機物含有流体処理におけるプロセスの高効率化

    金武 浩司，石島 達夫，豊田 浩孝

    第72回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2011年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：山型大学   国名：日本国  

  469. Flowing Liquid Treatment by Microwave Plasma 国際会議

    K. Kanetake, T. Ishijima, and H. Toyoda

    The 13th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2011年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Deajeon, Korea   国名：大韓民国  

  470. Spatiotemporal measurement of microwave electric field in an atmospheric pressure microwave plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Takuya Murase, Tasuo Ishijima

    The 13th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2011年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Deajeon, Korea   国名：大韓民国  

  471. Behavior of High Energy Negative Ions in RF Magnetron Sputtering Plasma 招待有り

    H. Toyod, T. Ishijima, K. Ono, T. Morita, N. Ohshima, K. Kinoshita

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    開催年月日： 2011年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  472. Flowing Liquid Treatment by Microwave Plasma under Reduced Pressures

    Koji Kanetake, Tatsuo Ishijima and Hirotaka Toyoda

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    開催年月日： 2011年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  473. Time- and Space-Resolved Characteristics of Ozone Concentration in Atmospheric Pressure Plasma using Ultra Short Pulses 国際会議

    T. Murase, A. Kamata, T. Ishijima, Y. Kinoshita, H. Kawauchi, K. Yoshida, and H. Toyoda

    The 3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology (ICMAP-2011) 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Dalian, China   国名：中華人民共和国  

  474. Enhancement of Polyimide/Copper Film Adhesion by Dense Carbon Interlayer using Microwave Plasma CVD 国際会議

    K. Usami, T. Ishijima, and H. Toyoda

    The 3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology (ICMAP-2011) 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Dalian, China   国名：中華人民共和国  

  475. RFマグネトロン・スパッタリング法で作製したMgO障壁層MTJのMgO結晶配向性と高エネルギー負イオンとの関係 招待有り

    小野一修, 大嶋則和, 後藤和也, 森田正, 木下啓藏, 石島達夫, 豊田浩孝

    日本HDD協会　ヘッド・ディスク部会 

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    開催年月日： 2011年6月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：IDEMA JAPAN 会議室　東京都港区   国名：日本国  

  476. 有機物含有流体の減圧下における連続プラズマ処理

    金武　浩司，石島　達夫，豊田　浩孝

    第58回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：神奈川工科大学（神奈川県厚木市）   国名：日本国  

  477. 熱流束抑制による微結晶シリコン薄膜特性の改善

    伊藤裕紀，坂井淳二，石島達夫，豊田浩孝

    第58回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：神奈川工科大学（神奈川県厚木市）   国名：日本国  

  478. SiH4/H2マイクロ波プラズマ中のSiH3ラジカル空間分布計測

    池田昌平,　黒田 俊之,　石島 達夫,　豊田 浩孝

    第58回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：神奈川工科大学（神奈川県厚木市）   国名：日本国  

  479. 質量分析法による大気圧プラズマの気相診断

    澤口　陽介，石島　達夫，豊田　浩孝

    第58回応用物理学関係連合講演会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：神奈川工科大学（神奈川県厚木市）   国名：日本国  

  480. Space- and Time-Resolved Measurement of Electric Field 国際会議

    T. Murase, A. Kamata, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 4th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  481. Improvement of Silicon Thin Film Quality for Photovoltaic Cells by Modified Microwave Antenna Structure 国際会議

    Y. Ito, J. Sakai, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 4th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  482. Reactive Species Measurement of an Atmosphere-pressure Plasma by a Differentially-Pumped Mass-Spectrometer 国際会議

    Y. Sawaguchi, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 4th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  483. Investigation of C6H6 Dissociation Process in a Microwave Plasma 国際会議

    K .Keyamura, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 4th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  484. Treatment of Flowing Organic Solution by Microwave Excited Plasma under Reduced-Pressure Condition 国際会議

    K. Kanetake, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 4th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  485. Measurement of SiH3 Spatial Profile in H2/SiH4 Microwave Plasma 国際会議

    M. Ikeda, T. Kuroda, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 4th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  486. Dissociation Process of C6H6 Molecules in Surface Wave Plasma 国際会議

    KAZUKI KEYAMURA, TATSUO ISHIJIMA AND HIROTAKA TOYODA

    3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  487. Gas-Phase Diagnostics of Hydrogen Diluted Silane Plasma by Modified Appearance Mass Spectrometry 国際会議

    MASAHIRA IKEDA, TOSHIYUKI KURODA, TATSUO ISHIJIMA AND HIROTAKA TOYODA

    3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  488. Improvement of Silicon Thin Film Quality for Photovoltaic Cells by Newly-developed Microwave Antenna 国際会議

    YUKI ITO, JUNJI SAKAI, TASTUO ISHIJIMA AND HIROTAKA TOYODA

    3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  489. Flowing Liquid Treatment by Microwave Plasma under Reduced Pressure Condition 国際会議

    KOJI KANETAKE, TATSUO ISHIJIMA AND HIROTAKA TOYODA

    3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  490. Improvement of Adhesion Strength between Polyimide and Copper Foil by High Density Plasma Treatment 招待有り 国際会議

    T. Ishijima, K. Usami, H. Toyoda

    11th International Symposium on Biomimetic Materials Processing(BWWMP-11)  

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    開催年月日： 2011年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  491. Evaluation of Absolute SiH3 Radical Density in H2/SiH4 Surface Wave Exited Plasma 国際会議

    M. Ikeda, T. Kuroda, T. Ishijima, and H. Toyoda

    The 12th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Kyushu University, Japan   国名：日本国  

  492. Time and Space Resolved Measurement of Microwave Electric Field in Atmospheric Pressure Plasma 招待有り 国際会議

    H. Toyoda, A. Kamata, T. Murase, T. Ishijima

    The 12th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Kyushu University, Japan   国名：日本国  

  493. 表面波プラズマ処理によるCu膜とポリイミドフィルムの密着性向上

    宇佐見健二，石島達夫，豊田浩孝

    第20日本MRS学術シンポジウム 

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    開催年月日： 2010年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：開港記念館（神奈川県横浜市）   国名：日本国  

  494. Organic Solute Decomposition in Water using Microwave Plasma

    T. Ishijima, K. Kanetake and H. Toyoda

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    開催年月日： 2010年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  495. Diagnostics of atmospheric pressure plasma by space and time-resolved Stark broadening 招待有り 国際会議

    H. Toyoda, A. Kamata, T. Murase, and T. Ishijima

    The 2nd International Plasma Nanoscience Symposium 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：New South Wales, Australia   国名：オーストラリア連邦  

  496. Microwave H2/SiH4 PCVD by Modified Microwave Antenna for Improvement of Silicon Film Quality 国際会議

    J. Sakai, Y. Ito, T. Ishijima, H. Toyoda

    The 32nd International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2010年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Tokyo Institute of Technology , Tokyo, Japan   国名：日本国  

  497. RFマグネトロンプラズマにおける高エネルギー粒子の挙動 招待有り

    豊田　浩孝 , 後藤　和也，石島　達夫

    第26回九州・山口プラズマ研究会 

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    開催年月日： 2010年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：日田ひなの里「山陽館」（大分県日田市）   国名：日本国  

  498. マグネトロンプラズマ中の高エネルギー負イオン計測 招待有り

    豊田　浩孝

    真空・表面科学合同講演会 

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    開催年月日： 2010年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：大阪大学   国名：日本国  

  499. プラズマ計測：電気的計測

    豊田　浩孝

    第21回プラズマエレクトロニクス講習会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：慶応義塾大学   国名：日本国  

  500. Influences of Liquid Temperature and Pressure on Microwave-Excited Bubble Plasma Production 国際会議

    T. Ishijima, R. Saito, K. Kanetake, H. Toyoda

    7th International Conference on Reactive Plasmas, 28th Symposium on Plasma Processing and 63rd Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2010年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Maison de la Chimie, Paris, France   国名：フランス共和国  

  501. Formation of High Energy Oxygen Species in RF Magnetron Sputter Plasma 国際会議

    K. Goto, T. Ishijima, T. Morita, K. Ono, N. Ohshima, K. Kinoshita, H. Toyoda

    7th International Conference on Reactive Plasmas, 28th Symposium on Plasma Processing and 63rd Gaseous Electronics Conference 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Maison de la Chimie, Paris, France   国名：フランス共和国  

  502. Study on modified surface layer of photoresist employing fluorocarbon ion beam and radicals 国際会議

    Takuya Takeuchi, Shinpei Amasaki, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Hirotaka Toyoda

    7th International Conference on Reactive Plasmas, 28th Symposium on Plasma Processing and 63rd Gaseous Electronics Conference 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Maison de la Chimie, Paris, France   国名：フランス共和国  

  503. Synthesis of High Quality SiO2 Film by Capacitively-Coupled Plasma CVD with Comb-Type Electrodes 国際会議

    Takahiro Hiramatsu, Tokiyoshi Matsuda, Toshiyuki Kawaharamura, Mamoru Furuta, Takashi Hirao, Koji Kanetake, Hirotaka Toyoda

    7th International Conference on Reactive Plasmas, 28th Symposium on Plasma Processing and 63rd Gaseous Electronics Conference 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Maison de la Chimie, Paris, France   国名：フランス共和国  

  504. Space- and Time-Resolved Measurement of Hb Emission Spectrum in Atmospheric-pressure Pulsed Microwave Plasma 国際会議

    Azumi Kamata, Takuya Murase, Tatsuo Ishijima and Hirotaka Toyoda

    7th International Conference on Reactive Plasmas, 28th Symposium on Plasma Processing and 63rd Gaseous Electronics Conference 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Maison de la Chimie, Paris, France   国名：フランス共和国  

  505. Absolute Density Measurement of SiHx Radicals in SiH4/H2 Microwave Plasma by Modified Appearance Mass Spectrometry 国際会議

    T. Kuroda, M. Ikeda, T. Ishijima and H. Toyoda

    7th International Conference on Reactive Plasmas, 28th Symposium on Plasma Processing and 63rd Gaseous Electronics Conference 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Maison de la Chimie, Paris, France   国名：フランス共和国  

  506. Capacitively Coupled Plasma Source with Comb-Type Electrodes for Uniform Plasma Processing 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Koji Kanetake, Takahiro Hiramatsu, Tokiyoshi Matsuda, Toshiyuki Kawaharamura, Mamoru Furuta, Takashi Hirao

    7th International Conference on Reactive Plasmas, 28th Symposium on Plasma Processing and 63rd Gaseous Electronics Conference 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Maison de la Chimie, Paris, France   国名：フランス共和国  

  507. フルオロカーボンプラズマビームによるフォトレジスト表面改質層の解析

    竹内拓也、尼崎新平、竹田圭吾、石川健治、近藤博基、豊田浩孝、関根誠、康松潤、沢田郁夫、堀勝

    第71回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2010年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：長崎大学   国名：日本国  

  508. 表面波励起プラズマ処理によるポリイミドフィルムの密着性向上

    宇佐見健二，石島達夫，豊田浩孝，伊関清司，菅井秀郎

    第71回応用物理学会学術講演会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：長崎大学   国名：日本国  

  509. 新規マイクロ波PCVDによるシリコン薄膜の高品質化

    坂井淳二，伊藤裕紀，石島達夫，豊田浩孝

    第71回応用物理学会学術講演会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：長崎大学   国名：日本国  

  510. 酸化物ターゲットマグネトロンプラズマにおける高エネルギー粒子挙動シミュレーション

    後藤　和也，石島　達夫，森田　正，小野一修，大嶋　則和，木下　啓藏，豊田　浩孝

    第71回応用物理学会学術講演会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：長崎大学   国名：日本国  

  511. 改良型出現質量分析法によるSiH4/H2マイクロ波プラズマ中のラジカル絶対密度計測

    黒田 俊之, 池田 昌平, 石島 達夫, 豊田 浩孝

    第71回応用物理学会学術講演会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：長崎大学   国名：日本国  

  512. マイクロ波SiH4/H2プラズマCVDによる大面積シリコン堆積 招待有り

    豊田　浩孝

    プラズマ材料科学第153委員会, 第98回研究会 

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    開催年月日： 2010年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：弘済会館   国名：日本国  

  513. MgOターゲットRFマグネトロンプラズマにおける高エネルギー酸素負イオンの空間分布計測

    後藤　和也，石島　達夫，森田　正，小野一修，大嶋　則和，木下　啓藏，豊田　浩孝

    第34回日本磁気学会学術講演会 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：つくば国際会議場(エポカルつくば）   国名：日本国  

  514. 高密度表面波プラズマにおけるC6H6分子の解離過程

    毛家村 一樹，石島 達夫，豊田 浩孝

    平成22年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2010年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  515. 新規マイクロ波アンテナによるシリコン薄膜の高品質化

    伊藤　裕紀, 坂井　淳二，石島　達夫，豊田　浩孝

    平成22年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2010年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  516. 減圧環境下における液体流の連続プラズマ処理

    金武　浩司，石島　達夫，豊田　浩孝

    平成22年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2010年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  517. CH2F2への電子衝突によるCH2Fラジカル生成断面積測定

    齊藤　耕平，関根　誠，堀　勝，石島　達夫，豊田　浩孝，康　松潤，澤田　郁夫

    平成22年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2010年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  518. 質量分析法による大気圧プラズマの気相診断

    澤口　陽介，石島　達夫，豊田　浩孝

    平成22年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2010年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  519. 大気圧パルスマイクロ波プラズマにおける時空間発光分光計測

    齊藤　耕平，関根　誠，堀　勝，石島　達夫，豊田　浩孝，康　松潤，澤田　郁夫

    平成22年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2010年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  520. 改良型出現質量分析法を用いたマイクロ波励起水素希釈シランプラズマ中の気相診断

    池田 昌平，黒田 俊之，石島 達夫，豊田 浩孝

    平成22年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2010年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  521. Gas phase diagnostics of high-density SiH4/H2 microwave plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Toshiyuki Kuroda, Masahira Ikeda, Junji Sakai, Yuki Ito, Tatsuo Ishijima

    39th The Korean Vacuum Society Summer 

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    開催年月日： 2010年8月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：The Beachepalace, Boryong-city, Korea   国名：大韓民国  

  522. Organic Solute Decomposition using Microwave excited Plasma 招待有り 国際会議

    T. Ishijima, H. Toyoda

    The 11th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2010年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Ramada Jeju Hotel, Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  523. 酸化物ＲＦスパッタにおける高エネルギー酸素負イオンの空間分布計測

    石島達夫、後藤和也、小野一修、森田　正、大嶋則和、木下啓藏、豊田浩孝

    酸化物ＲＦスパッタにおける高エネルギー酸素負イオンの空間分布計測 

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    開催年月日： 2010年7月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：化学会館（東京都千代田区）   国名：日本国  

  524. Influence of pressure and water temperature on the microwave plasma production under water 国際会議

    T. Ishijima, R. Saito, K. Kanetake, H. Toyoda

    10th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology)and 23th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials) 

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    開催年月日： 2010年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：LotteHotel Jeju, Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  525. Dissociation process of SiH4 parent gas in high density microwave plasma for Si film deposition 国際会議

    T. Ishijima, H. Endo, T. Kuroda, H. Toyoda

    10th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology)and 23th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials) 

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    開催年月日： 2010年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：LotteHotel Jeju, Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  526. Diagnostics of high-energy negative ion in RF magnetron plasma 招待有り 国際会議

    H. Toyoda

    The 3rd International Oce Science Leader Workshop on Plasma Nanoscience and Nanotechnology 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：CSIRO Materials Science and Engineering, Lindfield Nsw 2070 Australia   国名：オーストラリア連邦  

  527. Multibubble Plasma Production and Efficient Liquid Treatment by Slot-excited Microwave 国際会議

    T. Ishijima, R. Saito, K. Kanetake, H. Toyoda

    International Workshop on Plasmas with Liquids 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  528. 高密度マイクロ波プラズマを用いたポリィミドフィルムの高速密着性改善

    宇佐見 健二，石島 達夫，豊田 浩孝，伊関清司，菅井秀郎

    第57回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東海大学   国名：日本国  

  529. 酸化物ターゲットのスパッタプロセスにおける酸素負イオンエネルギー分布中微細構

    後藤 和也，石島 達夫，森田　正，小野　一修，大嶋則和，木下 啓藏，豊田 浩孝

    第57回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東海大学   国名：日本国  

  530. 高密度SiH4/H2マイクロ波PCVDによる基板表面温度制御下での微結晶シリコン薄膜堆積

    坂井 淳二，池田　昌平，伊藤　裕紀，石島 達夫，豊田 浩孝

    第57回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東海大学   国名：日本国  

  531. 水素原子偏光スペクトル計測を用いた大気圧パルスプラズマの外部印加電界強度の検討

    鎌田 安住，楊 海鵬，石島 達夫，豊田 浩孝

    第57回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東海大学   国名：日本国  

  532. SiH4/H2マイクロ波プラズマの気相診断

    黒田 俊之,石島 達夫，豊田 浩孝

    第57回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東海大学   国名：日本国  

  533. TiCl4への電子衝突によるTiCl2ラジカル生成断面積測定

    齊藤　耕平，関根　誠，堀　勝，豊田　浩孝，康　松潤，沢田　郁夫

    第57回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：東海大学   国名：日本国  

  534. Microcrystalline Silicon Film Deposition by 915MHz High-Density Microwave Plasma 国際会議

    J. Sakai, T. Ishijima, H. Toyoda

    The 3rd International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  535. Effect of Post-Baking on Copper Adhesion to Polyimide Films Treated by High Density Microwave Plasma 国際会議

    K. Usami, T. Ishijima, H. Toyoda, K. Iseki, H. Sugai

    The 3rd International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  536. Time Resolved Measurement of Hb Emission from Atmospheric-Pressure Pulsed Microwave Plasma 国際会議

    A. Kamata, H. Yang, T. Ishijima, H. Toyoda

    The 3rd International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  537. Mass Spectrometric Measurement of Neutral Radicals in SiH4/H2 High Density Microwave Plasma 国際会議

    T. Kuroda, T. Ishijima, H. Toyoda

    The 3rd International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  538. Gas-Phase Diagnostics of SiH4/H2 Surface Wave Excited Plasma 国際会議

    T. Kuroda, T. Ishijima, H. Toyoda

    2nd International Symposium on Advansed Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  539. The Effect of Temperature and Pressure for Microwave-Excited Bubble Plasma Production 国際会議

    R. Saito, K. Kanetake, T. Ishijima, H. Toyoda

    The 3rd International Conference on Plasma-Nano Technology & Science 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  540. Substrate Temperature Control in Microwave Plasma CVD 国際会議

    J. Sakai, T. Ishijima, H. Toyoda

    2nd International Symposium on Advansed Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  541. Periodic Peak Formation in O- Energy Distribution in RF Magnetron Plasma 国際会議

    K. Goto, T. Ishijima, T. Morita, N. Ohshima, K. Kiinoshita, H. Toyoda

    2nd International Symposium on Advansed Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials 

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    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  542. 表面波励起高密度プラズマによる高分子フィルムの高速密着性改善

    宇佐見 健二，石島 達夫，豊田 浩孝

    第27回プラズマプロセシング研究会 

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    開催年月日： 2010年2月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：横浜市開港記念会館   国名：日本国  

  543. 大気圧パルスマイクロ波プラズマの時分解発光分光計測

    鎌田 安住，楊 海鵬，石島 達夫，豊田 浩孝

    第27回プラズマプロセシング研究会 

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    開催年月日： 2010年2月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：横浜市開港記念会館   国名：日本国  

  544. マイクロ波励起SiH4/H2高密度プラズマの気相診断

    黒田 俊之,石島 達夫，豊田 浩孝

    第27回プラズマプロセシング研究会 

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    開催年月日： 2010年2月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：横浜市開港記念会館   国名：日本国  

  545. Influence of Temperature and Pressure on Multibubble Plasma Production by Microwave 招待有り 国際会議

    T. Ishijima, R. Saito, K. Kanetake, H. Toyoda

    10th International Symposium on Biomimetic Materials Processing(BWWMP-10) and 1st International Symposium on Water Science and Technology(WaST-1) 

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    開催年月日： 2010年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  546. Plasma innovation towards next generation green technology 招待有り 国際会議

    M. Hori, M. Aekine, H. Toyoda

    The 10th International Worksop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2010年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  547. Behavior of High-Energy Oxygen Negative Ions in Magnetron Plasma with Oxide Targets 国際会議

    K. Goto, T. Ishijima, T. Morita, N. Ohshima, K. Kiinoshita, H. Toyoda

    The 10th International Worksop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics 

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    開催年月日： 2010年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  548. Deposition of Microcrystalline Silicon Thin Film by 915 MHz Microwave Plasma CVD

    J. Sakai, T. Ishijima, H. Toyoda

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    開催年月日： 2009年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  549. Periodic Peal Structure on O- Energy Distribution in RF Magnetron Plasma

    K. Goto, T. Ishijima, T. Morita, N. Ohshima, K. Kinoshita, H. Toyoda

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    開催年月日： 2009年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  550. Analysis of the surface reactions of ArF photoresist during fluorocarbon plasma etching by XPS 国際会議

    Takuya Takeuchi, Makoto Sekine, Hirotaka Toyoda, Keigo Takeda, Masaru Hori, Song-Yun Kang, Ikuo Sawada

    62nd Annual GEC 

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    開催年月日： 2009年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Saratoga Springs, NY, USA   国名：アメリカ合衆国  

  551. Spatial variation of O− Energy distribution in an RF magnetron plasma 国際会議

    H. Toyoda, K. Goto, T. Ishijima, N. Ohshima, K. Kinoshita

    62nd Annual GEC 

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    開催年月日： 2009年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Saratoga Springs, NY, USA   国名：アメリカ合衆国  

  552. Temporal variation of plasma density in atmospheric pressure 国際会議

    H. Toyoda, H. Yang, T. Ishijima

    62nd Annual GEC 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Saratoga Springs, NY, USA   国名：アメリカ合衆国  

  553. 2次元大面積プラズマ生成用表面波の並列励起

    平成18年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  554. TIME-DEPENDENT PLASMA-DENSITY MEASUREMENT OF ATMOSPHERIC-PRESSURE PULSED-MICROWAVE PLASMA BY STARK BROADENING 国際会議

    H. Toyoda, H. Yang, T. Ishijima

    7th International Workshop on "Microwave Discharges: Fundamentals and Applications" 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Hamamatsu   国名：日本国  

  555. SIH4 GAS DISSOCIATION PROCESS IN HIGH-DENSITY MICROWAVE PLASMA FOR SILICON FILM DEPOSITION 国際会議

    T. Ishijima, H. Asano, J. Sakai, T. Kuroda, M. Ikeda, H. Toyoda

    7th International Workshop on "Microwave Discharges: Fundamentals and Applications" 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Hamamatsu   国名：日本国  

  556. Time-dependent measurement of plasma density in atmospheric-pressure microwave plasma using Stark broadening 国際会議

    H. Toyoda, H. Yang, T. Ishijima

    International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2009) 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Busan, Korea   国名：大韓民国  

  557. Monosilane Dissociation Process in Microwave-Excited High-Density H2/SiH4 Plasma 国際会議

    H. Asano, H. Endo, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 31th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Busan, Korea   国名：日本国  

  558. TOC Evaluation of Organic Solute Treated by Microwave-Excited Bubble Plasma 国際会議

    R. Saito, H. Sugiura, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 31th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Busan, Korea   国名：日本国  

  559. Temporal Variation of Hydrogen Atom Spectrum Emitted from Pulsed Microwave Plasma under Atmospheric Pressure 国際会議

    H. Yang, T. Ishijima, and H. Toyoda

    The 31th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Busan, Korea   国名：日本国  

  560. Investigation of photoresist surface modeified layer by fluorocarbon ion ombardment 国際会議

    T. Takeuchi, M. Sekine, H. Toyoda, K. Takeda, M. Hori, S-Y. Kang, I. Sawada

    The 31th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Busan, Korea   国名：日本国  

  561. Energy distribution of oxygen negative ion in an RF magnetron plasma 国際会議

    H. Toyoda, K. Goto, T. Ishijima, N. Ohshima, K. Kinoshita

    2nd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology(ICMAP 2009) 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Busan, Korea   国名：大韓民国  

  562. Rapid Improvement of Polymer Film Adhesion by High Density Plasma 国際会議

    Y. Gunjo, K. Goto, T. Ishijima, H. Toyoda, K. Iseki, and H. Sugai

    International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2009) 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Busan, Korea   国名：大韓民国  

  563. High-density microwave plasma for fabrication of silicon thin film solar cells 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2009) 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Busan, Korea   国名：大韓民国  

  564. マイクロ波プラズマCVD における基板への熱流束評価

    坂井 淳二，石島 達夫，豊田 浩孝

    平成21年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：愛知工業大学   国名：日本国  

  565. 微結晶シリコン薄膜堆積用SiH4/H2 マイクロ波プラズマの気相診断

    黒田 俊之，石島 達夫，豊田 浩孝

    平成21年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：愛知工業大学   国名：日本国  

  566. 酸化物ターゲットRF マグネトロンプラズマにおける高エネルギー酸素負イオンの空間分布計測

    後藤 和也，石島 達夫，大嶋 則和，木下 啓藏，豊田 浩孝

    平成21年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：愛知工業大学   国名：日本国  

  567. 915MHz表面波プラズマCVDにおける高付着性ラジカルの抑制

    浅野弘嗣、池田昌平、石島達夫、豊田浩孝

    第70回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：富山大学   国名：日本国  

  568. 大気圧パルスマイクロ波プラズマにおける印加外部電界に起因するスペクトル拡がり

    鎌田　安住，楊　海鵬，石島　達夫，豊田　浩孝

    平成21年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：愛知工業大学   国名：日本国  

  569. CF系イオン照射によるフォトレジスト表面改質層の解析(2)

    竹内拓也、関根誠、豊田浩孝、竹田圭吾、堀勝、康松潤、沢田郁夫

    第70回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：富山大学   国名：日本国  

  570. シュタルク拡がりを用いたプラズマ密度計測における外部電界の影響

    楊　海鵬、石島達夫、豊田浩孝

    第70回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：富山大学   国名：日本国  

  571. マイクロ波バブルプラズマにおける水温・圧力の影響

    齋藤良太、杉浦宏康、石島達夫、豊田浩孝

    第70回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：富山大学   国名：日本国  

  572. マイクロ波プラズマ生成による難分解性有機物分解処理

    石島達夫，齋藤良太，豊田浩孝

    電気学会プラズマ研究会 

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    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：大阪府立大学，中之島サテライト   国名：日本国  

  573. Detection of High Energy Negative Ions in an RF Magnetron Sputter Plasma 国際会議

    H. Toyoda, K. Goto, T. Ishijima, N. Ohshima, K. Kinoshita

    The 19th International Symposium on Plasma Chemistry 

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    開催年月日： 2009年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地： Bochum, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  574. Decomposition of Organic Solute with Microwave Bubble Plasmas 国際会議

    T. Ishijima, R. Saito, H. Sugiura, H. Toyoda

    The 19th International Symposium on Plasma Chemistry 

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    開催年月日： 2009年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Bochum, Germany   国名：日本国  

  575. High-Density Microwave Plasma Production For Thin Film Si Solar Cell and Monitoring of SiH4 Gas Dissociation Process 招待有り 国際会議

    T. Ishijima, H. Endo, H. Asano, H. Toyoda

    The 9th Korea-Japan Workshop on Thin Film and Plasma Process for Green Plasma Technology Advanced Plasma Diagnostics for Plasma-Nano Processing 

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    開催年月日： 2009年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Seoul, Korea   国名：大韓民国  

  576. 915MHz表面波プラズマを用いた微結晶シリコン薄膜の膜特性評価

    浅野弘嗣、遠藤浩孝、石島達夫、豊田浩孝

    第56回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：筑波大学   国名：日本国  

  577. スロットアンテナ励起マイクロ波液中プラズマによる有機物含有溶液処理

    齋藤良太、杉浦宏康、石島達夫、豊田浩孝

    第56回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：筑波大学   国名：日本国  

  578. シュタルク拡がりを用いた大気圧パルスマイクロ波プラズマの電子密度計測

    楊　海鵬、石島達夫、豊田浩孝

    第56回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：筑波大学   国名：日本国  

  579. 高周波マグネトロンプラズマ中の高エネルギー負イオンエネルギーの空間分布計測

    後藤和也、石島達夫、大嶋則和、木下啓蔵、豊田浩孝

    第56回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：筑波大学   国名：日本国  

  580. 微結晶Si薄膜超高速堆積用表面波プラズマ 招待有り

    豊田浩孝

    太陽電池製造用新規プラズマ源に関する研究会 

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    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：九州大学   国名：日本国  

  581. Basic experiment on microcrystalline silicon film deposition by 915 MHz microwave PlasmaCVD 国際会議

    H. Asano, T. Ishijima, H. Toyoda

    First International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications 

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    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Nagoya JAPAN   国名：日本国  

  582. Low Temperature Microcrystalline Silicon Film Deposition by Microwave High-density Plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    First International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications 

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    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Nagoya University, Nagoya JAPAN   国名：日本国  

  583. CF系プラズマにより改質されたフォトレジスト表面層の観察

    竹内拓也、関根誠、豊田浩孝、竹田圭吾、堀勝、康松潤、沢田郁夫

    プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会 プロシーディングス 

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    開催年月日： 2009年2月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  584. マイクロ波励起による液中プラズマ生成と化学反応性

    石島達夫、齋藤良太、豊田浩孝

    プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会 プロシーディングス 

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    開催年月日： 2009年2月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  585. スロットアンテナ励起バブルプラズマによる高速溶質処理

    齋藤良太、杉浦宏康、石島達夫、豊田浩孝

    プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会 プロシーディングス 

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    開催年月日： 2009年2月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  586. 915ＭＨｚマイクロ波励起 プラズマによる微結晶シリコン薄膜堆積

    浅野弘嗣、遠藤広考、石島達夫、豊田浩孝

    プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会 プロシーディングス 

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    開催年月日： 2009年2月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  587. 大気圧パルスマイクロ波プラズマにおける水素原子スペクトルの時分解計測

    楊　海鵬、石島達夫、豊田浩孝

    プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会 プロシーディングス 

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    開催年月日： 2009年2月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  588. RFマグネトロンプラズマ中の高エネルギー負イオン計測

    後藤和也、石島達夫、大嶋則和、木下啓蔵、豊田浩孝

    プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会 プロシーディングス 

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    開催年月日： 2009年2月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  589. SiH4 Dissociation Process in Microwave-Excited SiH4/H2 Plasma 国際会議

    H. Endo, H. Asano, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 2nd International Conference on Plasma-Nanotechnology & Science 

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    開催年月日： 2009年1月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Nagoya JAPAN   国名：日本国  

  590. Treatment of Organic Solution with Microwave Excited Plasmas 国際会議

    R. Saito, H. Sugiura, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 2nd International Conference on Plasma-Nanotechnology & Science 

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    開催年月日： 2009年1月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Nagoya JAPAN   国名：日本国  

  591. Detection of Energetic Negative Ions in an RF Magnetron Plasma 国際会議

    K. Goto, T. Ishijima, N. Ohshima, K. Kinoshita and H. Toyoda

    The 2nd International Conference on Plasma-Nanotechnology & Science 

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    開催年月日： 2009年1月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya University, Nagoya JAPAN   国名：日本国  

  592. Organic Solute Decomposition with Microwave Bubble Plasma 国際会議

    T. Ishijima, R. Saito, H. Sugiura, H. Toyoda

    9th International Symposium on Biomimetic Materials Processing (BMMP-9) 

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    開催年月日： 2009年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Nagoya University, Nagoya JAPAN   国名：日本国  

  593. SOLUTE DECOMPOSITION WITH MICROWAVE-EXCITED BUBBLE PLASMA 国際会議

    R. Saito, H. Sugiura, T. Ishijima and H. Toyoda

    The 8th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics Joint Workshop with Plasma Application Monodzukuri(PLAM) 

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    開催年月日： 2009年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Techno Plaza, Gifu, Japan   国名：日本国  

  594. Investigation of Solute Decomposition Process in Water by Multibubble Plasma at Reduced and Atmospheric Pressures 国際会議

    T. Ishijima, H. Sugiura, R. Saito and H. Toyoda

    The IUMRS International Conference in Asia 2008 

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    開催年月日： 2008年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  595. Rapid Surface Modification of PET Film by High Density Microwave Plasma 国際会議

    Y. Gunjo, K. Goto, T. Ishijima, H. Toyoda, K. Iseki, and H. Sugai

    The IUMRS International Conference in Asia 2008 

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    開催年月日： 2008年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  596. Evaluation of Absolute H2O2 Concentration in Water Treated by Microwave Bubble Plasma 国際会議

    R. Saito, H. Sugiura, T. Ishijima, H. Toyoda

    The IUMRS International Conference in Asia 2008 

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    開催年月日： 2008年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  597. Film Quality of Microcrystalline Silicon Films Deposited by SiH4/H2 Surface Wave Plasma CVD 国際会議

    H. Endo, J. Sakai, H. Asano, T. Ishijima, H. Toyoda

    The IUMRS International Conference in Asia 2008 

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    開催年月日： 2008年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  598. Production of Large-Area Plasma by Three Parallel Waveguide Systems and Its Application to Si Film Deposition 国際会議

    H. Endo, T. Hayashi. Y. Takanishi, T. Ishijima, H. Toyoda, H. Sugai, A. Masuda and M. Kondo

    30th International Symposium on Dry Process(DPS2008) 

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    開催年月日： 2008年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：KOKUYO HALL, Minato-ku, Tokyo JAPAN   国名：日本国  

  599. Diagnostics of Microwave Excited Plasma in Liquid Using Spectroscopic Measurements 国際会議

    H. Sugiura, R. Saito, T. Ishijima, and H. Toyoda

    30th International Symposium on Dry Process(DPS2008) 

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    開催年月日： 2008年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：KOKUYO HALL, Minato-ku, Tokyo JAPAN   国名：日本国  

  600. Effect of H2O Addition on Rapid Surface Treatment of Polymer Film by High Density Microwave Plasma 国際会議

    Y. Gunjo, K. Goto, T. Ishijima, H. Toyoda, K. Iseki, and H. Sugai

    30th International Symposium on Dry Process(DPS2008) 

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    開催年月日： 2008年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：KOKUYO HALL, Minato-ku, Tokyo JAPAN   国名：日本国  

  601. Mater-Scale Microwave Plasma Production and its Application to Silicon Thin Film Deposition 国際会議

    H. Toyoda, Y. Takanishi, H. Endo, T. Ishijima

    61th Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2008年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Dallas, Texas USA   国名：アメリカ合衆国  

  602. Diagnostics of Microwave Bubble Plasma in Liquid 国際会議

    H. Toyoda, H. Sugiura, R. Saito, T. Ishijima

    61th Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2008年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Dallas, Texas USA   国名：アメリカ合衆国  

  603. Meter-Scale Plasma Production and Thin Film Deposition Process with Parallel Waveguide at 915 MHz Microwave Excitation 国際会議

    T. Ishijima, Y. Takanishi, H. Endo and H. Toyoda

    9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology and 21st Symposium on Plasma Science for Materials 

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    開催年月日： 2008年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Huangshan, China   国名：日本国  

  604. Solute Decomposition in Water by Slot-Excited Microwave Plasmas at Atmospheric Pressures 国際会議

    T. Ishijima, H. Sugiura, R. Saito and H. Toyoda

    9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology and 21st Symposium on Plasma Science for Materials 

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    開催年月日： 2008年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Huangshan, China   国名：日本国  

  605. 915ＭＨｚ表面波プラズマによる微結晶シリコン薄膜堆積

    浅野弘嗣、坂井淳二、遠藤広考、石島達夫、豊田浩孝

    平成20年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：愛知県立大学   国名：日本国  

  606. 大気圧マイクロ波プラズマによる溶質処理

    齋藤良太、杉浦宏康、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎

    平成20年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：愛知県立大学   国名：日本国  

  607. 表面波プラズマCVDによる微結晶シリコン薄膜堆積と電気伝導特性評価

    遠藤広考、坂井淳二、浅野弘嗣、石島達夫、豊田浩孝

    平成20年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：愛知県立大学   国名：日本国  

  608. 水蒸気添加高密度マイクロ波アルゴンプラズマによるPETフィルムの高速表面改質

    郡上祐一、後藤和也、石島達夫、豊田浩孝、伊関清司、菅井秀郎

    平成20年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：愛知県立大学   国名：日本国  

  609. 蛍光プローブを用いたマイクロ波励起バブルプラズマの反応生成物診断

    杉浦宏康、齋藤良太、石島達夫、豊田浩孝

    平成20年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：愛知県立大学   国名：日本国  

  610. Simulation of Microwave Rediation for Microwave Discharge in Liquid 国際会議

    T. Ishijima, K. Nagira, H. Sugiura and H. Toyoda

    International Congress on Plasma Physics 2008 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Fukuoka, Japan   国名：日本国  

  611. Production of One-meter Square High Density Microwave Plasma for Thin Film Deposition 国際会議

    Y. Takanishi, H. Endo, T. Ishijima, and H. Toyoda

    International Congress on Plasma Physics 2008 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Fukuoka, Japan   国名：日本国  

  612. Efficient Decomposition of Organic Materials by Slot-Excited Microwave Plasmas in Water 国際会議

    H. Sugiura, T. Ishijima, and H. Toyoda, H. Sugai

    International Congress on Plasma Physics 2008 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Fukuoka, Japan   国名：日本国  

  613. Efficiency Improvement of Solute Decomposition in Water by Multibubble Plasma Excited by Microwave Discharge 国際会議

    T. Ishijima, H. Sugiura, R. Saito, H. Toyoda and H. Sugai

    International Interdisciplinary-Symposium on Gaseous and Liquid Plasmas 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Sendai, Japan   国名：日本国  

  614. 表面波プラズマCVDにより堆積した微結晶シリコン薄膜の電気伝導特性評価

    遠藤広考、坂井淳二、浅野弘嗣、石島達夫、豊田浩孝

    第69回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  615. シュタルク広がりを用いたマイクロ波液中プラズマの電子密度測定

    豊田浩孝、杉浦宏康、齋藤良太、石島達夫

    第69回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  616. 高密度マイクロ波プラズマを用いたPETフィルム表面改質における水蒸気添加の効果

    郡上祐一、豊田浩孝、伊関清司、菅井秀郎

    第69回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  617. 表面波プラズマによる円筒状樹脂の均一表面改質

    石川喬介，石島達夫，豊田浩孝，笹井建典，菅井秀郎

    第69回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  618. 大気圧マイクロ波バブルプラズマによる溶質処理

    齋藤良太、杉浦宏康、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎

    第69回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  619. 蛍光プローブを用いたマイクロ波バブルプラズマの反応生成物診断

    杉浦宏康、齋藤良太、石島達夫、豊田浩孝

    第69回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：中部大学   国名：日本国  

  620. マイクロ波励起高密度プラズマを用いたPTFEフィルムの表面改質

    石川喬介，石島達夫，笹井建典，豊田浩孝，菅井秀郎

    プラズマ研究会 

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    開催年月日： 2008年5月

    記述言語：日本語  

    開催地：名古屋工業大学   国名：日本国  

  621. Measurement and Control of Energetic Rare Gas Atoms in Magnetron Plasma 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    6th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing 

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    開催年月日： 2008年4月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Okinawa, Japan   国名：日本国  

  622. スロット励起大気圧マイクロ波プラズマの生成

    郡上祐一、石島達夫、豊田浩孝

    第55回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：日大船橋キャンパス   国名：日本国  

  623. マイクロ波バブルプラズマを用いた溶質の高速処理

    杉浦宏康、石島達夫、豊田浩孝、佐藤正典、菅井秀郎

    第55回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：日大船橋キャンパス   国名：日本国  

  624. 915MHzマイクロ波による大面積プラズマの生成と微結晶シリコン薄膜堆積

    遠藤広孝、林　孝信、高西雄大、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎、増田　　淳、近藤道雄

    第55回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：日大船橋キャンパス   国名：日本国  

  625. 高密度表面波励起プラズマによるPETフィルムの表面改質

    石川喬介、石島達夫、豊田浩孝、笹井建典、菅井秀郎

    第55回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：日大船橋キャンパス   国名：日本国  

  626. 超伝導溶融バルク体を磁場発生源とする強磁場スパッタ装置のプラズマ診断

    岡村建志、太田勲、柳陽介、伊藤佳孝、豊田浩孝、生田博志

    第55回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：日大船橋キャンパス   国名：日本国  

  627. One-Meter-Square Surface Wave Plasma for Si Film Deposition 国際会議

    Y. Takanishi, H. Endo, T. Ishijima, H. Toyoda and H. Sugai

    The 1st International Conference on PLAsma-NanoTechnology & Science 

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    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  628. High Rate Deposition of Silicon Films at Low Temperature Employing Surface Wave Excited Plasma 招待有り 国際会議

    H. Toyoda

    The 6th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics & The 3rd Plasma Application Monodzukuri (PLAM) 

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    開催年月日： 2008年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  629. Efficient Solute Decomposition in Liquid with Bubble Plasma Production by Microwaves 国際会議

    H. Sugiura, T. Ishijima, H. Toyoda

    The 6th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics & The 3rd Plasma Application Monodzukuri (PLAM) 

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    開催年月日： 2008年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  630. Surface Modification of PTFE Film by High Demsity Microwave Plasma 国際会議

    K. Ishikawa, T. Ishijima, H. Toyoda

    The 6th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics & The 3rd Plasma Application Monodzukuri (PLAM) 

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    開催年月日： 2008年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  631. マイクロ波バブルプラズマの安定生成による溶質分解効果の向上

    杉浦宏康，石島達夫，豊田浩孝，佐藤正典，菅井秀郎

    第25回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス 

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    開催年月日： 2008年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：山口教育会館   国名：日本国  

  632. 高密度マイクロ波プラズマによるPETフィルムの高速表面改質

    郡上祐一，豊田浩孝，伊関清司，菅井秀郎

    第25回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス 

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    開催年月日： 2008年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：山口教育会館   国名：日本国  

  633. Production of Surface Wave Excited Plasma by a Parallel-Waveguide System and its Application to Si Film Deposition

    H. Endo, Y. Takanishi, T. Hayashi, H. Toyoda, H. Sugai

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    開催年月日： 2007年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  634. Surface Modification of Fluorocarbon Polymer Film by High Density Surface Wave Plasma

    K. Ishikawa, T. Ishijima, H. Toyoda, K. Sasai, H. Sugai

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    開催年月日： 2007年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  635. LARGE-AREA HIGH-SPEED DEPOSITION OF mc-Si THIN FILMS BY 915 MHz SURFACE WAVE PLASMA 国際会議

    Hideo Sugai, Tatsuo Ishijima, Hirotaka Toyoda, Atsushi Masuda, Michio Kondo

    17th International Photovoltaic Science and Engineering Conference 

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    開催年月日： 2007年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Fukuoka   国名：日本国  

  636. Production of High Density Plasma for Silicon Film Deposition at Low Substrate Temperatures 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyota

    2007 Trans-Pacific Workshop on Flexible Electronics 

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    開催年月日： 2007年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：the University of Texas at Dallas   国名：アメリカ合衆国  

  637. Development and Characteristics of Neutral Beam Source 国際会議

    Y. Hara, S. Takashima, S. Den, K. Yamakawa, H. Kanou, H. Sugai, H. Toyoda, M. Hori

    The 3nd International Student Workshop on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2007年11月

    記述言語：英語  

    開催地：Nagoya University, Aichi, Japan   国名：日本国  

  638. Production of Large-Area and Uniform Surface Wave Plasma along Linear Parallel Waveguides 国際会議

    Y. Takanishi, H. Endo, T. Ishijima, H. Toyoda and H. Sugai

    29th International Symposium on Dry Process(DPS2007) 

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    開催年月日： 2007年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  639. Development and Characteristics of Nitorogen Radical Beam 国際会議

    Y. Hara, S. Takashima, K. Yamakawa, S. Den, H. Kano, H. Toyoda, M. Sekine and M. Hori

    29th International Symposium on Dry Process(DPS2007) 

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    開催年月日： 2007年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  640. Microcrystalline Thin Film Deposition by Surface Wave Excited Plasma at 2.45 GHz 国際会議

    T. Hayashi, Y. Takanishi, H. Toyoda and H. Sugai

    29th International Symposium on Dry Process(DPS2007) 

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    開催年月日： 2007年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  641. Plasma Activation of Oxide Ceramics Surface for Hydrogen Production by Water Vapor Decomposition 国際会議

    Y. Yamaguchi, T. Ishijima, H. Toyoda and H. Sugai

    29th International Symposium on Dry Process(DPS2007) 

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    開催年月日： 2007年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  642. Reaction of Fluorocarbon Species with Si and SiO2 Surfaces1 招待有り 国際会議

    HIROTAKA TOYODA

    60th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2007年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：アメリカ合衆国  

  643. Suppression of High-Energy Backscattered Species in Magnetron Sputter Plasma with Cylindrical Cathode 国際会議

    HIROTAKA TOYODA, YUSUKE TAKAGI, HIDEO SUGAI

    60th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2007年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：アメリカ合衆国  

  644. 2.45GHz並列励起表面波プラズマの生成とシリコン薄膜堆積

    遠藤広考、高西雄大、林孝信、豊田浩孝、菅井秀郎

    平成19年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：信州大学   国名：日本国  

  645. 気泡制御によるマイクロ波バブルプラズマの安定化と溶質分解効果の向上

    杉浦宏康、石島達夫、豊田浩孝、佐藤正典、菅井秀郎

    平成19年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：信州大学   国名：日本国  

  646. プラズマCVDの基礎 招待有り

    豊田浩孝

    第34回アモルファスセミナー 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：宮城県刈田郡ホテルさんさ亭   国名：日本国  

  647. プラズマ照射によるフッ素樹脂の表面改質

    石川喬介、石島達夫、豊田浩孝、笹井建典、菅井秀郎

    平成19年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：信州大学   国名：日本国  

  648. 高密度マイクロ波プラズマ処理によるPETフィルムの親水性向上

    郡上祐一、豊田浩孝、伊関清司、菅井秀郎

    平成19年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：信州大学   国名：日本国  

  649. Production of One-Meter-Square Large-Area Surface Wave Plasma with Parallel Linear Antennas 国際会議

    Y. Takanishi, H. Endo, T. Ishijima, H. Toyoda and H. Sugai

    6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  650. Effect of Hydrogen Radical on Silicon Chemical Sputtering with Argon-Hydrogen Mixture Gas 国際会議

    K. Fukaya, K. Sasaki, A. tabata, H. Toyoda and H. Sugai

    6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  651. Characteristics of the vertically-stacked Josephson junctions fabricated with surface wave plasma 国際会議

    Taishi Kimura, Mitsuhiro Watanabe, Takanobu Hayashi, Kenmei Kajino, Toyoda Hirotaka, Hideo Sugai, Masumi Inoue, Akira Fujimaki

    8th European Conference on Applied Superconductivity 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：英語  

    国名：ベルギー王国  

  652. 磁性多層膜における構造と磁気特性のスパッタガス依存性

    前田幸春、鈴木勇佑、坂下洋平、加藤剛志、岩田聡、綱島滋、豊田浩孝、菅井秀郎

    第31回日本応用磁気学会学術講演会 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語  

    開催地：学習院大学   国名：日本国  

  653. 915MHz表面波による大面積・高密度プラズマ生成と微結晶シリコン薄膜堆積

    高西雄大,遠藤広考,林孝信,中尾禎子,石島達夫,豊田浩孝,菅井秀郎,増田 淳,近藤道雄

    第68回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：北海道工業大学   国名：日本国  

  654. マイクロ波プラズマＣＶＤによるCNT-FETへのダメージフリー保護膜形成

    高田昇治、豊田浩孝、菅井秀郎、中島康宏、大野雄高、水谷孝

    第68回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：北海道工業大学   国名：日本国  

  655. 水素生成酸化物セラミクスのプラズマ処理における酸素空格子生成量の評価

    山口雄矢、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎、森田健治、片平康治

    第68回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：北海道工業大学   国名：日本国  

  656. 表面波励起プラズマによる積層ジョセフソン接合の表面改質

    林孝信(M)、渡邉光弘、木村大至、井上真澄、藤巻朗、豊田浩孝、菅井秀郎

    第68回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：北海道工業大学   国名：日本国  

  657. 表面波プラズマを用いた積層ジョセフソン接合作製における表面改質条件の検討

    渡邉光弘、木村大至、林孝信、 豊田浩孝、菅井秀郎、井上真澄、藤巻朗

    第68回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：北海道工業大学   国名：日本国  

  658. Development and Characteristics of Fast Radical Source 国際会議

    Y. Hara, S. Takashima, K. Yamakawa, S. Den, H. Kano, H. Toyoda, H. Sugai and M. Hori

    18th International Symposium on Plasma Chemistry 

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    開催年月日： 2007年8月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  659. Rapid Improvement of Polymer Film Hydrophilicity by High Density Microwave Plasma 国際会議

    Y. Takagi. Y. Gunjyo. ○H. Toyoda, H. Sugai

    18th International Symposium on Plasma Chemistry 

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    開催年月日： 2007年8月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  660. Uniform Deposition of Microcrystalline Silicon Films by High Density Microwave Plasma with Paralleled Waveguides

    T. Hayashi, Y. Takanishi, H. Toyoda and H. Sugai

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    開催年月日： 2007年6月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  661. High-Density Treatment of Polyimide Film for Enhancement of Copper Layer Adhesion 国際会議

    Y. Takagi, Y. Gunjyo. H. Toyoda and H. Sugai

    9th International Symposium on Sputtering and Plasma 

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    開催年月日： 2007年6月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  662. Meter-Scale Deposition of Silicon Thin Films by Slot-Excited Large Microwave Plasma 国際会議

    H. Sugai, Y. Nojiri, Y. Hotta, T. Ishijima, H. Toyoda, A. Masuda, M. Kondo

    Symposium on Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology in the MRS Spring Meeting 

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    開催年月日： 2007年4月

    記述言語：英語  

    開催地：San Francisco, USA   国名：アメリカ合衆国  

  663. 915MHz表面波による1m角高密度プラズマ生成

    高西雄大、遠藤広孝、岡安隆文、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎

    第54回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2007年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  664. 高温超伝導体ジョセフソン接合の表面改質時のECRプラズマ内イオンエネルギーの評価

    渡邉光弘、木村大至、林孝信、豊田浩孝、菅井秀郎、井上真澄、藤巻朗

    第54回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2007年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  665. プラズマイオン注入における過渡シース効果

    ホルゼルニコラ、豊田浩孝、菅井秀郎、斎藤隆雄

    第54回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2007年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  666. 並列導波管励起表面波プラズマによる微結晶シリコン薄膜堆積

    林孝信、高西雄大、岡安隆文、豊田浩孝、菅井秀郎

    第54回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2007年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  667. 表面波プラズマを用いた表面改質型積層ジョセフソン接合の作製

    木村大至、渡邉光弘、林孝信、豊田浩孝、菅井秀郎、井上真澄、藤巻朗

    第54回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2007年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  668. Large-Area High-Density Plasma Sources Using Microwave 招待有り 国際会議

    H. Sugai, T. Ishijima, H. Toyoda, A. Masuda, M. Kondo

    International Workshop upon Thin Film Silicon Solar Cells (IWTFSSC) 

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    開催年月日： 2007年2月 - 2007年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Nara   国名：日本国  

  669. 高密度マイクロ波プラズマを用いた微結晶および多結晶シリコン膜形成 招待有り

    豊田浩孝、菅井秀郎

    応用物理学会東海支部学術講演会 

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    開催年月日： 2007年2月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  670. GaN成長条件下における窒素プラズマ源からの活性種の絶対フラックス評価

    金井英和、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎、大阪次郎

    第24回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス 

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    開催年月日： 2007年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  671. 広幅フラット高密度プラズマによる微結晶シリコン膜堆積

    林孝信、高西雄大、岡安隆文、豊田浩孝、菅井秀郎

    第24回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス 

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    開催年月日： 2007年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  672. マグネトロンスパッタリングによるYBaCuO超伝導薄膜の堆積および成膜条件における銅原子密度測定

    高軍思、深谷康太、佐々木浩一、豊田浩孝、岩田聡、井上真澄、藤巻朗、菅井秀郎

    第24回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス 

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    開催年月日： 2007年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  673. カーボンナノチューブFET用SiN2保護膜形成における荷電粒子束の抑制

    高田昇治、豊田浩孝、菅井秀郎

    第24回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス 

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    開催年月日： 2007年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  674. 化学反応支援マグネトロンスパッタリングによる微結晶シリコン成膜とそのプラズマ診断

    深谷康太、佐々木浩一、高軍思、田畑彰守、豊田浩孝、岩田聡、菅井秀郎

    第24回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス 

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    開催年月日： 2007年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  675. 915MHz表面波によるメートル角・高密度プラズマ生成

    高西雄大、遠藤広孝、岡安隆文、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎

    第24回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス 

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    開催年月日： 2007年1月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  676. スパッタプラズマ中の高エネルギー粒子計測と制御 招待有り

    豊田浩孝

    日本真空協会プラズマ技術部会講演会 

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    開催年月日： 2007年

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  677. 高密度マイクロ波プラズマによる微結晶および多結晶Si薄膜形成

    豊田浩孝、菅井秀郎

    名古屋大学21世紀COEプログラム「先端プラズマ科学が拓くナノ情報デバイス」最終成果報告シンポジウム 

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    開催年月日： 2006年12月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  678. スパッタプロセス用プラズマの診断と新規スパッタ源の開発

    豊田浩孝

    名古屋大学21世紀COEプログラム「先端プラズマ科学が拓くナノ情報デバイス」最終成果報告シンポジウム 

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    開催年月日： 2006年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  679. Measurement and Control of Energetic Neutral Species in Magnetron Plasma 招待有り 国際会議

    H. Toyoda, Y. Takagi,Y. Sakasita, H. Sugai

    The 4th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics & Thin Film Technology for Electronic Materials 

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    開催年月日： 2006年12月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Hazu-gun, Japan   国名：日本国  

  680. Energy Control of Backscattered Rare Gas Atoms by VHF-DC Superimposed Magnetron Discharge 招待有り

    H. Toyoda and H. Sugai

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    開催年月日： 2006年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  681. 製膜用窒素プラズマからの活性種診断

    金井英和、石島達夫、豊田浩孝、大阪次郎、菅井秀郎

    第17回日本MRS学術シンポジウム 

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    開催年月日： 2006年12月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  682. 表面波プラズマによる微結晶シリコン薄膜の低基板温度堆積

    岡安隆文、林孝信、高西雄大、豊田浩孝、菅井秀郎

    第17回日本MRS学術シンポジウム 

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    開催年月日： 2006年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  683. Influence of Cu Density Variation on Superconductor Film Deposition in Magnetron Sputtering Plasmas 招待有り

    Junsi Gao, Kouta Fukaya, Koichi Sasaki, Hirotaka Toyoda, Satoshi Iwata, Masumi Inoue, Akira Fujimaki and Hideo Sugai

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    開催年月日： 2006年12月

    記述言語：日本語  

    国名：日本国  

  684. μc-Si Film Deposition by Surface Wave Plasma under Precise Control of Substrate Temperature 国際会議

    T. Okayasu, Y. Takanishi, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 6th International Symposium on Dry Process(DPS2006) 

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    開催年月日： 2006年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  685. Microwave Plasma CVD of SiN, Film for Passivation of Carbon Nanotube FET 国際会議

    N. Takada, H. Toyoda, H. Sugai, H. Shimauchi, Y. Ohno and T, Mizutani

    Proceedings of 6th International Symposium on Dry Process(DPS2006) 

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    開催年月日： 2006年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  686. Deposition of Polycrystalline SiGe Film by Surface Wave Excited Plasma 国際会議

    Y. Takanishi, T. Okayasu, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 6th International Symposium on Dry Process(DPS2006) 

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    開催年月日： 2006年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  687. Rapid Treatment of Polymer Film Surface by High-Density Microwave Plasma 国際会議

    Y Takagi, Y. Gunjo, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 6th International Symposium on Dry Process(DPS2006) 

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    開催年月日： 2006年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  688. Measurements of Active Species Flux from N2 Plasma in GaN Growth Condition 国際会議

    H. Kanai, T. Ishijima, H. Toyoda, H. Sugai and J. Osaka

    Proceedings of 6th International Symposium on Dry Process(DPS2006) 

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    開催年月日： 2006年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  689. Measurements of Cu densities at the ground and metastable states in a magnetron sputtering plasma source with a Cu target 国際会議

    K. Sasaki, J.-S. Gao, N. Nafarizal, H. Toyoda, S. Iwata, T. Kato, S. Tsunashima, and H. Sugai

    AVS (American Vacuum Society) 53rd International Symposium and Exhibition 

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    開催年月日： 2006年11月

    記述言語：英語  

    開催地：San Francisco, USA   国名：日本国  

  690. プラズマCVDの基礎 招待有り

    豊田浩孝

    第33回アモルファスセミナー　スタートアップセッション 

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    開催年月日： 2006年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：大分、福岡   国名：日本国  

  691. Development and Characteristics of Neutral Beam Source 国際会議

    Y. Hara, S. Takashima, S. Den, K. Yamakawa, H. Kanou, H. Sugai, H. Toyoda, M. Hori

    The 3nd International Student Workshop on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2006年11月

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  692. GaN成膜高密度窒素プラズマからの活性種診断

    金井英和、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎

    平成18年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2006年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  693. 表面波励起SiH4/GeH4/H2プラズマによる高結晶性SiGe膜形成

    高西雄大、岡安隆文、豊田浩孝。菅井秀郎

    平成18年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2006年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  694. 2次元大面積プラズマ生成用表面波の並列励起

    林孝信、高西雄大、岡安隆文、豊田浩孝、菅井秀郎

    平成18年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2006年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  695. 表面波励起H2/SiH4プラズマにおける基板温度制御とmc-Si膜特性の向上

    岡安隆文、高西雄大、豊田浩孝、菅井秀郎

    平成18年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2006年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  696. マグネトロンスパッタリングにおける基板入射粒子のエネルギー制御と磁性多層膜への応用

    高木佑輔、豊田浩孝、鈴木勇佑、加藤剛志、岩田聡、綱島滋、菅井秀郎

    平成18年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2006年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  697. Slot-Excited Surface Wave Plasma for Giant Materials Processing 招待有り 国際会議

    H. Sugai, Y. Nojiri, Y. Hotta, T. Ishijima, H. Toyoda, A. Masuda, M. Kondo

    6th International Workshop on Microwave Discharges: Fundamentals and Applications 

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    開催年月日： 2006年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Zvenigorod, Russia   国名：ロシア連邦  

  698. GaN成長用小型ラジカル源からの窒素ラジカルフラックスの出現質量分析測定

    金井英和、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎、大坂次郎

    第67回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2006年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  699. VHF-DCマグネトロンスパッタリングによる膜平坦性の制御と磁性多層膜への応用

    高木佑輔、豊田浩孝、鈴木勇佑、加藤剛志、岩田　聡、綱島　滋、菅井秀郎

    第67回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2006年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  700. 表面波プラズマCVDにおけるmc-Si膜特性の基板表面温度依存性

    岡安隆文、高西雄大、豊田浩孝、菅井秀郎

    第67回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2006年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  701. 表面波励起SiH4/GeH4/H2プラズマを用いたSiGe膜の形成

    高西雄大、岡安隆文、豊田浩孝、菅井秀郎

    第67回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2006年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  702. High-speed Deposition of Microcrystalline Silicon by a Surface Wave Excited H2/SiH4 Plasma 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Yoshihiko Hota, Takafumi Okayasu, Hideo Sugai

    2006 IEEE World Conference on Photovoltaic Energy Conversion 

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    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Hawaii, USA   国名：アメリカ合衆国  

  703. Measurements of Absolute Densities and Emission Intensities of Species Ejected from a YBaCuO Target in MSP 国際会議

    J. S. Gao, K. Sasaki, H. Toyoda, A. Fujimaki, S. Iwata, and H. Sugai

    Abstracts of 2nd International COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Potsdam, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  704. Measurements of Nitrogen Radical Flux for GaN Layer Formation 国際会議

    T. Ishijima, H. Kanai, H. Toyoda, J. Osaka and H. Sugai

    Abstracts of 2nd International COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Potsdam, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  705. Sheath-Lens Effect in Plasma Immersion Ion Implantation 国際会議

    N. Holtzer, E. Stamate, H. Toyoda and H. Sugai

    Abstracts of 2nd International COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Potsdam, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  706. Distribution of densities in rf magnetron sputtering plasmas with a Si target and Ar-H2 Mixture gas 国際会議

    K. Fukaya, K. Sasaki, J. Gao, A. Tabata, H. Toyoda, S. Iwata, and H. Sugai

    Abstracts of 2nd International COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Potsdam, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  707. High Quality mc-Si Film Deposition Wave Plasma with a Modified Gas Feed System 国際会議

    H. Toyoda, T. Okayasu, Y. Takanishi, and H. Sugai

    Abstracts of 2nd International COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Potsdam, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  708. Development of New Neutral Beam Source and its Characteristic of Change Exchange 国際会議

    Y. Hara, S. Takashima, S. Den, K. Yamakawa, H. Kanou, H. Sugai, H. Toyoda, M. Hori

    Japanese-German Student Workshop on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  709. Development of New Neutral Beam Source and its Characteristic of Change Exchange 国際会議

    Y. Hara, S. Takashima, S. Den, K. Yamakawa, H. Kanou, H. Sugai, H. Toyoda, M. Hori

    COE 2006 2nd International COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  710. メートル級大面積プラズマプロセスの現状と展望 招待有り

    豊田浩孝

    第53回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  711. 円筒マグネトロンプラズマによる高エネルギー粒子抑制とスパッタ膜平坦化

    高木佑輔、坂下洋平、豊田浩孝、菅井秀郎

    第53回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  712. GaN-MBE成長における窒素ラジカル源からの活性粒子束の測定

    金井英和、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎、大坂次郎

    第53回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  713. 915MHz長尺高密度プラズマによる微結晶シリコン薄膜堆積

    岡安隆文、堀田芳彦、野尻康弘、高西雄大、石島達夫、豊田浩孝、菅井秀郎、増田淳、近藤道雄

    第53回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  714. 異なるバイアス電極形状と放電ガス下のプラズマイオン注入の振舞い

    ホルゼル　ニコラ、スタマテ エウジェン、豊田浩孝、菅井秀郎

    第53回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  715. 表面波プラズマ源のガス導入系および窓材質の最適化による微結晶シリコンの膜質向上

    堀田芳彦、岡安隆文、豊田浩孝、菅井秀郎

    第53回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  716. Energetic Particle Reduction on Substrate in Cylindrical Magnetron Sputter System 国際会議

    Y. Takagi, Y. Sakashita, H. Toyoda and H. Sugai

    ICRP-6/SPP-23(6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing) 

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    開催年月日： 2006年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  717. プロセシングプラズマの生成・制御とプラズマ計測技術 招待有り

    豊田浩孝

    技術情報協会セミナー 

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    開催年月日： 2006年

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  718. Dependence of GMR in Co/Cu Multolayers on Sputtering Conditions 国際会議

    C. C. Chen, Y. Sakashita, Y. Suzuki, T. Kato, S. Iwata, S. Tsunashima, H. Toyoda, K. Sasaki, H. Sugai

    ICRP-6/SPP-23(6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing) 

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    開催年月日： 2006年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  719. Slot-Excited Surface Wave Plasma for Giant Scale Processing 招待有り 国際会議

    Hideo Sugai, Yasuhiro Nojiri, Tatsuo Ishijima, Hirotaka Toyoda

    ICRP-6/SPP-23(6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing) 

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    開催年月日： 2006年

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  720. Gas and Window Material Control for High Quality mc-Si Film Deposition by Surface Wave Plasma 国際会議

    Y. Takanishi, Y. Hotta, H. Toyoda and H. Sugai

    ICRP-6/SPP-23(6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing) 

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    開催年月日： 2006年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  721. Surface Wave Plasma Expansion by Parallel Antenna Excitation for Large-Area Silicon Film Deposition 国際会議

    T. Okayasu, Y. Hotta, H. Toyoda and H. Sugai

    ICRP-6/SPP-23(6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing) 

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    開催年月日： 2006年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  722. Surface Investigation of Ion Dose Non-Uniformity Due to Modal and Discrete Focusing Effects During PIII of Silicon 国際会議

    N. Holtzer, E Stamate, H. Toyoda and H. Sugai

    ICRP-6/SPP-23(6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing) 

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    開催年月日： 2006年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  723. Numerical simulation of energetic species in a VHF-DC magnetron plasma and comparison with experiments 国際会議

    H. Toyoda, Y. Sakashita, Y. Takagi and H. Sugai

    ICRP-6/SPP-23(6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing) 

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    開催年月日： 2006年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  724. Deposition of mc-Si Film by Surface Wave Plasma with a New Gas Shower System

    Y. Hotta, T. Okayasu, Y. Takanishi, H. Toyoda and H. Sugai

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    開催年月日： 2005年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  725. Independent Control of Backscattering energy and Sputter Rate in a VHS-DC Superimposed Magnetron Source 国際会議

    H. Toyoda, Y. Sakashita, Y. Takagi, K. Sasaki, J. Gao. T. Kato, S. Iwata, S. Tsunashima, H. Sugai

    AVS52nd International Symposium & Exhibition 

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    開催年月日： 2005年10月 - 2005年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Boston, MA,USA   国名：アメリカ合衆国  

  726. 表面波励起SiH4/H2プラズマによる微結晶シリコン薄膜の高速堆積

    堀田芳彦、岡安隆文、豊田浩孝、菅井秀郎

    第66回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  727. YBaCuOターゲットマグネトロンスパッタリングプラズマ中の銅原子とイットリウム原子の発光強度

    高軍思、ナファリザル ナヤン、佐々木浩一、豊田浩孝、菅井秀郎

    平成17年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  728. Co/Cu多層膜における構造と磁気抵抗効果のスパッタ条件依存性

    鈴木勇佑、陳長川、加藤剛志、岩田聡、綱島滋、柴垣寛治、高軍思、豊田浩孝、佐々木浩一、菅井秀郎

    平成17年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  729. DC-マグネトロンスパッタ放電におけるイオン・原子のエネルギー分布シミュレーション

    高木佑輔、坂下洋平、豊田浩孝、高　軍思、佐々木浩一、加藤剛志、岩田　聡、綱島　滋、菅井秀郎

    平成17年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  730. 大面積薄膜プロセス用表面波プラズマ源の開発

    岡安隆文、堀田芳彦、豊田浩孝、菅井秀郎

    平成17年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  731. VHF-DC重畳マグネトロンプラズマにおける高エネルギー粒子測定

    坂下洋平、高木佑輔、豊田浩孝、高　軍思、佐々木浩一、加藤剛志、岩田　聡、綱島　滋、菅井秀郎

    平成17年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  732. 表面波励起プラズマによる微結晶シリコン薄膜の高速堆積

    堀田芳彦、岡安隆文、豊田浩孝、菅井秀郎

    平成17年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  733. プラズマイオン注入におけるシースレンズ効果によるイオンドーズ不均一性の評価

    ホルゼル　ニコラ、スタマテ　エウジェン、豊田浩孝、菅井秀郎

    平成17年度電気関係学会東海支部連合大会 

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    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  734. プラズマイオン注入におけるシースレンズ誘起イオンドーズ不均一性

    ホルゼル　ニコラ、スタマテ　エウジェン、豊田浩孝、菅井秀郎

    第66回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  735. VHF-DC重量マグネトロンの高エネルギー粒子計測

    坂下洋平、高木佑輔、豊田浩孝、高軍思、佐々木浩一、加藤剛志、岩田聡、綱島滋、菅井秀郎

    第66回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  736. マグネトロンスパッタリングにおける高エネルギー粒子の発生過程と計測

    坂下洋平(M)、豊田浩孝、菅井秀郎

    プラズマ研究会 

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    開催年月日： 2005年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  737. Diagnostics of Surface Wave Plasma for Giant Materials Processing 招待有り 国際会議

    H. Sugai, Y. Nojiri, T. Ishijima, E. Stamate and H. Toyoda

    ISPC17(17th International Symposium on Plasma Chemistry) 

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    開催年月日： 2005年

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  738. Measurement and Control of Energetic Species in Magnetron Discharge Plasma 招待有り 国際会議

    H. Toyoda and H. Sugai

    ISSP2005 Committee(The Eighth International Symposium on Sputtering and Plasma Process) 

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    開催年月日： 2005年

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  739. Suppression of Energetic Species Flux to Substrate By Combination of VHF and DC Power in Magnetron Plasma 国際会議

    Y. Sakashita, Y Takagi, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 5th International Symposium on Dry Process(DPS2005) 

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    開催年月日： 2005年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  740. Investigation of the ion dose non-uniformity caused by sheath lens focusing effect on silicon wafers 国際会議

    N. Holtzer, E Stamate, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 5th International Symposium on Dry Process(DPS2005) 

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    開催年月日： 2005年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  741. Gas Feed Position Control for High-Quality mc-Si Film Deposition at High Speed in Surface Wave Plasma 国際会議

    Y. Hotta, T. Okayasu, Y. Takanishi, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 5th International Symposium on Dry Process(DPS2005) 

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    開催年月日： 2005年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  742. Energetic Particle Flux Suppression on Substrate Using Cylindrical Magnetron for High Quality Films Deposition 国際会議

    Y. Takagi, Y. Sakashita, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 5th International Symposium on Dry Process(DPS2005) 

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    開催年月日： 2005年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Jeju, Korea   国名：大韓民国  

  743. Time-Dependence of Cu Atom Density in Magnetron Sputtering Plasma Using a YBaCuO Target 国際会議

    J. Gao, N. Nafarizal, K. Sasaki, H. Toyoda, M. Inoue, A. Fujimaki, S. Iwata and H. Sugai

    Abstracts of International COE Workshop Nano Processes and Devices, and Their Applications 

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    開催年月日： 2005年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  744. Dependence of GMR in Co/Cu Multolayers on Sputtering Conditions 国際会議

    C. C. Chen, Y. Sakashita, Y. Suzuki, T. Kato, S. Iwata, S. Tsunashima, H. Toyoda, K. Sasaki, H. Sugai

    Abstracts of International COE Workshop Nano Processes and Devices, and Their Applications 

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    開催年月日： 2005年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  745. Influence of Dielectric Window Material and Pumping Speed on Silicon Film Crystallinity Deposited by Surface Wave Plasma 国際会議

    Y. Hotta, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 4th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2004年11月 - 2004年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Tokyo   国名：日本国  

  746. Observation of Direct SiO2 Etching by Co-Incidence of Fluorocarbon Molecules with Argon Ion Bombardment 国際会議

    N. Takada, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 4th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2004年11月 - 2004年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Tokyo   国名：日本国  

  747. Observation of High Energy Particles Incident on Substrate in Magnetron Sputter Deposition 国際会議

    Y. Sakashita, H. Toyoda, J. S. Gao, K. Sasaki, S. Iwata, T. Kato, S. Tsunashima and H. Sugai

    Proceedings of 4th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2004年11月 - 2004年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Tokyo   国名：日本国  

  748. Beam Study on Mechanism of Carbon-Monoxide Assisted Nickel Etching 国際会議

    Y. Kinoshita, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 4th International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2004年11月 - 2004年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Tokyo   国名：日本国  

  749. リチウムコンディショニングによるグラファイトの水素リテンション抑制効果の基礎実験

    坂下洋平、豊田浩孝、菅井秀郎

    プラズマ・核融合学会第21回年会 

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    開催年月日： 2004年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  750. Measurement of High-Energy Neutral Atoms in Rare Gas Magnetron Discharge 国際会議

    H. Toyoda, Y. Sakashita, J. Gao, K. Sasaki, S, Iwata, T. Kato, S. Tsunashima, H. Sugai

    Bulletin of the american physical society(Abstracts of the 57th Annual Gaseous Electronics Conference, Bunratty 

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    開催年月日： 2004年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Ireland   国名：アイルランド  

  751. Visualized measurements of densities and velocities of Fe and Cu atoms in magnetron sputtering plasmas 国際会議

    J. Gao, N. Nafarizal, K. Shibagaki, K. Sasaki, H. Toyoda, S. Iwata, T. Kato, S. Tsunashima, H. Sugai

    Bulletin of the american physical society(Abstracts of the 57th Annual Gaseous Electronics Conference, Bunratty 

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    開催年月日： 2004年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Ireland   国名：アイルランド  

  752. 表面波プラズマにより堆積したシリコン膜の高品質化

    豊田浩孝、堀田芳彦、菅井秀郎

    第65回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日： 2004年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  753. グラファイトへのリチウムコーティングによる水素リテンション抑制

    坂下洋平、豊田浩孝、菅井秀郎

    第5回核融合エネルギー連合講演会 

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    開催年月日： 2004年6月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  754. マグネトロンスパッタリングによる磁性薄膜作成プロセスの診断(Diagnostics of Magnetron Sputering Process for Magnetic Thin Film Deposition) 招待有り

    豊田浩孝、柴垣寛治、佐々木浩一、菅井秀郎

    第51回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日： 2004年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  755. Impurity Release and Suppression in Deposition of Nano- Micro- and Polycrystalline Silicon Films by a Surface Wave Excited Plasma 国際会議

    H. Toyoda, S. Somiya, Y. Hotta and H. Sugai

    International Workshop on Plasma Nano-Technology and Its Future Vision 

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    開催年月日： 2004年2月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Takayama,   国名：日本国  

  756. Visualization of Density and Velocity Distributions of Atoms in DC Magnetron Sputtering Plasmas by Laser-Induced Fluorescence Imaging 国際会議

    K. Shibagaki, N. Nafarizal, K. Sasaki, H. Toyoda, T. Kato, S. Iwata, S. Tsunashima and H. Sugai

    Int. COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  757. High Speed Deposition of mc-Si and Large Grain Poly-Si Films by Surface-Wave Excited H2/SiH4 Plasma 国際会議

    T. Toyoda, Y. Hotta, H. Sugai

    Abstracts of 15th Symposium of Materials Research Society of Japan  

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  758. Evidence of Radical-free Etching of SiO2 by Fluorocarbon Molecule under Ion Bombardment 国際会議

    N. Takada, H. Toyoda and H. Sugai

    Abstracts of 15th Symposium of Materials Research Society of Japan  

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  759. Chemical Reactivity of Fluorocarbon Molecules on SiO2/Si Surface under Co-incidence with Energetic Argon Ions 国際会議

    N. Takada, H. Toyoda and H. Sugai

    Abstracts of 7th APCPST(Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology) and 17th SPSM(Symposium on Plasma Science for Materials) 

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  760. Diagnostics of High-Energy Argon Atoms in a Magnetron Discharge Plasma 国際会議

    H. Toyoda, Y. Sakashita, K. Sasaki and H. Sugai

    Abstracts of 7th APCPST(Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology) and 17th SPSM(Symposium on Plasma Science for Materials) 

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  761. Visualization of Spatial Velocity Distribution of Atoms in Magnetron Sputtering Plasmas by Laser-Induced Fluorescence Imaging Spectroscopy 国際会議

    K. Shibagaki, N. Nafarizal, K. Sasaki, H. Toyoda, S. Iwata, T. Kato, S. Tsunashima and H. Sugai

    Abstracts of 7th APCPST(Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology) and 17th SPSM(Symposium on Plasma Science for Materials) 

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  762. Beam Experiment on Metal Etching Processes under Co-Incidence of Carbon-Monoxide and Energetic Argon Ions 国際会議

    Y. Kinoshita, H. Toyoda and H. Sugai

    Int. COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  763. Observation of SiO2/Si Surface Under Co-Incidence of Fluorocarbon Molecules and Energetic Argon Ions 国際会議

    N. Takada, H. Toyoda and H. Sugai

    Int. COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  764. 2D-Imaging Measurements of Sputtered Atom Velocities in dc Magnetoron Discharges by Doppler-Shifted LIF 国際会議

    K. Sasaki, K. Shibagaki, N. Nafarizal, H. Toyoda, T. Kato, S. Iwata, S. Tsunashima, H. Sugai

    Abstracts of the 51th International Symposium on America Vacuum Society 

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Anaheim, USA   国名：アメリカ合衆国  

  765. Oxygen Impurity Release and Its Suppression in a Surface-Wave Excited Plasma for Silicon Film Deposition 国際会議

    Y. Hotta, S. Somiya, H. Toyoda and H. Sugai

    Int. COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  766. Suppression of Hydrogen Retention in Graphite by Lithium Deposition 国際会議

    Y. Sakashita, H. Toyoda and H. Sugai

    Int. COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  767. Mass Spectrometric Measurement of Energetic Ions and Neutrals in Magnetron Plasma for Magnetic Film Deposition 国際会議

    H. Toyoda, H. Matsui, K. Shibagaki, K. Sasaki, T. Kato, S. Iwata, S. Tsunashima and H. Sugai

    Int. COE Forum on Plasma Science and Technology 

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    開催年月日： 2004年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  768. Observation of SiO2 Surface Irradiated by Fluorocarbon Neutrals and Energetic Ion Beam 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Noriharu Takada and Hideo Sugai

    Proceedings of 3rd International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2003年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Tokyo   国名：日本国  

  769. Distribution of Fe atom density in a dc magnetron sputtering plasma source measured by laser-insuced fluorescence imaging spectroscopy 国際会議

    K.Shibagaki, N.Nafarizal, K.Sasaki, H.Toyoda, S.Iwata, T.Kato, S.Tsunashima, H.Sugai

    Bulletin of the american physical society(Abstracts of the 56th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2003年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：San Francisco, U.S.A.   国名：アメリカ合衆国  

  770. Energy Distribution Measurement of Atoms and Ions Sputtered by a Magnetron Plasma 国際会議

    H.Matsui, H. Toyoda, K.Shibagaki, T.Kato, S.Iwata, S.Tsunashima, H.Sugai

    Bulletin of the american physical society(Abstracts of the 56th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2003年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：San Francisco, U.S.A.   国名：アメリカ合衆国  

  771. Deposition of High Quality Poly-and Microcrystalline Silicon Films by a Surface-Wave Excited Plasma 国際会議

    H.Toyoda, S.Somiya, H. Sugai

    Bulletin of the american physical society(Abstracts of the 56th Annual Gaseous Electronics Conference 

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    開催年月日： 2003年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：San Francisco, U.S.A.   国名：アメリカ合衆国  

  772. 高圧力H2/SiO4表面波プラズマにおけるシリコン薄膜堆積の高速化

    宗宮暁、山内木綿子、豊田浩孝、菅井秀郎

    第20回プラズマプロセシング研究会 

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    開催年月日： 2003年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  773. 解離に起因する運動エネルギー電離断面積への影響

    松井洋樹、木下欣紀(B)、豊田浩孝、菅井秀郎

    第20回プラズマプロセシング研究会 

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    開催年月日： 2003年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  774. フロロカーボン分子とイオンの同時照射によるSiおよびSiO2エッチング表面反応の観察

    村上勇夫、豊田浩孝、菅井秀郎

    第20回プラズマプロセシング研究会 

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    開催年月日： 2003年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  775. Observation of Etching Reactions on SiO2/Si Surface under Co-Incidence of Fluorocarbon Molecule and Ion Beam 招待有り 国際会議

    H. Toyoda, I. Murakami and H. Sugai

    Proceedings of Int. Conf. Phenomena in Ionized Gases 

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    開催年月日： 2003年1月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：Greifswald, Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  776. SiおよびSiO2への高エネルギーフロロカーボンラジカル照射による表面反応のビーム実験

    豊田浩孝、菅井秀郎

    プラズマ・ナノテクノロジー研究会 

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    開催年月日： 2003年

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  777. Beam Study of Si and SiO2 Etching Reactions by Energetic Fluorocarbon Radicals 招待有り 国際会議

    Hirotaka Toyoda

    Bulletin of the american physical society(Abstracts of the 55th Annual Gaseous Electronics Conference, Minneapolis 

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    開催年月日： 2002年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：U.S.A   国名：アメリカ合衆国  

  778. Interaction of Ionic and Neutral Fluorocarbon Radical Beam with Si and SiO2 Surface 国際会議

    Hirotaka Toyoda, Isao Murakami and Hideo Sugai

    Proc. International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2002年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Tokyo, Japan   国名：日本国  

  779. High rate deposition of silicon films by surface-wave excited silane plasma 国際会議

    S. Somiya , H. Toyoda, H. Sugai

    Proc.Joint Conference on ESCAMPIG 16(Sixteenth European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases) and ICRP 5(Fifth International Conference on Reactive Plasmas) 

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    開催年月日： 2002年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Grenoble, France   国名：フランス共和国  

  780. Modelling of effect of nano-sized particles on electron temperature in reactive plasmas 国際会議

    Y. Hori, K. Ostrikov, H. Toyoda, H. Sugai

    Proc.Joint Conference on ESCAMPIG 16(Sixteenth European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases) and ICRP 5(Fifth International Conference on Reactive Plasmas) 

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    開催年月日： 2002年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Grenoble, France   国名：フランス共和国  

  781. Beam experiment on methane formation by hydrogen plasma-graphite interaction under lithium effect 国際会議

    H. Yagi , H. Toyoda, H. Sugai

    Proc.Joint Conference on ESCAMPIG 16(Sixteenth European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases) and ICRP 5(Fifth International Conference on Reactive Plasmas 

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    開催年月日： 2002年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Grenoble, France   国名：フランス共和国  

  782. Surface reaction of fluorocarbon beam on silicon and silicon dioxide 国際会議

    H. Toyoda, I. Murakami, H. Sugai

    Proc.Joint Conference on ESCAMPIG 16(Sixteenth European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases) and ICRP 5(Fifth International Conference on Reactive Plasmas 

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    開催年月日： 2002年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Grenoble, France   国名：フランス共和国  

  783. Cross section for electron impact ionization and dissociation of C5F8 国際会議

    H. Matsui , H. Toyoda, H. Sugai

    Proc.Joint Conference on ESCAMPIG 16(Sixteenth European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases) and ICRP 5(Fifth International Conference on Reactive Plasmas 

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    開催年月日： 2002年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Grenoble, France   国名：フランス共和国  

  784. リチウムコンディショニングによるグラファイト損耗抑制の温度依存性

    八木博之、豊田浩孝、菅井秀郎

    第4回核融合エネルギー連合講演会 

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    開催年月日： 2002年6月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  785. 表面波励起H2/SiH4プラズマを用いたシリコン薄膜の高速堆積

    豊田浩孝、大石晃宏、宗宮暁、菅井秀郎

    電気学会プラズマ研究会・電気学会研究会 

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    開催年月日： 2002年4月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  786. Dramatic Reduction of Chemical Sputtering of Graphite under Intercalation of Lithium 国際会議

    H. Yagi, H. Toyoda and H. Sugai

    15th Int. Conf. on Plasma-Surface Interactions in Controlled Fusion Devices  

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    開催年月日： 2002年

    記述言語：英語  

    開催地：Gifu, Japan   国名：日本国  

  787. High Rate Deposition of Micro-and Poly-Crystalline Silicon Films by a Surface Wave Plasma 国際会議

    A. Ohishi, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 25th International Conference on Phenomena in Ionized Gases 

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    開催年月日： 2001年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  788. Effect of Fine Particles on Electron Temperature in Hydrogen Plasmas 国際会議

    Y. Hori, K. N. Ostrikov, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 25th International Conference on Phenomena in Ionized Gases 

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    開催年月日： 2001年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  789. Cross Section for Electron Impact Dissociation from SF6 to SF3 and from SiH4 to SiH3 国際会議

    H. Kanda, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 25th International Conference on Phenomena in Ionized Gases 

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    開催年月日： 2001年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  790. Beam Experiment on Fluorocarbon-based Etching of Si and SiO2 Surfaces 国際会議

    H. Morishima, Y. Hori, H. Toyoda and H. Sugai

    Proceedings of 25th International Conference on Phenomena in Ionized Gases 

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    開催年月日： 2001年7月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Nagoya, Japan   国名：日本国  

  791. Observation of Fluorocarbon Beam Intertraction with Si and SiO2 Surface 国際会議

    H. Toyoda, Y. Hori, H. Morishima and H. Sugai

    Proceedings of International Symposium on Dry Process 

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    開催年月日： 2001年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    国名：日本国  

  792. High Rate Deposition of Silicon Thin Films by a Surface-wave Excited Silane Plasma 国際会議

    A. Ohishi, H. Toyoda and H. Sugai

    Abstracts of Joint Conference of The 12th Intrnational Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion and The 3rd General Scientific Assembly of Asia Plasma Fusion Association 

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    開催年月日： 2001年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Toki, Japan   国名：日本国  

  793. Surface-Wave Plasma Deposition of a-C:H Films for Field Emission 国際会議

    T. Sano, M. Nagatsu, N. Takada, N. Toyoda, H. Sugai, W. X. Guang, T. Hirao, H. Toyoda

    Bulletin of 53rd Annual Gaseous Electronics Conf 

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    開催年月日： 2000年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Houston, USA   国名：アメリカ合衆国  

  794. Field Emission Characteristics of Amorphous Carbon Films Deposited by Surface Wave Plasma 国際会議

    M. Nagatsu, T. Sano, N. Takada, N. Toyoda, W. X. Guang, T. Hirao, H. Toyoda, H. Sugai

    Abstracts of IV International Workshop on Microwave Discharges:Fundamentals and Applications 

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    開催年月日： 2000年9月

    記述言語：英語  

    開催地：Russia, Zvenigorod   国名：ロシア連邦  

  795. Electron Energy Distributions of Planar Surface Wave Discharge 国際会議

    H. Sugai, I. Ghanashev, L. Tsendin, M. Hosokawa, H. Toyoda

    Abstracts of IV International Workshop on Microwave Discharges:Fundamentals and Applications 

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    開催年月日： 2000年9月

    記述言語：英語  

    開催地：Russia, Zvenigorod   国名：ロシア連邦  

  796. Reaction Processes on Silicon Surface Irradiated by Fluorocarbon Ion Beams 国際会議

    H. Toyoda, H. Morishima Y. Hori and H. Sugai

    Dry Process Sympo. '00  

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    開催年月日： 2000年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  797. Beam Study of the Interaction of CF3+ Ion with Silicon Surface 招待有り 国際会議

    H.Sugai, H.Toyoda

    Abstracts of International Workshop on Basic Aspects of Nonequilibrium Plasmas Interacting with Surfaces 

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    開催年月日： 2000年

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  798. Interaction of CF3+ Ion Beam with Silicon Surfaces 招待有り 国際会議

    H. Toyoda, H. Sugai

    Abstracts of 3rd Int. Workshop on Fluorocarbon Plasmas 

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    開催年月日： 2000年

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    国名：日本国  

  799. Wall Temperature Effect on H Atom Density in Silane ICP for poly-Si Deposition 国際会議

    H. Toyoda, T. Kojima,A. Ohishi, M. Goto, M. Nishitani and H. Sugai

    Abstracts of 15th ESCAMPIG 

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    開催年月日： 2000年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Lillafured, Hungary   国名：ハンガリー共和国  

  800. Comparison of Electron Energy Distribution Functions of Planar Surface Wave Plasma with Inductive RF Plasma 国際会議

    H. Sugai, M. Hosokawa, H. Toyoda, I. Ghanashev, L. Tsendin

    Microwave Discharges:Fundamentals and Applications 

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    開催年月日： 2000年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Moscow, Russia   国名：ロシア連邦  

  801. Hydrogen Retention Effects on Lithium-Induced Suppression of Graphite Sputtering 国際会議

    N. Ito, H. Toyoda, K. Morita, H. Sugai

    14th International Conference on Plasma-Surface Interaction in Controlled Fusion Devices 

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    開催年月日： 2000年

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Rosenhite,Germany   国名：ドイツ連邦共和国  

  802. Wave Modes and EEDF Diagnostics of SWP for Oxide Etching 国際会議

    H. Kokura, K. Yamauchi, M. Hosokawa, K. Nakamura, H. Toyoda, T. Hayami, H. Sugai

    Dry Process Sympo. '99  

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    開催年月日： 1999年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  803. Measurements of Electron-Impact-Dissociation Cross Section for Neutral Products 国際会議

    Hideo Sugai and Hirotaka Toyoda

    21th Int. Conf.on the Physics of Electronic and Atomic Collisions  

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    開催年月日： 1999年

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  804. Cross Section Measurement of Electron Impact Dissociation into Neutral Radicals from SF6 and C3HF7O 国際会議

    H. Toyoda, H. Kanda, H. Sugai

    Int. Seminar on Atomic Processes in Plasmas  

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    開催年月日： 1999年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  805. Laboratory Studies on Li Conditioning 国際会議

    H. Toyoda, H. Sugai

    Japan/US Workshop on High Heat Flux Compo-nents and Plasma Surface Interactions for Next Fusion Devices  

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    開催年月日： 1998年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  806. Profile Control and its Effects on Plasma Confinement in Heriotron E 国際会議

    T.OBIKI, T.MIZUUCHI, H.SUGAI, H.TOYODA,et al.

    Proc. IAEA-CN-69/EX2/5 

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    開催年月日： 1998年

    記述言語：英語  

    開催地：Yokohama   国名：日本国  

  807. Biased Optical Probe Measurement of Electron Energy Distribution Function in Processing Plasma 国際会議

    H. Toyoda, M. Hosokawa, R. Fukute, S. Noda, Y. Hikosaka, K. Kinoshita, M. Sekine, H. Sugai

    4th Int. Conf. on Reactive Plasmas 

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    開催年月日： 1998年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  808. High-Quality a-Si:H Film Deposition on Low-Temperature Substrate in Inductively Coupled Silane Plasma 国際会議

    M. Goto, H. Toyoda, M. Kitagawa, T. Hirao, H. Sugai

    3rd Int. Conf. on Reactive Plasmas 

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    開催年月日： 1997年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  809. Behaviour of Oxygen Atoms and High Energy Negative Ions in a Magnetron Plasma 国際会議

    H. Toyoda, K. Goshima, K. Ichihara, H. Sugai

    3rd Int. Conf. on Reactive Plasmas 

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    開催年月日： 1997年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  810. Advanced Diagnostics and Control of High-Density Plasma Sources 国際会議

    H. Sugai, T. H. Ahn, I. P. Ghanashev, M. Goto, M. Nagatsu, K. Nakamura, H. Toyoda and G. Xu

    Proc.191st Electrochemical Society Meeting  

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    開催年月日： 1997年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  811. Observation of Surface Dissociation of Low-energy Polyatomic Ions Relevant to Plasma Processing 国際会議

    H. Sugai, Y. Mitsuoka, H. Toyoda

    Int. Workshop on Basic Aspects of Nonequilibrium Plasmas Interacting with Surfaces 

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    開催年月日： 1997年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  812. Low-Temperature Deposition of Poly-Si Films by Inductively-Coupled Silane Plasma 国際会議

    K. Goshima, H. Toyoda, M. Kitagawa, M. Nishitani, H. Yamazoe, H. Sugai

    1st Asia-Pacific Int. Sympo. on the Basic and Application of Plasma Technologies 

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    開催年月日： 1997年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  813. Lower-Temperature Deposition of Poly-Crystalline Silicon Films by a High-Density Inductive Plasma 国際会議

    H. Toyoda, K. Goshima, M. Goto, M. Kitagawa, H. Sugai

    Dry Process Sympo. '97  

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    開催年月日： 1997年

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  814. Effects of ECH on NBI Plasma in Heliotron E 国際会議

    T. Obiki, F. Sano, H. Zushi, H. Sugai, H. Toyoda et al.

    16th Int. Conf. on Fusion Energy  

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    開催年月日： 1996年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  815. Laboratory Studies on Lithium Conditioning Effects 国際会議

    H.Sugai, M.Watanabe and H.Toyoda

    Abstracts of Workshop on Lithium Effects in Plasmas 

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    開催年月日： 1996年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  816. Deposition of High Photo-Conductivity a-Si:H Film Using ICPs without Substrate Heating 国際会議

    M. Goto, H. Toyoda, M. Kitagawa, T. Hirao, H. Sugai

    23rd IEEE Int. Conf. on Plasma Science 

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    開催年月日： 1996年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  817. Production and Loss Processes of High-Energy Oxygen Negative Ions in a DC Magnetron Plasma 国際会議

    H. Toyoda, S. Takahashi, K. Ichihara, M. Ohkubo, H. Sugai

    23rd IEEE Int. Conf. on Plasma Science 

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    開催年月日： 1996年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  818. Basic Exepriments on in-situ Magnetized Boronization by Electron Cyclotron Resonance Discharges 国際会議

    H. Kokura, K. Sasaki, H. Toyoda, M. Mizuuchi, K. Kondo, F. Sano, T. Ohbiki, H. Sugai

    12th Int. Conf. on Plasma-Surface Interactions in Controlled Fusion Devices 

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    開催年月日： 1996年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  819. Laboratory Experiments on Hydrogen and Impurity Behaviours in Lithium-Deposited Environment 国際会議

    H. Toyoda, M. Watanabe, H. Sugai

    12th Int. Conf. on Plasma-Surface Interactions in Controlled Fusion Devices  

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    開催年月日： 1996年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  820. Negative Ion Kinetics in a Magnetron Oxygen Plasma 国際会議

    H. Toyoda, S. Takahashi, K. Goshima, K. Ichihara, H. Sugai

    Int. Conf. on Plasma Physics  

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    開催年月日： 1996年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  821. Lower Temeprature Formation of High-quality Hydrogenated Amorphous Silicon Film by Usinga an Inductively Coupled Plasma 国際会議

    M. Goto, H. Toyoda, M. Kitagawa, T. Hirao, H. Sugai

    Int. Conf. on Plasma Physics  

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    開催年月日： 1996年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  822. Diagnostics for Advanced Plasma Control of Materials Processing 国際会議

    H. Sugai, T.H. Ahn, M. Goto, M. Nagatsu, K. Nakamura, K. Suzuki, H. Toyoda

    Int. Conf. on Plasma Physics  

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    開催年月日： 1996年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  823. Lithium Wall Conditioning for Fuel and Impurity Control 国際会議

    H. Sugai, M. Ohori, H. Toyoda

    13th Int. Vacuum Congress 

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    開催年月日： 1995年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  824. Properties of Lithium Deposited Walls as Plasma Facing Materials 国際会議

    H.Sugai,M.Oohori and H.Toyoda

    Japan-US Workshop ,"High Heat Flux Components and Plasma Surface Interactions for Next Devices " 

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    開催年月日： 1995年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  825. In situ Deposition of Boron Layer by Electron Cyclotron Resonance Discharges for Wall Conditioning 国際会議

    H. Sugai, T. Kokura, K. Sasaki, H. Toyoda, T. Mizuuchi, K. Kondo, F. Sano, T. Obiki

    2nd Int. Conf. on Phenomena in Ionized Gases 

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    開催年月日： 1995年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  826. Dissociative Scattering of Fluorocarbon Ions Incident on Surfaces 国際会議

    H. Toyoda, Y. Mitsuoka, S. Mukainakano, T. Hattori, H. Sugai

    IUVSTA Int. Workshop on Plasma Sources and Surface Interactions in Materials Processing 

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    開催年月日： 1995年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  827. Space-Resolved Measurements of Negative Ion Energy Distributions in an O2 Magnetron Plasma 国際会議

    S. Takahashi, H. Toyoda, M. Ohkubo, K. Ichihara, H. Sugai

    IUVSTA Int. Workshop on Plasma Sources and Surface Interactions in Materials Processing 

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    開催年月日： 1995年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  828. Molecular Ion-Surface Interactions:Dependence on Ion Species and Surface Materials 国際会議

    Y. Mitsuoka, H. Toyoda, S. Mukainakano, T. Hattori and H. Sugai

    IUVSTA Int. Workshop on Plasma Sources and Surface Interactions in Materials Processing 

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    開催年月日： 1995年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  829. Silyl Radical Detection in a Silane Plasma Using Ultra-Violet Transmission Spectroscopy 国際会議

    M. Goto, H. Toyoda, M. Kitagawa, T. Hirao, H. Sugai

    IUVSTA Int. Workshop on Plasma Sources and Surface Interactions in Materials Processing 

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    開催年月日： 1995年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  830. Silyl Radical Detection in a Silane Plasma Using Ultra-Violet Transmission Spectroscopy 国際会議

    H. Toyoda, M. Goto, M. Kitagawa, T. Hirao, H. Sugai

    42nd National Sympo. of the American Vacuum Society 

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    開催年月日： 1995年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  831. Generation of Ionic Radicals by a Fragmentation Process on Surface 国際会議

    Y. Mitsuoka, S. Takahashi, H. Toyoda, S. Mukainakano, T. Hattori, H. Sugai

    41st Sympo. of the American Vacuum Society 

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    開催年月日： 1994年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  832. Boronization Study for Application to Large Helical Devices 国際会議

    N. Noda, A. Sagara, H. Yamada, Y. Kubota, N. Inoue, K. Akaishi, O. Motojima, K. Iwamoto, M. Yamage, H. Toyoda, H. Sugai et al.

    11th Int. Conf. on Plasma-Surface Interactions in Controlled Fusion Devices  

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    開催年月日： 1994年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  833. Wall Conditioning with Lithium Evaporation 国際会議

    H. Sugai, H. Toyoda, K. Nakamura, K. Furuta, M. Ohori, K. Toi, S. Hirokura, K. Sato

    11th Int. Conf. on Plasma-Surface Interactions in Controlled Fusion Devices  

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    開催年月日： 1994年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  834. Dependence of Surface Dissociation of CHx+ Ion on Bombarding Energy 国際会議

    Y. Mitsuoka, S. Takahashi, H. Toyoda, S. Mukainakano, T. Hattori, H. Sugai

    47th Gaseous Electronics Conf.  

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    開催年月日： 1994年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  835. Hydrogen Content and Isotope Exchange in Boronization 国際会議

    M. Yamage, H. Sugai, T. Saito, H. Toyoda, M. Saidoh, N. Ogiwara, T. Mizuuchi, F. Sano, K. Kondo, T. Obiki

    11th Int. Conf. on Plasma-Surface Interactions in Controlled Fusion Devices  

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    開催年月日： 1994年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  836. Meaurement of Hydrocarbon Radical Densitiies in a Plasma CVD Diamond Growth System 国際会議

    H. Toyoda, K.L. Menningen, M.A. Childs and L.W. Anderson, J.E. Lawler

    2nd Int. Conf. on Reactive Plasmas  

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    開催年月日： 1994年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  837. High Sensitivity Absorption Spectroscopy in Glow Discharge Plasmas 国際会議

    J.E. Lawler, H. Toyoda, K.L. Menningen, M.A. Childs, L.W. Anderson

    2nd Int. Conf. on Reactive Plasmas  

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    開催年月日： 1994年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  838. Cross Section Measurement for Electron-Impact CHF3 Dissociation 国際会議

    M. Goto, K. Nakamura, H. Toyoda, H. Sugai

    2nd Int. Conf. on Reactive Plasmas  

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    開催年月日： 1994年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  839. Hydrogen Isotope Exchange in Boronization 国際会議

    M. Yamage, T. Saito, H. Toyoda, M. Saidoh, N. Ogiwara, H. Sugai

    2nd Int. Workshop on Tritium Effects in Plasma Facing Components 

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    開催年月日： 1994年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  840. Electron Impact Neutral Dissociation Measurements by Appearance Mass Spectrometry 国際会議

    H. Sugai, T. Nakano, M. Goto, K. Nakamura, H. Toyoda

    21st Int. Conf. on Phenomena in Ionized Gases 

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    開催年月日： 1993年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  841. Plasma Assisted Surface Modification and Radical Diagnostics 国際会議

    H. Sugai, M. Yamage, Y. Hikosaka, T. Nakano, H. Toyoda

    12th Int. Vacuum Congress and 8th Int. Conf. on Solid Surfaces 

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    開催年月日： 1992年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  842. In-situ Boron Nitride Coating and the Comparison with Existing Boronization 国際会議

    M. Yamage, T. Ejima, H. Toyoda, H. Sugai

    10th Int. Conf. on Plasma Surface Interactions in Controlled Fusion Devices 

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    開催年月日： 1992年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  843. Measurement of Electron Energy Distribution by Biased Optical Probe 国際会議

    H. Toyoda, K. Nakano, H. Sugai

    45th Gaseous Electronics Conf. 

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    開催年月日： 1992年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  844. Appearance Mass Spectrometry of Neutral Radicals in Radio Frequency Plasmas 国際会議

    H. Sugai, H. Toyoda

    38th Sympo. of American Vacuum Society 

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    開催年月日： 1991年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  845. Large Area Coating of Boron Nitride Films by a DC Glow Discharge 国際会議

    H. Toyoda, M. Yamage, H. Sugai

    10th Int. Sympo. on Plasma Chemistry 

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    開催年月日： 1991年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  846. Threshold Ionization Mass Spectrometry and its Application to Neutral Radical Diagnostics 国際会議

    H. Sugai, H. Toyoda

    Int. Seminor on Reactive Plasmas 

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    開催年月日： 1991年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  847. Measurement of CF3 and CF2 Radicals in a RF Fluorocarbon Plasma 国際会議

    H. Toyoda, Y. Hikosaka, H. Sugai

    Int. Seminor on Reactive Plasmas 

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    開催年月日： 1991年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  848. Cross Section of Electron-Impact Dissociation of Methane into Neutral Radicals 国際会議

    T. Nakano, H. Toyoda, H. Sugai

    Int. Seminor on Reactive Plasmas 

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    開催年月日： 1991年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  849. Diagnostics and Modeling of Radical Density Profiles in a Methane RF Discharge 国際会議

    H. Sugai, H. Toyoda, Y. Hikosaka

    43rd Gaseous Electronics Conf.  

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    開催年月日： 1990年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  850. Measurements of Electron-Impact Cross Sections for Dissociation from CH4 into CH3 and CH2 国際会議

    H. Sugai, T. Nakano, H. Toyoda

    43rd Gaseous Electronics Conf.  

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    開催年月日： 1990年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  851. Mass Spectroscopic Analysis of Neutral Radicals in a RF Methane Plasma 国際会議

    H. Sugai, H. Toyoda, H. Kojima

    9th Sympo. on Plasma Chemistry 

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    開催年月日： 1989年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  852. Hydrogen Trapping and Detrapping in Amorphous Carbon Films Exposed to a Hydrogen Plasma 国際会議

    H. Toyoda, S. Yoshida, H. Sugai

    9th Sympo. on Plasma Chemistry  

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    開催年月日： 1989年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  853. Absolute Density and Spatial Distribution of the Free Radical CH3 and CH2 in a Methane RF Plasma 国際会議

    H. Sugai, H. Toyoda, H. Kojima

    42nd Gaseous Electronics Conf.  

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    開催年月日： 1989年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  854. In-situ Boron Coating and Its Removal by Glow Discharge Processes 国際会議

    H. Toyoda, T. Isozumi, H. Sugai, T. Okuda

    8th Int. Conf. on Plasma Surface Interactions in Controlled Fusion Devices 

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    開催年月日： 1988年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  855. Recent Experiments on Heliotron-E 国際会議

    T. Ohbiki, T. Mizuuchi, H. Sugai, H. Toyoda, et al.

    12th Int. Conf. on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion Research 

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    開催年月日： 1988年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  856. Hydrogen Recycling Control by Helium Ion Bombardment onto Carbonized Surfaces 国際会議

    H. Sugai, H. Toyoda, S. Ohsha, S. Yoshida, A. Sagara

    8th Int. Conf. on Plasma Surface Interactions in Controlled Fusion Devices 

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    開催年月日： 1988年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  857. Carbonization Experiment by ECR Discharge in JIPPT-IIU 国際会議

    Y. Sakamoto, H. Amemiya, H. Toyoda, H. Sugai et al.

    8th Int. Conf. on Plasma Surface Interactions in Controlled Fusion Devices 

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    開催年月日： 1988年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  858. Effects of Carbon Wall on the Behaviour of Heliotron-E Plasmas 国際会議

    N. Noda, T. Mizuuchi, H. Toyoda, S. Yoshida, H. Sugai et al.

    8th Int. Conf. on Plasma Surface Interactions in Controlled Fusion Devices 

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    開催年月日： 1988年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  859. Coating of Pure-Boron and Boron-Carbon Alloys by a Toroidal Glow Discharge 国際会議

    H. Toyoda, H. Sugai, T. Izozumi, T. Okuda

    8th Int. Sympo. on Plasma Chemistry 

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    開催年月日： 1987年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  860. Activation Energy of Hydrogen Plasma Etching of Amorphous Boron Films 国際会議

    H. Toyoda, H. Sugai, T. Okuda

    40th Gaseous Electronics Conf. 

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    開催年月日： 1987年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  861. Formation of Pure-boron and Boron-Carbon Alloys by a Toroidal Glow Discharge 国際会議

    H. Toyoda, H. Sugai, T. Isozumi, T. Okuda

    Borides and Related Compounds  

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    開催年月日： 1987年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  862. Flux Controlled Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon Films 国際会議

    H. Sugai, H. Toyoda, T. Okuda

    Gordon Research Conf. on Plasma Chemistry  

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    開催年月日： 1986年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  863. Key Active Species in Hydrogenated Amorphous Silicon Deposition Processes in a Toroidal DC Discharge 国際会議

    H. Toyoda, H. Sugai, A. Yoshida, T. Okuda

    8th Int. Conf. on Gas Discharges and Thier Applications 

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    開催年月日： 1985年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  864. A Mass Spectrometer for Boundary Plasma Diagnostics 国際会議

    H. Kojima H. Sugai, T. Mori, H. Toyoda, T. Okuda

    6th Int. Conf. on Plasma Surface Interactions in Controlled Fusion Devices 

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    開催年月日： 1984年

    記述言語：英語  

    国名：日本国  

  865. 高周波容量結合型プラズマにおける高アスペクト比キャピラリーホール底部のチャージアップ現象 招待有り

    豊田浩孝

    第234回シリコンテクノロジー分科会研究会  2022年3月15日 

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    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（招待・特別）  

    開催地：オンライン   国名：日本国  

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共同研究・競争的資金等の研究課題 12

  1. 導電性機能材料の合成に向けた高機能プラズマ装置の開発

    研究課題番号：2719JC059c  2021年4月 - 2022年3月

    研究成果最適展開支援プログラム（A-STEP）  委託研究開発費

    豊田浩孝

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    資金種別：競争的資金

    配分額：10205000円 （ 直接経費：7850000円 、 間接経費：2355000円 ）

  2. 導電性機能材料の合成に向けた高機能プラズマ装置の開発

    研究課題番号：2719JC059c  2020年4月 - 2021年3月

    研究成果最適展開支援プログラム（A-STEP）  委託研究開発費

    豊田浩孝

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    資金種別：競争的資金

    配分額：5265000円 （ 直接経費：4050000円 、 間接経費：1215000円 ）

  3. 流動液体処理に対応した高機能プラズマ装置の開発とその応用

    2018年10月 - 2019年9月

    研究成果最適展開支援プログラム　シーズ育成タイプFS 

    笹井建典

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    資金種別：競争的資金

  4. ハイバリア透明導電フィルム用平坦成膜装置の開発

    2012年10月 - 2015年3月

    研究成果展開事業　研究成果最適展開支援プログラム 

    豊田　浩孝

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    資金種別：競争的資金

  5. ＶＨＦ・マイクロ波による新しいプラズマ生成機構の開発

    2010年2月 - 2011年1月

    (独）科学技術振興機構 

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    資金種別：競争的資金

  6. 高密度プラズマ処理によるプラスチック界面密着技術の実用化研究

    2007年4月 - 2010年3月

    (独）科学技術振興機構 

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    資金種別：競争的資金

  7. 薄膜シリコン太陽電池の高効率化と高速堆積技術の研究開発

    2006年10月 - 2008年3月

    (独）新エネルギー・産業技術総合開発機構 

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    資金種別：競争的資金

  8. 高知県地域結集型共同研究事業「次世代情報デバイス用薄膜ナノ技術の開発」に係るTFTの分析評価及びSiGe・TFT技術の開発

    2006年4月 - 2007年12月

    国内共同研究 

  9. 粒子エネルギー制御型新規マグネトロンプラズマ源の開発

    2006年 - 2007年3月

  10. 「次世代情報デバイス用薄膜ナノ技術の開発」に係るSiGe・TFT技術の開発

    2005年8月 - 2006年3月

    国内共同研究 

  11. 太陽光発電技術研究開発革新的次世代太陽光発電システム技術研究開発広帯域スペクトル利用型薄膜シリコン太陽電池（長尺マイクロ波プラズマ生成技術）

    2004年11月 - 2006年3月

    (独）新エネルギー・産業技術総合開発機構 

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    資金種別：競争的資金

  12. 高知県地域結集型共同研究事業「次世代情報デバイス用薄膜ナノ技術の開発」にかかる新材料によるTFT技術の開発

    2004年9月 - 2005年3月

    国内共同研究 

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科研費 21

  1. 気体流および液体流を用いた弱減圧マイクロ波プラズマ生成と応用

    研究課題/研究課題番号：22H01210  2022年4月 - 2025年3月

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  基盤研究(B)

    豊田 浩孝, 鈴木 陽香, 鈴木 陽香

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    担当区分：研究代表者 

    配分額：17420000円 （ 直接経費：13400000円 、 間接経費：4020000円 ）

    従来の真空容器や排気システムを必要とする減圧プラズマは，処理対象物が真空内に持ち込まれるため大気環境でしか用いることのできない処理対象物に対応できない，応用範囲が限られる，といった課題があった．これに対し大気圧プラズマはこれらの制限から解放される点で大きな利点がある一方で，プラズマ生成そのものが困難であるという問題を抱えている．本研究は，高速流体を用いた弱減圧形成によりプラズマ生成を易化するとともに，大気圧環境下に置かれた処理対象物を高効率で処理できる手法を開発することを目指し，弱減圧プラズマの利点を明らかにし，処理の高効率化の指針を得ることを目的とする．
    本年度は気体実験を可能とするプラズマ装置を立ち上げた．高速ガス流を形成するため，圧縮空気供給系を用いたガス導入系を用意し，ガス流路に狭隘部（断面積0.5mm2程度）を用意した。そのうえで、計測の手始めとして，これまでガス流体系での計測が行われていない圧力計測を行ったところ．流量の増加とともに放電ギャップ部の圧力が減少し、0.5気圧程度までの減圧化を実現できることが確認された。次にこの結果の確認を受けて，パルスマイクロ波を印加して放電をおこなったところ、プラズマの生成に成功した。さらにガス流量に対して放電開始電力を測定したところ、流量増加にともなって放電開始のマイクロ波電力がより低くできることも明らかとなり、弱減圧がプラズマ生成に対する効果を持っていることが確認された。
    また、放電開始電力の圧力依存性について、電磁界シミュレーションを援用しつつ理論的検討を行った。大気圧領域から0.5気圧程度の減圧領域においては、マイクロ波絶縁電界は圧力にほぼ比例することが理論的に知られており、電磁界シミュレーションにより投入マイクロ波電力における放電ギャップ内電界を評価したところ、およそ理論値に近い値となることが確認され、また放電開始電力の圧力依存性についても若干のくいちがいも見られるもののおよそ理論に近い依存性が確認された。
    さらに、予備実験であるが、プラズマ領域を通過したガス流を用いて樹脂（PET）の表面親水化特性も評価し、親水化処理が可能であることを実証できた。
    ガス流による減圧効果の発現有無については、ガス流が圧縮清流体であり研究代表者がこれまでに進めてきた液体（非圧縮清流体）とは異なるため、減圧化が容易であるかどうかは不明であった。しかしながら、初期実験において減圧化が確認でき、さらにはこれに応じてプラズマ生成に成功した。さらには、ガス流を増加させることにより圧力を下げることができ、これに伴い放電開始マイクロ波電力を低く抑えることができることも実証できた。これらのことは、当初の本研究の大きな目的のひとつを実現できたという点で大きな成果である。
    さらに、本効果を理論的に検討する試みをおこない、当初の研究計画をさらに進める形で放電開始電力の流量依存性の実験結果を電磁界シミュレーションおよび放電開始マイクロ波電界の理論値を用いて比較検討することができた。結果としておよそ妥当な結果が得られることが確認され、本手法の妥当性を理論的にも確認できたことは重要な成果である。
    また、プラズマ処理したガス流による樹脂表面親水化も実験的に示すことができたことは、本装置の応用分野展開を考えるうえでの成果と考えている。
    本年度の研究により、ガス流を用いた減圧化と放電の易化を実証することができたが、その一方でガス流を増加した際の圧力減少がある流量から理論を外れ、思ったほどの減圧が得られないことも確認された。現在は0.5気圧より低い圧力を実現するのが困難な状況である。この原因のひとつはガス流速が音速を超えて高速化した場合、音速を超えたガス流が下流領域において改めて減速し音速を下回る際に衝撃波を発生しガス流れを阻害することにあると考えている。これは液体流による減圧化とは大きく異なる圧縮性流体における現象であり、より低い圧力を実現するためには、この問題を解決することが必要であると考えている。
    今後は流体シミュレーションを用いたガス流れの解析を進めるとともに、衝撃波発生を抑制できるノズル構造の最適化を検討する。特にノズル構造の最適化に関してはシミュレーションのみでは解決が困難で実験が必須であると考えているが、その一方では多数個の異なるノズル構造を試作加工し実験に供するには時間及びコストに問題があると考えている。そこで３Ｄプリンタを用いて樹脂を用いたノズル構造のモックアップを製作し、これを用いた実験的なノズル構造最適化を進めていく。そのうえで、最適化された構造で金属加工されたノズルを製作し、これを用いて放電実験に着手する計画である。これにより、より広い圧力範囲において実験が可能になると考えており、分光計測、放電開始電力計測、プラズマ密度計測などにおいて系統的な実験結果が得られるものと考えている。

  2. ターゲットを均一に利用する無磁場マイクロ波スパッタ製膜

    2012年4月 - 2014年3月

    科学研究費補助金 

    豊田 浩孝

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    担当区分：研究代表者 

  3. 大気圧プラズマ密度計測の高精度化

    2009年4月 - 2012年3月

    科学研究費補助金  基盤研究(C)

    豊田　浩孝

    　 詳細を見る

    担当区分：研究代表者 

    大気圧プラズマは、真空システムを用いないなど、従来のプラズマ源にない利点を有しており、表面処理などさまざまな分野への応用が進められている。また、それにともない本プラズマのプラズマ密度等の基礎的なプラズマ特性評価について高精度な計測手法が求められている。大気圧プラズマの電子密度測定法としては一般にシュタルク拡がりから算出する手法が用いられているが、本研究代表者らは、その時分解測定において放電時に印加される外部電界がシュタルクスペクトルの拡がりに影響を及ぼす可能性を指摘してきた。本研究はこの点に着目し、外部電界のスペクトル拡がりおよび密度測定に及ぼす影響を実験的に明らかにするとともに、より高精度なプラズマ密度測定法の指針を得ることを目的とする。

    本年度は、スペクトルに対する電界の影響を評価する方法として、電界に対して平行および垂直方向のH_βスペクトル偏光面それぞれに対するスペクトル分裂の違いを利用した電界計測を試みた。まず、放電印加電界方向に対して、平行および垂直方向に偏光面を持つHβ線のスペクトル分裂の違いを計算し、電界強度が10^6V/m台以上になると、電界に対する垂直及び平行な偏光面を持つスペクトルの間に大きな違いが現れることを確認した。この結果を基に、大気圧マイクロ波プラズマにおいて両者のスペクトル拡がりの違いを測定したところ、放電開始初期1μs以下においてスペクトル線幅の違いを確認することができた。さらに、本手法により電界強度の時間変化を求めたところ、放電開始直後に強い電界強度がプラズマ生成の時間発展とともに急激に減少していくことを示すことができた。これらの結果は、本研究の当初目的のひとつであるスペクトル線幅に対する電界の影響を実証できたことを意味しており、本年度は本研究の大きな成果の一つを得ることができた。

  4. 粒子エネルギー制御型新規マグネトロン源の開発

    2006年4月 - 2008年3月

    科学研究費補助金  基盤研究(C)

    豊田浩孝

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    担当区分：研究代表者 

    マグネトロンプラズマは、光学多層膜形成、磁性体薄膜形成、半導体製造における配線プロセスなど、さまざまな分野に用いられている。近年の薄膜形成の高精度化にともない、ナノレベルでの薄膜平坦性、多層膜の界面制御など、さまざまな要求が高まっている。例えば、磁気異方性を示すPt/Coなどの磁性多層膜においては、界面の平坦性や界面における原子のミキシングの抑制などが、膜の磁気特性に大きな影響を及ぼすことが知られている。しかしながら、スパッタによる多層膜形成においては、ナノレベルの界面制御は非常に難しく、その原因の解明と解決が課題となっている。

    このような界面制御において、本研究代表者らは、スパッタプラズマ中の希ガス高エネルギー粒子に着目し、質量分析法を用いた高エネルギー希ガス粒子計測手法を確立するとともに、高エネルギー粒子を制御する方法について研究をおこなった。

    本研究においては、まず従来型のDCマグネトロンスパッタ源の高エネルギーAr^+測定より、プラズマ中の高エネルギーAr原子フラックスの評価をおこなった。測定結果は粒子シミュレーションに照らし合わせることで妥当性が確認された。次に、高エネルギーArフラックスを抑制する方法としてターゲットにVHFとDC電圧を重畳したVHF-DC重畳型スパッタ源およびターゲットを円筒型にした円筒型マグネトロンスパッタ源の2つの手法を提案するとともに高エネルギーAr粒子の測定を行なったところ、両者ともに高エネルギー粒子の抑制が可能であることを示した。最後に、VHF-DC重畳型マグネトロンプラズマ源を用いて極薄磁性多層膜のスパッタ製膜をおこなった。その結果、数nmの極薄層を数10層重ねた磁性膜においても良好な磁気特性が発生することを確認した。このことは高エネルギーAr原子の抑制により、各層界面における原子ミキシングの抑制がおこなわれたものによると考えられる。

  5. マイクロ波帯の大面積放電によるジャイアント・プラズマプロセスの創出

    2003年4月 - 2006年3月

    科学研究費補助金  基盤研究(A)

    菅井 秀郎

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    担当区分：研究分担者 

    (1)2.45GHz,1メートル長尺プラズマ生成法の開発

    大気圧による誘電体板の破壊を避けるため、真空導波管方式を考案し、プラズマ分布の均一化を図るためのマルチスロットアンテナ方式を確立し、1メートルの長尺プラズマの生成に成功した。さらに、厚さ2cmのシート状長尺プラズマの生成にも成功し、その密度分布の測定結果と解析結果との一致を見た。また、高圧力化を試みて、大気圧の長尺プラズマの生成にも成功した。

    (2)915MHz,2メートル長尺プラズマ生成法の開発

    (独)産業技術総合研究所・太陽光発電研究センターとの共同研究において、915MHzを用いて2メートルの長尺プラズマを生成することに成功した。さらに実際、水素/シラン混合ガスを用いて、アモルファスおよび微結晶のシリコン薄膜の形成を試みた。

    (3)並列導波管励起による大面積化

    これまでは1本の導波管を用いた長尺プラズマ生成を行ってきたが、大面積にするには並列導波管励起が必須となる。そこで、独自のパワーデバイダーを考案し、一つの電源から並列運転を可能にするマイクロ波システムを構築した。915MHzを用いて1メートル四方の大面積プラズマ発生装置を建設した。

    (4)材料プロセスのためのプラズマ制御法の開発

    高エネルギー電子を抑制するために、マイクロ波パルス放電を行い、プラズマの発光分布やプラズマ密度の時間変化を調べた。また、新しい制御法として、ホール付き誘電体板を採用し、ホール内の局所的高密度プラズマ生成と、ホール下流における高エネルギー電子の減少を観測した。

    (5)シリコン薄膜の高速堆積とシリコン酸化およびシリコン窒化

    高密度マイクロ波プラズマを用いることにより、微結晶シリコン膜の高速堆積(>10nm/s)、多結晶シリコン膜の大粒径化(>600nm)、シリコン酸化およびシリコン窒化の低温化を達成した。

  6. フロロカーボン分子の表面反応過程と新規エッチングプロセスの基礎研究

    2003年4月 - 2005年3月

    科学研究費補助金  基盤研究（Ｃ），課題番号：15540474

    豊田　浩孝

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    担当区分：研究代表者 

    フロロカーボンブラズマを用いたSiO_2/Si選択エッチングは半導体製造における基本的なプロセスのひとつである。従来、フロロカーボンプラズマエッチングにおいてはフロロカーボン分子は表面反応に寄与しないと考えられてきた。しかし、近年のプロセスガス研究の発展に伴い、C_5F_8等の新規フロロカーボンガスがエッチングに供されるようになっている。C_5F_8分子はその分子構造に炭素の二重結合を持っているなど、従来のフロロカーボン分子と異なった複雑な構造をもつ。我々は、このような分子はそのものが表面反応に寄与できるのではないかと考え、本研究に着手した。

    まず、SiO_2表面にAr^+を照射して表面欠陥を形成した場合と形成しない場合において、その後のC_5F_8表面吸着を調べた。その結果、C_5F_8の表面反応は表面に形成された未結合手によりC_5F_8の二重結合が開裂することによって反応が進行したものと推測された。また、Ar^+とC_5F_8をSiO_2表面に同時照射しその反応性を調べたところ、CF_4やC_4F_8等の従来用いられているフロロカーボンガス分子に較べてC_5F_8は高い表面反応性を示し、エッチング収率もAr^+による物理スパッタと比較して3倍近い値となることを実験的に示した。C_5F_8/Ar^+フラックス比の増加時におけるエッチング停止を見出し、これが表面へのフロロカーボン相形成によるものであることを確認した。さらに、SiO_2およびSiエッチングイールドの比較から、Ar^+/C_5F_8照射によるSiO_2/Si選択エッチングも可能であることを示した。最後に、本実験より得られたエッチングイールド値を用いて、実実験条件におけるフロロカーボン分子のエッチングへの寄与を評価したところ、その寄与は最大で30%近くになることを見出し、フロロカーボンエッチング表面反応に関する従来にない新たな知見を得ることができた。

  7. 表面波プラズマによる大面積・高品質液晶プロセスの開発

    2002年4月 - 2003年3月

    科学研究費補助金  基盤研究(A)

    菅井 秀郎

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    担当区分：研究分担者 

    液晶のプラズマプロセスには従来13.56MHzの容量結合プラズマが用いられているが、プラズマ密度が低いために限界に直面している。これを打ち破るために、マイクロ波放電で生成する新しい表面波プフズマを利用し、プラズマの高密度化と大口径化をはかり、低温基板上にポリシリコンを堆積する大面積液晶プロセスを開発するのが、本研究の目的である。

    本年度までに次の項目について重点的に研究をおこなった。

    (1)放電用アンテナ系の最適化:2.45GHzの表面波放電により高密度・大面積プラズマを作るために、導波管底のスロットアンテナと石英板の間に空気層を設けることにより、プラズマ生成効率を向上できることを見出した。また、プラズマと接する石英壁や金属壁の表面に凹凸を設けて均一化する方法を、波動シミュレーションを用いて詳細に調べた。

    (2)電子エネルギー分布関数の計測と制御:希ガスの種類を変えることにより分布関数(電子温度)を制御できることを実験と計算から示した。

    (3)大面積プラズマの試作:実際に大面積(1m×0.3m)のプラズマ生成装置を作り、石英壁の強度や金属壁によるプラズマ局在化の課題を明らかにし、対策の指針を見出した。

    (4)ゲート酸化膜用の酸素プラズマ:液晶用の高品質・極薄ゲート酸化膜を低温プラズマ酸化法で作るために、表面波酸素プラズマを生成し、その中の酸素ラジカルの振舞いを明らかにした。

    (5)シリコン膜の成長条件と結晶性:液晶用高速TFTの作製をめざして、高圧力水素希釈シランの表面波プラズマにより、ポリシリコン膜の低温・高速作製に成功した。また、膜中の酸素不純物が石英窓から混入することを見出し、これを低減する方法を示した。

  8. 高性能ビーム装置を用いる表面反応過程の研究

    1998年4月 - 2002年3月

    科学研究費補助金  基盤研究(A)

    菅井 秀郎

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    担当区分：研究分担者 

    半導体プラズマプロセス(エッチング、CVD)における表面反応を基礎的に解明するために、高度に制御されたビーム実験をおこなった。すなわち、プロセスのかぎと考えられる2,3種類の活性イオン種を選んでエネルギーやフラックス比を変えて基板に入射させ、表面から放出する種々のイオン、ラジカル、反応生成物を四重極質量分析計を用いて高感度に検出する。同時に基板表面をin-situ XPSを用いて分析し、気相診断の結果と合わせて総合的な表面反応の解明を試みるのが本研究の目的である。

    本研究は以下の項目について重点的に研究をおこなった。

    (1)ビーム実験装置の高性能化:従来用いてきた装置の改造により中性ラジカル検出能力を向上させ、またin-situ XPS装置を取り付け、その場表面分析を可能とした。

    (2)フロン系ビームとシリコンの反応の研究:CF_3^+、CF_2^+ビームをシリコン基板に照射し、エッチング生成物であるSiF系分子およびラジカル、またCF系ラジカルの計測に成功した。さらに表面状態のその場観察をおこなった。

    (3)フロン系ビームとシリコン酸化膜の反応の研究:CF_3^+、CF_2^+ビームをシリコン酸化膜に照射し、エッチング生成物や表面状態のその場観察をおこなった。またシリコン酸化膜のエッチングレートとエッチング生成物などの表面脱離物との相関を詳しく調べた。

    (4)フッ素イオンビームとシリコンの反応の研究:エッチングにおける重要な活性種であるフッ素について、シリコンとの反応を詳しく調べ、SiF_x系の脱離生成物を検出した。

  9. フロロカーボンプラズマにおける新しい壁制御法の開発とプラズマ・壁相互作用

    1998年4月 - 2001年3月

    科学研究費補助金  基盤研究(C)

    中村 圭二

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    担当区分：研究分担者 

    フロロカーボンプラズマを用いたシリコン酸化膜エッチングでは、エッチングプロセスを繰り返すうちに徐々にプロセス結果が経時変化してしまい、この原因の一つとして、プロセス中に壁に堆積するフロロカーボン膜とプラズマとの相互作用が考えられている。本研究では、プロセス再現性の改善が高精度酸化膜エッチングの実現させるために、イオン衝撃により膜堆積を抑制し、これらのプラズマ・壁相互作用を低減させることを目的としている。本研究では、イオン衝撃法とプラズマ電位振動法を開発し、いずれもRFバイアスを用いることにより、絶縁膜上のチャージアップを抑制しつつイオン衝撃エネルギーを制御でき、絶縁性のフロロカーボン膜の堆積抑制が可能となった。本研究で行なった実験条件ではイオン衝撃エネルギーを100eV以上にすると、イオン衝撃によって膜堆積をほぼ完全に抑制することができた。また交互イオン衝撃法ではプラズマを囲むように設置した二つのバイアス壁の間に、プラズマ電位振動法では接地壁とバイアス壁の間にバイアスを印加するが、すべてのバイアス壁で均一なイオン衝撃を得るためにはそれらの壁の表面積を等しくすることが有効であった。

    イオン衝撃が加わらない非イオン衝撃壁がラジカル密度の経時変化に及ぼす影響について検討した。真空容器を2分割してそれ自身をバイアス壁として動作させると、非イオン衝撃壁の面積を全表面積と比べて極めて小さくできた。そのときのラジカル経時変化は小さく、またラジカル密度が定常値にに達するまでに時間を短くすることができた。このことから、極力非イオンの面積を減らして容器内部での膜堆積が起こらないようにすることが、プロセス再現性のよいエッチング装置を構成するために重要であり、本手法がそれに有効であることがわかった。

  10. 高密度プラズマを用いた大面積多結晶シリコン薄膜の低温形成

    1997年4月 - 2000年3月

    科学研究費補助金  基盤研究(B)

    豊田 浩孝

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    担当区分：研究代表者 

    多結晶シリコン(poly-Si)膜は水素化アモルファスシリコン(a-Si:H)膜をはるかにしのぐ高い移動度を持つことから優れた薄膜トランジスタ(TFT)の作成が可能であり、集積化に適した材料といえる。しかしpoly-Si膜生成においてはこれまでのところ低温で大面積の膜生成をおこなうという2点を両立させる手法が確立されていない。本研究は誘導結合型プラズマを用いることにより300℃以下の低温でpoly-Siの作成をおこなう手法を確立することを目的としており、本年度は以下の点について研究を行った。

    1)膜質再現性の改善

    これまでの研究により、成膜時間の経過による壁状態の変化が得られる膜質に影響を及ぼすことを示唆する結果を得ている。そこで壁温を制御した成膜を行ったところ、低温壁(約100℃)では放電時間経過にともなう膜質の経時変化、特に結晶粒径の減少がみられたのに対して、壁温の上昇した成膜においては、低温壁でみられたような結晶粒径の減少がかなり改善できることが分かった。

    2)発光分光法を用いた気相診断

    このような放電時間経過による結晶粒径の劣化の原因として、壁状態の変化によるプラズマ中水素原子密度の減少が考えられる。そこで発光分光法を応用した水素原子密度測定を行った。その結果、比較的壁温が低い状態では壁への膜堆積に起因すると思われる水素原子密度の減少が見られたのに対して、壁温を増加(約300℃)すると低温壁でみられたような水素原子密度の減少は見られなかった。これは、上記1)で述べた結晶粒径の減少が水素密度の低下によるものを示唆する結果と考えられる。

  11. リチウム膜による水素の選択排気法の開発

    1995年4月 - 1998年3月

    科学研究費補助金  基盤研究(A)

    菅井 秀郎

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    担当区分：研究分担者 

    核融合燃料である水素同位体と核燃焼後の灰であるヘリウムを分別して排気し、燃料水素(特にトリチウム)を回収して再利用するシステムの開発が望まれている。本研究は、リチウムパネルを利用して水素のみを選択的に排気する独自の技術を開発することを目的としている。得られた研究成果は次のように要約される。

    1.融点(179℃)以下においてリチウムは水素分子とは反応しないが、水素原子・水素イオンと速やかに反応して水素化リチウムを形成する。この水素吸収は、リチウム原子1個につき水素原子1個の割合で起こり、水素原子はリチウム膜の奥深くまで拡散するので、水素の総吸収量はリチウム膜の表面積と厚さに比例する。

    2.水素化リチウムを加熱すると400℃程度で水素分子とリチウムに分解する。

    3.上記1,2の性質を利用して水素の選択排気システムを構築できる。すなわち、排気ダクト内で弱電離プラズマや熱フィラメントで水素原子を形成し、リチウムパネルに水素のみを吸収させる。パネルが水素で飽和した後に、400℃程度に加熱して水素を放出させて通常のポンプで排気し、リチウムパネルを初期状態に復帰させる。

    4.清浄なリチウム面は活性であり、H_2O,O_2,COなどの気体と反応してリチウム化合物を形成するので注意を要する。

    5.リチウム膜をのせる母材としては、グラファイトの可能性も検討したが、化学反応性が問題であり、金属の方が適している。

  12. 新しいラジカル計測法によるシラン系プラズマの診断と制御

    1995年4月 - 1997年3月

    科学研究費補助金  基盤研究(C)

    豊田 浩孝

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    担当区分：研究代表者 

    水素化アモルファスシリコン、微結晶および多結晶シリコン膜は太陽電池や液晶ディスプレイ等の材料としてなどに用いられ、これらのシリコン系薄膜を大面積にかつ低プロセス温度生成することが課題となっている。本研究においては誘導結合シランプラズマによりこれらシリコン系薄膜の低温生成を試み、従来よりも200℃以上低いプロセス温度での膜形成に成功した。また、このような誘導結合シランプラズマ中のラジカル計測を系統的に行い、気相中における活性種組成が従来の容量結合シランプラズマと大きく異なることを示した。さらに簡便なラジカル計測法である紫外透過分光法を開発し、その有用性を実証した。以下に研究の概要を項目別に記す。

    (1)紫外吸収分光法を用いたシランプラズマのラジカル計測

    紫外吸収分光法を用いた容量結合型プラズマにおけるSiH3ラジカルの検出に成功した。また、この方法を用いてプラズマ中の微粒子の同時計測が可能であることを示した。

    (2)出現質量分析法を用いたシランプラズマのラジカル計測

    誘導結合シランプラズマは従来の容量結合プラズマに比べて低圧力かつ高プラズマ密度のため、プラズマ中におけるラジカル組成が大きく変化する。本研究では誘導結合シランプラズマ中の中性ラジカル種およびイオン種の測定を行い、成膜に寄与する粒子種に関する知見を得た。

    (3)高光伝導度水素化アモルファスシリコン(a-Si:H)膜の低温形成

    従来から、容量結合型シランプラズマによるa-Si : H膜の作成は盛んに行われているが、誘導結合型シランプラズマを用いたa-Si : H膜の作成は本格的な研究は余りなされておらず、その膜質についても評価が進んでいなった。本研究においては誘導結合型プラズマを用いて高光伝導度a-Si : H膜の低温形成に成功し、その成膜条件を明らかにした。

    (4)多結晶シリコン膜の低温形成

    高速スイッチング薄膜トランジスタ材料として期待されている多結晶シリコン膜のプラズマCVDによる低温形成の実験を行い、まず、誘導結合プラズマを用いることにより従来にプロセス温度よりも300℃程度低い250℃程度の基板温度で微結晶シリコン膜の形成が可能であることを示した。さらに、シランを水素希釈することにより多結晶シリコン膜の低温形成にも成功した。

  13. 定常化研究における第一壁のコンディショニング法

    1994年4月 - 1996年3月

    科学研究費補助金  一般研究(B)

    菅井 秀郎

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    担当区分：研究分担者 

    近年、超伝導磁場を用いる定常炉をめざす研究が重要になっている.このような状況においては、従来の無磁場の直流グロ-プラズマに頼るのではなく、超伝導磁場中のプラズマ(例えばECRマイクロ波プラズマ)を用いる壁の調整法が必要になる.さらに、核融合プラズマを停止することなく、その中にリチウムペレットを入射してその場でリチウムコ-ティングする方法などは有望な手段となるであろう.そこで本研究ではリチウムコ-ティングとECRボロンコ-ティイブを中心に進めて次のような研究成果を得た.

    1.ボロンコ-ティング

    定常化を想定した新しいボロニゼ-ション法として、二つの方法を提案し基礎研究を行った.その一つは、デカボランのペレットを核融合プラズマに直接入射し、アブレ-ションさせてボロンコ-ティングするやり方であり、もう一つは磁場中のECRマイクロ波放電を用いるボロニゼ-ションである.その基礎実験を行った結果、ガスの入射口近傍では中性ラジカルによるボロン膜が不均一に堆積し、遠方では磁力線に沿って輸送されるイオン性ラジカルによる堆積が見られる.この事は、磁化プラズマを用いれば大型の容器でも広くコ-ティングできる事を示唆している.

    2.リチウムコ-ティング

    リチウムはO_2,H_2O,CO,CH_4等の不純物分子に対する強いゲッタ-効果を持つ事や、Li一原子につきH原子一個の割合で水素を吸収することを初めて示した.さらに、水素脱離の壁温依存性や、リチウム内の水素の存在形態を探る研究も行った.リチウムはペレットとして直接的に核融合プラズマに投入できるので、将来、炉心プラズマを停止することなくコンディショニングするための有力な手段になる可能性を秘めている.

  14. リチウムコ-ティングとプラズマ・表面過程の基礎研究

    1993年4月 - 1995年3月

    科学研究費補助金  一般研究(C)

    豊田 浩孝

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    担当区分：研究代表者 

    核融合装置対向壁のリチウム(Li)コ-ティングの基礎実験を行い、以下の研究成果が得られた。

    1)Liコ-ティング法の確立

    真空蒸着によるLi膜のコ-ティング法としてヒ-タ-を用いたオ-ブン加熱による蒸着を試み、ヒ-タ-電力により成膜速度を制御できることを示した。また不純物放出を抑制した蒸着法としてRF誘導加熱によるLiコ-ティングを試み、良好な結果を得た。

    2)Liとガスとの化学反応

    Liは化学的に活性であり、残留ガスのゲッタリング材と考えられる。そこでLi膜を真空容器内壁に蒸着した直後に、さまざまなガス(H_2,O_2,CH_4,CO)を真空装置内に導入しLiとの反応を調べた。LiはO_2ガスと強い反応性をしめし、強いゲッタ材となることが明らかとなった。

    3)LiとH_2プラズマとの相互作用

    真空蒸着によってLiを容器内壁にコ-ティングした後、H_2を用いたDCグロ-放電を行い、LiのH_2プラズマとの相互作用を調べた。容器に蒸着されたLi量は水晶振動子膜厚計を用いてその場測定することにより求めた。また膜に吸収された水素量をH_2分圧の経時変化より測定した。その結果、数100nm程度の膜厚のLi膜は、容器にコ-ティングした全Li原子数に匹敵する水素を吸収することが示された。これは、水素がLi中において内部まで移動できることを示している。

    4)実機におけるLiコ-ティング実験

    核融合科学研究所との共同研究により、核融合科学研究所トカマク装置JIPPT-IIUにおいてLiコ-ティング実験をおこなった。トロイダル容器底部よりLiオ-ブンを導入し、RF誘導加熱によりオ-ブンを加熱してトロイダル容器面積の10%程度に0.5g程のLiを蒸着した。その結果、主放電時において酸素や炭素不純物を20-50%減少させること、およびNBI放電時においてリサイクリングの低減効果が見られる、などの良好な結果を得ることができた。

  15. 表面磁場を用いる大口径RFプラズマの開発

    1992年4月 - 1995年3月

    科学研究費補助金  試験研究(B)

    菅井 秀郎

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    担当区分：研究分担者 

    材料プロセス用の高密度・大口径・低圧力プラズマを生成するために、プラズマの生成、計測および制御に関する技術開発を幅広く行った。この研究で得られた成果は次のように要約される。

    1.高密度プラズマの生成

    誘導RFアンテナを真空容器内に挿入し、その容器壁を表面磁場で覆うことにより、高エネルギ-電子の長寿命化をはかり、大口径の高密度プラズマを低圧力で生成することができた。また、ファラデ-シ-ルドによりアンテナとプラズマとの静電的結合を抑制できることを示した。一方、ヘリコンプラズマにおけるRFパワ-吸収機構を研究し、低磁場(<100G)で低パワ-(<1kW)のとき、RFパワ-はヘリコン波よりもアンテナ近接場を通してプラズマに入ることが示された。

    2.高密度プラズマの計測・制御と応用

    詳細なプラズマ診断から、高い電子密度はラジカル組成を大きく変えてしまい、エッチングにおける材料選択性を劣化させることが分かった。この問題を解決する方法として、プラズマ容器壁の加熱(100-200℃)と放電のパルス化(周期〜10μs)が有効であることを初めて示した。この他、新しい診断技術としてプラズマ振動法による電子密度測定、光バイアスプロ-ブによる電子エネルギ-分布関数の測定、紫外吸収分光によるSiH_3ラジカルと微粒子の簡易モニタ-法を開発した。

  16. ボロニゼ-ションによる粒子制御の最適化

    1992年4月 - 1994年3月

    科学研究費補助金  一般研究(B)

    菅井 秀郎

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    担当区分：研究分担者 

    本研究において我々は、比較的安全で取り扱いの簡単なデカボラン(固体)を原料とする新しいボロニゼ-ション法を提案し、そのコ-ティング技術・ボロン膜の物性評価・ボロニゼ-ションの効果などについて、次のような研究成果が得られた。

    (1)コ-ティング技術の開発

    猛毒で爆発性の気体デカボランの代わりに、固体デカボランを昇華させる新しいボロニゼ-ション法を開発した。また、プラズマを用いずに熱的に原料ガスを分解する熱CVD法についても検討し、その有用性を明らかにした。プラズマCVD法と熱CVD法との比較、デカボランとジボランとの比較も行った。さらに、ボロンの膜厚分布のスケ-リング則を実験・理論両面から見出し、大型容器を均一にコ-ティングするための指針を与えた。

    (2)ボロン膜の水素濃度の制御

    ボロニゼ-ション後の水素リサイクリングの指標として、ボロン膜中の水素濃度を共鳴反応を用いて実測した。その結果、H濃度は壁温の上昇に伴って急激に減少すること、イオン衝撃による水素抑制効果が顕著であることなどが分かった。また、原料ガスが軽水素化ホウ素であっても、D_2ガスによる希釈やD_2グロ-処理を行うことにより、重水素化したボロニゼ-ションが出来ることを示した。

    (3)ボロニゼ-ション効果の検証

    ボロンコ-ティングされた壁の水素リサイクリングや酸素ゲッタリング効果を定量化する基礎実験を行った。すなわち、前者についてはD_2グロ-放電、後者についてはHe希釈O_2グロ-放電をパルス的に行って、デカボランでもジボランと同程度のコ-ティング効果があることが分かった。なお、我々の提案したデカボランによるボロニゼ-ションは、原研のJT-60UやヘリオトロンEで実用に供されて成果を上げている。

  17. 新しい質量分析法によるプラズマ内の中性粒子の測定

    1991年4月 - 1992年3月

    科学研究費補助金  奨励研究(A)

    豊田 浩孝

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    担当区分：研究代表者 

  18. ボロンの新しいコーティング法と高速リムーバル

    1990年4月 - 1991年3月

    科学研究費補助金  奨励研究(A)

    豊田 浩孝

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    担当区分：研究代表者 

  19. 超微細プロセス用低エネルギ-粒子ビ-ム源の開発

    1989年4月 - 1991年3月

    科学研究費補助金  試験研究→試験研究(B)

    菅井 秀郎

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    担当区分：研究分担者 

    高性能の超微細プロセスを可能にするには、基板へ入射するイオンの速度ベクトルの向きと大きさがそろっており、大口径で一様なビ-ムであること、また、損傷を与えない程度に低エネルギ-であること、などの条件を満たす必要がある。これらの条件をクリアするには放電の低圧力化、大口径化、低プラズマ電位化、高プラズマ密度化が求られる。このような要請に応えるために、本研究では表面磁場(磁気壁)中の誘導型高周波放電プラズマを提案し、その開発を行った。

    表面磁場の解効果として次の点が期待できる。電離生成に寄与する高エネルギ-電子が磁気壁で反射されるのでプラズマの発生率が向上し、低エネルギ-のバルク電子の拡散も抑制されるので電子損失も減少する。このことは両極性拡散電界の減少、すなわちプラズマ電位の低下を導き、また、大口径の一様性の良いプラズマが生成される条件が整ってくる。

    本研究において試作した表面磁場装置では、期待される通り、次のような有望な実験結果が得られた。

    1.2×10^<-5>Torrの低圧力においても放電維持が可能になった。

    2.直径約40cmの一様性の良い大口径プラズマを生成できた。

    3.プラズマ電位は表面磁場によって20Vまで低下できた。

    4.10^<10>〜10^<11>cm^<-3>の高密度のプラズマが得られた。

    なお、ここで用いた放電形式は誘導型高周波放電であり、アンテナ導体表面の絶縁の重要性も明らかになった。また、プラズマ中の小さな電極にバイアスを印加することにより、広範囲にプラズマ電位を制御できた。

    一方、イオン・表面相互作用の結果、分子イオンが固体表面に衝突すると同時に小さなフラグメントに分解して、ラジカルビ-ムが表面から飛び出す現象を詳細に調べた。このプラズマ界面過程は、将来、新しいラジカルビ-ム源に発展する可能性を示す興味深い現象である。

  20. ボロンコーティング膜のリムーバルの高速化

    1989年4月 - 1990年3月

    科学研究費補助金  奨励研究(A)

    豊田 浩孝

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    担当区分：研究代表者 

  21. ダブルプラズマ法による機能性薄膜の作成

    1987年4月 - 1989年3月

    科学研究費補助金  試験研究

    菅井 秀郎

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    担当区分：研究分担者 

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産業財産権 19

  1. プラズマ生成装置、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

    豊田浩孝、堀　勝、関根　誠、竹田圭吾、三好秀典、伊藤仁、久保田雄介

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    出願人：東京エレクトロン株式会社、国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2012-28187  出願日：2012年2月

    公開番号：特開2012-199226  公開日：2012年10月

    特許番号/登録番号：特許第5921241号  登録日：2016年4月 

    出願国：国内  

  2. プラズマの装置、プラズマ処理ユニット及びプラズマ処理方法

    菅井秀郎、豊田浩孝、伊関清司、辰巳敏実

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    出願人：学校法人中部大学、国立大学法人名古屋大学、東洋紡績株式会社、株式会社システック

    出願番号：特願2008-069890  出願日：2008年3月

    公開番号：特開2009-224269  公開日：2009年10月

    特許番号/登録番号：特許番号第5317162  登録日：2013年7月 

    出願国：国内  

  3. マイクロ波プラズマ生成装置

    豊田　浩孝,笹井　建典

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    出願番号：2015-130939  出願日：2015年6月

    公開番号：2017-016828  公開日：2017年1月

    出願国：国内  

  4. プラズマ発生装置およびその利用

    豊田 浩孝, 高橋 朋大, 高島 成剛, 伊藤 美智子, 北川 富則, 野村 記生

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    出願人：国立大学法人名古屋大学, 公益財団法人名古屋産業振興公社, 株式会社三進製作所

    出願番号：特願2013-180391  出願日：2013年8月

    公開番号：特開2015-50010  公開日：2015年3月

    出願国：国内  

  5. マイクロ波導波装置、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

    伊藤 仁, 久保田 雄介, 豊田　浩孝, 堀　勝

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    出願人：東京エレクトロン株式会社, 国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2013-43404  出願日：2013年3月

    公開番号：特開2014-175051  公開日：2014年9月

    特許番号/登録番号：特許第5725574  登録日：2015年4月 

    出願国：国内  

  6. スパッタ成膜装置

    笹井 建典,　豊田　浩孝

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    出願人：東海ゴム工業株式会社,　国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2013-15453  出願日：2013年1月

    公開番号：特開2014-145118  公開日：2014年8月

    出願国：国内  

  7. マイクロ波プラズマ生成装置

    笹井 建典,　豊田　浩孝

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    出願人：東海ゴム工業株式会社,　国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2012-281416  出願日：2012年12月

    公開番号：特開2014-127267  公開日：2014年7月

    出願国：国内  

  8. 導電性膜の形成方法

    堀　勝、豊田浩孝、関根　誠、竹田圭吾、近藤博基、石川健治、久保田雄介、伊藤仁、三好秀典、

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    出願人：東京エレクトロン株式会社、国立大学法人名古屋大学

    出願番号：2012-41556  出願日：2012年2月

    公開番号：2013-178917  公開日：2013年9月

    出願国：国内  

  9. マイクロ波プラズマ処理装置

    藤井理香、笹井建典、豊田浩孝

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    出願人：東海ゴム工業株式会社、国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2011-252325  出願日：2011年11月

    公開番号：特開2013-109875  公開日：2013年6月

    特許番号/登録番号：特許第5868137号  登録日：2016年1月 

    出願国：国内  

  10. ECRプラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置

    笹井建典、豊田浩孝

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    出願人：東海ゴム工業株式会社、国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2011-252383  出願日：2011年11月

    公開番号：特開2013-108115  公開日：2013年6月

    特許番号/登録番号：特許第5883274号  登録日：2016年2月 

    出願国：国内  

  11. マイクロ波プラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置

    笹井建典、豊田浩孝

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    出願人：東海ゴム工業株式会社、国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2011-100736  出願日：2011年4月

    公開番号：特開2012-234643  公開日：2012年11月

    特許番号/登録番号：特許第5829045号  登録日：2016年10月 

    出願国：国内  

  12. 樹脂ホースおよびその製造方法

    笹井建典、豊田浩孝

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    出願人：東海ゴム工業株式会社、国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2011-88945  出願日：2011年4月

    公開番号：特開2012-219968  公開日：2012年11月

    出願国：国内  

  13. プラズマ処理装置

    菅井 秀郎、石島 達夫、豊田 浩孝、笹井 建典、藤井 理香

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    出願人：学校法人中部大学、国立大学法人名古屋大学、東海ゴム工業株式会社

    出願番号：特願2010-291142  出願日：2010年12月

    公開番号：特開2012-136754  公開日：2012年7月

    出願国：国内  

  14. プラズマ生成装置、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

    堀　勝、豊田浩孝、関根　誠、伊藤仁、三好秀典

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    出願人：東京エレクトロン株式会社、国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2010-207774  出願日：2010年9月

    公開番号：特開2012-64444  公開日：2012年3月

    特許番号/登録番号：特許第5762708号  登録日：2015年6月 

    出願国：国内  

  15. 液体処理装置および液体処理方法

    豊田浩孝、石島達夫

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    出願人：国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2010-150423  出願日：2010年6月

    公開番号：特開2012-11313  公開日：2012年1月

    出願国：国内  

  16. 積層プラスティックフィルム及びその製造方法

    菅井秀郎、豊田浩孝、伊関清司

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    出願人：学校法人中部大学、国立大学法人名古屋大学、東洋紡績株式会社

    出願番号：特願2009-189122  出願日：2009年8月

    公開番号：特開2011-37232  公開日：2011年2月

    特許番号/登録番号：特許第5424317号  登録日：2013年12月 

    出願国：国内  

  17. マイクロ波プラズマ処理装置

    笹井建典、豊田浩孝、石島達夫

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    出願人：東海ゴム工業株式会社、国立大学法人名古屋大学

    出願番号：特願2008-301841  出願日：2008年11月

    公開番号：特開2010-129327  公開日：2010年6月

    特許番号/登録番号：特許第5349923号  登録日：2013年8月 

    出願国：国内  

  18. プラズマ生成装置

    菅井秀郎、石島達夫、豊田浩孝、笹井建典

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    出願人：学校法人中部大学、国立大学法人名古屋大学、東海ゴム工業株式会社

    出願番号：特願2008-223816  出願日：2008年9月

    公開番号：特開2010-61860  公開日：2010年3月

    出願国：国内  

  19. 薄膜堆積装置および薄膜堆積方法

    後藤真志、西谷幹彦、菅井秀郎、豊田浩孝

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    出願人：松下電器産業株式会社

    出願番号：特願2000-016772  出願日：2000年1月

    公開番号：特開2001-210594 

    出願国：国内  

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担当経験のある科目 (本学) 17

  1. プラズマ工学

    2022

  2. プラズマ工学

    2022

  3. プラズマエレクトロニクスセミナー2E

    2022

  4. プラズマエレクトロニクスセミナー2C

    2022

  5. プラズマエレクトロニクスセミナー2A

    2022

  6. プラズマエレクトロニクスセミナー1C

    2022

  7. プラズマエレクトロニクスセミナー1A

    2022

  8. 電気磁気学及び演習

    2022

  9. プラズマエレクトロニクスセミナー2B

    2022

  10. プラズマエレクトロニクスセミナー2D

    2022

  11. プラズマエレクトロニクスセミナー1D

    2022

  12. プラズマエレクトロニクスセミナー1B

    2022

  13. 電気磁気学及び演習

    2021

  14. 基礎科目

    2020

  15. プラズマ工学

    2010

  16. プロセスプラズマ工学特論

    2004

  17. 線形回路論および演習

    2002

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担当経験のある科目 (本学以外) 3

  1. プラズマ工学

    2023年12月 （九州大学）

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    科目区分：学部専門科目  国名：日本国

  2. プラズマ工学

    2021年11月 （九州大学）

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    科目区分：学部専門科目 

  3. 大学院特別講義

    2009年4月 - 2010年3月 （三重大学）

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