2024/04/02 更新

写真a

タニデ アツシ
谷出 敦
TANIDE Atsushi
所属
低温プラズマ科学研究センター 次世代プラズマ加工技術研究開発部門 特任講師
職名
特任講師

学位 1

  1. 博士(工学) ( 2020年3月   名古屋大学 ) 

 

論文 3

  1. Effects of BCl3 addition to Cl2 gas on etching characteristics of GaN at high temperature 招待有り 査読有り

    Atsushi Tanide, Shohei Nakamura, Akira Horikoshi, Shigeru Takatsuji, Motohiro Kohno, Kazuo Kinose, Soichi Nadahara, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Journal of Vacuum Science & Technology B   37 巻 ( 021209 )   2019年3月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  2. Hetero-epitaxial growth of a GaN film by the combination of magnetron sputtering with Ar/Cl2 gas mixtures and a separate supply of nitrogen precursors from a high density radical source 査読有り

    Atsushi Tanide, Shohei Nakamura, Akira Horikoshi, Shigeru Takatsuji, Motohiro Kohno, Kazuo Kinose, Soichi Nadahara, Masazumi Nishikawa, Akinori Ebe, Kenji Ishikawa, Masaru Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   58 巻 ( SAAF04 )   2019年1月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  3. First-principles Calculation Method for Electronic Structures of Nanojunctions Suspended between Semi-infinite Electrodes 招待有り 査読有り

    Takashi Sasaki, Yoshiyuki Egami, Atsushi Tanide, Tomoya Ono, Hidekazu Goto, Kikuji Hirose

    Materials Transactions   45 巻 ( 5 ) 頁: 1419 - 1421   2004年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)